JP7113962B2 - Manufacturing method of cholesteric liquid crystal film - Google Patents
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Description
本開示は、コレステリック液晶膜の製造方法に関する。 The present disclosure relates to methods for manufacturing cholesteric liquid crystal films.
光学異方性が大きい液晶膜を用いた光学フィルムが知られている。
このような光学フィルムにおいて、液晶膜は、例えば、液晶化合物を含む塗布液を被塗布部材上に塗布及び乾燥し、必要に応じて、液晶化合物の配向処理、液晶化合物の重合等を行い製造される。An optical film using a liquid crystal film with large optical anisotropy is known.
In such an optical film, the liquid crystal film is manufactured by, for example, applying a coating liquid containing a liquid crystal compound onto a member to be coated, drying the liquid crystal compound, and optionally subjecting the liquid crystal compound to orientation treatment, polymerization of the liquid crystal compound, and the like. be.
特開2016-150286号公報には、光学フィルムの製造方法において、基材の製膜面上に塗布された液晶材料の塗膜は、基材と共に乾燥炉内へ搬送されて、溶媒が除去され、液晶層が形成されることが記載されている。そして、乾燥以外に、液晶分子の配向処理、液晶モノマーの重合等が行われてもよいことが記載されており、特に、リオトロピック液晶は、剪断力を付与することにより、所定配向に液晶分子を配向させることもできる、との開示がなされている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-150286 discloses that in a method for producing an optical film, a coating film of a liquid crystal material coated on a film-forming surface of a base material is transported into a drying oven together with the base material, and the solvent is removed. , a liquid crystal layer is formed. In addition, it is described that other than drying, alignment treatment of liquid crystal molecules, polymerization of liquid crystal monomers, and the like may be performed. It is disclosed that it can also be oriented.
また、特表2010-536782号公報には、所望の液晶相を生成するための液晶層の処理の1つとして、液晶層へのナイフ刃の適用による液晶層への機械的剪断の適用が開示されている。 In addition, JP 2010-536782 discloses the application of mechanical shear to the liquid crystal layer by applying a knife blade to the liquid crystal layer as one of the treatments of the liquid crystal layer to generate the desired liquid crystal phase. It is
ところで、コレステリック液晶膜としては、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で、且つ、上面視した際に特定方向に向かって並ぶことで、空中結像装置等へと応用される光学フィルムへの適用が期待されている。
特に、上記のようならせん軸の並びの膜面内でのバラツキが少ないコレステリック液晶膜への要望が高まってきている。By the way, as a cholesteric liquid crystal film, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction and arranged in a specific direction when viewed from the top, so that it can be applied to an optical film such as an aerial imaging device. is expected to apply.
In particular, there is an increasing demand for a cholesteric liquid crystal film in which the alignment of the helical axes as described above has little variation within the film surface.
上記の特開2016-150286号公報には、リオトロピック液晶に対して剪断力を付与することは開示されているものの、らせん軸が膜面方向に平行に沿って並ぶコレステリック液晶膜については何ら記載されていない。
また、上記の特表2010-536782号公報には、所望の液晶相を生成するために液晶層に対して行われる処理については開示があるものの、機械的剪断が、液晶層の乾燥状態がどの程度の際に適用されるかについては記載がない。更には、特表2010-536782号公報には、分子螺旋の軸が層に対して横に伸びていることが記載されているのみであり、その軸が膜面方向に平行で且つ層を上面視した際に特定方向に向かって並ぶことについての明確な記載はない。そのため、特表2010-536782号公報に記載の液晶層では、分子螺旋の軸の並びの面内でのバラツキが少ないとは考えにくい。Although the above-mentioned JP-A-2016-150286 discloses that a shearing force is applied to the lyotropic liquid crystal, there is no description of a cholesteric liquid crystal film in which the helical axes are aligned parallel to the film surface direction. not
In addition, although the above-mentioned Japanese National Publication of International Patent Application No. 2010-536782 discloses a treatment to be performed on the liquid crystal layer to generate a desired liquid crystal phase, mechanical shearing may affect the dry state of the liquid crystal layer. There is no description as to whether it is applied in the case of degree. Furthermore, JP-T-2010-536782 only describes that the axis of the molecular helix extends laterally with respect to the layer, and the axis is parallel to the film surface direction and the layer is on the top surface. There is no clear description of lining up in a particular direction when viewed. Therefore, in the liquid crystal layer described in JP-T-2010-536782, it is difficult to imagine that the in-plane variations in the alignment of the axes of the molecular helices are small.
そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で且つ上面視にて特定方向に沿って並び、その並びの膜面内でのバラツキが少ないコレステリック液晶膜の製造方法を提供することにある。
以下、らせん軸の並びの膜面内でのバラツキが少ないことを「配向精度に優れる」ともいう。Therefore, the problem to be solved by one embodiment of the present invention is that the helical axes of the cholesteric liquid crystal are parallel to the film surface direction and are aligned along a specific direction when viewed from above, and the alignment is uniform within the film surface. To provide a method for manufacturing a cholesteric liquid crystal film with a small amount.
Hereinafter, the fact that there is little variation in the arrangement of the helical axes within the film surface is also referred to as "excellent alignment accuracy".
課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。 Specific means for solving the problems include the following aspects.
<1> 基材上に、溶媒、棒状サーモトロピック液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程Aと、
形成された塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下まで乾燥させる工程Bと、
乾燥後の塗膜表面にせん断力を付与する工程Cと、
を有する、らせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並ぶコレステリック液晶膜の製造方法。<1> Step A of applying a coating liquid containing a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound, and a chiral agent to a substrate to form a coating film;
A step B of drying the formed coating film to a residual solvent rate of 50% by mass or less;
A step C of applying a shearing force to the surface of the dried coating film;
A method for producing a cholesteric liquid crystal film in which the helical axes are parallel to the film surface direction and perpendicular to the shear direction.
<2> 工程Cは、せん断速度が1000秒-1以上であるせん断力を付与する工程である、<1>に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。
<3> 工程Cにおける塗膜表面の温度が50℃~120℃である、<1>又は<2>に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。<2> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to <1>, wherein step C is a step of applying a shearing force having a shear rate of 1000 sec -1 or more.
<3> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to <1> or <2>, wherein the temperature of the coating film surface in step C is 50°C to 120°C.
<4> 工程Cのせん断力の付与をブレードにて行う、<1>~<3>のいずれか1に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。
<5> 工程Cのせん断力の付与をエアナイフにて行う、<1>~<3>のいずれか1に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。<4> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to any one of <1> to <3>, wherein the application of shear force in step C is performed with a blade.
<5> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to any one of <1> to <3>, wherein the application of the shearing force in step C is performed using an air knife.
<6> 工程C後に、塗膜を硬化させる工程を更に含む、<1>~<5>のいずれか1に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。
<7> 工程Cにてせん断力を付与するときの塗膜の厚みが30μm以下である、<1>~<6>のいずれか1に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。
<8> 工程Cにてせん断力を付与された後の塗膜の厚みが10μm以下である、<1>~<7>のいずれか1に記載のコレステリック液晶膜の製造方法。<6> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to any one of <1> to <5>, further comprising a step of curing the coating film after step C.
<7> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to any one of <1> to <6>, wherein the coating film has a thickness of 30 μm or less when the shear force is applied in step C.
<8> The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to any one of <1> to <7>, wherein the coating film has a thickness of 10 μm or less after applying the shearing force in step C.
本発明の一実施形態によれば、コレステリック液晶のらせん軸がらせん軸が膜面方向に平行で且つ上面視にて特定方向に沿って並び、その並びの膜面内でのバラツキが少ない(即ち、配向精度に優れる)コレステリック液晶膜の製造方法が提供される。 According to one embodiment of the present invention, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction and aligned along a specific direction when viewed from the top, and the alignment has little variation within the film surface (i.e. , excellent alignment accuracy) is provided.
以下、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法について詳細に説明する。
本開示において、「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。Hereinafter, the method for manufacturing the cholesteric liquid crystal film of the present disclosure will be described in detail.
In the present disclosure, the term "process" includes not only an independent process, but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes, as long as the intended purpose of the process is achieved.
本開示において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
なお、複数の図面に記載されている符号が同一である場合、同一の対象を指す。In the present disclosure, a numerical range indicated using "to" indicates a range including the numerical values before and after "to" as the minimum and maximum values, respectively.
In the numerical ranges described step by step in the present disclosure, upper or lower limits described in a certain numerical range may be replaced with upper or lower limits of other numerical ranges described step by step. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, upper or lower limits described in a certain numerical range may be replaced with values shown in Examples.
In addition, when the code|symbol described in several drawing is the same, it points out the same object.
本発明者らは、塗膜に対してせん断力を付与する工程を用いた新規の液晶配向方法を見出し、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並び、且つ、その並びの膜面内でのバラツキが少ない(即ち、配向精度に優れる)コレステリック液晶膜を得るに至った。
具体的には、溶媒、棒状サーモトロピック液晶化合物(以降、特定液晶化合物ともいう)、及びキラル剤を含む塗布液を塗布乾燥させて得られた塗膜に対し、その表面にせん断力を与える方法である。特に、残存溶媒率を50質量%以下まで乾燥された塗膜に対して、せん断力を与えることで、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並び、更に、その並びの膜面内でのバラツキが少ない(即ち、配向精度に優れる)コレステリック液晶膜が得られることを見出した。
なお、この新規の液晶配向方法では、せん断力によって液晶の配向がなされることから、通常、コレステリック液晶膜に隣接して設けられる配向膜(配向層ともいう)が不要になる、といった効果も奏する。The present inventors have found a novel liquid crystal alignment method using a process of applying a shear force to the coating film, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction and aligned perpendicular to the shear direction, In addition, a cholesteric liquid crystal film with little variation in the alignment within the film surface (that is, excellent alignment accuracy) was obtained.
Specifically, a method of applying a shearing force to the surface of a coating film obtained by coating and drying a coating liquid containing a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound (hereinafter also referred to as a specific liquid crystal compound), and a chiral agent. is. In particular, by applying a shearing force to the coating film dried to a residual solvent rate of 50% by mass or less, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is aligned parallel to the film surface direction and perpendicular to the shearing direction, and further , a cholesteric liquid crystal film having little variation in the alignment within the film plane (that is, having excellent alignment accuracy) can be obtained.
In addition, in this new liquid crystal alignment method, since the liquid crystal is aligned by shearing force, an alignment film (also referred to as an alignment layer), which is usually provided adjacent to the cholesteric liquid crystal film, is unnecessary. .
ここで、本開示において、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行に並ぶことを「水平配向」ともいい、コレステリック液晶のらせん軸が、コレステリック液晶膜の膜面方向に対して水平(言い換えれば、コレステリック液晶膜の膜厚方向に垂直)に並ぶことを指す。但し、コレステリック液晶のらせん軸がコレステリック液晶膜の膜面方向に対して厳密に水平であることを要するものではなく、コレステリック液晶のらせん軸とコレステリック液晶膜の膜面方向とでなす角が45°未満である場合は、本開示における「水平配向」に包含されるものとする。コレステリック液晶のらせん軸とコレステリック液晶膜の膜面方向とでなす角としては、0°~40°の範囲であることが好ましい。 Here, in the present disclosure, arranging the helical axes of the cholesteric liquid crystal parallel to the film surface direction is also referred to as “horizontal alignment”, and the helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction of the cholesteric liquid crystal film (in other words, , perpendicular to the film thickness direction of the cholesteric liquid crystal film). However, it is not required that the helical axis of the cholesteric liquid crystal is strictly horizontal to the film plane direction of the cholesteric liquid crystal film, and the angle formed by the cholesteric liquid crystal helical axis and the film plane direction of the cholesteric liquid crystal film is 45°. Anything less than that shall be included in the "horizontal orientation" in this disclosure. The angle between the helical axis of the cholesteric liquid crystal and the film surface direction of the cholesteric liquid crystal film is preferably in the range of 0° to 40°.
