JP7152882B2 - How to hold the workpiece unit - Google Patents
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Description
本発明は、被加工物ユニットの保持機構及び保持方法に関する。 The present invention relates to a holding mechanism and holding method for a workpiece unit.
半導体デバイス製造工程においては、半導体からなるウェーハの表面にICやLSI等の多数の電子回路を形成し、次いでウェーハの裏面を研削して所定の厚さに加工してから、電子回路が形成された領域を分割予定ラインに沿って切断するダイシングを行って、1枚のウェーハから多数の半導体チップをデバイスとして得ている。 In the semiconductor device manufacturing process, a large number of electronic circuits such as ICs and LSIs are formed on the front surface of a semiconductor wafer, and then the rear surface of the wafer is ground to a predetermined thickness before the electronic circuits are formed. A large number of semiconductor chips are obtained as devices from one wafer by performing dicing for cutting the region along the dividing lines.
ウェーハの裏面研削及びダイシングには、それぞれ研削装置及び切削装置が一般に用いられている。これらの装置としては、ウェーハを負圧で吸引保持してウェーハの被加工面を露出させる保持テーブルと、該保持テーブルに保持されたウェーハの被加工面を加工する加工手段とを備えた構成のものが知られている。加工手段は、研削装置の場合は研削砥石等の研削工具を備えた研削手段であり、切削装置の場合は切削ブレード等の切削工具を備えた切削手段である。 A grinding device and a cutting device are generally used for backside grinding and dicing of a wafer, respectively. These apparatuses are provided with a holding table for holding a wafer under vacuum to expose the surface to be processed of the wafer, and processing means for processing the surface to be processed of the wafer held by the holding table. things are known. The processing means is a grinding means having a grinding tool such as a grinding wheel in the case of a grinding device, and a cutting means having a cutting tool such as a cutting blade in the case of a cutting device.
ところで、一般に半導体ウェーハ等の被加工物をハンドリングする際には、被加工物を環状のフレームの開口部に位置付け、被加工物に貼着した粘着テープを介して環状フレームで支持して被加工物ユニットとし、環状フレームを保持することによって作業性の向上や被加工物の破損を防止することが行われている(例えば、特許文献1参照)。そして、このような被加工物ユニットの被加工物を、上記の研削装置や切削装置のような加工装置に備える保持テーブルで保持する際には、環状フレームが加工手段に干渉しないようにするため環状フレームをクランプで挟持して保持する方式が一般的である。 By the way, in general, when a workpiece such as a semiconductor wafer is handled, the workpiece is positioned in an opening of an annular frame and supported by the annular frame via an adhesive tape attached to the workpiece. Workability is improved and damage to the workpiece is prevented by holding an annular frame as a workpiece unit (see, for example, Patent Document 1). When the work piece of the work piece unit is held by a holding table provided in a processing device such as the grinding device or the cutting device, the annular frame does not interfere with the processing means. A common method is to clamp and hold the annular frame with clamps.
しかし、クランプ方式による環状フレームの保持では、環状フレームを外側からクランプで挟み込むため、環状フレームの径を超える大きさの装置面積が必要となり装置構成が大きくなるという問題を招くことになる。また、近年、ウェーハの大口径化が進んでおり、クランプ方式による環状フレームの保持では、より装置構成が大きくなるという懸念がある。 However, when the annular frame is held by the clamping method, the annular frame is clamped from the outside, so a device area larger than the diameter of the annular frame is required, resulting in an increase in the size of the device. In addition, in recent years, the diameter of wafers has been increasing, and there is a concern that holding the annular frame by a clamping method will increase the size of the apparatus.
よって、加工装置において被加工物ユニットを保持する場合には、クランプ方式のように環状フレームの径を超える大きさの装置面積を要しないようにするという課題がある。 Therefore, in the case of holding a workpiece unit in a processing apparatus, there is a problem of not requiring a device area larger than the diameter of the annular frame, unlike the clamp system.
