JP7300521B2 - 電気分解用電極 - Google Patents
電気分解用電極 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7300521B2 JP7300521B2 JP2021565937A JP2021565937A JP7300521B2 JP 7300521 B2 JP7300521 B2 JP 7300521B2 JP 2021565937 A JP2021565937 A JP 2021565937A JP 2021565937 A JP2021565937 A JP 2021565937A JP 7300521 B2 JP7300521 B2 JP 7300521B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ruthenium
- ytterbium
- electrode
- oxide
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/052—Electrodes comprising one or more electrocatalytic coatings on a substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1241—Metallic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/02—Hydrogen or oxygen
- C25B1/04—Hydrogen or oxygen by electrolysis of water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/24—Halogens or compounds thereof
- C25B1/26—Chlorine; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/34—Simultaneous production of alkali metal hydroxides and chlorine, oxyacids or salts of chlorine, e.g. by chlor-alkali electrolysis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/34—Simultaneous production of alkali metal hydroxides and chlorine, oxyacids or salts of chlorine, e.g. by chlor-alkali electrolysis
- C25B1/46—Simultaneous production of alkali metal hydroxides and chlorine, oxyacids or salts of chlorine, e.g. by chlor-alkali electrolysis in diaphragm cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
- C25B11/061—Metal or alloy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1225—Deposition of multilayers of inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1283—Control of temperature, e.g. gradual temperature increase, modulation of temperature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
本発明は、金属基材層と、ルテニウム酸化物およびイッテルビウム酸化物を含むコーティング層と、を含み、前記コーティング層は、前記基材層の少なくとも一つの面上に形成される、電気分解用電極を提供する。
本発明は、金属基材の少なくとも一つの面上にコーティング組成物を塗布するステップと、
コーティング組成物が塗布された金属基材を乾燥および熱処理してコーティングするステップと、を含み、
前記コーティング組成物は、ルテニウム前駆体およびイッテルビウム前駆体を含む、電気分解用電極の製造方法を提供する。
本実施例では、金属基材として、日東金網社製のニッケルメッシュ基材(Ni純度99%以上、200μm)を使用し、ルテニウム前駆体としてはルテニウム(III)クロリド水和物(RuCl3・nH2O)、白金族前駆体としては白金(IV)クロリド、セリウム前駆体としてはセリウム(III)ニトレート六水和物(Ce(NO3)3・6H2O)、イッテルビウム前駆体としてはイッテルビウムアセテート4水和物(Yb(CH3COO)3・4H2O)を使用した。アミン系添加剤としては尿素を使用した。
金属基材にコーティング層を形成する前に、基材の表面を、アルミニウムオキシド(White alumina、F120)で0.4MPaの条件でサンドブラストした後、80℃に加熱された5MのH2SO4水溶液に入れて3分間処理した後、蒸留水で洗浄して前処理を完了した。
前記材料の混合溶媒に、2.41mmolのルテニウム(III)クロリド水和物、0.1928mmolの白金(IV)クロリド、0.482mmolのイッテルビウムアセテート4水和物を1時間十分に溶解させ、尿素0.045gを投入し混合してコーティング組成物を製造した。前記コーティング組成物を、前述の前処理した金属基材にブラッシュを用いてコーティングし、対流式乾燥オーブンに入れて180℃で10分間乾燥させた。その後、500℃の電気加熱炉に入れて10分間さらに熱処理した。このようなコーティング、乾燥、および熱処理過程を9回さらに繰り返した後、最終的に500℃で1時間最終熱処理することで、電気分解用電極を製造した。
前記実施例1において、コーティング組成物にセリウム(III)ニトレート六水和物0.241mmolをさらに追加し、イッテルビウムアセテート4水和物を0.241mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
前記実施例1において、コーティング組成物に白金(IV)クロリドを投入しなかったことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
前記実施例2において、コーティング組成物に白金(IV)クロリドを投入しなかったことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
前記実施例2において、セリウム前駆体を0.3615mmol、イッテルビウム前駆体を0.1205mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
前記実施例2において、セリウム前駆体を0.1205mmol、イッテルビウム前駆体を0.3615mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
前記実施例2において、イッテルビウムアセテート4水和物を投入せず、セリウム(III)ニトレート六水和物を0.482mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