また、コレステリック液晶のらせん軸がせん断方向に垂直に沿って並ぶとは、コレステリック液晶のらせん軸が、コレステリック液晶膜の製造時のせん断力の付与方向に垂直に並ぶことを指す。つまり、長尺のコレステリック液晶膜を製造する際に、長尺方向にせん断力が付与された場合、コレステリック液晶のらせん軸が、上面視にてコレステリック液晶膜の長尺方向に対して垂直(言い換えれば、コレステリック液晶膜の短尺方向に平行)に並ぶことを指す。但し、コレステリック液晶のらせん軸がせん断方向に厳密に垂直であることを要するものではなく、コレステリック液晶のらせん軸とせん断方向とでなす角が90°±45°未満である場合は、本開示における「せん断方向に垂直」に包含されるものとする。コレステリック液晶のらせん軸とせん断方向とでなす角としては、60°~120°の範囲であることが好ましい。 Further, the helical axes of the cholesteric liquid crystal are arranged perpendicular to the shearing direction means that the helical axes of the cholesteric liquid crystal are arranged perpendicular to the direction in which the shearing force is applied during the production of the cholesteric liquid crystal film. In other words, when a long cholesteric liquid crystal film is manufactured, if shear force is applied in the long direction, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is perpendicular to the long direction of the cholesteric liquid crystal film when viewed from above (in other words, For example, it means that they are arranged parallel to the short direction of the cholesteric liquid crystal film. However, it is not required that the helical axis of the cholesteric liquid crystal is strictly perpendicular to the shear direction. shall be encompassed by "perpendicular to the shear direction". The angle between the helical axis of the cholesteric liquid crystal and the shear direction is preferably in the range of 60° to 120°.
コレステリック液晶膜におけるコレステリック液晶のらせん軸の並びに関する確認には、以下の方法を用いる。
まず、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並んでいることは、偏光顕微鏡によるクロスニコル偏光透過写真及び断面SEM写真を用いて確認することができる。
コレステリック液晶は、特定液晶化合物の分子群で構成された層が積み重なった積層構造を有する。1つ1つの層内ではそれぞれの特定液晶化合物の分子が一定方向に配列しており、各層の分子の配列方向は、積層方向に進むにつれらせん状に旋回するようにずれている。
そのため、クロスニコル偏光透過写真では、特定液晶化合物の分子の配列方向が撮影方向に垂直又はそれに近い状態で並ぶ層に該当する領域は淡く、また、その層以外の領域は濃く現れる。
従って、コレステリック液晶膜の上面のクロスニコル偏光透過写真にて、上記濃淡による規則的な縞模様が確認され、規則的な縞模様がせん断方向に平行に並ぶことで、コレステリック液晶のらせん軸がせん断方向に垂直に沿って並んでいることが確認できる。
なお、規則的な縞模様のうち、写真中央部で淡い部分からなる線1本(途切れのないもの)を選び、この線とせん断方向とのなす角が45°未満であれば、コレステリック液晶のらせん軸とせん断方向とでなす角が90°±45°未満であることとなる。
また、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向と平行に沿って並んでいることは、コレステリック液晶膜の厚み方向の断面を、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)による倍率5000倍の写真(断面SEM写真ともいう)によって確認できる。ここで、コレステリック液晶膜の厚み方向の断面は、せん断方向(例えば、塗膜の搬送方向)と直交する方向に沿って切断した断面とする。
なお、断面SEM写真において、途切れのないコレステリック液晶を1つ選び、このコレステリック液晶のらせん軸とコレステリック液晶膜の膜面方向とでなす角が45°未満であれば、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向と平行に沿って並んでいるといえる。The following method is used to confirm the alignment of the helical axes of the cholesteric liquid crystal in the cholesteric liquid crystal film.
First, it is possible to confirm that the helical axes of the cholesteric liquid crystal are parallel to the film surface direction and perpendicular to the shear direction by using a cross-Nicol polarized transmission photograph and a cross-sectional SEM photograph by a polarizing microscope.
A cholesteric liquid crystal has a layered structure in which layers composed of molecular groups of specific liquid crystal compounds are stacked. Within each layer, the molecules of each specific liquid crystal compound are aligned in a fixed direction, and the alignment direction of the molecules in each layer deviates so as to turn spirally as it progresses in the stacking direction.
Therefore, in the crossed nicol polarized transmission photograph, the region corresponding to the layer in which the molecules of the specific liquid crystal compound are aligned perpendicularly or nearly perpendicularly to the photographing direction appears light, and the region other than the layer appears dark.
Therefore, in the cross-Nicol polarized light transmission photograph of the upper surface of the cholesteric liquid crystal film, a regular striped pattern due to the above density is confirmed. It can be confirmed that they are aligned perpendicular to the direction.
Among the regular striped patterns, one line (uninterrupted line) consisting of a light part in the center of the photograph is selected, and if the angle between this line and the shearing direction is less than 45°, the The angle formed by the helical axis and the shear direction shall be less than 90°±45°.
In addition, the fact that the helical axes of the cholesteric liquid crystal are aligned parallel to the film surface direction can be confirmed by photographing a cross section in the thickness direction of the cholesteric liquid crystal film at a magnification of 5000 using a scanning electron microscope (SEM). It can be confirmed by a cross-sectional SEM photograph). Here, the cross section in the thickness direction of the cholesteric liquid crystal film is a cross section cut along a direction perpendicular to the shearing direction (for example, the conveying direction of the coating film).
In the cross-sectional SEM photograph, one continuous cholesteric liquid crystal is selected, and if the angle between the spiral axis of the cholesteric liquid crystal and the film surface direction of the cholesteric liquid crystal film is less than 45°, the spiral axis of the cholesteric liquid crystal is aligned with the film. It can be said that they are arranged parallel to the surface direction.
コレステリック液晶膜における配向精度に優れることの確認は、以下の方法を用いる。
確認対象から2cm四方の試験片を切り出す。試験片を黒い背景の上に載せ、白灯下で等倍の写真を撮影し、得られた写真を画像処理用ソフト(例えばJtrim等)にて二値化処理する。そして、二値化処理された画像から白のピクセル数を求め、これを「白い領域」の面積とする。
コレステリック液晶のらせん軸の並びに微細なバラツキがあるとその領域にて散乱が生じ、上記の「白い領域」として現れる。
写真中の試験片の全面積(即ち二値化処理された画像の白及び黒のピクセル総数)に占める白い領域の割合(即ち白い領域の面積率)が少ないほど、コレステリック液晶のらせん軸の並びの膜面内でのバラツキが少ないことを示しており、配向精度に優れると判断することができる。
例えば、写真中の試験片の全面積に占める白い領域の割合が10%以下であることが1つの指標となる。The following method is used to confirm that the alignment accuracy of the cholesteric liquid crystal film is excellent.
A 2 cm square test piece is cut out from the object to be checked. Place the test piece on a black background, take a photograph of the same size under a white light, and binarize the obtained photograph with image processing software (for example, Jtrim). Then, the number of white pixels is obtained from the binarized image, and this is defined as the area of the "white area".
If there is a minute variation in the alignment of the helical axis of the cholesteric liquid crystal, scattering occurs in that area and appears as the above-mentioned "white area."
The smaller the ratio of the white region (that is, the area ratio of the white region) to the total area of the test piece in the photograph (that is, the total number of white and black pixels in the binarized image), the more the alignment of the helical axes of the cholesteric liquid crystal. It can be judged that the alignment accuracy is excellent.
For example, one indicator is that the ratio of the white area to the total area of the test piece in the photograph is 10% or less.
以上の知見に基づく、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法は、以下の通りである。
即ち、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法は、基材上に、溶媒、棒状サーモトロピック液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する工程Aと、形成された塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下まで乾燥させる工程Bと、乾燥後の塗膜表面にせん断力を与える工程Cと、を有する。
これらの工程A、工程B、及び工程Cを有することで、膜面方向に平行で(即ち、水平配向し)且つせん断方向に垂直に沿って並び、更に、その並びの膜面内でのバラツキが少ないコレステリック液晶膜が得られる。Based on the above knowledge, the manufacturing method of the cholesteric liquid crystal film of the present disclosure is as follows.
That is, the method for producing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure includes a step A of applying a coating liquid containing a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound, and a chiral agent on a substrate to form a coating film; It has a step B of drying the film until the residual solvent rate in the film is 50% by mass or less, and a step C of applying a shearing force to the surface of the dried coating film.
By having these steps A, B, and C, it is arranged parallel to the film surface direction (that is, horizontally oriented) and perpendicular to the shear direction, and further, the variation in the film surface of the arrangement A cholesteric liquid crystal film with less is obtained.
以下、図面を参照して、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法の各工程について詳細に説明する。
図1に示す、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法の一例は、連続搬送される長尺の基材を用いた、ロールトゥロール(Roll to Roll)方式での連続プロセスを用いた方法である。
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法は、ロールトゥロール方式での連続プロセスに限定されるものではなく、枚葉の基材に対して各工程を順次行ってもよい。Hereinafter, each step of the method for manufacturing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings.
An example of the method for manufacturing the cholesteric liquid crystal film of the present disclosure, shown in FIG. .
The method for producing a cholesteric liquid crystal film according to the present disclosure is not limited to a continuous roll-to-roll process, and each step may be performed sequentially on a sheet of substrate.
[工程A]
工程Aでは、基材上に、溶媒、棒状サーモトロピック液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液(以降、液晶層形成用塗布液ともいう)を塗布し、塗膜を形成する。
なお、工程Aにおける液晶層形成用塗布液の塗布は、基材を張架した状態にて塗布が行え、塗布精度が高まる観点から、バックアップロール上に巻き掛けられた基材に対し行われることが好ましい。[Step A]
In step A, a coating solution containing a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound, and a chiral agent (hereinafter also referred to as a coating solution for forming a liquid crystal layer) is applied onto a substrate to form a coating film.
Note that the application of the liquid crystal layer forming coating liquid in the step A is performed on the base material wound on the backup roll from the viewpoint that the application can be performed while the base material is stretched and the coating accuracy is improved. is preferred.
工程Aの一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、ロール状の巻回された長尺の基材Fは、その先端が送り出され、搬送ロール50を介して搬送されると、まず、塗布手段10により、液晶層形成用塗布液の塗布が行われる。
図1に示すように、塗布手段10による液晶層形成用塗布液の塗布は、基材Fがバックアップロール12上に巻き掛けられた領域で行うことが好ましい。An example of process A will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the long base material F wound in a roll shape is sent out at its leading end and conveyed via the conveying
As shown in FIG. 1, it is preferable that the application of the liquid crystal layer forming liquid by the application means 10 is performed in the area where the base material F is wound on the
(基材)
基材としては、特に制限はなく、コレステリック液晶膜と共に光学フィルムの一部として機能する部材であってもよいし、塗布液を塗布する対象である被塗布物であって、コレステリック液晶膜から剥離される部材であってもよい。
特に、ロールトゥロール方式への適用性、及び、バックアップロールへの巻き掛け易さを考慮すると、基材にはポリマーフィルムが好ましく用いられる。(Base material)
The substrate is not particularly limited, and may be a member that functions as a part of the optical film together with the cholesteric liquid crystal film, or an object to be coated with the coating liquid that is peeled off from the cholesteric liquid crystal film. It may be a member to be used.