上記課題を解決するための本発明は、研削砥石を用いて被加工物を研削する研削装置において、開口部に位置付けられた被加工物を粘着テープを介して支持する環状フレームを備える被加工物ユニットを、該被加工物を保持する被加工物保持テーブルと該被加工物保持テーブルを囲繞し該環状フレームを保持する環状フレーム保持部とからなる保持テーブル手段によって保持する被加工物ユニットの保持方法であって、環状フレーム保持部には頭部と首部とからなるボルト形状の係合突起が形成され、該環状フレーム保持部は、該被加工物保持テーブルに対して上下方向に移動可能であり、該環状フレームは、該係合突起の頭部が挿入される挿入穴と、該挿入穴から周方向に伸長し該係合突起の首部が係合する被係合長穴とを、少なくとも備え、該係合突起を該挿入穴に挿入するように、該保持テーブル手段に該被加工物ユニットを載置する被加工物ユニット載置ステップと、該被加工物ユニットと該保持テーブル手段とを相対的に回動させて、該係合突起が該挿入穴に挿入される挿入位置から、該係合突起の首部が該被係合長穴と係合する係合位置に該係合突起を移動する被加工物ユニット係合ステップと、該環状フレーム保持部を該被加工物保持テーブルに対して下降させ、該環状フレームを該被加工物保持テーブルの保持面より下方に押し下げ、該環状フレームが該研削砥石と接触せずに被加工物を研削可能とするステップと、を備えることを特徴とする被加工物ユニットの保持方法である。 In order to solve the above problems, the present invention provides a grinding apparatus for grinding a workpiece using a grinding wheel, wherein the workpiece is provided with an annular frame that supports the workpiece positioned in an opening via an adhesive tape. holding the unit by a holding table means comprising a workpiece holding table for holding the workpiece and an annular frame holding portion surrounding the workpiece holding table and holding the annular frame In the method, the annular frame holding part is formed with a bolt-shaped engaging protrusion consisting of a head and a neck, and the annular frame holding part is vertically movable with respect to the workpiece holding table. The annular frame has at least an insertion hole into which the head of the engaging projection is inserted and an engaged elongated hole extending in the circumferential direction from the insertion hole into which the neck of the engaging projection is engaged. a workpiece unit placing step of placing the workpiece unit on the holding table means so as to insert the engaging projection into the insertion hole; and the workpiece unit and the holding table means. to move the engaging projection from the insertion position where the engaging projection is inserted into the insertion hole to the engaging position where the neck of the engaging projection engages with the engaged elongated hole. and lowering the annular frame holding portion relative to the workpiece holding table to push the annular frame downward below the holding surface of the workpiece holding table; enabling the workpiece to be ground without the frame coming into contact with the grinding wheel .
本発明に係る被加工物ユニットの保持方法では、環状フレーム保持部には頭部と首部とからなるボルト形状の係合突起が形成され、環状フレームは、係合突起の頭部が挿入される挿入穴と、挿入穴から周方向に伸長し係合突起の首部が係合する被係合長穴とを、少なくとも備え、係合突起を挿入穴に挿入するように、保持テーブル手段に被加工物ユニットを載置する被加工物ユニット載置ステップと、被加工物ユニットと保持テーブル手段とを相対的に回動させて、係合突起が挿入穴に挿入される挿入位置から、係合突起の首部が被係合長穴と係合する係合位置に係合突起を移動する被加工物ユニット係合ステップと、を備えることで、係合突起が係合位置にあるときに被加工物ユニットが保持テーブル手段によって保持された状態となるため、クランプ方式のように環状フレームを環状フレームの外側に位置するクランプで挟持固定する必要がなくなり、環状フレームの径を超える大きさの装置面積を必要としなくなる。 In the method for holding a workpiece unit according to the present invention, the annular frame holding portion is formed with a bolt-shaped engaging projection having a head portion and a neck portion, and the annular frame is inserted with the head portion of the engaging projection. The holding table means is machined so as to include at least an insertion hole and an engaging elongated hole extending in the circumferential direction from the insertion hole and engaged by the neck of the engaging projection, and the engaging projection is inserted into the insertion hole. The workpiece unit placing step for placing the workpiece unit and the workpiece unit and the holding table means are relatively rotated to move the engaging projection from the insertion position where the engaging projection is inserted into the insertion hole. and a workpiece unit engaging step of moving the engaging projection to an engaging position where the neck of the workpiece engages with the engaged elongated hole. Since the unit is held by the holding table means, it is no longer necessary to hold and fix the annular frame with clamps located outside the annular frame as in the clamp system, and the device area exceeding the diameter of the annular frame can be reduced. no longer needed.