比較例1において、コーティング組成物に白金(IV)クロリドを投入しなかったことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
実施例2において、イッテルビウム前駆体の代わりにプラセオジム(III)塩化物(PrCl3)を0.241mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
比較例1において、コーティング組成物に白金(IV)クロリドを投入せず、セリウム前駆体の代わりにプラセオジム(III)塩化物(PrCl3)を0.482mmol投入したことを除き、同様に行って電気分解用電極を製造した。
実施例2と比較例1で製造した電極コーティング層中の成分をSEM-EDXを用いて分析し、その結果を下記表2に示した。
前記実施例および比較例で製造した電極の性能を確認するために、塩水電気分解(Chlor-Alkali Electrolysis)におけるハーフセルを用いた陰極電圧測定実験を行った。 電解液としては32%のNaOH水溶液を使用し、対電極としてはPtワイヤ、基準電極としてはHg/HgO電極を使用した。製造した電極を前記電解液に浸した後、-0.62A/cm2の定電流密度条件下で1時間活性化させた後、1時間目の電位値から各電極の性能を比較した。その結果を下記表3にまとめた。
Claims (9)
- 金属基材層と、
ルテニウム酸化物およびイッテルビウム酸化物を含むコーティング層と、を含み、
前記コーティング層は、前記基材層の少なくとも一つの面上に形成され、
前記コーティング層に含まれるルテニウム元素およびイッテルビウム元素のモル比が100:5~100:30であり、
前記コーティング層は、白金酸化物およびセリウム酸化物からなる群から選択される一以上をさらに含むことを特徴とする、
電気分解用電極。 - 前記コーティング層が、白金酸化物をさらに含む場合、前記コーティング層に含まれるルテニウム元素および白金元素のモル比が100:2~100:20である、請求項1に記載の電気分解用電極。
- 前記コーティング層が、セリウム酸化物をさらに含む場合、前記コーティング層に含まれるルテニウム元素およびセリウム元素のモル比が100:5~100:30である、請求項1または2に記載の電気分解用電極。
- 金属基材の少なくとも一つの面上にコーティング組成物を塗布するステップと、
前記コーティング組成物が塗布された金属基材を乾燥および熱処理してコーティングするステップと、を含み、
前記コーティング組成物は、ルテニウム前駆体およびイッテルビウム前駆体を含み、
前記コーティング組成物に含まれるルテニウム元素およびイッテルビウム元素のモル比が100:5~100:30であり、
前記コーティング組成物は、白金前駆体およびセリウム前駆体からなる群から選択される一以上をさらに含む、
電気分解用電極の製造方法。 - 前記白金前駆体は、クロロ白金酸六水和物(H2PtCl6・6H2O)、ジアミンジニトロ白金(Pt(NH3)2(NO)2)、白金(IV)クロリド(PtCl4)、白金(II)クロリド(PtCl2)、カリウムテトラクロロプラチネート(K2PtCl4)、およびカリウムヘキサクロロプラチネート(K2PtCl6)からなる群から選択される1つ以上である、請求項4に記載の電気分解用電極の製造方法。
- 前記セリウム前駆体は、セリウム(III)ニトレート六水和物(Ce(NO3)3・6H2O)、セリウム(IV)サルフェート四水和物(Ce(SO4)2・4H2O)、およびセリウム(III)クロリド七水和物(CeCl3・7H2O)からなる群から選択される1種以上である、請求項4または5に記載の電気分解用電極の製造方法。
- 前記ルテニウム前駆体は、ルテニウムヘキサフルオリド(RuF6)、ルテニウム(III)クロリド(RuCl3)、ルテニウム(III)クロリド水和物(RuCl3・xH2O)、ルテニウム(III)ブロミド(RuBr3)、ルテニウム(III)ブロミド水和物(RuBr3・xH2O)、ルテニウムヨージド(RuI3)、および酢酸ルテニウム塩からなる群から選択される1つ以上である、請求項4~6のいずれか一項に記載の電気分解用電極の製造方法。
- 前記イッテルビウム前駆体は、イッテルビウムカルボキシレート、イッテルビウムニトレート、イッテルビウムカーボネート、イッテルビウムクロリド、イッテルビウムフルオリド、イッテルビウムオキシド、イッテルビウムスルホネート、およびこれらの水和物からなる群から選択される1つ以上である、請求項4~7のいずれか一項に記載の電気分解用電極の製造方法。
- 前記コーティング組成物は、メラミン、アンモニア、尿素、1-プロピルアミン、1-ブチルアミン、1-ペンチルアミン、1-ヘプチルアミン、1-オクチルアミン、1-ノニルアミン、および1-ドデシルアミンからなる群から選択される1つ以上のアミン系添加剤をさらに含む、請求項4~8のいずれか一項に記載の電気分解用電極の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20190170676 | 2019-12-19 | ||
KR10-2019-0170676 | 2019-12-19 | ||
PCT/KR2020/018446 WO2021125786A1 (ko) | 2019-12-19 | 2020-12-16 | 전기분해용 전극 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022532085A JP2022532085A (ja) | 2022-07-13 |
JP7300521B2 true JP7300521B2 (ja) | 2023-06-29 |
Family
ID=76476797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021565937A Active JP7300521B2 (ja) | 2019-12-19 | 2020-12-16 | 電気分解用電極 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220349075A1 (ja) |
EP (1) | EP3971327B1 (ja) |
JP (1) | JP7300521B2 (ja) |
KR (1) | KR102573145B1 (ja) |
CN (1) | CN114008248B (ja) |
WO (1) | WO2021125786A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003277966A (ja) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Asahi Kasei Corp | 低い過電圧と耐久性に優れた水素発生用陰極 |
JP2006193768A (ja) | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Permelec Electrode Ltd | 水素発生用陰極 |
JP2006265649A (ja) | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 水素発生用電極の製造方法 |
CN107051431A (zh) | 2017-04-10 | 2017-08-18 | 广东卓信环境科技股份有限公司 | 一种用于析氯电极的活性涂液及其制备方法 |
JP2017535675A (ja) | 2014-09-10 | 2017-11-30 | チャイナ・ナショナル・フードピュリフィケーション・テクノロジー・(ベイジン)・カンパニー・リミテッド | 電極、その製造方法、およびその用途 |
