JP7350029B2 - Transport equipment and film forming equipment - Google Patents
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Description
本発明は、搬送装置及び成膜装置に関する。 The present invention relates to a transport device and a film forming device.
搬送対象物に対して処理を行うにあたり、搬送対象物のアライメントを行う技術が知られている。例えば、特許文献1には基板とマスクとのアライメントにあたり、基板をロボットにより仕込室へ搬送しそのプリアライメントを行う技術が開示されている。 2. Description of the Related Art There is a known technique for aligning an object to be transported when processing the object. For example, Patent Document 1 discloses a technique for aligning a substrate and a mask by transporting the substrate to a preparation chamber by a robot and pre-aligning the substrate.
インライン型の成膜装置では、基板を保持する基板キャリアやマスクが所定の搬送経路を循環的に搬送される。このように搬送経路が定まっている装置においては、搬送経路から外れた場所で搬送対象物のプリアライメントを行うと効率が低下する。 In an in-line film forming apparatus, a substrate carrier holding a substrate and a mask are cyclically transported along a predetermined transport path. In an apparatus in which the transport route is determined in this manner, efficiency decreases if pre-alignment of the transport object is performed at a location away from the transport route.
本発明は、搬送対象物の搬送経路上でその位置決めが可能な技術を提供するものである。 The present invention provides a technique that enables positioning of an object to be transported on a transport route.
本発明によれば、
真空に維持される搬送空間を形成するチャンバと、
前記チャンバ内で搬送対象物を搬送方向に搬送する搬送手段と、
前記搬送方向に対する前記搬送対象物の幅方向の一方の位置を規制する第一の規制手段と、
前記搬送対象物の前記幅方向の他方の位置を規制する第二の規制手段と、
前記第一の規制手段及び前記第二の規制手段の少なくともいずれか一方の規制手段を前記幅方向に移動して、前記搬送対象物を前記幅方向に位置決めする移動手段と、を備え、
前記第一の規制手段は前記搬送方向に沿って複数設けられ、
前記第二の規制手段は前記搬送方向に沿って複数設けられ、
前記移動手段は、
前記第一の規制手段を前記幅方向に移動する第一の移動手段と、
前記第二の規制手段を前記幅方向に移動する第二の移動手段と、を備え、
前記搬送対象物の位置決めでは、前記第一の規制手段及び前記第二の規制手段の一方の位置は固定され、他方が前記幅方向に移動され、
位置が固定される前記一方の規制手段のうち、前記搬送方向における最前方及び最後方に位置する規制手段は、前記搬送対象物に対して残りの規制手段よりも近い位置に配置される、
ことを特徴とする搬送装置が提供される。
According to the invention,
a chamber forming a transfer space maintained in a vacuum;
a conveyance means for conveying the object to be conveyed in the conveyance direction within the chamber;
a first regulating means for regulating one position in the width direction of the conveyed object with respect to the conveying direction;
a second regulating means for regulating the other position of the conveyed object in the width direction;
a moving means for moving at least one of the first regulating means and the second regulating means in the width direction to position the conveyed object in the width direction ;
A plurality of the first regulating means are provided along the conveying direction,
A plurality of the second regulating means are provided along the conveyance direction,
The transportation means is
a first moving means for moving the first regulating means in the width direction;
a second moving means for moving the second regulating means in the width direction,
In the positioning of the conveyed object, one of the first regulating means and the second regulating means is fixed in position, and the other is moved in the width direction,
Of the one regulating means whose position is fixed, the regulating means located at the frontmost and rearmost in the transport direction are arranged closer to the object to be transported than the remaining regulating means,
A conveyance device is provided.
本発明によれば、搬送対象物の搬送経路上でその位置決めが可能な技術を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a technique that allows positioning of an object to be transported on a transport route.
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Note that the following embodiments do not limit the claimed invention. Although a plurality of features are described in the embodiments, not all of these features are essential to the invention, and the plurality of features may be arbitrarily combined. Furthermore, in the accompanying drawings, the same or similar components are designated by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
<成膜装置の概要>
図1は本発明の一実施形態に係る成膜装置1のレイアウト図である。なお、各図において矢印Zは上下方向(重力方向)を示し、矢印X及び矢印Yは互いに直交する水平方向を示す。成膜装置1は、基板Gに蒸着物質を成膜する装置であり、マスクMを用いて所定のパターンの蒸着物質の薄膜を形成する。特に本実施形態の成膜装置1は、基板Gの搬送しながら、蒸着装置により基板Gに蒸着物質を蒸着する成膜方法を実行可能な、インライン型の成膜装置である。
<Overview of film forming equipment>
FIG. 1 is a layout diagram of a film forming apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. In each figure, an arrow Z indicates a vertical direction (direction of gravity), and an arrow X and an arrow Y indicate a horizontal direction orthogonal to each other. The film forming apparatus 1 is an apparatus that forms a film of a vapor deposition material on a substrate G, and uses a mask M to form a thin film of the vapor deposition material in a predetermined pattern. In particular, the film forming apparatus 1 of this embodiment is an in-line film forming apparatus that can execute a film forming method in which a vapor deposition substance is vapor deposited onto the substrate G using the vapor deposition apparatus while the substrate G is being transported.
成膜装置1で成膜が行われる基板Gの材質は、ガラス、樹脂、金属等の材料を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料(金属、金属酸化物など)などの物質である。成膜装置1は、例えば表示装置(フラットパネルディスプレイなど)や薄膜太陽電池、有機光電変換素子(有機薄膜撮像素子)等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ELパネルを製造する製造装置に適用可能である。 The material of the substrate G on which the film is formed in the film forming apparatus 1 can be selected from glass, resin, metal, etc., and a material in which a resin layer such as polyimide is formed on glass is preferably used. The vapor deposition substance includes organic materials, inorganic materials (metals, metal oxides, etc.), and the like. The film forming apparatus 1 is applicable to, for example, a manufacturing apparatus for manufacturing electronic devices such as display devices (flat panel displays, etc.), thin film solar cells, organic photoelectric conversion elements (organic thin film image sensors), optical members, etc. In particular, it is applicable to manufacturing equipment that manufactures organic EL panels.