図1、2に示す被加工物Wは、例えば、円形の半導体ウェーハ(例えば、直径300mmのウェーハ)であり、図1において上側を向いている被加工物Wの表面Waには複数の分割予定ラインSがそれぞれ直交差するように設定されている。そして、分割予定ラインSによって区画された格子状の領域には、デバイスDがそれぞれ形成されている。
なお、被加工物Wの構成は本実施形態に示す例に限定されるものではない。例えば、被加工物Wは外形が矩形の基板であってもよいし、表面Waにデバイスが形成される前のウェーハであってもよい。
The workpiece W shown in FIGS. 1 and 2 is, for example, a circular semiconductor wafer (for example, a wafer with a diameter of 300 mm), and the surface Wa of the workpiece W facing upward in FIG. The lines S are set so as to cross each other at right angles. Devices D are formed in each of the lattice-shaped regions partitioned by the planned division lines S. As shown in FIG.
In addition, the structure of the workpiece W is not limited to the example shown in this embodiment. For example, the workpiece W may be a substrate having a rectangular outer shape, or may be a wafer before devices are formed on the surface Wa.
図1、2に示す粘着テープTは、被加工物Wよりも大径の円形状のテープである。また、図1に示す環状フレームFは、SUS等からなり粘着テープTの直径よりも大きな外径を備えるフレームであり、中央に円形の開口部Fcを備えている。
例えば、図示しない貼り付けテーブル上に載置された被加工物Wの中心と環状フレームFの開口部Fcの中心とが略合致するように、被加工物Wに対して環状フレームFが位置付けられる。そして、貼り付けテーブル上でプレスローラー等により被加工物Wの裏面Wbに粘着テープTが押し付けられて貼着される。さらに、粘着テープTの粘着面(上面)の外周部を環状フレームFの下面Fbにも貼着することで、被加工物Wは、粘着テープTを介して環状フレームFに支持された状態になる、即ち、開口部Fcに位置付けられた被加工物Wを粘着テープTを介して支持する環状フレームFを備える被加工物ユニットWUを形成することができる。
なお、図1、2に示す被加工物ユニットWUは、切削加工を施すために表面Waが露出した状態になっているが、例えば、研削加工を施す場合には、表面Waを粘着テープTに貼着して裏面Wbが上方に露出した状態にする。
The adhesive tape T shown in FIGS. 1 and 2 is a circular tape having a diameter larger than that of the workpiece W. As shown in FIG. The annular frame F shown in FIG. 1 is made of SUS or the like and has an outer diameter larger than the diameter of the adhesive tape T, and has a circular opening Fc in the center.
For example, the annular frame F is positioned with respect to the workpiece W so that the center of the workpiece W placed on a bonding table (not shown) substantially coincides with the center of the opening Fc of the annular frame F. . Then, the adhesive tape T is pressed against the back surface Wb of the workpiece W by a press roller or the like on the attaching table to be attached. Further, by attaching the outer peripheral portion of the adhesive surface (upper surface) of the adhesive tape T to the lower surface Fb of the annular frame F, the workpiece W is supported by the annular frame F via the adhesive tape T. In other words, it is possible to form a workpiece unit WU including an annular frame F that supports the workpiece W positioned in the opening Fc via the adhesive tape T.
