JP7174528B2 - 偏光分析装置及び偏光分析装置の制御方法 - Google Patents
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Description
第1の実施形態では本開示の矩形信号の代表的な補正方法について説明する。
第1の実施形態では、矩形信号210の立ち上がり部分に対してのみ補正が行われていた。第2の実施形態では、矩形信号210の立ち下がり部分に対しても補正を行う。以下、第1の実施形態との差異を中心に、第2の実施形態を説明する。
第1の実施形態では、制御装置140は、矩形信号210の立ち上がり部分の基準電圧を一律に補正していた。一律に基準電圧を補正した場合、図3の範囲300に示すようにオーバーシュートが発生する。第3の実施形態では、制御装置140は、オーバーシュートの発生を抑制するように、矩形信号210の立ち上がり部分の基準電圧を補正する。以下、第1の実施形態との差異を中心に、第3の実施形態を説明する。
第4の実施形態では、フィッティングに使用する関数及び補正基準電圧(第一補正基準電圧及び第二補正基準電圧)の算出方法が第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との差異を中心に、第4の実施形態を説明する。
第5の実施形態では、FFS(Fringe Field Switching)方式の液晶パネルを用いる点が、第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との差異を中心に、第5の実施形態を説明する。
11 試料
110 光源
120 偏光選択素子
130 イメージセンサ
140 制御装置
Claims (18)
- 試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有する偏光分析装置であって、
前記制御装置は、
輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出し、
位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出し、
前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成し、
前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加し、
前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測し、
前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出し、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、
前記基準電圧の算出では、前記制御装置は、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度をH(p)、第一調整パラメータをk、第二調整パラメータをnとする式(1)に基づいて前記基準電圧を算出し、
前記補正基準電圧の算出では、前記制御装置は、前記位相pを変数とする分数関数を用いて算出された補正値を前記基準電圧に加算することによって、前記補正基準電圧を算出することを特徴とする偏光分析装置。
- 請求項2に記載の偏向分析装置であって、
前記第一調整パラメータ、前記第二調整パラメータ、前記第三調整パラメータ、前記第四調整パラメータ、前記第五調整パラメータ、前記第六調整パラメータ、及び前記第七調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置。 - 試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有する偏光分析装置であって、
前記制御装置は、
輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出し、
位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出し、
前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成し、
前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加し、
前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測し、
前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出し、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、また、前記位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる矩形波の部分の始端から終端に向けて前記補正量が小さくなり、
前記補正基準電圧の算出では、前記制御装置は、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記補正基準電圧をV’、第八調整パラメータをGとする式(3)に基づいて前記補正基準電圧を算出し、
前記第八調整パラメータは式(4)を満たすことを特徴とする偏光分析装置。
- 請求項4に記載の偏向分析装置であって、
前記第八調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置。 - 試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有する偏光分析装置であって、
前記制御装置は、
輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出し、
位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出し、
前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成し、
前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加し、
前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測し、
前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出し、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、また、前記位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる矩形波の部分の始端から終端に向けて前記補正量が小さくなり、
前記補正基準電圧の算出では、前記制御装置は、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記補正基準電圧をV’、第九調整パラメータをqとする式(5)に基づいて前記補正基準電圧を算出し、
前記第九調整パラメータは式(6)を満たすことを特徴とする偏光分析装置。
- 請求項7に記載の偏向分析装置であって、
前記第九調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置。 - 試料から発せられた偏光を分析する偏光分析装置の制御方法であって、
前記偏光分析装置は、
前記試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有し、
前記偏光分析装置の制御方法は、
前記制御装置が、輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出する第1のステップと、
前記制御装置が、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出する第2のステップと、
前記制御装置が、前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成する第3のステップと、
前記制御装置が、前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加する第4のステップと、
前記制御装置が、前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測する第5のステップと、