成膜装置1は、基板キャリア100を用いて基板G及びマスクMを搬送する装置を含む。基板キャリア100は、例えば、基板Gを保持する機構及びマスクMを保持する機構を備える。基板Gを保持する機構は例えば静電チャックであり、マスクMを保持する機構は例えば磁気吸着チャックである。マスクMは基板Gと重なるように基板キャリア100に保持され、基板Gは基板キャリア100とマスクMとの間に保持される。基板キャリア100、基板G及びマスクMは板状の形態であり、水平姿勢で搬送される。
The film forming apparatus 1 includes a device that transports a substrate G and a mask M using a
マスクM及び基板キャリア100は、図1の矢印で示す方向に循環的に搬送され、複数の基板Gに対して繰り返し利用される。基板Gは成膜装置1の外部から基板搬入室100に搬入される。基板Gは基板搬入室110から組込室111へ搬送される。組込室111にはキャリア室120から基板キャリア100が搬送され、基板Gは組込室111において基板キャリア100に重ねられ、保持される。基板Gを保持した基板キャリア100を図1では基板キャリア100Gと表示している。
The mask M and the
基板キャリア100Gは、準備室112に搬送される。準備室112にはマスク室121からマスクMが搬送され、マスクMと基板キャリア100Gとは、上下に並んだ状態となる。基板キャリア100GとマスクMとは準備室112からアライメント装置113へ搬送される。アライメント装置113では基板100とマスクMとのX-Y方向の位置合わせが行われ、マスクMが基板100と重なるようにして基板キャリア100Gに保持される。基板GとマスクMを保持した基板キャリア100を図1では基板キャリア100GMと表示している。
The
基板キャリア100GMは、アライメント装置113から蒸着装置114Aに搬送される。ここで基板Gに蒸着物質が成膜される。その後、基板キャリア100GMはリターン室115を経て蒸着装置115Bに搬送される。ここでも基板Gに蒸着物質が成膜される。成膜済みの基板Gを保持した基板キャリア100GMは、分離室116でマスクMが基板キャリア100から上下に分離される。分離されたマスクMは、搬送室117でマスク室121へ搬送され、基板キャリア100Gは分離室118へ搬送される。分離室118で、成膜済みの基板Gが基板キャリア100から分離され、基板Gは搬出室119へ、基板キャリア100はキャリア室120へ、それぞれ搬送される。成膜済みの基板Gは搬出室119から成膜装置1の外部へ搬出される。以上の処理を繰り返すことで成膜処理が順次行われる。
The substrate carrier 100GM is transported from the
<蒸着装置>
図2は蒸着装置114Aの説明図である。なお、蒸着装置114Bも蒸着装置Aと同様の構成を有している。蒸着装置114Aは、基板G及びマスクMを保持した基板キャリア100を搬送する搬送空間2aを形成する搬送チャンバ2と、複数のソースチャンバ3とを備える。複数のソースチャンバ3はX方向に並べて配置されており、搬送空間2aはこれらソースチャンバ3の上方に位置している。
<Vapor deposition equipment>
FIG. 2 is an explanatory diagram of the
搬送空間2aは使用時に真空に維持され、そのX方向の一端部には搬入口2bが、他端部には搬出口2bが設けられている。基板G及びマスクMを保持した基板キャリア100は、搬入口2bから搬送空間2a内に搬入され、処理後に搬出口2cから外部へ搬出される。搬入口2b及び搬出口2cにはゲートバルブ(不図示)が設けられる。
The
搬送空間2aには、X方向に配列された複数の搬送ローラ2dが設けられている。この搬送ローラ2dの列は、Y方向に離間して二列配置されており、マスクMを下方から支持する。各搬送ローラ2dはY方向の回転軸周りに回転する。基板キャリア100は、二列の搬送ローラ2dの列に、そのY方向の両端部が載置され、搬送ローラ2dの回転によってX方向に水平姿勢で搬送される。
A plurality of
搬送空間2aには、また、X方向に配列された複数のガイドローラ2eが設けられている。このガイドローラ2eの列は、Y方向に離間して二列配置されており、ガイドローラ2eはマスクMのY方向の位置を規制する。ガイドローラ2eはその周面がマスクMのY方向の側部に対向するように配置されており、各ガイドローラ2eはZ軸方向の回転軸周りに自由回転する。
The
各ソースチャンバ3a内は、使用時に真空に維持される内部空間を形成する。ソースチャンバ3aは、上部に開口部が形成された箱型を有しており、開口部を介して、搬送空間2aとソースチャンバ3aの内部空間とが連通している。各ソースチャンバ3aには上方に蒸着物質を放出する蒸着源3aが設けられている。本実施形態の蒸着源3aはいわゆるラインソースであり、Y方向に延設されている。蒸着源3aは蒸着物質の原材料を収容する坩堝や、坩堝を加熱するヒータ等を備え、原材料を加熱してその蒸気である蒸着物質を搬送空間2aへ放出する。
Each
蒸着装置114Aは、搬送チャンバ2内で基板G及びマスクMを保持した基板キャリア100を搬送しながら、蒸着源3aにより基板Gに蒸着物質を蒸着する。本実施形態では、複数のソースチャンバ3が基板キャリア100の搬送方向に配置されている。3つのソースチャンバ3から異なる種類の蒸着物質を放出する場合、基板Gに異なる蒸着物質を連続的に蒸着することができる。なお、ソースチャンバ3の数は3つに限られず、1つあるいは2つでもよいし、4つ以上であってもよい。
The
<アライメント装置>
アライメント装置113の構成について図3及び図4を参照して説明する。図3は、アライメント装置113の説明図であり、図4はアライメント装置113内でのマスクMの周囲のローラの配置例を示す図である。図4はマスクMがストッパ49によりX方向で所定の位置に停止された状態を示す。ストッパ49はマスクMに当接する位置と、マスクMに当接しない位置とに変位自在である。
<Alignment device>
The configuration of the
アライメント装置113は、搬送装置4、脚部5及びアライメントユニット6を含む。搬送装置4は、脚部5を介して工場等の床面に設置される。搬送装置4は、チャンバ40、キャリア搬送ユニット41、マスク搬送ユニット42、キャリアガイドユニット43、マスクガイドユニット44、マスク支持ユニット45、昇降ユニット46、マスク保持ユニット47及び昇降ユニット48、を含む。
The
チャンバ40は、真空に維持される搬送空間40aを形成する箱型の部材である。基板Gを保持した基板キャリア100は、搬送空間40a内でキャリア搬送ユニット41によりX方向に搬送され、マスクMは、搬送空間40a内で基板キャリア100の下方においてマスク搬送ユニット42によりX方向に搬送される。
The
キャリア搬送ユニット41は、本実施形態の場合、ローラコンベアである。しかし、キャリア搬送ユニット41は磁気浮上式の搬送ユニット等、他の種類の搬送ユニットであってもよい。キャリア搬送ユニット41は、Y方向に離間して二組設けられている。
In this embodiment, the