The workpiece unit WU shown in FIGS. 1 and 2 has its surface Wa exposed for cutting. The back surface Wb is exposed upward by sticking.
図3,4に示す被加工物ユニットWUの保持機構3は、被加工物Wを保持する被加工物保持テーブル30と、被加工物保持テーブル30を囲繞し環状フレームFを保持する環状フレーム保持部31とからなる保持テーブル手段3Aを少なくとも備える。
保持機構3は、例えば、被加工物Wに対して回転する切削砥石を切込ませて被加工物Wをカットする切削装置に備えられている。なお、保持機構3は、回転する研削砥石で被加工物Wを研削して薄化する研削装置、被加工物Wに対してレーザー照射によって被加工物Wに所望の加工を施すレーザー加工装置、研磨パッドで被加工物Wを研磨する研磨装置、又は被加工物Wの状態を検査する検査装置等に備えられていてもよい。
The
The
被加工物保持テーブル30は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材などからなり被加工物Wを吸着する吸着部300と、吸着部300を囲繞して支持する枠体301とを備える。吸着部300は、コンプレッサーやエジェクター等の真空発生装置である図示しない吸引源に連通する。そして、図示しない吸引源が作動することで、吸引源が生み出す吸引力が吸着部300の露出面である保持面300aに伝達され、被加工物保持テーブル30は保持面300a上で被加工物Wを吸引保持できる。
図4に示すように、被加工物保持テーブル30の底面側には、軸方向がZ軸方向である回転軸32が連結されている。回転軸32の下端側には図示しないモータが連結されており、モータが回転軸32を回転させることに伴って、被加工物保持テーブル30がZ軸方向の軸心周りに回転する。
The work piece holding table 30 has, for example, a circular outer shape, and includes a
As shown in FIG. 4 , a
被加工物保持テーブル30を囲繞し環状フレームFを保持する環状フレーム保持部31は、例えば、有底筒状の外形を備えており、その底部に回転軸32が挿通された状態で回転軸32の側面に取り付けられており、回転軸32の回転により被加工物保持テーブル30と共にZ軸方向の軸心周りに回転可能となっている。本実施形態においては、環状フレーム保持部31と被加工物保持テーブル30とは別体となっており、環状フレーム保持部31の内周面と被加工物保持テーブル30の外側面との間には隙間がもうけられているが、環状フレーム保持部31が被加工物保持テーブル30の外側面に取り付けられて一体的になっていてもよい。環状フレーム保持部31の上面31aと被加工物保持テーブル30の保持面300aとは面一となっている。
The annular
例えば、保持機構3が研削装置に配設されている場合には、環状フレーム保持部31が回転軸32の側面を上下方向に移動可能となっているとよい。これによって、図1に示す被加工物ユニットWUの環状フレームFを被加工物保持テーブル30の保持面300aより下方に押し下げた状態で固定できる。そのため、環状フレームFが研削砥石と接触せずに被加工物Wを研削することができる。
For example, when the
環状フレーム保持部31の上面31aには、例えば円形の頭部310aと頭部310aよりも小径の首部310bとからなるボルト形状の係合突起310が、周方向に等間隔(例えば、90度)を空けて4つ形成されている。即ち、係合突起310は縦断面略T字状の外形を備えており、首部310bの側面にネジは刻まれていないものである。
例えば、首部310bの長さは、環状フレームFの厚さに粘着テープTの厚さを加えた値よりも僅かに大きいと、被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aによって保持された状態において、被加工物ユニットWUの上下方向におけるばたつきが頭部310aによって抑制されるため好ましい。また、係合突起310の配設個数は、4つに限定されるものではない。
On the
For example, if the length of the
図1、2に示すように、環状フレームFには、図3、4に示す環状フレーム保持部31の係合突起310の頭部310aが挿入される挿入穴Feと、挿入穴Feから周方向に伸長し係合突起310の首部310bが係合する被係合長穴Fgとが貫通形成されている。挿入穴Fe及び被係合長穴Fgは、環状フレーム保持部31の係合突起310の配設個数に合わせて、周方向に等間隔(90度)を空けて4つ形成されている。挿入穴Feと被係合長穴Fgとが合さった形状は、所謂ダルマ穴となる。例えば、円形の頭部310aの径は、挿入穴Feの径よりも僅かに小さく、被係合長穴Fgの径よりも大きくなっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the annular frame F has an insertion hole Fe into which the
以下に、図3、4に示す被加工物ユニットの保持機構3を用いて、図1、2に示す被加工物ユニットWUを保持する場合の各ステップについて説明していく。
1 and 2 by using the workpiece
(1)被加工物ユニット載置ステップ
まず、図示しない搬送手段又は作業者により、図2に示す被加工物ユニットWUの中心が図3に示す保持テーブル手段3Aの中心と略合致するように被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aの上方に位置付けられる。さらに、環状フレーム保持部31の各係合突起310の頭部310aと被加工物ユニットWUの環状フレームFの各挿入穴Feとが略合致するように両者の位置合わせがなされ、係合突起310が挿入穴Feに挿入される挿入位置に位置付けられる。