In particular, a polymer film is preferably used as the substrate in consideration of applicability to roll-to-roll systems and easiness of winding on a backup roll.
光学フィルム用途であれば、基材の全光透過率は、80%以上であることが好ましい。
光学フィルム用途であれば、基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。
基材としては、例えば、ポリエステル系基材(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム若しくはシート)、セルロース系基材(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)等のフィルム若しくはシート)、ポリカーボネート系基材、ポリ(メタ)アクリル系基材(ポリメチルメタクリレート等のフィルム若しくはシート)、ポリスチレン系基材(ポリスチレン、アクリロニトリルスチレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、オレフィン系基材(ポリエチレン、ポリプロピレン、環状若しくはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレンプロピレン共重合体等のフィルム若しくはシート)、ポリアミド系基材(ポリ塩化ビニル、ナイロン、芳香族ポリアミド等のフィルム若しくはシート)、ポリイミド系基材、ポリスルホン系基材、ポリエーテルスルホン系基材、ポリエーテルエーテルケトン系基材、ポリフェニレンスルフィド系基材、ビニルアルコール系基材、ポリ塩化ビニリデン系基材、ポリビニルブチラール系基材、ポリ(メタ)アクリレート系基材、ポリオキシメチレン系基材、エポキシ樹脂系基材等の透明基材、又は上記のポリマー材料をブレンドしたブレンドポリマーからなる基材等が挙げられる。For optical film applications, the substrate preferably has a total light transmittance of 80% or more.
For optical film applications, when a polymer film is used as the substrate, it is preferable to use an optically isotropic polymer film.
Examples of the substrate include polyester-based substrates (films or sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), cellulose-based substrates (films or sheets of diacetylcellulose, triacetylcellulose (TAC), etc.), and polycarbonate-based substrates. , Poly (meth) acrylic base material (film or sheet such as polymethyl methacrylate), polystyrene base material (polystyrene, acrylonitrile styrene copolymer film or sheet), olefin base material (polyethylene, polypropylene, cyclic or Polyolefin having a norbornene structure, ethylene propylene copolymer film or sheet), polyamide base material (polyvinyl chloride, nylon, aromatic polyamide film or sheet), polyimide base material, polysulfone base material, poly Ethersulfone base material, polyether ether ketone base material, polyphenylene sulfide base material, vinyl alcohol base material, polyvinylidene chloride base material, polyvinyl butyral base material, poly(meth)acrylate base material, polyoxy Transparent base materials such as methylene-based base materials and epoxy resin-based base materials, and base materials made of blend polymers obtained by blending the above polymer materials, and the like can be used.
基材の厚みとしては、製造適性、製造コスト、光学フィルム用途等を考慮すると、例えば、30μm~150μmが好ましく、40μm~100μmがより好ましい。 The thickness of the substrate is preferably, for example, 30 μm to 150 μm, more preferably 40 μm to 100 μm, in consideration of production aptitude, production cost, optical film application, and the like.
基材としては、上記のポリマーフィルム上に予め層が形成されたものであってもよい。
予め形成される層としては、ラビング配向層、光配向層等の液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層、密着層などが挙げられる。The base material may be one in which a layer is formed in advance on the above polymer film.
Examples of the layer to be formed in advance include an alignment layer having an alignment regulating force with respect to a liquid crystal compound, such as a rubbing alignment layer and a photo-alignment layer, and an adhesion layer.
(液晶層形成用塗布液)
工程Aに用いられる液晶層形成用塗布液は、溶媒、棒状サーモトロピック液晶化合物、及びキラル剤を含む。また、液晶層形成用塗布液は、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。(Coating liquid for liquid crystal layer formation)
The liquid crystal layer-forming coating liquid used in step A contains a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound, and a chiral agent. In addition, the liquid crystal layer-forming coating liquid may contain other components as necessary.
-溶媒-
溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒として具体的には、アミド溶媒(例えば、N、N-ジメチルホルムアミド)、スルホキシド溶媒(例えば、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例えば、ピリジン)、炭化水素溶媒(例えば、ベンゼン、ヘキサン等)、ハロゲン化アルキル溶媒(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル溶媒(例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル等)、ケトン溶媒(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、1、2-ジメトキシエタン等)が挙げられる。中でも、有機溶媒としては、ハロゲン化アルキル溶媒及びケトン溶媒が好ましい。
有機溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。-solvent-
An organic solvent is preferably used as the solvent.
Specific examples of organic solvents include amide solvents (e.g., N,N-dimethylformamide), sulfoxide solvents (e.g., dimethylsulfoxide), heterocyclic compounds (e.g., pyridine), hydrocarbon solvents (e.g., benzene, hexane, etc.). , alkyl halide solvents (e.g., chloroform, dichloromethane), ester solvents (e.g., methyl acetate, butyl acetate, etc.), ketone solvents (e.g., acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), ether solvents (e.g., tetrahydrofuran, 1,2- dimethoxyethane, etc.). Among them, halogenated alkyl solvents and ketone solvents are preferable as the organic solvent.
An organic solvent may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be used.
-棒状サーモトロピック液晶化合物(特定液晶化合物)-
棒状サーモトロピック液晶化合物(即ち、特定液晶化合物)とは、サーモトロピック性を有し、棒状の分子構造を有する液晶化合物を指す。
特に、特定液晶化合物は、重合性基を有する化合物であることが好ましい。特定液晶化合物が有する重合性基としては、不飽和重合性基、エポキシ基、又はアジリジニル基が好ましいものとして挙げられ、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
特定液晶化合物として具体的には、Makromol. Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、同第5622648号明細書、同第5770107明細書、国際公開第95/22586号、同第95/24455号、同第97/00600号、同第98/23580号、同第98/52905号、特開平1-272551号公報、同6-16616号公報、同7-110469号公報、同11-80081号公報、及び特開2001-328973号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、特定液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報、特開2007-279688号公報等に記載のものも好ましく用いることができるが、これらに限定されるものではない。-Rod-shaped thermotropic liquid crystal compound (specified liquid crystal compound)-
A rod-like thermotropic liquid crystal compound (that is, a specific liquid crystal compound) refers to a liquid crystal compound having thermotropic properties and a rod-like molecular structure.
In particular, the specific liquid crystal compound is preferably a compound having a polymerizable group. The polymerizable group possessed by the specific liquid crystal compound is preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group. It is particularly preferred to have
Specific examples of specific liquid crystal compounds include Makromol. Chem. , 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), U.S. Pat. No., No. 95/24455, No. 97/00600, No. 98/23580, No. 98/52905, JP-A-1-272551, JP-A-6-16616, JP-A-7-110469 JP-A-11-80081, JP-A-2001-328973, and the like.
Furthermore, as the specific liquid crystal compound, for example, those described in JP-A-11-513019, JP-A-2007-279688, etc. can also be preferably used, but the compounds are not limited to these.
特定液晶化合物としては、順波長分散特性を有する液晶化合物として、例えば、下記一般式(1)で表される化合物が好ましく用いられる。 As the specific liquid crystal compound, for example, a compound represented by the following general formula (1) is preferably used as a liquid crystal compound having normal wavelength dispersion characteristics.
一般式(1)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、重合性基であり、L1、L2、L3、及びL4は、それぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表し、A1及びA2は、それぞれ独立に、炭素原子数2~20の2価の炭化水素基を表し、Mはメソゲン基を表す。In general formula (1), Q 1 and Q 2 are each independently a polymerizable group, and L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are each independently a single bond or a divalent linking group , A 1 and A 2 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and M represents a mesogenic group.
Q1及びQ2で表される重合性基としては、上述する特定液晶化合物が有する重合性基が挙げられ、好ましい例も同様である。
L1、L2、L3、及びL4で表される連結基としては、-O-、-S-、-CO-、-NR-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR-、-NR-CO-、-O-CO-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-、及びNR-CO-NR-からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。ここで、Rは炭素原子数が1~7のアルキル基又は水素原子である。
また、L3及びL4の少なくとも一方は、-O-CO-O-であることが好ましい。
一般式(1)中、Q1-L1-及びQ2-L2-は、CH2=CH-CO-O-、CH2=C(CH3)-CO-O-、及びCH2=C(Cl)-CO-O-が好ましく、CH2=CH-CO-O-が最も好ましい。Examples of the polymerizable groups represented by Q 1 and Q 2 include the polymerizable groups possessed by the specific liquid crystal compound described above, and preferable examples are the same.
Linking groups represented by L 1 , L 2 , L 3 and L 4 include -O-, -S-, -CO-, -NR-, -CO-O-, -O-CO-O- , -CO-NR-, -NR-CO-, -O-CO-, -O-CO-NR-, -NR-CO-O-, and a divalent selected from the group consisting of NR-CO-NR- is preferably a linking group of Here, R is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom.
At least one of L 3 and L 4 is preferably -O-CO-O-.
In general formula (1), Q 1 -L 1 - and Q 2 -L 2 - are CH 2 ═CH—CO—O—, CH 2 ═C(CH 3 )—CO—O—, and CH 2 ═ C(Cl)--CO--O-- is preferred, and CH 2 ═CH--CO--O-- is most preferred.
A1及びA2で表される炭素原子数2~20の2価の炭化水素基としては、炭素原子数2~12の、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、特に、炭素原子数2~12のアルキレン基が好ましい。2価の炭化水素基は、鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、2価の炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素)、シアノ基、メチル基、エチル基等が挙げられる。The divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms represented by A 1 and A 2 is preferably an alkylene group, an alkenylene group, or an alkynylene group having 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably has 2 to 12 carbon atoms. 2 to 12 alkylene groups are preferred. The divalent hydrocarbon group is preferably chain-shaped and may contain non-adjacent oxygen or sulfur atoms. Moreover, the divalent hydrocarbon group may have a substituent, and examples of the substituent include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine), cyano groups, methyl groups, ethyl groups, and the like.
Mで表されるメソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。
Mで表されるメソゲン基については、特に制限はなく、例えば、「FlussigeKristalle in Tabellen II」(VEB DeutscheVerlag fur Grundstoff Industrie,Leipzig、1984年刊)、特に第7頁~第16頁の記載、及び、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧(丸善、2000年刊)、特に第3章の記載を参照することができる。
より具体的には、Mで表されるメソゲン基は、特開2007-279688号公報の段落0086に記載の構造が挙げられる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、及び脂環式基からなる群より選択される少なくとも1種の環状構造を含む基が好ましい。中でも、メソゲン基は、芳香族炭化水素基を含む基であることが好ましく、2個~5個の芳香族炭化水素基を含む基であることがより好ましく、3個~5個の芳香族炭化水素基を含む基であることが更に好ましい。
更に好ましくは、メソゲン基としては、3個~5個のフェニレン基を含み、フェニレン基を-CO-O-にて連結した基であることが好ましい。
メソゲン基に含まれる環状構造は、更に、メチル基等の炭素数1~10のアルキル基等を置換基として有してもよい。The mesogenic group represented by M is a group showing the main skeleton of liquid crystal molecules that contributes to liquid crystal formation.