JP2019531407A (ja) | 2017-08-11 | 2019-10-31 | エルジー・ケム・リミテッド | 電解用電極およびその製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4132609A (en) * | 1977-08-08 | 1979-01-02 | National Steel Corporation | Method of and apparatus for electrolytic treatment of metal |
JP2003277967A (ja) | 2002-03-19 | 2003-10-02 | Asahi Kasei Corp | 水素発生用陰極の製造方法 |
TW200304503A (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-01 | Asahi Chemical Ind | Electrode for generation of hydrogen |
KR100523591B1 (ko) * | 2002-04-09 | 2005-10-26 | 이근홍 | 희토류 금속을 이용한 복합산화물 전극 및 그 제조방법 |
US7566389B2 (en) * | 2003-10-08 | 2009-07-28 | Akzo Nobel N.V. | Electrode |
JP5189781B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2013-04-24 | ペルメレック電極株式会社 | 水素発生用電極 |
ITMI20091719A1 (it) * | 2009-10-08 | 2011-04-09 | Industrie De Nora Spa | Catodo per processi elettrolitici |
GB201021352D0 (en) * | 2010-12-16 | 2011-01-26 | Johnson Matthey Plc | Catalyst layer |
EP3492631B1 (en) * | 2017-08-11 | 2021-03-03 | LG Chem, Ltd. | Electrolytic electrode and manufacturing method therefor |
WO2020009473A1 (ko) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | 주식회사 엘지화학 | 전기분해용 환원 전극의 활성층 조성물 및 이로 유래된 환원 전극 |
-
2020
- 2020-12-16 WO PCT/KR2020/018446 patent/WO2021125786A1/ko unknown
- 2020-12-16 EP EP20903271.3A patent/EP3971327B1/en active Active
- 2020-12-16 JP JP2021565937A patent/JP7300521B2/ja active Active
- 2020-12-16 CN CN202080046784.5A patent/CN114008248B/zh active Active
- 2020-12-16 US US17/621,532 patent/US20220349075A1/en active Pending
- 2020-12-16 KR KR1020200176573A patent/KR102573145B1/ko active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003277966A (ja) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Asahi Kasei Corp | 低い過電圧と耐久性に優れた水素発生用陰極 |
JP2006193768A (ja) | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Permelec Electrode Ltd | 水素発生用陰極 |
JP2006265649A (ja) | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 水素発生用電極の製造方法 |
JP2017535675A (ja) | 2014-09-10 | 2017-11-30 | チャイナ・ナショナル・フードピュリフィケーション・テクノロジー・(ベイジン)・カンパニー・リミテッド | 電極、その製造方法、およびその用途 |
CN107051431A (zh) | 2017-04-10 | 2017-08-18 | 广东卓信环境科技股份有限公司 | 一种用于析氯电极的活性涂液及其制备方法 |
JP2019531407A (ja) | 2017-08-11 | 2019-10-31 | エルジー・ケム・リミテッド | 電解用電極およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102573145B1 (ko) | 2023-09-01 |
WO2021125786A1 (ko) | 2021-06-24 |
CN114008248B (zh) | 2024-09-27 |
KR20210079211A (ko) | 2021-06-29 |
US20220349075A1 (en) | 2022-11-03 |
JP2022532085A (ja) | 2022-07-13 |
EP3971327A1 (en) | 2022-03-23 |
EP3971327A4 (en) | 2022-10-19 |
EP3971327B1 (en) | 2024-06-19 |
CN114008248A (zh) | 2022-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7324310B2 (ja) | 電気分解用電極 | |
JP7121861B2 (ja) | 電気分解用電極 | |
JP7300521B2 (ja) | 電気分解用電極 | |
JP7261318B2 (ja) | 電気分解用電極 | |
JP7033215B2 (ja) | 電気分解用還元電極の活性層組成物およびそれに由来の還元電極 | |
JP7219828B2 (ja) | 電気分解用電極 | |
JP7522928B2 (ja) | 電気分解用電極の製造方法 | |
KR20200136765A (ko) | 전기분해용 전극 | |
KR20200076275A (ko) | 전기분해용 전극 | |
KR20200142464A (ko) | 전기분해용 전극 | |
KR20200142463A (ko) | 전기분해용 전극 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211105 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230412 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7300521 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |