JP7385334B2 - 光学素子及び光学装置 - Google Patents
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Description
前記着色層の屈折率は、前記ガラス本体の屈折率と同じであることが好ましい。
本実施形態の光学素子は、ガラス本体を有する光学素子であって、ガラス本体の内部かつ光学素子の有効径外に位置する着色層を有するものである。
着色層の厚みは特に制限されないが、好ましくは1~300μmであり、より好ましくは20~200μmであり、更に好ましくは30~150μmである。
本実施形態に係るガラスにおいて、可視域(400nm~760nmの波長域)から赤外域にかけての波長域における着色層の分光透過率は、波長が長くなるにつれて増加傾向を示す。一方、着色層のODは、波長が長くなるにつれて減少傾向を示す。ODとは、光学密度または光学濃度(Optical Density)であり、下記式で示すように、入射光強度I0と透過光強度Iの比の常用対数に負号(マイナス)を付けた数値として表される。
OD=-log10(I/Io)
本実施形態に係るガラスにおいて、屈折率ndは、好ましくは1.70以上であり、さらには1.73以上、1.75以上、1.76以上、1.77以上、1.78以上、1.79以上、1.80以上の順により好ましい。屈折率ndの上限は、特に限定されないが、通常2.5であり、好ましくは2.3である。
本実施形態に係るガラスにおいて、平均線膨張係数は、好ましくは50×10-7K-1以上であり、さらには、60×10-7K-1以上、70×10-7K-1以上、75×10-7K-1以上、80×10-7K-1以上、85×10-7K-1以上、90×10-7K-1以上の順により好ましい。平均線膨張係数の上限は、特に限定されないが、通常200×10-7K-1であり、好ましくは150×10-7K-1である。平均線膨張係数を上記範囲とすることで、化学強化を施した場合にガラスの強度を高めることができる。
本実施形態に係るガラスにおいて、耐酸性重量減少率Daの等級は、好ましくは1~2等級であり、より好ましくは1等級である。
本実施形態に係るガラスの組成について、以下に非制限的な例を示す。
Pb、As、Cd、Tl、Be、Seは、いずれも毒性を有する。そのため、本実施形態のガラスはこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
本実施形態に係るガラスは、着色の無いガラスを調製し、そこに着色層を形成することで得られる。着色の無いガラスは、公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を熔融容器中に入れて熔融、清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得る。あるいは、バッチ原料を熔融容器中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを熔融容器中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得ることもできる。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
着色層は、ガラス表面に金属膜を貼付し、還元雰囲気において熱処理をすることで形成できる。
本実施形態に係るガラスからなる光学素子は、着色の無い光学素子を調製し、そこに着色層を形成することで得られる。着色の無い光学素子は、公知の製造方法に従って作製すればよい。例えば、熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、ガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。あるいは、公知の製造方法に従って、精密プレス成形用のガラスゴブやプリフォームを作製し、加熱、軟化させたガラスゴブやプリフォームを、光学素子成形型により精密プレス成形して、光学素子を作製してもよい。
以下、実施例により本実施形態をより詳細に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。
ガラスの構成成分に対応する酸化物、水酸化物、メタリン酸塩、炭酸塩、および硝酸塩を原材料として準備し、得られるガラスの組成が、表1に示す各組成となるように上記原材料を秤量、調合して、原材料を十分に混合した。得られた調合原料(バッチ原料)を、白金坩堝に投入し、1100~1450℃で2~3時間加熱して熔融ガラスとした。熔融ガラスを攪拌して均質化を図り、清澄してから、熔融ガラスを適当な温度に予熱した金型に鋳込んだ。鋳込んだガラスを、ガラス転移温度Tg付近で1時間程度熱処理し、炉内で室温まで放冷した。長さ40mm、幅10mm、厚さ1.0mmの大きさに加工し、40mm×10mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)して、ガラスサンプルを得た。
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定し、表1に示す各組成のとおりであることを確認した。
得られたガラスサンプルについて、屈折率nd、比重およびガラス転移温度Tgを測定した。結果を表1に示す。
JIS規格 JIS B 7071-1の屈折率測定法により、屈折率ndを測定した。
比重は、アルキメデス法により測定した。
ガラス転移温度Tgは、MACサイエンス社製の熱機械分析装置(TMA4000S)を使用し、昇温速度4℃/分にて測定した。
平均線膨張係数の測定方法は、日本光学硝子工業会規格JOGIS 08-2003「光学ガラスの熱膨張の測定法」に従い測定した。丸棒状の試料の直径を5mmとした。結果を表1に示す。
日本光学硝子工業会規格JOGIS06-2009の規定に従い、得られたガラスサンプルを比重に相当する重量の粉末ガラス(粒度425~600μm)にし、白金かごに入れ、それを0.01mol/L硝酸水溶液の入った石英ガラス製丸底フラスコ内に浸漬し、沸騰水浴中で60分間処理し、その処理前後での重量減少率(%)を測定した。その重量減少率を等級で評価した。結果を表1に示す。