前記制御装置が、前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出する第6のステップと、を含み、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、
前記第1のステップでは、前記制御装置が、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度をH(p)、第一調整パラメータをk、第二調整パラメータをnとする式(8)に基づいて前記基準電圧を算出し、
前記第2のステップでは、前記制御装置が、前記位相pを変数とする分数関数を用いて算出された補正値を前記基準電圧に加算することによって、前記補正基準電圧を算出することを特徴とする偏光分析装置の制御方法。
- 請求項10に記載の偏向分析装置の制御方法であって、
前記第一調整パラメータ、前記第二調整パラメータ、前記第三調整パラメータ、前記第四調整パラメータ、前記第五調整パラメータ、前記第六調整パラメータ、及び前記第七調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置の制御方法。 - 試料から発せられた偏光を分析する偏光分析装置の制御方法であって、
前記偏光分析装置は、
前記試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有し、
前記偏光分析装置の制御方法は、
前記制御装置が、輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出する第1のステップと、
前記制御装置が、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出する第2のステップと、
前記制御装置が、前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成する第3のステップと、
前記制御装置が、前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加する第4のステップと、
前記制御装置が、前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測する第5のステップと、
前記制御装置が、前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出する第6のステップと、を含み、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、また、前記位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる矩形波の部分の始端から終端に向けて前記補正量が小さくなり、
前記第2のステップでは、前記制御装置が、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記補正基準電圧をV’、第八調整パラメータをGとする式(10)に基づいて前記補正基準電圧を算出し、
前記第八調整パラメータは式(11)を満たすことを特徴とする偏光分析装置の制御方法。
- 請求項12に記載の偏向分析装置の制御方法であって、
前記第八調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置の制御方法。 - 試料から発せられた偏光を分析する偏光分析装置の制御方法であって、
前記偏光分析装置は、
前記試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有し、
前記偏光分析装置の制御方法は、
前記制御装置が、輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出する第1のステップと、
前記制御装置が、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧の少なくともいずれかを補正することによって補正基準電圧を算出する第2のステップと、
前記制御装置が、前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成する第3のステップと、
前記制御装置が、前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加する第4のステップと、
前記制御装置が、前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測する第5のステップと、
前記制御装置が、前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出する第6のステップと、を含み、
前記補正基準電圧は、補正量が前記矩形波の位相変化に依存した階調となり、また、前記位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる矩形波の部分の始端から終端に向けて前記補正量が小さくなり、
前記第2のステップでは、前記制御装置が、位相pにおける前記基準電圧をV、前記位相pにおける前記補正基準電圧をV’、第九調整パラメータをqとする式(12)に基づいて前記補正基準電圧を算出し、
前記第九調整パラメータは式(13)を満たすことを特徴とする偏光分析装置の制御方法。
- 請求項15に記載の偏向分析装置の制御方法であって、
前記第九調整パラメータは、液晶粘度、温度、及び駆動周波数に応じて調整可能であることを特徴とする偏向分析装置の制御方法。 - 試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有する偏光分析装置であって、
前記制御装置は、
輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出し、
位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧を補正することによって補正基準電圧を算出し、
前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成し、
前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加し、
前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測し、
前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出することを特徴とする偏光分析装置。 - 試料から発せられた偏光を分析する偏光分析装置の制御方法であって、
前記偏光分析装置は、
前記試料に励起状態を発生させる第一光を照射する光源と、
電圧が正極及び負極に振動し、第一周期で電圧の絶対値が変化する矩形波の制御情報に基づいて印加された電圧に応じて、励起状態の前記試料から発せられた第二光の特定の偏光方向の偏光を出力する偏光選択素子と、
前記偏光選択素子を通過した偏光の輝度を計測するイメージセンサと、
前記偏光選択素子及び前記イメージセンサを制御する制御装置と、を有し、
前記偏光分析装置の制御方法は、
前記制御装置が、輝度変化が前記第一周期で振動する正弦波となる偏光を前記偏光選択素子から出力させるための前記矩形波の位相毎の基準電圧を算出するステップと、
前記制御装置が、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が大きくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧、及び、位相変化に伴って前記基準電圧の絶対値が小さくなる前記矩形波の部分の前記基準電圧を補正することによって補正基準電圧を算出するステップと、
前記制御装置が、前記基準電圧及び前記補正基準電圧に基づいて、前記矩形波の制御情報を生成するステップと、
前記制御装置が、前記矩形波の制御情報に基づいて前記偏光選択素子に電圧を印加するステップと、
前記制御装置が、前記第一周期を四分割した時間幅の露光時間にしたがって前記イメージセンサを操作して、前記偏光選択素子から出力された偏光の輝度を計測するステップと、
前記制御装置が、前記計測の結果に基づいて、前記試料の偏光度を算出するステップと、を含むことを特徴とする偏光分析装置の制御方法。
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