各キャリア搬送ユニット41は、X方向に配列された複数の搬送ローラ411と、複数の駆動軸412と、複数の駆動ユニット413とを含む。二組のキャリア搬送ユニット41によって、搬送ローラ411の列はY方向に離間して二列配置されており、基板キャリア100を下方から支持する。各搬送ローラ411は、Y方向に延びる駆動軸412を介して駆動ユニット413に接続されており、各搬送ローラ411の周面は基板キャリア100のY方向の端部の底面に接する。各駆動ユニット413は、駆動軸412を回転軸として、駆動軸412を介して搬送ローラ411をY方向の回転軸周りに回転する。
Each
マスク搬送ユニット42は、本実施形態の場合、ローラコンベアである。しかし、マスク搬送ユニット42は磁気浮上式の搬送ユニット等、他の種類の搬送ユニットであってもよい。マスク搬送ユニット42は、Y方向に離間して二組設けられている。
In this embodiment, the
各マスク搬送ユニット41は、X方向に配列された複数の搬送ローラ421と、複数の駆動軸422と、複数の駆動ユニット423とを含む。二組のマスク搬送ユニット42によって、搬送ローラ421の列は図4に示すようにY方向に離間して二列配置されており、マスクMを下方から支持する。各搬送ローラ421は、Y方向に延びる駆動軸422を介して駆動ユニット423に接続されており、各搬送ローラ421の周面はマスクMのY方向の端部の底面に接する。各駆動ユニット423は、駆動軸422を回転軸として、駆動軸422を介して搬送ローラ421をY方向の回転軸周りに回転する。
Each
図5は、キャリア搬送ユニット41の駆動ユニット413及びマスク搬送ユニット42の駆動ユニット423の詳細図である。本実施形態では、アライメントの際、搬送ローラ411が基板キャリア100と干渉することを回避するために、搬送ローラ411がY方向に変位可能に構成されている。具体的には、スライド機構414によって駆動ユニット413、駆動軸412及び搬送ローラ411が一体的にY方向に変位可能に構成されている。この変位によって、搬送ローラ421は実線で示す搬送位置と、基板キャリア100との干渉を回避する、搬送位置よりも外側の退避位置との間で位置変更が可能である。
FIG. 5 is a detailed diagram of the
駆動ユニット413は、その駆動源としてモータ413aを含み、モータ413aの出力軸は駆動軸412と連結されている。駆動源をチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。モータ413aの駆動により搬送ローラ411が回転する。駆動軸412は、チャンバ40の側壁に形成した開口部40dを通過してチャンバ40の内外に延設されている。開口部40dをチャンバ40外の雰囲気に対してシールするために、駆動ユニット413とチャンバ40の側壁との間には、シール構造413bが設けられている。シール構造413bはY方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。
The
駆動ユニット423は、その駆動源としてモータ423aを含み、モータ423aの出力軸は駆動軸422と連結されている。駆動源をチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。モータ423aの駆動により搬送ローラ421が回転する。駆動軸422は、チャンバ40の側壁に形成した開口部40eを通過してチャンバ40の内外に延設されている。搬送ローラ421は、搬送ローラ411と異なり、その変位を要しない。したがって、駆動ユニット423の位置は固定の位置である。開口部40eには駆動ユニット423のブッシュ部が挿入されており、チャンバ40外の雰囲気からシールされている。
The
図3及び図4に戻る。キャリアガイドユニット43は、キャリア搬送ユニット41により搬送される基板キャリア100の位置がY方向にずれないようにガイドする。本実施形態の場合、キャリアガイドユニット43は、Y方向に離間して二組設けられており、これら二組のキャリアガイドユニット43によって、基板キャリア100の搬送経路のY方向の幅が規定される。
Return to FIGS. 3 and 4. The
各キャリアガイドユニット43は、複数の規制ユニット431と、複数の移動ユニット434と、を含む。複数の規制ユニット431は、X方向に沿って離間して配置され、基板キャリア100の搬送中、搬送方向(X方向)に対する基板キャリア100の幅方向(本実施形態の場合、Y方向)の位置を規制する。本実施形態の場合、規制ユニット431は、ガイドローラ432と、ガイドローラ432をZ方向の軸周りに回転自在に支持する支持部材433とを含む。ガイドローラ432は、基板キャリア100の側部に対向する周面を有し、支持部材433に自由回転自在に支持されている。基板キャリア100が斜行すると、基板キャリア100がガイドローラ432に当接することで、基板キャリア100のY方向の位置が規制される。ガイドローラ432はX方向で係合部101やアーム部材60とずれた位置に位置している。
Each
基板キャリア100と、ガイドローラ432との間の隙間が大きすぎると基板キャリア100の搬送精度は悪化し、小さすぎると基板キャリア100とガイドローラ432との干渉が頻発してパーティクルが発生しやすくなる。移動ユニット434は、規制ユニット431を基板キャリア100の幅方向(本実施形態の場合、Y方向)に移動して、その位置を変更可能なユニットである。移動ユニット434によって、規制ユニット431の位置を調節することで、Y方向の適切な位置にある基板キャリア100と、ガイドローラ432との間の隙間を適切に設定することができる。
If the gap between the
本実施形態の移動ユニット434は、駆動軸435と、駆動ユニット436とを含む。駆動軸435はY方向に延設されており、規制ユニット431と駆動ユニット436とを接続する。駆動ユニット436は、規制ユニット431と共に駆動軸435をY方向に移動するアクチュエータを含む。詳細は後述する。
The moving
マスクガイドユニット44は、マスク搬送ユニット42により搬送されるマスクMの位置がY方向にずれないようにガイドする。本実施形態の場合、マスクガイドユニット44は、Y方向に離間して二組設けられており、これら二組のマスクガイドユニット44によって、マスクMの搬送経路のY方向の幅が規定される。
The
なお、本実施形態では、アライメント後に、基板Gを保持した基板キャリア100はマスクM上に重ねられ、基板キャリア100は基板Gに加えてマスクMも保持する。基板G、マスクM及び基板キャリア100の積層体(図2参照)は、アライメント装置113において搬送ユニット42で搬送され、マスクガイドユニット44によりY方向の位置が規制されることになる。
Note that in this embodiment, after alignment, the
各マスクガイドユニット44は、複数の規制ユニット441と、複数の移動ユニット444と、を含む。複数の規制ユニット441は、X方向に沿って離間して配置され、基板キャリア100の搬送中、搬送方向(X方向)に対する基板キャリア100の幅方向(本実施形態の場合、Y方向)の位置を規制する。本実施形態の場合、規制ユニット441は、ガイドローラ442と、ガイドローラ442をZ方向の軸周りに回転自在に支持する支持部材443とを含む。ガイドローラ442は、マスクMの側部に対向する周面を有し、支持部材443に自由回転自在に支持されている。図4に示すように、ガイドローラ442の列はX方向に沿っており、かつ、Y方向に離間して二列配置されている。マスクMが斜行すると、マスクMがガイドローラ442に当接することで、マスクMのY方向の位置が規制される。