The mesogenic group represented by M is not particularly limited. Handbook Editing Committee, Liquid Crystal Handbook (Maruzen, 2000), particularly Chapter 3, can be referred to.
More specifically, the mesogenic group represented by M includes structures described in paragraph 0086 of JP-A-2007-279688.
The mesogenic group is preferably, for example, a group containing at least one cyclic structure selected from the group consisting of aromatic hydrocarbon groups, heterocyclic groups and alicyclic groups. Among them, the mesogenic group is preferably a group containing an aromatic hydrocarbon group, more preferably a group containing 2 to 5 aromatic hydrocarbon groups, and 3 to 5 aromatic hydrocarbon groups. A group containing a hydrogen group is more preferred.
More preferably, the mesogenic group is a group containing 3 to 5 phenylene groups, wherein the phenylene groups are linked by --CO--O--.
The cyclic structure contained in the mesogenic group may further have an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group as a substituent.
以下に、一般式(1)で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。「Me」は、メチル基を表す。 Specific examples of the compound represented by formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto. "Me" represents a methyl group.
また、特定液晶化合物としては、逆波長分散性の棒状液晶化合物を用いてもよい。
逆波長分散性の棒状液晶化合物としては、特開2016-81035号公報の一般式1で表される液晶化合物、及び、特開2007-279688号公報の一般式(I)又は(II)で表される化合物が挙げられる。より具体的には、逆波長分散性の特定液晶化合物として、以下に示す化合物が挙げられるが、本開示ではこれらに限定されるものではない。As the specific liquid crystal compound, a rod-like liquid crystal compound having reverse wavelength dispersion may be used.
As the reverse wavelength dispersion rod-shaped liquid crystal compound, the liquid crystal compound represented by the general formula 1 of JP-A-2016-81035, and the general formula (I) or (II) of JP-A-2007-279688. compounds that are More specifically, the specific liquid crystal compound with reverse wavelength dispersion includes the compounds shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
特定液晶化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
液晶層形成用塗布液における特定液晶化合物の含有量は、全固形分の質量に対して、70質量%以上100質量%未満が好ましく、90質量%~99質量%がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除いた成分を指す。The specific liquid crystal compound may be used singly or in combination of two or more.
The content of the specific liquid crystal compound in the liquid crystal layer-forming coating liquid is preferably 70% by mass or more and less than 100% by mass, more preferably 90% by mass to 99% by mass, based on the mass of the total solid content.
In addition, solid content refers to the component except a solvent.
-キラル剤-
キラル剤は、公知の種々のキラル剤(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4-3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第一42委員会編、1989に記載)から選択することができる。
キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。
軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、及びこれらの誘導体が含まれる。-Chiral agent-
Chiral agents include various known chiral agents (for example, Liquid Crystal Device Handbook, Chapter 3, Section 4-3, Chiral Agents for TN and STN, p. 199, Japan Society for the Promotion of Science 142nd Committee, ed., 1989). You can choose from
Chiral agents generally contain an asymmetric carbon atom, but axially chiral compounds or planar chiral compounds that do not contain an asymmetric carbon atom can also be used as chiral agents.
Examples of axially or planarly chiral compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof.
キラル剤は、重合性基を有していてもよい。
キラル剤が重合性基を有すると共に、併用する特定液晶化合物も重合性基を有する場合は、重合性基を有するキラル剤と重合性基を有する特定液晶化合物との重合反応により、特定液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーが得られる。
重合性基を有するキラル剤が有する重合性基は、特定液晶化合物が有する重合性基と同種の基であることが好ましい。キラル剤が有する重合性基は、不飽和重合性基、エポキシ基、又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。 The chiral agent may have a polymerizable group.
When the chiral agent has a polymerizable group and the specific liquid crystal compound used in combination also has a polymerizable group, the polymerization reaction between the chiral agent having a polymerizable group and the specific liquid crystal compound having a polymerizable group causes the specific liquid crystal compound to A polymer having repeat units derived from the derivatized repeat units and repeat units derived from the chiral agent is obtained.
The polymerizable group possessed by the chiral agent having a polymerizable group is preferably the same kind of group as the polymerizable group possessed by the specific liquid crystal compound. The polymerizable group possessed by the chiral agent is preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group. Especially preferred.
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
強い捩れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開2010-181852号公報、特開2003-287623号公報、特開2002-80851号公報、特開2002-80478号公報、特開2002-302487号公報等に記載のキラル剤が挙げられ、これらは、本開示における液晶層形成用塗布液にも好ましく用いることができる。
更に、上記の各公開公報に記載されているイソソルビド化合物類については対応する構造のイソマンニド化合物類をキラル剤として用いることもでき、また、同公報に記載されているイソマンニド化合物類については対応する構造のイソソルビド化合物類をキラル剤として用いることもできる。 Also, the chiral agent may be a liquid crystal compound.
Examples of chiral agents exhibiting strong twisting force include JP-A-2010-181852, JP-A-2003-287623, JP-A-2002-80851, JP-A-2002-80478, and JP-A-2002-302487. Examples include chiral agents described in publications and the like, and these can also be preferably used in the liquid crystal layer-forming coating liquid of the present disclosure.
Furthermore, for the isosorbide compounds described in each of the above publications, isomannide compounds having a corresponding structure can be used as a chiral agent. can also be used as a chiral agent.
液晶層形成用塗布液におけるキラル剤の含有量は、全固形分の質量に対して、0.5質量%~10.0質量%が好ましく、1.0質量%~3.0質量%がより好ましい。 The content of the chiral agent in the liquid crystal layer-forming coating liquid is preferably 0.5% by mass to 10.0% by mass, more preferably 1.0% by mass to 3.0% by mass, based on the mass of the total solid content. preferable.
-その他の成分-
液晶層形成用塗布液は、必要に応じて、配向制御剤、重合開始剤、レベリング剤、配向助剤等のその他の成分を含んでいてもよい。-Other ingredients-
The liquid crystal layer-forming coating liquid may contain other components such as an alignment control agent, a polymerization initiator, a leveling agent, and an alignment aid, if necessary.
・配向制御剤
配向制御剤としては、空気界面において特定液晶化合物の分子のチルト角を低減若しくは実質的に水平にすることができるものが好ましい。
このような配向制御剤としては、例えば、特開2012-211306号公報の段落番号[0012]~[0030]に記載の化合物、特開2012-101999号公報の段落番号[0037]~[0044]に記載の化合物、特開2007-272185号公報の段落番号[0018]~[0043]に記載の含フッ素(メタ)アクリレートポリマー、特開2005-099258号公報に合成方法と共に詳細に記載された化合物等が挙げられる。
なお、特開2004-331812号公報に記載の、フルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位を全重合単位の50質量%超で含むポリマーも配向制御剤として用いてもよい。• Alignment Control Agent As the alignment control agent, those capable of reducing the tilt angles of the molecules of the specific liquid crystal compound at the air interface or making them substantially horizontal are preferable.
Examples of such an alignment control agent include compounds described in paragraph numbers [0012] to [0030] of JP-A-2012-211306, and paragraph numbers [0037] to [0044] of JP-A-2012-101999. Compounds described in JP-A-2007-272185 paragraph numbers [0018] to [0043] fluorine-containing (meth) acrylate polymer described in JP-A-2005-099258 compound described in detail along with the synthesis method etc.
A polymer containing polymerized units of a fluoroaliphatic group-containing monomer in an amount of more than 50% by mass based on the total polymerized units described in JP-A-2004-331812 may also be used as the alignment control agent.
他の配向制御剤の例として、垂直配向剤が挙げられる。垂直配向剤を配合することにより、液晶化合物の垂直配向性を制御することができる。垂直配向剤の例としては、特開2015-38598号公報に記載のボロン酸化合物及び/又はオニウム塩、特開2008-26730号公報のオニウム塩等を好ましく用いることができる。 Examples of other alignment control agents include vertical alignment agents. By adding a vertical alignment agent, the vertical alignment of the liquid crystal compound can be controlled. Examples of vertical alignment agents that can be preferably used include boronic acid compounds and/or onium salts described in JP-A-2015-38598, and onium salts described in JP-A-2008-26730.
液晶層形成用塗布液における配向制御剤の含有量は、全固形分の質量に対して、0質量%~5.0質量%が好ましく、0.3質量%~2.0質量%がより好ましい。 The content of the alignment control agent in the coating solution for forming the liquid crystal layer is preferably 0% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.3% by mass to 2.0% by mass, based on the mass of the total solid content. .
・重合開始剤
重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤のいずれもが用いられるが、熱による基材の変形、液晶層形成用組成物の変質等を抑制する観点から、光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤の例としては、α-カルボニル化合物(例えば、米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載の化合物)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書記載の化合物)、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(例えば、米国特許第2722512号明細書記載の化合物)、多核キノン化合物(例えば、米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載の化合物)、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせ(例えば、米国特許第3549367号明細書記載の化合物)、アクリジン及びフェナジン化合物(例えば、特開昭60-105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載の化合物)、オキサジアゾール化合物(例えば、米国特許第4212970号明細書記載の化合物)、アシルフォスフィンオキシド化合物(例えば、特公昭63-40799号公報、特公平5-29234号公報、特開平10-95788号公報、特開平10-29997号公報記載の化合物)等が挙げられる。・Polymerization initiator As a polymerization initiator, both a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are used. Polymerization initiators are preferred.
Examples of photopolymerization initiators include α-carbonyl compounds (e.g., compounds described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ethers (compounds described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds (e.g., compounds described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (e.g., compounds described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), triaryls Combinations of imidazole dimers and p-aminophenyl ketones (e.g., compounds described in US Pat. No. 3,549,367), acridine and phenazine compounds (e.g., JP-A-60-105667, US Pat. No. 4,239,850) compounds), oxadiazole compounds (e.g., compounds described in US Pat. No. 4,212,970), acylphosphine oxide compounds (e.g., JP-B-63-40799, JP-B-5-29234, JP-A-10 -95788, compounds described in JP-A-10-29997) and the like.
液晶層形成用塗布液における重合開始剤の含有量は、全固形分の質量に対して、0.5質量%~5.0質量%が好ましく、1.0質量%~4.0質量%がより好ましい。 The content of the polymerization initiator in the liquid crystal layer-forming coating liquid is preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, and 1.0% by mass to 4.0% by mass, based on the mass of the total solid content. more preferred.
液晶層形成用塗布液の固形分の含有量としては、液晶層形成用塗布液の全質量に対して、例えば、25質量%~40質量%の範囲が好ましく、25質量%~35質量%の範囲がより好ましい。 The solid content of the coating solution for forming the liquid crystal layer is, for example, preferably in the range of 25% to 40% by mass, more preferably 25% to 35% by mass, based on the total mass of the coating solution for forming the liquid crystal layer. A range is more preferred.
(塗布)
液晶層形成用塗布液を塗布する塗布手段(図1では塗布手段10に該当)としては、公知の塗布手段が適用される。
塗布手段として具体的には、エクストルージョンダイコータ法、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した手段が挙げられる。(coating)
As the applying means (corresponding to the applying means 10 in FIG. 1) for applying the liquid crystal layer forming coating liquid, a known applying means is applied.