(実施例1-1)
得られたガラスサンプルのうち、No.1のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、スパッタリングによりパターン状にPt-Pd膜を成膜した(スパッタリング時の電流15mA、成膜時間900sec)。
波長300~2500nmにおける外部透過率を測定した。外部透過率は、ガラスサンプルの厚み方向に光を入射したときの、入射光強度に対する透過光強度の百分率[透過光強度/入射光強度×100]で定義される。なお、外部透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を図6-1に示す。図中、破線は着色層を有する部分の透過率であり、実線は同じ部分の着色層形成前の透過率である。
着色層を有する部分について、波長1100nmにおける入射光強度I0および透過光強度Iを測定し、下記式によりOD(光学密度)を算出した。同じ部分について、着色層形成前のODも同様に算出した。結果を表2に示す。
OD=-log10(I/I0)
No.2のガラス組成を有するガラスサンプルを用いた他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。得られたガラスサンプルを図5-2に示す。実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図6-2に示す。実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図6-3に示す。実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
(実施例2-1)
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、成膜条件を調整して、膜厚がそれぞれ28nm、256nm、288nm、420nmであるPt-Pd膜を形成した。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、成膜条件を調整して、膜厚がそれぞれ437nm、695nm、778nm、892nmであるPt-Pd膜を形成した。
(実施例3-1)
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面に、Pt-Pd膜の代わりに膜厚が15nm、300nmのAu膜を形成し、450℃で7時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。着色層を有する部分について、実施例1-1と同様にODを測定した。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面に、Pt-Pd膜を形成する代わりにAgペーストを塗布し、430℃で10時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。実施例3-1と同様にODを測定した。結果を表3に示す。
(実施例4-1)
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、Pt-Pd膜を形成した。また、同じサンプルの光学研磨面の一部を1000番(#1000)の研磨剤を使用して研磨し、その部分にもPt-Pd膜を形成した。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、Au膜を形成した。450℃で7時間熱処理した他は実施例4-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の一方の面に、Au膜を形成した。Au膜の成膜時間を実施例4-2よりも長くした他は、実施例4-2と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面の両面にPt-Pd膜を形成した他は、実施例4-2と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルの光学研磨面に、Pt-Pd膜をドットパターン状に形成した。詳細は以下のとおりである。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルについて、厚さが750μmとなるように加工した他は、実施例1-3と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
図1、図2に示すように、本実施形態の光学素子は、ガラス本体1を有するとともに、ガラス本体1の内部かつ光学素子の有効径外に位置する着色層2を有する。着色層2は、ガラス本体1の表面から内部に亘って位置する。あるいは、着色層2は、ガラス本体1の表面には位置せずにガラス本体1の内部に位置していてもよい。
図10~図13を参照して、本実施形態の光学素子をプリズム10に適用した場合を説明する。なお、本実施形態の光学素子を適用する対象は、直角プリズムに限定されず、各種の角度の偏角プリズム、ペンタプリズム、キュービック等とすることも可能である。
図14~図18を参照して、本実施形態の光学素子をレンズ30に適用した場合を説明する。
図19A~図19Cを参照して、本実施形態の光学素子をマイクロレンズアレイ100及びレンチキュラーレンズ120に適用した場合を説明する。図19Aは、マイクロレンズアレイ100を示す平面図であり、図19Bは、レンチキュラーレンズ120を示す平面図であり、図19Cは、図19AのA-A線と図19BのB-B線に沿う断面図である(符号は併記している)。
図20Aを参照して、本実施形態の光学素子を反射防止コートを施したプリズム10に適用した場合を説明する。
図21A、図21B及び図22A、図22Bを参照して、本実施形態の光学素子を、出射窓や入射窓を含む光学窓に適用した場合を説明する。ここでは、発光部からの光を検出対象物で反射させて受光部で受光することで検出対象物の情報を取得するセンサ装置を例示して説明する。