Each
マスクMと、ガイドローラ442との間の隙間が大きすぎるとマスクMの搬送精度は悪化し、小さすぎるとマスクMとガイドローラ442との干渉が頻発してパーティクルが発生しやすくなる。移動ユニット444は、規制ユニット441をマスクMの幅方向(本実施形態の場合、Y方向)に移動して、その位置を変更可能なユニットである。移動ユニット444によって、規制ユニット441の位置を調節することで、Y方向の適切な位置にあるマスクMと、ガイドローラ442との間の隙間を適切に設定することができる。
If the gap between the mask M and the
また、移動ユニット444は、それぞれ独立して制御可能である。すなわち各ガイドローラ442のマスクMの側面に対する位置調整が独立して可能である。マスクMのプリアライメントにおいて、規制ユニット441を移動してマスクMを幅方向(本実施形態の場合、Y方向)に位置決めするが、この時、図10に示すようにマスクMの基準位置となる片側列のガイドローラ442(位置が固定されるガイドローラ)のX方向における最前方及び最後方のガイドローラ442-Aを、残りのガイドローラ442よりY方向に距離t(例えば他のローラよりも0.5mm突出する位置)だけマスクMの側面に近い位置に配置する。これにより、後述のマスクMの基準位置への押し付け時にマスクMの姿勢が安定する。この距離t(突出量)は、マスクMのサイズ、要求精度等によって適宜調整される。これらプリアライメント動作については後述する。
Furthermore, the
本実施形態の移動ユニット444は、駆動軸445と、駆動ユニット446とを含む。駆動軸445はY方向に延設されており、規制ユニット441と駆動ユニット446とを接続する。駆動ユニット446は、規制ユニット441と共に駆動軸445をY方向に移動するアクチュエータを含む。詳細は後述する。
The moving
マスク支持ユニット45は、移動ユニット444によるマスクMの移動時(マスクMのプリアライメント時)にマスクMをその下方から支持する。マスク支持ユニット45は、移動ユニット444によるマスクMの移動方向(Y方向)に回転可能な回転体451と、回転体451を自由回転可能に支持する支持部材452とを備える。本実施形態の場合、回転体451はY方向の軸回りに回転可能なローラである。しかし、回転体451は任意の方向に自由回転自在に支持された球体(ボールローラ等)であってもよい。
The
マスクMを支持した際に、マスクMの自重による回転体451の弾性変形を抑えることは、マスクMと回転体451との接触面積を減らし、パーティクルの発生防止の点で有利である。この点で回転体451の周面はマスクMよりも硬い材料で形成すると有利である。例えば、回転体451はステンレスを母材とし、表面にDLCコーティングを施してもよい。母材はステンレスよりも硬度が硬い材料であってもよい。
Suppressing the elastic deformation of the
マスク支持ユニット45は、Y方向に離間して二組設けられている。各組において、支持部材452は一つの回転体451に対して一つ設けられてもよいし、二つの回転体451に対して一つ設けられてもよい。図4に示すように本実施形態では合計で四つの回転体451が設けられており、四つの回転体はX方向に離間した二列のローラ列を構成している。
Two sets of
昇降ユニット46は、マスク支持ユニット45を支持位置と退避位置との間で昇降する。図3はマスク支持ユニット45が退避位置に位置している状態を示している。昇降ユニット46の詳細は後述する。
The lifting
マスク保持ユニット47は、プリアライメントが行われたマスクMをアライメント動作中、保持する。マスク保持ユニット47は、保持テーブル47と、保持テーブル47を支持する支持部材472とを備える。保持テーブル47は例えば磁気吸着或いはクランプ機構によってマスクMを保持する。昇降ユニット48はマスク保持ユニット47を保持位置と退避位置との間で昇降する。図3はマスク保持ユニット47が退避位置に位置している状態を示している。昇降ユニット48の詳細は後述する。
The
次に、アライメントユニット6は、搬送空間40a内で、基板キャリア100に保持された基板Gと、マスクMとのX-Y平面での位置合わせを行い、基板キャリア100をマスクM上に降下してマスクMも基板キャリア100に保持させる機構である。
Next, the alignment unit 6 aligns the substrate G held by the
アライメントユニット6は、基板キャリア100を搬送空間40a内で昇降する昇降ユニット6Aと、昇降ユニット6AをX-Y平面上で移動する移動ユニット6Bと、複数の計測ユニット65とを備える。昇降ユニット6Aは、Z方向に延設された複数のアーム部材60と、複数のアーム部材60を支持する昇降テーブル62と、昇降テーブル62を昇降する駆動ユニット63とを含む。
The alignment unit 6 includes an elevating
複数のアーム部材60は、X方向及びY方向に離間して配置されており、チャンバ40の天壁に形成された開口部40bを介して、チャンバ40の内外に延設されている。開口部40bを装置外の雰囲気に対してシールするために、アーム部材60とチャンバ40の天壁との間には、シール構造60aが設けられている。シール構造60aはX方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。
The plurality of
アーム部材60は、その下端部に爪状の係合部60aを有している。係合部60aが基板キャリア100の側部に形成された係合部101に下から当接することで、複数のアーム部材60の係合部60aに基板キャリア100が載置された状態となる。
The
駆動ユニット63は例えばボールねじ機構を有しており、ボールねじ軸63aに沿って昇降テーブル62を昇降する。昇降テーブル62の昇降によって、複数のアーム部材60の係合部60aに載置された基板キャリア100を昇降することができる。
The
移動ユニット6Bは、複数の支柱64を介して駆動ユニット63に接続されており、駆動ユニット63をX方向、Y方向、θ方向に変位することで昇降ユニット6A全体、つまり、基板キャリア100をX方向、Y方向、θ方向に変位することができる。移動ユニット6Bは、例えば、チャンバ40に固定されたベースプレート、ベースプレートの上方に位置し、複数の支柱64が立設された可動プレート、ベースプレートと可動プレートとの間に配置され、ベースプレートに対して可動プレートを変位させる複数のアクチュエータとを含む。
The moving
複数の計測ユニット65は、基板キャリア100に保持された基板Gと、マスクMの位置ずれを計測する。本実施形態の計測ユニット65は画像を撮像する撮像装置(カメラ)であり、チャンバ40の天壁に形成された透過部40cを介して搬送空間40a内の基板GとマスクMとを撮影する。基板G及びマスクMには、それぞれアライメントマークが形成されており、計測ユニット65はこれらのアライメントマークを撮像する。そして、基板G及びマスクMの各アライメントマークの位置から、基板G及びマスクMのX方向、Y方向及びθ方向の位置ずれ量を演算することができる。
The plurality of