Specific examples of coating means include extrusion die coater method, curtain coating method, dip coating method, spin coating method, print coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, and gravure. Means using a coating method, a wire bar method, or the like can be mentioned.
(バックアップロール)
工程Aにおいて好ましく用いられるバックアップロール(図1ではバックアップロール12に該当)は、基材を巻き掛けて連続搬送することができる部材であって、基材の搬送速度と同速度で回転駆動する。
工程Aに用いるバックアップロールは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm~60μmが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、基材とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。(backup roll)
A backup roll (corresponding to the
The backup roll used in step A is not particularly limited, and a known roll can be used.
As the backup roll, for example, one whose surface is plated with hard chrome can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
Further, the surface roughness of the backup roll is preferably 0.1 μm or less in terms of surface roughness Ra, from the viewpoint of reducing variations in the frictional force between the base material and the backup roll.
工程Aに用いるバックアップロールは、塗膜の乾燥促進を高める観点、及び、膜面温度低下による塗膜のブラッシング(即ち、微細な結露が生じることによる塗膜の白化)の抑制など観点から、加温されていてもよい。
バックアップロールの表面温度は、塗膜の組成、塗膜の硬化性能、基材の耐熱性等に応じて決定されればよく、例えば、40℃~120℃が好ましく、40℃~100℃がより好ましい。The backup roll used in step A is a heat treatment from the viewpoint of accelerating the drying of the coating film and suppressing brushing of the coating film due to a decrease in the film surface temperature (that is, whitening of the coating film due to fine condensation). May be warmed.
The surface temperature of the backup roll may be determined according to the composition of the coating film, the curing performance of the coating film, the heat resistance of the substrate, and the like. preferable.
工程Aに用いるバックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。It is preferable that the surface temperature of the backup roll used in step A is detected and the surface temperature of the backup roll is maintained by temperature control means based on the detected temperature.
The backup roll temperature control means includes heating means and cooling means. Induction heating, water heating, oil heating, or the like is used as the heating means, and cooling with cooling water is used as the cooling means.
工程Aに用いるバックアップロールの直径としては、基材が巻き掛け易い観点、塗布手段による塗布が容易な観点、及び、バックアップロールの製造コストの観点から、100mm~1000mmが好ましく、100mm~800mmがより好ましく、200mm~700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll used in step A is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, from the viewpoints of easy winding of the base material, easy application by a coating means, and the production cost of the backup roll. Preferably, 200 mm to 700 mm is more preferable.
工程Aにおけるバックアップロールでの基材の搬送速度は、生産性の確保の観点、及び、塗布性の観点から、10m/min以上100m/min以下であることが好ましい。 The conveying speed of the base material on the backup roll in the step A is preferably 10 m/min or more and 100 m/min or less from the viewpoint of securing productivity and the viewpoint of coatability.
バックアップロールに対する基材のラップ角は、塗布時の基材搬送を安定化され、塗膜の厚みムラの発生を抑制する観点から、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。また、ラップ角の上限は、例えば、180°に設定することができる。
なお、ラップ角とは、基材がバックアップロールに接触する際の基材の搬送方向と、バックアップロールから基材が離間する際の基材の搬送方向と、からなる角度をいう。The wrap angle of the substrate with respect to the backup roll is preferably 60° or more, more preferably 90° or more, from the viewpoints of stabilizing the transportation of the substrate during coating and suppressing the occurrence of thickness unevenness in the coating film. Also, the upper limit of the wrap angle can be set to 180°, for example.
Note that the wrap angle is an angle formed by the direction in which the substrate is conveyed when the substrate contacts the backup roll and the direction in which the substrate is conveyed when the substrate separates from the backup roll.
[工程B]
工程Bでは、形成された塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下まで乾燥させる。
工程Bにおける塗膜中の残存溶媒率は、40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。工程Bにおける塗膜中の残存溶媒率の下限としては、塗布面状の悪化を抑制しやすい観点から、10質量%であることが好ましい。
塗膜中の残存溶媒率は、工程Cの直前にて50質量%以下となっていればよく、例えば、後述する乾燥手段による乾燥後であって、工程Cに供される前までの搬送中に、塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下となればよい。
工程Bにて、残存溶媒率が50質量%以下となる過程において、塗膜中の特定液晶化合物の密度が高まり、コレステリック液晶となる。工程Bにおけるコレステリック液晶は、らせん軸が塗膜の膜面方向に平行になっていることが多い。但し、B工程にて、残存溶媒率が50質量%以下となった塗膜は、上面視した場合、面内においてコレステリック液晶のらせん軸の向きにはバラツキがある状態である。[Step B]
In step B, the coating film formed is dried to a residual solvent content of 50% by mass or less.
The residual solvent rate in the coating film in step B is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less. The lower limit of the residual solvent rate in the coating film in step B is preferably 10% by mass from the viewpoint of easily suppressing deterioration of the coating surface condition.
The residual solvent rate in the coating film may be 50% by mass or less immediately before the step C, for example, after drying by the drying means described later and during transportation before being subjected to the step C Secondly, the residual solvent rate in the coating film should be 50% by mass or less.
In step B, the density of the specific liquid crystal compound in the coating film increases during the process in which the residual solvent rate becomes 50% by mass or less, resulting in cholesteric liquid crystals. The cholesteric liquid crystal in step B often has a helical axis parallel to the surface direction of the coating film. However, in the coating film in which the residual solvent rate is 50% by mass or less in step B, the direction of the helical axis of the cholesteric liquid crystal varies within the plane when viewed from above.
工程Bの一例について、図1を参照して説明する。
工程Bでは、塗布手段10により液晶層形成用塗布液の塗布が行われた後、乾燥手段20の乾燥領域により、塗膜の乾燥が行われる。
乾燥後の塗膜は、搬送ロール52を介して工程Cへと搬送される。工程Bでは、工程Cにて塗膜表面にせん断力が付与される前までに、塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下とすればよい。An example of step B will be described with reference to FIG.
In step B, the coating liquid for forming the liquid crystal layer is applied by the coating means 10 , and then the coating film is dried by the drying area of the drying means 20 .
The dried coating film is transported to process C via transport rolls 52 . In step B, the residual solvent rate in the coating film may be 50% by mass or less before the shearing force is applied to the coating film surface in step C.
(乾燥)
塗膜の乾燥に用いられる乾燥手段(図1では乾燥手段20に該当)としては、公知の乾燥手段が適用される。
乾燥手段として、具体的には、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等を用いる方法を用いた手段が挙げられる。
温風機による乾燥においては、基材の塗膜形成面とは反対側の面から温風を当てる構成でもよく、塗膜表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
また、乾燥を吸気によって行ってもよい。吸気による乾燥は、排気機構を有する減圧室等を用い、塗膜上の気体を吸気することで、塗膜中の残留溶媒率を下げる方法である。
乾燥条件は、塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下までにする条件であればよく、液晶層形成用塗膜の組成、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよい。(dry)
A known drying means is applied as the drying means (corresponding to the drying means 20 in FIG. 1) used for drying the coating film.
Specific examples of drying means include means using a method using an oven, a hot air machine, an infrared (IR) heater, or the like.
In drying with a hot air machine, hot air may be applied from the side opposite to the coating film forming surface of the base material, and a diffusion plate may be installed so that the coating film surface does not flow with hot air. .
Drying may also be performed by suction. Drying by suction is a method of reducing the percentage of residual solvent in the coating film by using a decompression chamber or the like having an exhaust mechanism to suck gas on the coating film.
The drying conditions may be conditions that allow the residual solvent content in the coating film to be 50% by mass or less, and may be determined according to the composition, coating amount, transport speed, and the like of the coating film for forming the liquid crystal layer.
ここで、塗膜の残存溶媒率の測定は、絶乾法にて行う。
具体的には、塗膜の一部を掻き取り、例えば、60℃(塗膜を構成する材料が揮散しない温度以下)で24時間乾燥させ、乾燥前後の質量変化から残存溶媒率を求める。これを3回行い、3回の平均値を残存溶媒率とする。Here, the residual solvent rate of the coating film is measured by the absolute dry method.
Specifically, a part of the coating film is scraped off, dried at, for example, 60° C. (below the temperature at which the material constituting the coating film volatilizes) for 24 hours, and the residual solvent ratio is determined from the change in mass before and after drying. This is repeated 3 times, and the average value of the 3 times is taken as the residual solvent ratio.
[工程C]
工程Cでは、乾燥後の塗膜表面にせん断力を付与する。
工程Bによる乾燥後の塗膜は、既述のように、上面視した場合、面内においてコレステリック液晶のらせん軸の向きにはバラツキがある状態である。
そこで、本開示のコレステリック液晶膜の製造方法では、工程Bの後に工程Cを行い、塗膜を上面視した場合に、コレステリック液晶のらせん軸の向きのバラツキを少なくする。具体的には、工程Cで、工程B後の塗膜表面に対しせん断力を付与する。
塗膜表面に対しせん断力が付与されることで、このせん断力をきっかけにコレステリック液晶のらせん軸がそのせん断方向に垂直に規則正しく並ぶようになる。その結果、工程Cを経ることで、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並び、更に、その並びの膜面内でのバラツキが少ない(即ち、配向精度に優れる)コレステリック液晶膜が得られる。
配向精度に優れたコレステリック液晶膜は、コレステリック液晶膜を上面視した場合に、散乱する領域(既述の白い領域)が少ないことで確認することができる。
なお、工程Cにおける塗膜表面へのせん断力の付与は、せん断力の均一性を高められる観点から、バックアップロール上に巻き掛けられた基材に対し行われることが好ましい。[Step C]
In step C, a shearing force is applied to the surface of the dried coating film.
As described above, the coating film after drying in step B is in a state in which the directions of the helical axes of the cholesteric liquid crystals vary within the plane when viewed from above.
Therefore, in the manufacturing method of the cholesteric liquid crystal film of the present disclosure, the step C is performed after the step B to reduce the variation in the direction of the helical axis of the cholesteric liquid crystal when the coating film is viewed from above. Specifically, in step C, a shearing force is applied to the surface of the coating film after step B.
When a shearing force is applied to the surface of the coating film, the shearing force causes the helical axes of the cholesteric liquid crystals to be regularly aligned perpendicular to the shearing direction. As a result, through step C, the helical axes of the cholesteric liquid crystal are aligned parallel to the film surface direction and perpendicular to the shear direction, and the alignment is less varied within the film surface (that is, the alignment accuracy A cholesteric liquid crystal film is obtained.
A cholesteric liquid crystal film with excellent alignment accuracy can be confirmed by the fact that when the cholesteric liquid crystal film is viewed from above, the scattering region (the white region described above) is small.
From the viewpoint of improving the uniformity of the shearing force, it is preferable that the application of the shearing force to the coating film surface in the step C is performed on the base material wound on the backup roll.
工程Cの一例について、図1を参照して説明する。
工程Cでは、乾燥手段20により、塗膜中の残存溶剤率が50質量%以下になった乾燥後の塗膜の上面をブレード30で掻き取り、せん断力を付与する。
これにより、塗膜の搬送方向(即ち基材の搬送方向)に沿って、せん断力が付与される。
図1に示すように、ブレード30によるせん断力の付与は、基材Fがバックアップロール32上に巻き掛けられた領域で行うことが好ましい。An example of process C will be described with reference to FIG.