上述した例の他にも、本実施形態の光学素子は、平行平板と、カバーガラス(撮像素子のカバーガラス)と、光学フィルタ(IRカットフィルタ、偏光フィルタ、NDフィルタ等)と、ビームスプリッタとの少なくとも1つとすることができる。この場合、着色層は、平行平板と、カバーガラス(撮像素子のカバーガラス)と、光学フィルタ(IRカットフィルタ、偏光フィルタ、NDフィルタ等)と、ビームスプリッタとの少なくとも1つの有効径外に位置することができる。
2 着色層
10 プリズム(光学素子)
11 入射面
12 出射面
13 反射面
14 側面
15 16 面取面
20A 20B 20C 20D 20E 20G 20H 着色層
30 レンズ(光学素子)
31 物体側レンズ面
32 像側レンズ面
33 物体側ランド面(ランド面、物体側フランジ部)
34 像側ランド面(ランド面、像側フランジ部)
35 コバ面
40A 40B 40C 着色層
50 60 レンズ(光学素子)
51 像側ランド面(ランド面)
61 物体側ランド面(ランド面)
70 80 着色層
90A 90B 90C 着色層
100 マイクロレンズアレイ(光学素子)
101 マイクロレンズ(レンズ面)
110 着色層
120 レンチキュラーレンズ(光学素子)
121 レンズ面
130 着色層
140A 140B 反射防止コート
150A 150B 150C 着色層
160 レンズ(光学素子)
161 物体側レンズ面
162 像側レンズ面
163 コバ面
170A 170B 反射防止コート
180A 180B 着色層
190 筐体
191 発光側収納室
192 受光側収納室
200 発光部
201 出射窓(光学窓)
210 受光部
211 入射窓(光学窓)
220 230 着色層
Claims (14)
- ガラス本体を有する光学素子であって、
前記ガラス本体の内部かつ前記光学素子の有効径外に位置する着色層を有し、
前記着色層の着色は、ガラス成分に起因する還元色であり、
前記着色層は、波長750nmにおける光学濃度ODが2.0以上である、
ことを特徴とする光学素子。 - 前記着色層は、前記ガラス本体の表面から内部に亘って位置する、
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子。 - 前記着色層の前記ガラス本体の表面から内部に亘る厚みは、1~300μmである、
ことを特徴とする請求項2に記載の光学素子。 - 前記光学素子は、反射防止コート面と、非反射防止コート面とを有し、
前記着色層は、前記非反射防止コート面に位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、プリズムを有し、
前記着色層は、前記プリズムの入射面と、出射面と、反射面と、側面と、これら各面のいずれかの境界にある面取面との少なくとも1つに位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、レンズを有し、
前記着色層は、前記レンズのコバ面と、ランド面との少なくとも1つに位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、2枚のレンズを有し、
前記2枚のレンズは、各レンズの有効径外のランド面が互いに当て付けられ、
前記着色層は、前記2枚のレンズの互いに当て付けられるランド面に位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、レンズを有し、
前記着色層は、前記レンズの一方の面と他方の面の有効径を規定する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、レンズを有し、
前記着色層は、前記レンズの一方の面と他方の面の有効径外の互いに異なる着色領域に位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、複数のレンズ面を有し、
前記着色層は、前記複数のレンズ面の有効径外に位置して前記複数のレンズ面を区画する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、発光部からの光が出射する出射窓と、受光部への光が入射する入射窓とを有し、
前記着色層は、前記出射窓と前記入射窓の有効径外に位置して前記出射窓と前記入射窓を区画する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記光学素子は、平行平板と、カバーガラスと、光学フィルタと、ビームスプリッタとの少なくとも1つを有し、
前記着色層は、前記平行平板と、前記カバーガラスと、前記光学フィルタと、前記ビームスプリッタとの少なくとも1つの有効径外に位置する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学素子。 - 前記着色層の屈折率は、前記ガラス本体の屈折率と同じである、
ことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれかに記載の光学素子。 - 請求項1から請求項13のいずれかに記載の光学素子を有する光学装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7587495B2 (ja) * | 2019-05-10 | 2024-11-20 | Hoya株式会社 | ガラス |
JP2021173874A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | Hoya株式会社 | 光学素子及び光学装置 |
GB202006995D0 (en) * | 2020-05-12 | 2020-06-24 | Ams Sensors Singapore Pte Ltd | Methods for manufacturing optical prisms |