なお、基板キャリア100及びマスクMがY方向に斜行して搬送されていると、基板GとマスクMとの位置ずれ量が大きく、また、各アライメントマークが計測ユニット65の視野内に収まらない場合がある。しかし、本実施形態では基板キャリア100及びマスクMが各ガイドユニット43、44によってY方向の位置が規制されつつ搬送され、かつ、マスクMは後述するプリアライメントにより位置決めされるため、基板キャリア100及びマスクMがY方向に斜行して搬送されることを防止できる。したがって、アライメント前においても基板GとマスクMとの位置ずれ量が小さく、また、各アライメントマークを計測ユニット65の視野内に収めることができる。すなわち、基板Gを保持した基板キャリア100と、マスクMの各搬送精度を向上することで、アライメント精度も向上することができる。
Note that when the
アライメント装置113におけるアライメント動作について説明する。まず、図3に示すようにアーム部材60、搬送ローラ411、規制ユニット431及び441が配置された状態で、基板Gを保持した基板キャリア100及びマスクMを搬送空間40a内に搬送し、所定位置で搬送を停止する。その後、マスクMは後述するプリアライメントにより位置決めされ、マスク保持ユニット47の保持テーブル471上に保持される。
The alignment operation in the
昇降ユニット6Aがアーム部材60を上昇させ、基板キャリア100を搬送ローラ411から持ち上げる。搬送ローラ411は退避位置(図5)へ移動する。昇降ユニット6Aがアーム部材60を降下させ、基板GがマスクMに近接する位置へ基板キャリア100を降下する。
The
複数の計測ユニット65により基板G及びマスクMの各アライメントマークを計測し、基板G及びマスクMのX方向、Y方向及びθ方向の位置ずれ量を演算する。演算結果に応じて移動ユニット6Bを駆動し、基板GとマスクMとの位置合わせを行う。昇降ユニット6Aがアーム部材60を降下させ、基板GがマスクMに重なるように基板キャリア100を降下する。なお、マスクMには係合部60aとの干渉を回避する凹部が形成されており、アーム部材60を降下させると係合部60aは凹部に進入する。その後、基板キャリア100によりマスクMを保持する。
Each alignment mark on the substrate G and mask M is measured by a plurality of
マスクMをマスク保持テーブル471から搬送ローラ421へ移載した後、搬送ローラ421を回転させて、基板G及びマスクMを保持した基板キャリア100をアライメント装置113外へ搬送する。
After transferring the mask M from the mask holding table 471 to the
<移動ユニット及び昇降ユニット>
移動ユニット434及び444、昇降ユニット46及び48の構成について説明する。図6はキャリアガイドユニット43、マスクガイドユニット44、マスク支持ユニット45及びマスク保持ユニット47の周辺の構造を示す説明図である。
<Moving unit and elevating unit>
The configurations of the moving
移動ユニット434の駆動軸435はチャンバ40の側壁に形成した開口部40fを通過してチャンバ40の内外に延設されている。開口部40fをチャンバ40外の雰囲気に対してシールするために、駆動軸435とチャンバ40の側壁との間には、シール構造437が設けられている。シール構造437はY方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。駆動ユニット436は、電動シリンダ436aを備え、そのロッド部はジョイント部438を介して駆動軸435に連結されている。駆動源である電動シリンダ436aをチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。ジョイント部438は例えばフローティングジョイントであり、ロッド部と駆動軸435との位置ずれを許容するジョイントである。電動シリンダ436aは伸縮量を制御可能である。
A
以上の構成により、規制ユニット431の位置を調整することで、Y方向の適切な位置にある基板キャリア100と、ガイドローラ432との間の隙間を適切に設定することができる。なお、本実施形態ではY方向の両側の各規制ユニット431に、それぞれ移動ユニット434を設けてそれらの位置を調整可能としたが、Y方向の一方の側の規制ユニット431は位置を固定とし、他方の側の規制ユニット431のみ位置を調整可能としてもよい。
With the above configuration, by adjusting the position of the
移動ユニット444の駆動軸445はチャンバ40の側壁に形成した開口部40gを通過してチャンバ40の内外に延設されている。開口部40gをチャンバ40外の雰囲気に対してシールするために、駆動軸445とチャンバ40の側壁との間には、シール構造447が設けられている。シール構造447はY方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。駆動ユニット446は、電動シリンダ446aを備え、そのロッド部はジョイント部448を介して駆動軸445に連結されている。駆動源である電動シリンダ436aをチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。ジョイント部448は例えばフローティングジョイントであり、ロッド部と駆動軸445との位置ずれを許容するジョイントである。電動シリンダ446aは伸縮量を制御可能である。
The
以上の構成により、規制ユニット441の位置を調整することで、Y方向の適切な位置にあるマスクMと、ガイドローラ442との間の隙間を適切に設定することができる。なお、本実施形態ではY方向の両側の各規制ユニット441に、それぞれ移動ユニット444を設けてそれらの位置を調整可能としたが、Y方向の一方の側の規制ユニット441は位置を固定とし、他方の側の規制ユニット441のみ位置を調整可能としてもよい。
With the above configuration, by adjusting the position of the
昇降ユニット46は、マスク支持ユニット45を図6で実線で示す退避位置(降下位置)と、破線で示す支持位置(上昇位置)との間で昇降する。支持位置は、マスクMを搬送ローラ421上の位置よりも高い位置で支持する位置であり、マスク支持ユニット45は、退避位置から支持位置への上昇過程で搬送ローラ421からマスクMを持ち上げることになる。
The elevating
昇降ユニット46は、駆動ユニット461と、昇降軸462と、昇降軸462の上端部に固定された当接部材463と、案内部材464とを含む。駆動ユニット461は、昇降ユニット46の駆動源となるアクチュエータ(例えば電動シリンダ)を含み、昇降軸462をZ方向に移動する。昇降ユニット46の駆動源をチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。
The elevating
昇降軸462はチャンバ40の底壁に形成した開口部40hを通過してチャンバ40の内外に延設されている。開口部40hをチャンバ40外の雰囲気に対してシールするために、昇降軸462とチャンバ40の底壁との間には、シール構造465が設けられている。シール構造465はY方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。
The lifting