In step C, the drying means 20 scrapes off the upper surface of the coating film after drying, in which the residual solvent content in the coating film is 50% by mass or less, with a
Thereby, a shearing force is applied along the conveying direction of the coating film (that is, the conveying direction of the substrate).
As shown in FIG. 1 , it is preferable that the
図1においては、塗膜表面に対するせん断力の付与にブレード30が用いられていたが、本開示ではこれに限定されるものではなく、コレステリック液晶のらせん軸をせん断方向に垂直に並ばせることが可能であれば、如何なる方法であってもよい。ブレード以外のせん断力の付与手段としては、エアナイフ、バー、アプリケーター等が挙げられる。
In FIG. 1, the
(せん断速度)
工程Cにて、乾燥後の塗膜表面にせん断力を付与する場合、せん断速度が大きいほど、配向精度に優れたコレステリック液晶膜が得られやすい。具体的には、せん断速度は、1000秒-1(1/sec)以上であることが好ましく、10000秒-1(1/sec)以上であることがより好ましく、30000秒‐1(1/sec)以上であることが更に好ましい。
なお、せん断速度の上限は、例えば、1.0×106秒‐1(1/sec)以下である。
例えば、図1に示すように、ブレード30にて塗膜表面にせん断力を付与する場合、せん断速度は、ブレード30と基材との最短距離を「d」とし、ブレードに接触する塗膜の搬送速度(即ち、塗膜とブレードとの相対速度)を「V」としたとき、「V/d」にて求められる。
また、エアナイフにて塗膜表面にせん断力を付与する場合、せん断速度は、せん断付与後の塗膜の厚みを「h」とし、塗膜表面と基材表面との相対速度「V」としたとき、「V/2h」から求められる。(shear rate)
In step C, when a shear force is applied to the surface of the dried coating film, the higher the shear rate, the easier it is to obtain a cholesteric liquid crystal film with excellent alignment accuracy. Specifically, the shear rate is preferably 1000 sec -1 (1/sec) or more, more preferably 10000 sec -1 (1/sec) or more, and 30000 sec -1 (1/sec ) or more is more preferable.
Note that the upper limit of the shear rate is, for example, 1.0×10 6 seconds −1 (1/sec) or less.
For example, as shown in FIG. 1, when a shear force is applied to the coating film surface with the
In addition, when applying a shear force to the coating film surface with an air knife, the shear rate was set to "h", which is the thickness of the coating film after shearing, and "V", the relative speed between the coating film surface and the substrate surface. is obtained from "V/2h".
(ブレードによるせん断力の付与)
図1に示すように、ブレード30にて塗膜表面にせん断力を付与する方法の場合、塗膜の上面を掻き取ることが好ましい。
つまり、ブレードによるせん断力の付与では、ブレードにより塗膜の膜厚の規制が行われる。
ブレードによるせん断力が付与された後の塗膜の膜厚は、せん断力の付与前に比べて、1/2以下であってもよいし、1/3以下であってもよい。但し、膜厚の規制の下限としては、例えば、ブレードによるせん断力が付与された後の塗膜の膜厚が、せん断力の付与前に比べて、1/4以上であることが好ましい。(Applying shear force by blade)
As shown in FIG. 1, in the case of the method of applying a shearing force to the coating film surface with a
In other words, in the application of the shearing force by the blade, the thickness of the coating film is regulated by the blade.
The film thickness of the coating film after the shearing force is applied by the blade may be 1/2 or less or 1/3 or less of the thickness before the shearing force is applied. However, as the lower limit of the film thickness regulation, for example, it is preferable that the thickness of the coating film after the shearing force is applied by the blade is 1/4 or more of the thickness before the shearing force is applied.
せん断力の付与に用いられるブレードの形状、材質等は、特に制限はない。
ブレードは、ステンレス等の金属製の板状部材であってもよいし、テフロン(登録商標)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)等の樹脂製の板状部材であってもよい。
塗膜に対して一定のせん断力を付与しやすい観点から、金属製の板状部材を用いることが好ましく、塗膜に接触する先端部の厚み(即ち、塗膜の搬送方向に沿った厚み)は、0.1mm以上(好ましくは1mm以上)である金属製の板状部材であることが好ましい。金属製の板状部材の厚みの上限としては、例えば、10mm程度である。There are no particular restrictions on the shape, material, etc. of the blade used to apply the shearing force.
The blade may be a plate-shaped member made of metal such as stainless steel, or a plate-shaped member made of resin such as Teflon (registered trademark) or PEEK (polyetheretherketone).
From the viewpoint of easily imparting a constant shearing force to the coating film, it is preferable to use a metal plate-shaped member, and the thickness of the tip that contacts the coating film (that is, the thickness along the transport direction of the coating film) is preferably a metal plate-shaped member having a thickness of 0.1 mm or more (preferably 1 mm or more). The upper limit of the thickness of the metal plate member is, for example, about 10 mm.
(エアナイフによるせん断力の付与)
エアナイフによる塗膜表面にせん断力を付与する方法の場合、塗膜の上面にエアナイフによる圧縮空気を吹き付けることで、せん断力が付与される。
圧縮空気を吹き付ける速度(即ち流速)にて、塗膜に付与するせん断速度を調整することができる。
エアナイフによる圧縮空気の吹き付け方向は、塗膜の搬送方向と同じ方向であっても、反対の方向であってもよいが、吹き付けられた圧縮空気で掻き取られた塗膜破片が塗膜に再付着しにくい等の観点から、塗膜の搬送方向と同じ方向であることが好ましい。(Applying shear force by air knife)
In the method of applying a shearing force to the surface of the coating film using an air knife, the shearing force is applied by blowing compressed air onto the upper surface of the coating film using an air knife.
The shear rate imparted to the coating film can be adjusted by the speed at which the compressed air is blown (that is, the flow rate).
The direction of the compressed air blown by the air knife may be the same as or opposite to the conveying direction of the coating film. It is preferable that the direction is the same as the conveying direction of the coating film from the viewpoint of preventing adhesion.
(塗膜表面の温度)
工程Cにおいて、せん断力が付与される塗膜表面の温度は、用いる特定液晶化合物の相転移温度によるが、一般的には、50℃~120℃であることが好ましく、60℃~100℃であることがより好ましい。
塗膜表面の温度を上記の範囲とすることで、せん断力の付与による、コレステリック液晶のらせん軸をせん断方向に垂直に並ばせやすくなり、配向精度の高いコレステリック液晶膜を得ることができる。
ここで、塗膜表面の温度は、非接触式温度計で測定した温度値で放射率が校正された放射温度計を用いて測定される値である。測定は、測定面とは反対側(裏側)にその表面から10cm以内に反射物がない状態にて行われる。(Temperature of coating film surface)
In step C, the temperature of the coating film surface to which the shear force is applied depends on the phase transition temperature of the specific liquid crystal compound used, but is generally preferably from 50 ° C. to 120 ° C., and at 60 ° C. to 100 ° C. It is more preferable to have
By setting the temperature of the coating film surface within the above range, it becomes easier to align the helical axes of the cholesteric liquid crystals perpendicularly to the shearing direction by applying a shearing force, and a cholesteric liquid crystal film with high alignment accuracy can be obtained.
Here, the temperature of the coating film surface is a value measured using a radiation thermometer whose emissivity is calibrated with a temperature value measured by a non-contact thermometer. Measurements are taken with no reflectors within 10 cm of the surface on the side opposite to the surface to be measured (back side).
(バックアップロール)
工程Cにおいて好ましく用いられるバックアップロール(図1ではバックアップロール32に該当)は、基材を巻き掛けて連続搬送することができる部材であって、基材の搬送速度と同速度で回転駆動する。
工程Cにて用いられるバックアップロールは、工程Aにて用いたバックアップロールと同様であり、好ましい態様も同様である。
なお、1つのバックアップロール上にて、工程Aと工程Cとが行われてもよい。(backup roll)
A backup roll (corresponding to the
The backup roll used in step C is the same as the backup roll used in step A, and preferred embodiments are also the same.
In addition, the process A and the process C may be performed on one backup roll.
工程Cに用いるバックアップロールは、塗膜表面の温度を上記の範囲に制御する観点から、加温されていてもよい。
バックアップロールの表面温度は、例えば、50℃~120℃が好ましく、60℃~100℃であることがより好ましい。The backup roll used in step C may be heated from the viewpoint of controlling the temperature of the surface of the coating film within the above range.
The surface temperature of the backup roll is, for example, preferably 50°C to 120°C, more preferably 60°C to 100°C.
工程Cに用いるバックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段は、工程Aにて用いたバックアップロールと同様である。It is preferable that the surface temperature of the backup roll used in step C is detected and the surface temperature of the backup roll is maintained by temperature control means based on the detected temperature.
The temperature control means for the backup roll is the same as the backup roll used in step A.
工程Cに用いるバックアップロールの直径としては、基材が巻き掛け易い観点、せん断力の付与が容易な観点、及び、バックアップロールの製造コストの観点から、100mm~1000mmが好ましく、100mm~800mmがより好ましく、200mm~700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll used in step C is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, from the viewpoints of easy winding of the base material, easy application of shear force, and the production cost of the backup roll. Preferably, 200 mm to 700 mm is more preferable.
工程Cにおけるバックアップロールでの基材の搬送速度は、生産性の確保の観点、及び、せん断力の均一性を高める観点から、10m/min以上100m/min以下であることが好ましい。 The conveying speed of the base material on the backup roll in step C is preferably 10 m/min or more and 100 m/min or less from the viewpoint of ensuring productivity and improving the uniformity of the shear force.
工程Cにおけるバックアップロールに対する基材のラップ角は、塗布時の基材搬送を安定化され、せん断力の均一性を高める観点から、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。また、ラップ角の上限は、例えば、180°に設定することができる。 The wrap angle of the substrate with respect to the backup roll in step C is preferably 60° or more, more preferably 90° or more, from the viewpoints of stabilizing the transportation of the substrate during coating and increasing the uniformity of the shearing force. Also, the upper limit of the wrap angle can be set to 180°, for example.
工程Cにてせん断力を付与するときの塗膜の厚み(即ち、工程Bにて乾燥された塗膜の厚み)は、せん断力によるコレステリック液晶のらせん軸の配向精度をより高める観点から、70μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、15μm~50μmであることがより好ましい。 The thickness of the coating film when the shearing force is applied in step C (that is, the thickness of the coating film dried in step B) is 70 μm from the viewpoint of increasing the alignment accuracy of the helical axis of the cholesteric liquid crystal due to the shearing force. It is preferably 50 μm or less, more preferably 15 μm to 50 μm.
工程Cにてせん断力を付与された後の塗膜の厚みは、せん断力によるコレステリック液晶のらせん軸の配向精度をより高める観点から、10μm以下であることが好ましい。
また、工程Cを経て得られた塗膜(即ち、工程Cにてせん断力を付与された後の塗膜)の厚みは、用途に応じて決定されてもよい。
工程Cを経て得られた塗膜の厚みは、例えば、5μm以上であることが好ましい。The thickness of the coating film after applying the shearing force in step C is preferably 10 μm or less from the viewpoint of increasing the alignment accuracy of the helical axis of the cholesteric liquid crystal due to the shearing force.
Moreover, the thickness of the coating film obtained through the step C (that is, the coating film after being subjected to the shearing force in the step C) may be determined according to the application.