JP7536674B2 (ja) * | 2021-02-04 | 2024-08-20 | Hoya株式会社 | ガラスおよび光学素子 |
TWI855469B (zh) * | 2021-07-16 | 2024-09-11 | 大立光電股份有限公司 | 透鏡組、光學裝置與電子裝置 |
WO2023183142A1 (en) | 2022-03-25 | 2023-09-28 | Corning Incorporated | High-index high-dispersion phosphate glasses containing bismuth oxide |
WO2025041616A1 (ja) * | 2023-08-22 | 2025-02-27 | Agc株式会社 | 光学素子 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002201041A (ja) | 2000-10-23 | 2002-07-16 | Hoya Corp | ガラス成形品の製造方法、その方法で得られた光学素子およびガラスの処理方法 |
JP2005097036A (ja) | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Kawazoe Frontier Technology Kk | 水素処理用多成分ガラス材料及び水素処理複合体 |
JP2011100056A (ja) | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Fujifilm Corp | レンズモジュール及び撮像ユニット |
WO2014108566A1 (en) | 2013-01-14 | 2014-07-17 | Kaleido Technology Aps | A lens array and a method of making a lens array |
US20150103407A1 (en) | 2013-10-16 | 2015-04-16 | Shen-Chieh Chen | Lens, optical imaging lens set and method for forming a lens |
JP5792026B2 (ja) | 2011-10-28 | 2015-10-07 | オリンパス株式会社 | 光学素子、および光学素子の製造方法 |
CN206671646U (zh) | 2017-04-15 | 2017-11-24 | 瑞声科技(新加坡)有限公司 | 镜片组件以及镜头模组 |
JP2019090849A (ja) | 2017-11-10 | 2019-06-13 | カンタツ株式会社 | 光学素子及び撮像レンズ |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4882262A (en) * | 1987-09-28 | 1989-11-21 | Honeywell Inc. | Self-aligning aperture |
JPH01115842A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Olympus Optical Co Ltd | 成形ガラスレンズ |
JPH0659195A (ja) * | 1992-08-07 | 1994-03-04 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 内視鏡用光学系装置 |
JPH07124100A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-05-16 | Olympus Optical Co Ltd | 内視鏡用保護装置 |
JPH0850251A (ja) * | 1994-08-05 | 1996-02-20 | Toshiba Corp | ファイバースコープ用光学部品 |
DE19605617A1 (de) * | 1996-02-15 | 1997-08-21 | Cerdec Ag | Schwarze Glasfritte, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung |
JP2005010442A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-01-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 樹脂性光学部品およびその製造方法 |
JP5313587B2 (ja) | 2008-07-31 | 2013-10-09 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
US8422138B2 (en) * | 2009-07-02 | 2013-04-16 | Digitaloptics Corporation East | Wafer level optical elements and applications thereof |
JP2011170334A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-09-01 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及びウエハレベルレンズ |
JP2012068510A (ja) | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Hoya Corp | 撮影光学系、及び撮影装置 |
US20120075727A1 (en) | 2010-09-24 | 2012-03-29 | Hoya Corporation | Imaging optical system and imaging apparatus |
JP5579555B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2014-08-27 | Hoya株式会社 | 撮影光学系、及び撮影装置 |