(1) Work piece unit placing step First, a work piece unit WU shown in FIG. A workpiece unit WU is positioned above the holding table means 3A. Further, the
次いで、被加工物ユニットWUを降下させていき、係合突起310を挿入穴Feに挿入するとともに、環状フレームFを環状フレーム保持部31の上面31aに粘着テープTを介して載置し、また、被加工物Wを粘着テープTを介して被加工物保持テーブル30の保持面300aに載置する。
Next, the workpiece unit WU is lowered to insert the engaging
(2)被加工物ユニット係合ステップ
被加工物ユニット載置ステップを上記のように実施することで、図5に示すように、環状フレーム保持部31の係合突起310は、係合突起310が挿入穴Feに挿入されている挿入位置にある。例えば作業者が、図6に示すように固定されている状態の被加工物保持テーブル30に対して被加工物ユニットWUを+Z方向から見て時計回り方向に回動させる。その結果、係合突起310が、係合突起310が挿入穴Feに挿入される挿入位置から、係合突起310の首部310b(図4参照)が被係合長穴Fgと係合する係合位置まで移動して、首部310bが被係合長穴Fgと係合する。したがって、首部310bよりも大径の頭部310aによって環状フレームFの上下方向における移動が制限された状態になる。
なお、固定されている状態の被加工物ユニットWUに対して、+Z方向から見て反時計回り方向に保持テーブル手段3Aが回動することで、被係合長穴Fgが係合突起310の首部310bと係合する係合位置まで移動して、首部310bが被係合長穴Fgと係合するものとしてもよい。
(2) Workpiece Unit Engaging Step By performing the workpiece unit placing step as described above, as shown in FIG. is at the insertion position where is inserted into the insertion hole Fe. For example, the operator rotates the workpiece unit WU clockwise when viewed from the +Z direction with respect to the workpiece holding table 30 which is in a fixed state as shown in FIG. As a result, the engaging
By rotating the holding table means 3A in the counterclockwise direction when viewed from the +Z direction with respect to the workpiece unit WU in the fixed state, the engaged long hole Fg is aligned with the engaging
次いで、図示しない吸引源が作動することで、吸引源が生み出す吸引力が保持面300aに伝達され、被加工物保持テーブル30は保持面300a上で被加工物Wを吸引保持し、図7に示すように、被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aによって保持された状態になる。
Next, when a suction source (not shown) operates, the suction force generated by the suction source is transmitted to the holding
上記のように、本発明に係る被加工物ユニットWUの保持機構3は、環状フレーム保持部31には頭部310aと首部310bとからなるボルト形状の係合突起310が形成され、環状フレームFには、係合突起310の頭部310aが挿入される挿入穴Feと、挿入穴Feから周方向に伸長し係合突起310の首部310bが係合する被係合長穴Fgとが形成され、被加工物ユニットWUと保持テーブル手段3Aとの相対的な回動により、係合突起310が挿入穴Feに挿入される挿入位置と、係合突起310の首部310bが被
係合長穴Fgと係合される係合位置とを係合突起310は往来し、係合突起310が係合位置にあるときに被加工物ユニットWUを保持テーブル手段3Aによって保持可能であるため、従来のクランプ方式のように環状フレームFを環状フレームFの外側に位置するクランプで挟持固定する必要がないため、環状フレームFの径を超える大きさの装置面積を要さず、装置の小型化に寄与する。
As described above, in the
本発明に係る被加工物ユニットWUの保持方法では、環状フレーム保持部31には頭部310aと首部310bとからなるボルト形状の係合突起310が形成され、環状フレームFは、係合突起310の頭部310aが挿入される挿入穴Feと、挿入穴Feから周方向に伸長し係合突起310の首部310bが係合する被係合長穴Fgとを、少なくとも備え、係合突起310を挿入穴Feに挿入するように、保持テーブル手段3Aに被加工物ユニットWUを載置する被加工物ユニットWU載置ステップと、被加工物ユニットWUと保持テーブル手段3Aとを相対的に回動させて、係合突起310が挿入穴Feに挿入される挿入位置から、係合突起310の首部310bが被係合長穴Fgと係合する係合位置に係合突起310を移動する被加工物ユニットWU係合ステップと、を備えることで、係合突起310が係合位置にあるときに被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aによって保持された状態となるため、従来のようなクランプ方式のように環状フレームFを環状フレームFの外側に位置するクランプで挟持固定する必要がなくなり、環状フレームFの径を超える大きさの装置面積を必要としなくなる。