当接部材463は支持部材452の底面に当接する部材であって、半球形状を有している。昇降軸462を支持部材452に固定する構成も採用可能であるが、本実施形態のように半休形状の当接部材463の球面が支持部材452の底面に当接するだけで、両者を固定しない構造とすることで、支持部材452が昇降軸462によって水平方向に拘束されない。これは、内部が真空状態か大気圧状態かに起因するチャンバ40の変形に対して有利である。耐摩耗性の観点で当接部材463は、例えば、焼入れしたステンレスのように硬い材料であってもよい。
The
案内部材464は、チャンバ40内において底壁上にZ方向に立設されたレール上の部材である。支持部材452は案内部材464と係合する係合部を有し、マスク支持ユニット45のZ方向の移動が案内される。
The
昇降ユニット48は、マスク保持ユニット47を図6で実線で示す退避位置(降下位置)と、破線で示す保持位置(上昇位置)との間で昇降する。保持位置は、マスクMを支持ユニット45の支持位置よりも僅かに高い位置で保持する位置であり、マスク保持ユニット47は、退避位置から保持位置への上昇過程でマスク支持ユニット45からマスクMを持ち上げることになる。
The lifting
昇降ユニット48は、駆動ユニット481と、昇降軸482と、昇降軸482の上端部に固定された当接部材483と、案内部材484とを含む。駆動ユニット481は、昇降ユニット48の駆動源となるアクチュエータ(例えば電動シリンダ)を含み、昇降軸482をZ方向に移動する。昇降ユニット48の駆動源をチャンバ40の外部に配置することでチャンバ40内でのパーティクルの発生を低減することができる。
The elevating
昇降軸482はチャンバ40の底壁に形成した開口部40iを通過してチャンバ40の内外に延設されている。開口部40iをチャンバ40外の雰囲気に対してシールするために、昇降軸482とチャンバ40の底壁との間には、シール構造485が設けられている。シール構造485はY方向に伸縮可能な、筒状で蛇腹状のシール部材を含む。
The lifting
当接部材483は支持部材472の底面に当接する部材であって、半球形状を有している。昇降軸482を支持部材472に固定する構成も採用可能であるが、本実施形態のように半休形状の当接部材483の球面が支持部材472の底面に当接するだけで、両者を固定しない構造とすることで、支持部材472が昇降軸482によって水平方向に拘束されない。これは、内部が真空状態か大気圧状態かに起因するチャンバ40の変形に対して有利である。
The
案内部材484は、チャンバ40内において底壁上にZ方向に立設されたレール上の部材である。支持部材472は案内部材484と係合する係合部を有し、マスク保持ユニット47のZ方向の移動が案内される。
The
<プリアライメント>
マスクMのプリアライメント動作について、図7(A)~図8(C)、図9及び図10を参照して説明する。図9はマスクMのプリアライメント及びアライメント動作を示すフローチャートであり、図10はガイドローラ442の配置例を示す図である。以下のS1~S12は図9のフローチャートの各ステップを示すものである。
<Pre-alignment>
The pre-alignment operation of the mask M will be explained with reference to FIGS. 7(A) to 8(C), FIG. 9, and FIG. 10. FIG. 9 is a flowchart showing the pre-alignment and alignment operations of the mask M, and FIG. 10 is a diagram showing an example of the arrangement of the
図7(A)はマスクMがX方向の所定位置(図4のストッパ49によって停止される位置)まで搬送された状態を示す(図9のS1)。この後、図7(B)に示すようにマスク支持ユニット45を支持位置に上昇し、搬送ローラ421から回転体451へマスクMを移載する(図9のS2)。マスクMは搬送ローラ421から離間している。
FIG. 7(A) shows a state in which the mask M has been transported to a predetermined position in the X direction (the position where it is stopped by the
続いて、図7(C)に示すように、マスクMのY方向の両側に位置する規制ユニット441及び移動ユニット444のうち、一方の側(図7(C)の例では左側)の移動ユニット444を駆動して、一方の側の規制ユニット441をマスクM側へ移動する。他方の規制ユニット441の位置はX方向に配列された状態で不動、すなわち位置を固定した状態にある。マスクMは、図7(C)で右側に位置する規制ユニット441に向かってY方向に押され、位置調整が行われる。その際、マスクMを支持する回転体451がマスクMの移動に従動してY方向に回転する。回転体451が回転することでマスクMが擦れることや擦れによるパーティクルの発生を防止できる。マスクMは、図7(C)で右側に位置する規制ユニット441に当接してY方向の位置決めがなされ、プリアライメント動作が行われる。
Next, as shown in FIG. 7(C), among the regulating
また、この時、マスクMを押圧する片側列(図10の右側の列)のガイドローラ442の移動には、移動ユニット444の位置制御を用いて、ガイドローラ442をマスクMの基準位置へと押圧する。このとき、反対側の列(図10の左側の列)のガイドローラ442が受ける負荷を検出してもよい。検出は反対側の列(図10の左側の列)のガイドローラ442の移動ユニット444を駆動して負荷制御(力又はトルクを出力させる制御)を用いて行ってもよい。そして、負荷が目標値となるように(例えば閾値を超えた時に)、マスクMが基準位置に押し付けられていると判定することが可能となる。この際の反対側の列(図10の左側の列)のガイドローラ442が受ける負荷は移動ユニット444が負担する荷重(力やトルク)をセンサによって検出してもよく、また、駆動ユニット446の駆動電流変化から検出してもよい。
At this time, the
またこの時、図10に示すように、マスクMの基準位置となる、位置が固定される片側列(図10の左側の列)のガイドローラ442のうち、X方向における両端のガイドローラ442-Aのみ他のガイドローラ442よりY方向に所定量t(本実施例では0.5mm)突出した位置に調整を行うと、マスクMの両端部を押圧するため姿勢が安定する。所定量tはマスクMのサイズ等によって選択することができる。負荷の検出対象は、ガイドローラ442-Aについてのみであってもよい。
At this time, as shown in FIG. 10, among the
尚、このプリアライメント動作は、アライメントマークが計測ユニット65のカメラ画角内に入っていることが確認されるまで行われる(図9のS3、S4)。 Note that this pre-alignment operation is performed until it is confirmed that the alignment mark is within the camera field of view of the measurement unit 65 (S3 and S4 in FIG. 9).