US20120075518A1 (en) | 2010-09-29 | 2012-03-29 | Hoya Corporation | Imaging unit |
JP2012093730A (ja) | 2010-09-30 | 2012-05-17 | Hoya Corp | 撮像装置 |
JP5551055B2 (ja) | 2010-12-08 | 2014-07-16 | Hoya株式会社 | ズームレンズ系 |
KR101220336B1 (ko) * | 2010-12-20 | 2013-01-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 불투명층이 형성된 렌즈 어레이를 포함하는 카메라 모듈 및 그 제조방법 |
KR20120081856A (ko) * | 2011-01-12 | 2012-07-20 | 삼성전기주식회사 | 렌즈 제조 방법 및 렌즈 |
JP5802405B2 (ja) * | 2011-03-03 | 2015-10-28 | 日本板硝子株式会社 | 正立等倍レンズアレイプレート、光走査ユニット、画像読取装置および画像書込装置 |
JP2013029643A (ja) | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Hoya Corp | 撮像ユニット |
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JP2013238848A (ja) | 2012-04-20 | 2013-11-28 | Hoya Corp | 撮像装置 |
JP5797627B2 (ja) | 2012-09-25 | 2015-10-21 | Hoya株式会社 | 撮像装置 |
JP5671515B2 (ja) | 2012-12-03 | 2015-02-18 | 武藤工業株式会社 | インクジェットプリンタのインク乾燥装置 |
WO2014109711A1 (en) * | 2013-01-10 | 2014-07-17 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Opto-electronic modules including features to help reduce stray light and/or optical cross-talk |
JP6114049B2 (ja) | 2013-02-04 | 2017-04-12 | Hoya株式会社 | 撮像装置 |
US20140226060A1 (en) * | 2013-02-08 | 2014-08-14 | Htc Corporation | Electronic device and method for manufacturing the same |
EP3303236B1 (en) * | 2015-06-02 | 2021-09-29 | Corning Incorporated | Laminated glass article with tinted layer |
JPWO2017195302A1 (ja) * | 2016-05-11 | 2019-03-07 | オリンパス株式会社 | レンズユニットの製造方法、及び撮像装置の製造方法 |
JP7116095B2 (ja) | 2018-02-01 | 2022-08-09 | Hoya株式会社 | 着色ガラスおよびその製造方法 |
CN108461045B (zh) * | 2018-03-13 | 2020-06-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示装置及其制造方法 |
US11686884B2 (en) * | 2018-12-07 | 2023-06-27 | Apple Inc. | Light-absorbing flange lenses |
JP7587495B2 (ja) * | 2019-05-10 | 2024-11-20 | Hoya株式会社 | ガラス |
-
2019
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-
2020
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002201041A (ja) | 2000-10-23 | 2002-07-16 | Hoya Corp | ガラス成形品の製造方法、その方法で得られた光学素子およびガラスの処理方法 |
JP2005097036A (ja) | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Kawazoe Frontier Technology Kk | 水素処理用多成分ガラス材料及び水素処理複合体 |
JP2011100056A (ja) | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Fujifilm Corp | レンズモジュール及び撮像ユニット |
JP5792026B2 (ja) | 2011-10-28 | 2015-10-07 | オリンパス株式会社 | 光学素子、および光学素子の製造方法 |
WO2014108566A1 (en) | 2013-01-14 | 2014-07-17 | Kaleido Technology Aps | A lens array and a method of making a lens array |
US20150103407A1 (en) | 2013-10-16 | 2015-04-16 | Shen-Chieh Chen | Lens, optical imaging lens set and method for forming a lens |
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