In the method for holding the workpiece unit WU according to the present invention, the annular
なお、本発明に係る被加工物ユニットの保持方法は上記の例に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている保持機構3の構成についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
It should be noted that the method for holding a unit to be processed according to the present invention is not limited to the above example, nor is the configuration of the
被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aによって保持された後、被加工物Wに切削加工を施す場合には、例えば、図6に示す被加工物Wの分割予定ラインSをX軸方向(切削送り方向)と平行に合わせるθ合わせ(平行出し)、及び分割予定ラインSのアライメントに基づく分割予定ラインSの座標位置の決定などが行われる。 After the workpiece unit WU is held by the holding table means 3A, when cutting the workpiece W, for example, the division line S of the workpiece W shown in FIG. Alignment (parallelization) for aligning the lines in parallel with the feeding direction), determination of the coordinate position of the planned division line S based on the alignment of the planned division line S, and the like are performed.
被加工物ユニットWUが保持テーブル手段3Aによって保持された後、被加工物Wに研削加工を施す場合には、例えば、環状フレーム保持部31が被加工物保持テーブル30に対して相対的に下降して、図7に示す被加工物ユニットWUの環状フレームFを被加工物保持テーブル30の保持面300aより下方に押し下げた状態とする。そして、環状フレームFが研削砥石と接触せずに被加工物Wを研削できるようにする。
なお、被加工物Wに研削加工(又は研磨加工)を施す場合には、保持テーブル手段3Aの回転速度は基本的に高速となるため、図6に示す保持テーブル手段3Aの回転方向は、+Z方向から見て反時計回り方向とすると、係合突起310の頭部310aが挿入位置まで戻ってしまい挿入穴Feから抜けてしまうといった事態が生じることが防がれるので好ましい。なお、被加工物ユニットWUの環状フレームFを被加工物保持テーブル30の保持面300aより下方に押し下げた状態とすることで、係合突起310の頭部310aによって環状フレームFが下方に押圧された状態になるため、図6に示す保持テーブル手段3Aの回転方向を+Z方向から見て時計回り方向としたとしても、係合突起310の頭部310aが挿入位置まで戻ってしまい挿入穴Feから抜けてしまうといった事態が生じることが防がれる。
When the workpiece W is to be ground after the workpiece unit WU is held by the holding table means 3A, for example, the
When the workpiece W is ground (or polished), the rotation speed of the holding table means 3A is basically high. The counterclockwise direction as viewed from the direction prevents the
WU:被加工物ユニット W:被加工物 Wa:被加工物の表面 Wb:被加工物の裏面 T:粘着テープ
F:環状フレーム Fc:環状フレームの開口部 Fe:挿入穴 Fg:被係合長穴
3:保持機構 3A:保持テーブル手段
30:被加工物保持テーブル 300:吸着部 300a:保持面 301:枠体
31:環状フレーム保持部 310:係合突起 310a:頭部310b:首部
32:回転軸
WU: work piece unit W: work piece Wa: surface of work piece Wb: back side of work piece T: adhesive tape
F: Annular frame Fc: Opening of annular frame Fe: Insertion hole Fg: Long hole to be engaged 3:
Claims (1)
環状フレーム保持部には頭部と首部とからなるボルト形状の係合突起が形成され、
該環状フレーム保持部は、該被加工物保持テーブルに対して上下方向に移動可能であり、
該環状フレームは、該係合突起の頭部が挿入される挿入穴と、該挿入穴から周方向に伸長し該係合突起の首部が係合する被係合長穴とを、少なくとも備え、
該係合突起を該挿入穴に挿入するように、該保持テーブル手段に該被加工物ユニットを載置する被加工物ユニット載置ステップと、
該被加工物ユニットと該保持テーブル手段とを相対的に回動させて、該係合突起が該挿入穴に挿入される挿入位置から、該係合突起の首部が該被係合長穴と係合する係合位置に該係合突起を移動する被加工物ユニット係合ステップと、
該環状フレーム保持部を該被加工物保持テーブルに対して下降させ、該環状フレームを該被加工物保持テーブルの保持面より下方に押し下げ、該環状フレームが該研削砥石と接触せずに被加工物を研削可能とするステップと、