その後、図8(A)に示すように、マスク保持ユニット47をマスクMを動かさないように回転体451と同じ高さの保持位置へと上昇させ(図9のS5)、マスクMを回転体451とマスク保持ユニット47の保持テーブル471とで支持する状態とする(図9のS6)。続いて図8(B)に示すように、マスクMのY方向の両側に位置する各規制ユニット441を対応する移動ユニット444によってマスクMから離れる方向に移動する(図9のS7)。これによってマスクMの側面と規制ユニット441とが擦れることによるパーティクルの発生が防止される。
Thereafter, as shown in FIG. 8A, the
そして、図8(C)に示すように、昇降ユニット46によってマスク支持ユニット45を退避位置に降下させ、その回転体451をマスクMから離間させ、マスクMは、保持テーブル471によって保持された状態となる(図9のS8)。
Then, as shown in FIG. 8C, the
こうしてマスクMのプリアライメントが完了する。その後、アライメント装置113のアライメントユニット6によって、基板GとマスクMとのアライメントが行われ(図9のS9)、保持テーブル471上でマスクMに基板Gと基板キャリア100とが重ね合わされ、マスクMが基板キャリア100に保持される(図9のS10)。マスク保持ユニット47によるマスクMの保持を解除してマスク保持ユニット47を退避位置に降下し(図9のS11)、その過程でマスクMが搬送ローラ421に移載される。移載後、搬送ローラ421を回転させて、基板GとマスクMを保持した基板キャリア100を搬出することができる(図9のS12)。
In this way, the pre-alignment of the mask M is completed. Thereafter, the alignment unit 6 of the
以上の通り、本実施形態ではマスクMの搬送経路上でその位置決め(プリアライメント)を行うことができ、マスクMと位置決めと搬送とを連続的に行うことができる。そのため、作業効率を向上できる。また、マスクMのY方向の位置決めは、搬送ローラ421からマスクMを離間させた状態で行い、かつ、マスクMを回転体451で支持して行うので、マスクMに擦れが生じることを回避できる。
As described above, in this embodiment, the positioning (pre-alignment) of the mask M can be performed on the transport path, and the positioning and transport of the mask M can be performed continuously. Therefore, work efficiency can be improved. Furthermore, since the mask M is positioned in the Y direction with the mask M separated from the
<搬送装置の他の構成例>
図3~図8(C)の例では、アライメント装置113における搬送装置4について説明したが、搬送装置4の構成は他の装置又は室にも適用可能である。また、プリアライメントの対象とする搬送対象物としてマスクMを例示したが、基板Gにも適用可能である。
<Other configuration examples of the transport device>
In the examples of FIGS. 3 to 8(C), the
図3~図8(C)の例では、搬送ローラ421のZ方向の位置を固定とし、回転体451をZ方向に昇降する構成としたが、逆に、回転体451のZ方向の位置を固定とし、搬送ローラ421をZ方向に昇降する構成としてもよい。同様に、搬送ローラ421のZ方向の位置を固定とし、マスク保持テーブル471をZ方向に昇降する構成としたが、逆に、マスク保持テーブル471のZ方向の位置を固定とし、搬送ローラ421をZ方向に昇降する構成としてもよい。
In the examples shown in FIGS. 3 to 8(C), the position of the conveying
図3~図8(C)の例では、プリアライメントの際、マスクMに対してY方向の両側に位置する規制ユニット441のうちの一方の側の規制ユニット441のみを移動したが、両側の規制ユニット441を互いに近づく方向に移動してもよい。
In the examples shown in FIGS. 3 to 8(C), during pre-alignment, only one of the regulating
また、一つの移動ユニット434に対する規制ユニット431の数は一つであっても複数であってもよい。複数の場合、当該複数の規制ユニット431が一つの移動ユニット434によって同時に移動されることになる。同様に、一つの移動ユニット444に対する規制ユニット441の数は一つであっても複数であってもよい。複数の場合、当該複数の規制ユニット441が一つの移動ユニット444によって同時に移動されることになる。
Furthermore, the number of
<電子デバイス>
次に、電子デバイスの一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成を例示する。
<Electronic devices>
Next, an example of an electronic device will be described. The configuration of an organic EL display device will be illustrated below as an example of an electronic device.
まず、製造する有機EL表示装置について説明する。図11(A)は有機EL表示装置500の全体図、図11(B)は1画素の断面構造を示す図である。
First, the organic EL display device to be manufactured will be explained. FIG. 11(A) is an overall view of the organic
図11(A)に示すように、有機EL表示装置500の表示領域51には、発光素子を複数備える画素52がマトリクス状に複数配置されている。詳細は後で説明するが、発光素子のそれぞれは、一対の電極に挟まれた有機層を備えた構造を有している。
As shown in FIG. 11A, in the
なお、ここでいう画素とは、表示領域51において所望の色の表示を可能とする最小単位を指している。カラー有機EL表示装置の場合、互いに異なる発光を示す第1発光素子52R、第2発光素子52G、第3発光素子52Bの複数の副画素の組み合わせにより画素52が構成されている。画素52は、赤色(R)発光素子と緑色(G)発光素子と青色(B)発光素子の3種類の副画素の組み合わせで構成されることが多いが、これに限定はされない。画素52は少なくとも1種類の副画素を含めばよく、2種類以上の副画素を含むことが好ましく、3種類以上の副画素を含むことがより好ましい。画素52を構成する副画素としては、例えば、赤色(R)発光素子と緑色(G)発光素子と青色(B)発光素子と黄色(Y)発光素子の4種類の副画素の組み合わせでもよい。
Note that the pixel herein refers to the smallest unit that can display a desired color in the
図11(B)は、図11(A)のA-B線における部分断面模式図である。画素52は、基板53上に、第1の電極(陽極)54と、正孔輸送層55と、赤色層56R・緑色層56G・青色層56Bのいずれかと、電子輸送層57と、第2の電極(陰極)58と、を備える有機EL素子で構成される複数の副画素を有している。これらのうち、正孔輸送層55、赤色層56R、緑色層56G、青色層56B、電子輸送層57が有機層に当たる。赤色層56R、緑色層56G、青色層56Bは、それぞれ赤色、緑色、青色を発する発光素子(有機EL素子と記述する場合もある)に対応するパターンに形成されている。
FIG. 11(B) is a schematic partial cross-sectional view taken along line AB in FIG. 11(A). The
また、第1の電極54は、発光素子ごとに分離して形成されている。正孔輸送層55と電子輸送層57と第2の電極58は、複数の発光素子52R、52G、52Bにわたって共通で形成されていてもよいし、発光素子ごとに形成されていてもよい。すなわち、図11(B)に示すように正孔輸送層55が複数の副画素領域にわたって共通の層として形成された上に赤色層56R、緑色層56G、青色層56Bが副画素領域ごとに分離して形成され、さらにその上に電子輸送層57と第2の電極58が複数の副画素領域にわたって共通の層として形成されていてもよい。
Further, the
なお、近接した第1の電極54の間でのショートを防ぐために、第1の電極54間に絶縁層59が設けられている。さらに、有機EL層は水分や酸素によって劣化するため、水分や酸素から有機EL素子を保護するための保護層600が設けられている。
Note that an insulating
図11(B)では正孔輸送層55や電子輸送層57が一つの層で示されているが、有機EL表示素子の構造によって、正孔ブロック層や電子ブロック層を有する複数の層で形成されてもよい。また、第1の電極54と正孔輸送層55との間には第1の電極54から正孔輸送層55への正孔の注入が円滑に行われるようにすることのできるエネルギーバンド構造を有する正孔注入層を形成してもよい。同様に、第2の電極58と電子輸送層57の間にも電子注入層を形成してもよい。
In FIG. 11B, the hole transport layer 55 and the
赤色層56R、緑色層56G、青色層56Bのそれぞれは、単一の発光層で形成されていてもよいし、複数の層を積層することで形成されていてもよい。例えば、赤色層56Rを2層で構成し、上側の層を赤色の発光層で形成し、下側の層を正孔輸送層又は電子ブロック層で形成してもよい。あるいは、下側の層を赤色の発光層で形成し、上側の層を電子輸送層又は正孔ブロック層で形成してもよい。このように発光層の下側又は上側に層を設けることで、発光層における発光位置を調整し、光路長を調整することによって、発光素子の色純度を向上させる効果がある。
Each of the
なお、ここでは赤色層56Rの例を示したが、緑色層56Gや青色層56Bでも同様の構造を採用してもよい。また、積層数は2層以上としてもよい。さらに、発光層と電子ブロック層のように異なる材料の層が積層されてもよいし、例えば発光層を2層以上積層するなど、同じ材料の層が積層されてもよい。
Note that although an example of the
こうした電子デバイスの製造において、上述した成膜装置1が適用可能であり、当該製造方法は、基板Gを搬送する搬送工程と、搬送されている基板Gに蒸着装置114A、114Bによって各層の少なくともいずれか一つの層を蒸着する蒸着工程と、を含むことができる。
In manufacturing such an electronic device, the film forming apparatus 1 described above can be applied, and the manufacturing method includes a transport step of transporting the substrate G, and at least one of the layers on the transported substrate G by the
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。 The invention is not limited to the embodiments described above, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the following claims are hereby appended to disclose the scope of the invention.