The thickness of the coating film obtained through step C is preferably, for example, 5 μm or more.
[工程D]
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法では、塗膜中に重合性化合物(具体的には、重合性基を有する特定液晶化合物、重合性基を有するキラル剤等)を含む場合、工程C後に、塗膜を硬化させる工程Dを含むことが好ましい。
工程Dでは、せん断力が付与された後の塗膜に対して、例えば、熱をかけて、又は、活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させることが好ましい。
製造適性等を考慮すると、工程Dとしては、図1に示すような、活性エネルギー線の照射手段40から照射された活性エネルギー線による硬化を用いることが好ましい。[Step D]
In the method for producing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure, when the coating film contains a polymerizable compound (specifically, a specific liquid crystal compound having a polymerizable group, a chiral agent having a polymerizable group, etc.), after step C, It is preferable to include a step D of curing the coating film.
In step D, it is preferable to apply heat or irradiate active energy rays to the coating film to which the shearing force has been applied to cure the coating film.
In consideration of production aptitude and the like, it is preferable to use curing with active energy rays emitted from the active energy ray irradiation means 40 as shown in FIG.
活性エネルギー線の照射手段としては、照射する塗膜中に活性種を発生させうるエネルギーを付与する手段であれば、特に制限はない。
活性エネルギー線として、具体的には、例えば、α線、γ線、X線、紫外線、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく用いられる。There are no particular restrictions on the means for irradiating the active energy ray as long as it is a means for imparting energy capable of generating active species in the coating film to be irradiated.
Specific examples of active energy rays include α-rays, γ-rays, X-rays, ultraviolet rays, infrared rays, visible rays, electron beams, and the like. Among these, ultraviolet rays are preferably used as active energy rays from the viewpoint of curing sensitivity and availability of equipment.
紫外線の光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線の光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm~400nmが好ましい。
また、紫外線の露光エネルギー量としては、例えば、100mJ/cm2~500mJ/cm2が好ましい。Examples of ultraviolet light sources include lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps, and various lasers (e.g., semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ion lasers, etc.). lasers, helium-cadmium lasers, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) lasers), light-emitting diodes, cathode ray tubes, and the like.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from the ultraviolet light source is preferably 200 nm to 400 nm.
Moreover, the exposure energy amount of ultraviolet rays is preferably 100 mJ/cm 2 to 500 mJ/cm 2 , for example.
以上により、基材上にコレステリック液晶膜が製造される。
基材とコレステリック液晶膜との積層体は光学フィルムとして用いてもよい。As described above, a cholesteric liquid crystal film is produced on the substrate.
A laminate of a substrate and a cholesteric liquid crystal film may be used as an optical film.
[その他の工程]
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法では、以上の工程A~工程D以外にも、その他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、工程Aにて用いられる基材上に配向層を形成する工程が挙げられる。
つまり、工程Aにて用いられる基材は、配向層を備えた基材であってもよい。[Other processes]
The manufacturing method of the cholesteric liquid crystal film of the present disclosure may have other steps in addition to the steps A to D described above.
Other steps include a step of forming an alignment layer on the substrate used in step A.
That is, the substrate used in step A may be a substrate provided with an alignment layer.
(配向層)
配向層は、液晶化合物に対して配向規制力を付与しうる層であれば特に制限はない。
配向層は、例えば、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、又はマイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。
また、配向層は、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向層であってもよい。
なお、基材が樹脂製である場合、その樹脂種(例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)等)によっては、配向層を設けず、支持体を直接配向処理(例えば、ラビング処理)することにより、基材の表面を配向層として機能させることもできる。(Orientation layer)
The alignment layer is not particularly limited as long as it is a layer capable of imparting an alignment regulating force to the liquid crystal compound.
The alignment layer can be provided by, for example, rubbing treatment of an organic compound (preferably polymer), oblique vapor deposition of an inorganic compound, or formation of a layer having microgrooves.
Moreover, the alignment layer may be an alignment layer in which an alignment function is produced by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation.
When the substrate is made of a resin, depending on the type of resin (eg, PET (polyethylene terephthalate), etc.), the substrate may be directly oriented (eg, rubbed) without providing an orientation layer. The surface of the material can also function as an alignment layer.
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法では、配向層は必須ではなく、配向層を用いずとも、工程Cにおける塗膜に対するせん断力の付与によりコレステリック液晶のらせん軸を並べることができる。 In the method for producing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure, an alignment layer is not essential, and the helical axes of the cholesteric liquid crystals can be aligned by applying a shearing force to the coating film in step C without using an alignment layer.
〔光学フィルム〕
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法において、基材として光学的等方性のポリマーフィルムを用い、このポリマーフィルム上にコレステリック液晶膜を形成した場合、得られた積層体は光学フィルムとして用いることができる。
また、コレステリック液晶膜自体を光学フィルムとして用いてもよい。
本開示のコレステリック液晶膜の製造方法にて得られたコレステリック液晶膜は、光反射層としての機能を発現させることができる。そのため、空中結像装置に用いられる光学フィルムとしても好適である。[Optical film]
In the method for producing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure, when an optically isotropic polymer film is used as a substrate and a cholesteric liquid crystal film is formed on this polymer film, the resulting laminate can be used as an optical film. can.
Also, the cholesteric liquid crystal film itself may be used as an optical film.
The cholesteric liquid crystal film obtained by the method for producing a cholesteric liquid crystal film of the present disclosure can exhibit a function as a light reflecting layer. Therefore, it is also suitable as an optical film used in an aerial imaging device.
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.
〔実施例1〕
(基材の準備)
基材として、厚み80μm、幅300mmの長尺のトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士フイルム(株)、屈折率1.48)を用意した。[Example 1]
(Preparation of base material)
A long triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index 1.48) having a thickness of 80 μm and a width of 300 mm was prepared as a base material.
(液晶層形成用塗布液1の調製)
下に記載の各成分を混合した後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、液晶層形成用塗布液1を調製した。(Preparation of Liquid Crystal Layer Forming Coating Liquid 1)
After mixing each component described below, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a coating liquid 1 for forming a liquid crystal layer.
-液晶層形成用塗布液1-
・棒状サーモトロピック液晶化合物(下記化合物(A)):100質量部
・キラル剤(下記化合物(B)):2.5質量部
・光重合開始剤:3質量部
(IRGACURE(登録商標)907、BASF社)
・配向規制剤(下記化合物(C)):0.2質量部
・垂直配向剤(下記化合物(D)):0.5質量部
・溶媒(メチルエチルケトン):215質量部- Liquid crystal layer forming coating solution 1 -
・Rod-shaped thermotropic liquid crystal compound (compound (A) below): 100 parts by mass ・Chiral agent (compound (B) below): 2.5 parts by mass ・Photopolymerization initiator: 3 parts by mass (IRGACURE (registered trademark) 907, BASF)
Alignment regulator (compound (C) below): 0.2 parts by mass Vertical alignment agent (compound (D) below): 0.5 parts by mass Solvent (methyl ethyl ketone): 215 parts by mass
(工程A及び工程B)
液晶層形成用塗布液1を、連続搬送された基材上にダイコート法を用いて塗布し、次いで70℃のオーブン内を60秒間通過させ、塗膜を乾燥した。
工程Aについて、具体的には、表面温度25℃、外径300mmのバックアップロール上に、基材を搬送し、図1に示すように、バックアップロール上に巻き掛けた基材に対し、ダイコート法を用いて、液晶層形成用塗布液1の塗布を行った。
工程A及び工程Bにおける基材の搬送速度は、10m/minであった。
また、乾燥後の塗膜の厚みは50μmであり、塗布幅は250mmであった。
(Step A and Step B)
The coating liquid 1 for forming a liquid crystal layer was applied onto the continuously conveyed base material using a die coating method, and then passed through an oven at 70° C. for 60 seconds to dry the coating film.
Regarding step A, specifically, the substrate is conveyed onto a backup roll having a surface temperature of 25° C. and an outer diameter of 300 mm, and as shown in FIG. was used to apply the coating liquid 1 for liquid crystal layer formation.
The conveying speed of the substrate in steps A and B was 10 m/min.
Moreover , the thickness of the coating film after drying was 50 μm, and the coating width was 250 mm.
(工程C)
乾燥後の塗膜に対し、ステンレス製ブレード(先端部の厚み1mm)にてせん断力を付与した。
工程Cについて具体的には、まず、表面温度70℃、外径500mmのバックアップロール上の基材表面から20μm離間した位置に先端部が来るようにブレードを設置した。また、ブレードは70℃に保温した。そこへ、工程Bを経た塗膜を有する基材をバックアップロール上へと搬送させて、塗膜表面をブレードに押し当て、塗膜の上面を掻き落とした。
上記ブレードにより付与されたせん断速度は、10000秒-1であった。
工程Cを経た塗膜の厚みは10μmとなった。
なお、工程Cにおける基材の搬送速度は、12m/minであった。(Process C)
A shearing force was applied to the dried coating film with a stainless steel blade (thickness at tip: 1 mm).
Specifically, for step C, first, a blade was placed on a backup roll having a surface temperature of 70° C. and an outer diameter of 500 mm so that the tip thereof was positioned 20 μm apart from the substrate surface. Also, the blade was kept at 70°C. Then, the substrate having the coating film that had undergone the step B was transported onto a backup roll, and the coating film surface was pressed against a blade to scrape off the upper surface of the coating film.
The shear rate imparted by the blade was 10000 sec -1 .
The thickness of the coating film after the step C was 10 μm.
In addition, the conveying speed of the base material in the process C was 12 m/min.
(工程D)
工程C後の塗膜に対し、高圧水銀ランプを用い、露光エネルギー量500mJ/cm2で紫外線を照射し、塗膜を硬化した。
以上のようにして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。(Process D)
Using a high-pressure mercury lamp, the coating film after step C was irradiated with ultraviolet rays at an exposure energy of 500 mJ/cm 2 to cure the coating film.
As described above, a cholesteric liquid crystal film was produced on the substrate.
〔実施例2~3、比較例2〕
工程Bにおける乾燥条件(具体的には、乾燥時間)を変えて、塗膜中の溶媒残存率を変えた以外は実施例1と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Examples 2 to 3, Comparative Example 2]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 1, except that the drying conditions (specifically, the drying time) in step B were changed to change the solvent residual ratio in the coating film.
〔実施例4〕
工程Cにおける塗膜の搬送速度を36m/minに変えた以外は実施例1と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Example 4]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 1, except that the transport speed of the coating film in step C was changed to 36 m/min.
〔実施例5〕
工程Aの前に、以下の配向層形成工程を行った以外は、実施例1と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Example 5]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 1, except that the following orientation layer forming step was performed before step A.
(配向層形成工程)
-配向層組成物Aの調製-
純水96質量部及びPVA-205((株)クラレ、ポリビニルアルコール)の混合物を、80℃に保温された容器中にて攪拌、溶解させ、配向層組成物を調製した。
連続搬送される、前記したトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に、配向層組成物を#6バーを用いて塗布し、次いで、100℃のオーブン内で10分乾燥した後、基材の搬送方向と直交方向にラビング処理を施した。(Orientation layer forming step)
-Preparation of alignment layer composition A-
A mixture of 96 parts by mass of pure water and PVA-205 (polyvinyl alcohol manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was stirred and dissolved in a container kept at 80° C. to prepare an alignment layer composition.