を備えることを特徴とする被加工物ユニットの保持方法。 In a grinding apparatus for grinding a work piece using a grinding wheel, a work piece unit having an annular frame that supports the work piece positioned in an opening via an adhesive tape is provided as a work piece holding the work piece. A method of holding a workpiece unit held by a holding table means comprising a workpiece holding table and an annular frame holding portion surrounding the workpiece holding table and holding the annular frame, comprising:
A bolt-shaped engaging protrusion consisting of a head and a neck is formed on the annular frame holding portion,
The annular frame holding portion is vertically movable with respect to the workpiece holding table,
The annular frame includes at least an insertion hole into which the head of the engaging projection is inserted, and an engaged elongated hole extending in the circumferential direction from the insertion hole and into which the neck of the engaging projection is engaged,
a workpiece unit placing step of placing the workpiece unit on the holding table means so as to insert the engaging protrusions into the insertion holes;
By rotating the workpiece unit and the holding table means relative to each other, the neck portion of the engaging projection is moved from the insertion position where the engaging projection is inserted into the insertion hole. a work piece unit engaging step of moving the engaging protrusion to an engaged engaging position;
The annular frame holding portion is lowered with respect to the workpiece holding table, the annular frame is pushed downward from the holding surface of the workpiece holding table, and the workpiece is processed without the annular frame coming into contact with the grinding wheel. enabling the object to be ground;
A method for holding a workpiece unit, comprising:
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006114598A (en) | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Tsubaki Seiko:Kk | Tape adhering device and tape adhering method |
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US7955041B2 (en) * | 2007-08-29 | 2011-06-07 | Texas Instruments Incorporated | Quick changeover apparatus and methods for wafer handling |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006114598A (en) | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Tsubaki Seiko:Kk | Tape adhering device and tape adhering method |
KR101328411B1 (en) | 2012-11-05 | 2013-11-13 | 한상효 | Method of manufacturing retainer ring for polishing wafer |
JP2014113673A (en) | 2012-12-12 | 2014-06-26 | Ebara Corp | Substrate holding device and polishing device provided with the substrate holding device |
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