1 成膜装置、4 搬送装置、40 チャンバ、41 キャリア搬送ユニット、42 マスク搬送ユニット、431 規制ユニット、441 規制ユニット、434 移動ユニット、444 移動ユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film-forming apparatus, 4 Transport apparatus, 40 Chamber, 41 Carrier transport unit, 42 Mask transport unit, 431 Regulation unit, 441 Regulation unit, 434 Movement unit, 444 Movement unit
Claims (8)
前記チャンバ内で搬送対象物を搬送方向に搬送する搬送手段と、
前記搬送方向に対する前記搬送対象物の幅方向の一方の位置を規制する第一の規制手段と、
前記搬送対象物の前記幅方向の他方の位置を規制する第二の規制手段と、
前記第一の規制手段及び前記第二の規制手段の少なくともいずれか一方の規制手段を前記幅方向に移動して、前記搬送対象物を前記幅方向に位置決めする移動手段と、を備え、
前記第一の規制手段は前記搬送方向に沿って複数設けられ、
前記第二の規制手段は前記搬送方向に沿って複数設けられ、
前記移動手段は、
前記第一の規制手段を前記幅方向に移動する第一の移動手段と、
前記第二の規制手段を前記幅方向に移動する第二の移動手段と、を備え、
前記搬送対象物の位置決めでは、前記第一の規制手段及び前記第二の規制手段の一方の位置は固定され、他方が前記幅方向に移動され、
位置が固定される前記一方の規制手段のうち、前記搬送方向における最前方及び最後方に位置する規制手段は、前記搬送対象物に対して残りの規制手段よりも近い位置に配置される、
ことを特徴とする搬送装置。 a chamber forming a transfer space maintained in a vacuum;
a conveyance means for conveying the object to be conveyed in the conveyance direction within the chamber;
a first regulating means for regulating one position in the width direction of the conveyed object with respect to the conveying direction;
a second regulating means for regulating the other position of the conveyed object in the width direction;
a moving means for moving at least one of the first regulating means and the second regulating means in the width direction to position the conveyed object in the width direction ;
A plurality of the first regulating means are provided along the conveying direction,
A plurality of the second regulating means are provided along the conveyance direction,
The transportation means is
a first moving means for moving the first regulating means in the width direction;
a second moving means for moving the second regulating means in the width direction,
In the positioning of the conveyed object, one of the first regulating means and the second regulating means is fixed in position, and the other is moved in the width direction,
Of the one regulating means whose position is fixed, the regulating means located at the frontmost and rearmost in the transport direction are arranged closer to the object to be transported than the remaining regulating means,
A conveying device characterized by the following.
前記移動手段による前記搬送対象物の移動時に前記搬送対象物を支持する支持手段を備え、
前記支持手段は、前記移動手段による前記搬送対象物の移動方向に自由回転可能な回転体を備える、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to claim 1,
comprising a support means for supporting the object to be transported when the object to be transported is moved by the moving means,
The support means includes a rotary body that can freely rotate in a direction in which the conveyed object is moved by the moving means.
A conveying device characterized by the following.
前記搬送手段は、前記搬送対象物を下方から支持して搬送し、
前記搬送手段又は前記支持手段を昇降する昇降手段を備える、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to claim 2,
The conveying means supports and conveys the object to be conveyed from below,
comprising an elevating means for elevating the conveying means or the supporting means;
A conveying device characterized by the following.
前記移動手段は、前記昇降手段によって前記搬送対象物が前記搬送手段から持ち上げられ、前記支持手段に支持された状態で、前記少なくともいずれか一方の規制手段を前記幅方向に移動する、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to claim 3,
The moving means moves the at least one regulating means in the width direction while the object to be transported is lifted from the transporting means by the lifting means and supported by the supporting means.
A conveying device characterized by the following.
位置の固定される前記一方の規制手段が前記搬送対象物より受ける負荷が目標値となるように、移動される前記他方の規制手段の移動が制御される、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to any one of claims 1 to 4 ,
The movement of the other moving regulating means is controlled so that the load that the one regulating means, whose position is fixed, receives from the conveyed object becomes a target value.
A conveying device characterized by the following.
前記移動手段は、前記チャンバの外部に配置された駆動源を備え、
前記搬送手段は、前記チャンバ内に配置された搬送ローラと、前記チャンバ外に配置された駆動源と、を備える、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to any one of claims 1 to 5 ,
The moving means includes a drive source located outside the chamber,
The conveyance means includes a conveyance roller disposed within the chamber, and a drive source disposed outside the chamber.
A conveying device characterized by the following.
前記搬送対象物は、基板に重ねられるマスクであり、
前記第一の規制手段及び前記第二の規制手段は、前記マスクの側部に対向する周面を有するガイドローラを備える、
ことを特徴とする搬送装置。 The conveying device according to any one of claims 1 to 6 ,
The object to be transported is a mask stacked on a substrate,
The first regulating means and the second regulating means each include a guide roller having a circumferential surface facing a side of the mask.
A conveying device characterized by the following.
請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の搬送装置を含み、
前記基板とマスクとが基板キャリアに保持され、
前記搬送装置は、前記マスクを搬送する、
ことを特徴とする成膜装置。 An in-line film forming apparatus that forms a film on a substrate,
Including the conveying device according to any one of claims 1 to 7 ,
the substrate and mask are held in a substrate carrier;
The transport device transports the mask.
A film forming apparatus characterized by the following.
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