The alignment layer composition was applied using a #6 bar onto the triacetyl cellulose (TAC) film, which was continuously conveyed, and then dried in an oven at 100°C for 10 minutes. Rubbing treatment was performed in the direction perpendicular to the
〔実施例6〕
(工程A及び工程B)
既述の液晶層形成用塗布液1を、連続搬送された基材上にダイコート法を用いて塗布し、次いで70℃のオーブン内を60秒間通過させ、塗膜を乾燥した。
工程Aについて、具体的には、表面温度25℃、外径300mmのバックアップロール上に、基材を搬送し、図1に示すように、バックアップロール上に巻き掛けた基材に対し、ダイコート法を用いて、液晶層形成用塗布液1の塗布を行った。
工程A及び工程Bにおける基材の搬送速度は、10m/minであった。
また、乾燥後の塗膜の厚みは50μmであり、塗布幅は250mmであった。
[Example 6]
(Step A and Step B)
The liquid crystal layer forming coating liquid 1 described above was applied onto the continuously conveyed base material using a die coating method, and then passed through an oven at 70° C. for 60 seconds to dry the coating film.
Regarding step A, specifically, the substrate is conveyed onto a backup roll having a surface temperature of 25° C. and an outer diameter of 300 mm, and as shown in FIG. was used to apply the coating liquid 1 for liquid crystal layer formation.
The conveying speed of the substrate in steps A and B was 10 m/min.
Moreover , the thickness of the coating film after drying was 50 μm, and the coating width was 250 mm.
(工程C)
乾燥後の塗膜に対し、エアナイフにてせん断力を付与した。
工程Cについて具体的には、工程Bを経た塗膜を有する基材を、表面温度70℃、外径500mmのバックアップロールへと搬送させて、バックアップロール上の塗膜表面にエアナイフにて圧縮空気を当てた。圧縮空気の吹き付け方向は、塗膜の搬送方向と同じ方向であった。
上記エアナイフにより付与されたせん断速度は、10000秒-1であった。
工程Cを経た塗膜の厚みは10μmとなった。
なお、工程Cにおける基材の搬送速度は、12m/minであった。(Process C)
A shearing force was applied to the dried coating film with an air knife.
Specifically for step C, the substrate having the coating film that has undergone step B is conveyed to a backup roll having a surface temperature of 70° C. and an outer diameter of 500 mm, and compressed air is applied to the coating film surface on the backup roll with an air knife. guessed The blowing direction of the compressed air was the same as the conveying direction of the coating film.
The shear rate imparted by the air knife was 10000 sec -1 .
The thickness of the coating film after the step C was 10 μm.
In addition, the conveying speed of the base material in the process C was 12 m/min.
(工程D)
工程C後の塗膜に対し、高圧水銀ランプを用い、露光エネルギー量500mJ/cm2で紫外線を照射し、塗膜を硬化した。
以上のようにして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。(Process D)
Using a high-pressure mercury lamp, the coating film after step C was irradiated with ultraviolet rays at an exposure energy of 500 mJ/cm 2 to cure the coating film.
As described above, a cholesteric liquid crystal film was produced on the substrate.
〔実施例7~8〕
工程Bにおける乾燥条件(具体的には、乾燥時間)を変えて、塗膜中の溶媒残存率を変えた以外は実施例6と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Examples 7-8]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 6, except that the drying conditions (specifically, the drying time) in step B were changed to change the solvent residual ratio in the coating film.
〔実施例9〕
工程Cにおける塗膜の搬送速度を36m/minに変えた以外は実施例1と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Example 9]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 1, except that the transport speed of the coating film in step C was changed to 36 m/min.
〔実施例10〕
工程Aの前に、実施例5と同様の方法で配向層形成工程を行った以外は、実施例6と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Example 10]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 6, except that the orientation layer forming step was performed in the same manner as in Example 5 before the step A.
〔比較例1〕
工程Cを行わなかった以外は、実施例3と同様にして、基材上にコレステリック液晶膜を作製した。[Comparative Example 1]
A cholesteric liquid crystal film was produced on a substrate in the same manner as in Example 3, except that Step C was not performed.
〔評価〕
(偏光顕微鏡による観察)
ニコン(株)製の偏光顕微鏡NV100LPOLを用いて、コレステリック液晶膜の上面のクロスニコル偏光透過写真を撮影し、写真画像から縞模様(即ちらせんピッチにて生じる模様)及び配向欠陥の状態を観察した。〔evaluation〕
(Observation with a polarizing microscope)
Using a polarizing microscope NV100LPOL manufactured by Nikon Corporation, a cross-Nicol polarized transmission photograph of the upper surface of the cholesteric liquid crystal film was taken, and the stripe pattern (that is, the pattern generated at the helical pitch) and the state of the orientation defect were observed from the photograph image. .
クロスニコル偏光透過写真に現れる縞模様に基づいて、既述の方法でコレステリック液晶のらせん軸を確認し、以下の基準にて評価した。
縞模様が塗膜の搬送方向に平行に並んでいることが確認できることで、コレステリック液晶のらせん軸が塗膜の搬送方向(即ち、せん断方向)に垂直に並んでいることを確認できる。
-評価基準-
A:縞模様が塗膜の搬送方向に平行に並んでハッキリ見え、縞模様の一部が途切れる配向欠陥がない。
B:縞模様が塗膜の搬送方向に平行に並んでハッキリ見えるが、縞模様の一部が途切れる配向欠陥が僅かに見える。
C:縞模様が塗膜の搬送方向に平行に並んで見えるが、縞模様の一部が途切れる配向欠陥が多い。
D:縞模様が見えない。The helical axis of the cholesteric liquid crystal was confirmed by the above-described method based on the striped pattern appearing in the crossed Nicol polarized transmission photograph, and evaluated according to the following criteria.
By confirming that the striped patterns are aligned parallel to the transport direction of the coating film, it can be confirmed that the spiral axis of the cholesteric liquid crystal is aligned perpendicular to the transport direction (that is, the shear direction) of the coating film.
-Evaluation criteria-
A: The striped pattern is clearly visible in parallel with the conveying direction of the coating film, and there is no orientation defect in which a part of the striped pattern is interrupted.
B: The striped pattern is clearly visible in parallel with the conveying direction of the coating film, but an alignment defect in which a part of the striped pattern is interrupted is slightly visible.
C: The striped pattern appears to be aligned parallel to the conveying direction of the coating film, but there are many alignment defects in which a part of the striped pattern is interrupted.
D: Striped pattern is not visible.
(SEMによる観察)
SEM(日立ハイテクノロジーズ製SU3500)を用いて、コレステリック液晶膜の断面を観察し、既述の方法で、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行であるかどうかを確認した。
-評価基準-
A:コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行である。
B:コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行でない。(Observation by SEM)
A cross section of the cholesteric liquid crystal film was observed using an SEM (SU3500 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), and it was confirmed by the above-described method whether or not the helical axis of the cholesteric liquid crystal was parallel to the film surface direction.
-Evaluation criteria-
A: The helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction.
B: The helical axis of the cholesteric liquid crystal is not parallel to the film surface direction.
(配向精度の評価)
既述の方法にて、コレステリック液晶のらせん軸の並びに微細なバラツキによる散乱領域(即ち、写真中の白い領域)を確認することで、コレステリック液晶膜における配向精度について評価した。(Evaluation of Orientation Accuracy)
Alignment accuracy in the cholesteric liquid crystal film was evaluated by confirming the scattering region (ie, the white region in the photograph) due to fine variations in the alignment of the spiral axis of the cholesteric liquid crystal by the method described above.
測定された光学フィルムの散乱について、以下の基準にて評価した。散乱領域(即ち、写真中の白い領域)が少ないほど、配向精度に優れる、即ち膜面バラツキが少ないと判断した。
-評価基準-
A:試験片の全面積に占める白い領域の割合(即ち面積率)が0%である(言い換えれば、写真中に白い領域が見られない)。
B:試験片の全面積に占める白い領域の割合(即ち面積率)が10%以下である。
C:の試験片の全面積に占める白い領域の割合(即ち面積率)が10%超である。The measured scattering of the optical film was evaluated according to the following criteria. It was judged that the smaller the scattering area (that is, the white area in the photograph), the better the alignment accuracy, that is, the less the film surface variation.
-Evaluation criteria-
A: The ratio of the white area to the total area of the test piece (that is, the area ratio) is 0% (in other words, no white area is seen in the photograph).
B: The ratio of the white region to the total area of the test piece (that is, the area ratio) is 10% or less.
C: The ratio of the white region to the total area of the test piece (that is, the area ratio) is more than 10%.
表1に示すように、実施例にて得られたコレステリック液晶膜は、いずれも、コレステリック液晶のらせん軸が膜面方向に平行(コレステリック液晶のらせん軸とコレステリック液晶膜の膜面方向とでなす角度=50°~90°)で、かつ、上面視にて特定方向に沿って並び、その並びの膜面内でのバラツキが少ない(即ち、配向精度に優れる)ことが分かる。 As shown in Table 1, in all the cholesteric liquid crystal films obtained in Examples, the helical axis of the cholesteric liquid crystal is parallel to the film surface direction (the helical axis of the cholesteric liquid crystal and the film surface direction of the cholesteric liquid crystal film angle = 50° to 90°) and are arranged along a specific direction when viewed from above, and there is little variation in the arrangement within the film surface (that is, the alignment accuracy is excellent).
2019年3月28日に出願された日本出願特願2019-064853の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。The disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-064853 filed on March 28, 2019 is incorporated herein by reference in its entirety.
All publications, patent applications and technical standards mentioned herein are to the same extent as if each individual publication, patent application and technical standard were specifically and individually noted to be incorporated by reference. incorporated herein by reference.
Claims (8)
形成された塗膜中の残存溶媒率を50質量%以下まで乾燥させる工程Bと、
乾燥後の塗膜表面にせん断力を付与する工程Cと、
を有する、らせん軸が膜面方向に平行で且つせん断方向に垂直に沿って並ぶコレステリック液晶膜の製造方法。A step A of applying a coating liquid containing a solvent, a rod-shaped thermotropic liquid crystal compound, and a chiral agent to a substrate to form a coating film;
A step B of drying the formed coating film to a residual solvent rate of 50% by mass or less;
A step C of applying a shearing force to the surface of the dried coating film;
A method for producing a cholesteric liquid crystal film in which the helical axes are parallel to the film surface direction and perpendicular to the shear direction.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019064853 | 2019-03-28 | ||
JP2019064853 | 2019-03-28 | ||
PCT/JP2020/013430 WO2020196659A1 (en) | 2019-03-28 | 2020-03-25 | Method for producing cholesteric liquid crystal film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020196659A1 JPWO2020196659A1 (en) | 2021-11-18 |
JP7113962B2 true JP7113962B2 (en) | 2022-08-05 |
Family
ID=72612009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021509534A Active JP7113962B2 (en) | 2019-03-28 | 2020-03-25 | Manufacturing method of cholesteric liquid crystal film |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7113962B2 (en) |
KR (1) | KR102684070B1 (en) |
CN (1) | CN113646673B (en) |
WO (1) | WO2020196659A1 (en) |
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WO2020196659A1 (en) | 2020-10-01 |
CN113646673A (en) | 2021-11-12 |
KR102684070B1 (en) | 2024-07-12 |
CN113646673B (en) | 2023-07-11 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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