[go: up one dir, main page]

JP7015668B2 - 板状物の分割装置 - Google Patents

板状物の分割装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7015668B2
JP7015668B2 JP2017197829A JP2017197829A JP7015668B2 JP 7015668 B2 JP7015668 B2 JP 7015668B2 JP 2017197829 A JP2017197829 A JP 2017197829A JP 2017197829 A JP2017197829 A JP 2017197829A JP 7015668 B2 JP7015668 B2 JP 7015668B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
shaped object
holding portion
dividing
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017197829A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019071390A (ja
Inventor
ミハイ クリス
和樹 金岡
拓士 ▲高▼原
誠 平手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2017197829A priority Critical patent/JP7015668B2/ja
Priority to MYPI2018703630A priority patent/MY191251A/en
Priority to SG10201808747SA priority patent/SG10201808747SA/en
Priority to US16/153,010 priority patent/US10818523B2/en
Priority to CN201811168040.1A priority patent/CN109659253B/zh
Priority to KR1020180119654A priority patent/KR102515300B1/ko
Priority to TW107135497A priority patent/TWI799452B/zh
Priority to DE102018217297.8A priority patent/DE102018217297B4/de
Publication of JP2019071390A publication Critical patent/JP2019071390A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7015668B2 publication Critical patent/JP7015668B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0005Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing
    • B28D5/0011Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing with preliminary treatment, e.g. weakening by scoring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0005Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing
    • B28D5/0017Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing using moving tools
    • B28D5/0023Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing using moving tools rectilinearly
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0005Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing
    • B28D5/0017Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing using moving tools
    • B28D5/0029Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing using moving tools rotating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0005Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing
    • B28D5/0052Means for supporting or holding work during breaking
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • B28D5/0088Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work the supporting or holding device being angularly adjustable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/02Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • H01L2221/68336Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding involving stretching of the auxiliary support post dicing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、板状物の分割予定ラインに沿って外力を付与して分割する板状物の分割装置に関する。
サファイア、SiC、ガラス等の板状物(基板)は、分割予定ラインに沿って分割することにより個々のチップに分割される。板状物を分割する場合、例えば、分割予定ラインに沿ってレーザービームを板状物の表面側から照射して板状物の内部に改質層を形成する。このように改質層を形成した後、特許文献1に開示されるように、ブレード(押圧部材)を有するブレーキング装置を用いた3点ブレーキング法により板状物を分割する。特許文献1の3点ブレーキング法では、強度の低下した分割予定ラインに沿ってブレードで板状物を押圧することにより改質層を起点にして板状物を個々のチップに分割している。
特開2009-148982号公報
しかしながら、上記の3点ブレーキング法では、分割予定ラインに隣接する裏面両側を2箇所で支持し、表面側となる上方からブレードで分割予定ライン上を押圧して分割している。このため、押圧された分割予定ラインに隣接するチップが、その分割予定ラインから離れる方向に動いてしまい、チップのエッジにチッピングが発生するという問題がある。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、分割予定ラインに沿って板状物を分割するときにチッピングの発生を低減することができる板状物の分割装置を提供することを目的の1つとする。
本発明の一態様の板状物の分割装置は、環状フレームに装着された保護テープの上面に貼着され分割予定ラインに沿って強度が低下して形成されている板状物を、分割予定ラインに沿って分割する板状物の分割装置であって、環状フレームを保持する保持面を有し回転可能に構成されたフレーム保持手段と、保護テープに貼着された板状物の分割予定ラインを検出する検出手段と、検出手段によって検出された板状物の分割予定ラインの近傍を押圧し、板状物を分割予定ラインに沿ってチップに分割する分割手段と、フレーム保持手段と分割手段とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、分割手段は、板状物の割断する分割予定ライン近傍を板状物の上面及び下面の両面側から保持する保持部と、保持部により保持しているチップの割断する分割予定ラインに対して隣り合うチップを押圧して分割予定ラインに沿って分割する押圧部と、を備え、押圧部は、進退手段と、進退手段に接続された押し下げ部材とを備え、保持部で板状物を挟んで保持し、進退手段の駆動によって押し下げ部材を板状物に対して進行させて分割予定ラインに沿って分割し、進退手段の駆動によって押し下げ部材を板状物に対して退行し、保持部を板状物から退行する分割要領を、板状物の各分割予定ラインにて繰り返すことを特徴とする。
この構成によれば、割断する分割予定ライン近傍のチップを両面側から保持部で保持しつつ、その分割予定ラインに隣り合うチップを押圧部で押圧することができる。これにより、押圧部による押圧で、保持部で保持したチップが動くことを抑制でき、チップのエッジにチッピングが発生することを回避することができる。
本発明の板状物の分割装置において、保持部は、保護テープを介して板状物の下面側から板状物を突き上げる第1保持部と、板状物に対して第1保持部と対向して板状物の上方に配設され且つ板状物を上方から当接して保持する第2保持部とを備え、第1保持部は、様々な長さの複数の矩形状当接部材を備え、分割予定ラインの長さに応じて対応する長さの矩形状当接部材が位置付けられるとよい。
本発明によれば、チップを両面側から保持部で保持しつつ分割予定ラインに隣り合うチップを押圧部で押圧して分割するので、チッピングの発生を低減することができる。
本実施の形態の分割装置の斜視図である。 本実施の形態に係る板状物の概略斜視図である。 本実施の形態の第2保持部及び押圧部周りの概略側面図である。 図4Aは、板状物を分割する準備状態の説明図、図4Bは、板状物を保持した状態の説明図、図4Cは、板状物を分割している状態の説明図である。 図5Aは、板状物を分割する準備状態を平面視した説明図、図5Bは、従来の不具合を示す図5Aと同様の説明図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態の板状物の分割装置について説明する。図1は、本実施の形態の分割装置の斜視図である。なお、分割装置は、図1に記載された構成に限定されず、適宜変更することが可能である。
図1に示すように、分割装置1は、環状フレームFに保護テープTを介して支持された板状物Wを、分割手段12によって個々のチップC(図4参照)に分割するように構成されている。
図2は、本実施の形態に係る板状物の概略斜視図である。図2に示すように、板状物Wは、環状フレームFに装着された保護テープTの上面に表面側が貼着され、環状フレームFに保持される。板状物Wの裏面側にはマイラーテープと称されるテープ(図示省略)が貼着される。板状物Wの表面には格子状の分割予定ラインLが設けられており、分割予定ラインLによって区画された各領域に各種デバイスDが形成されている。なお、板状物Wは、シリコン、ガリウム砒素等の半導体基板にIC、LSI等のデバイスが形成された半導体ウエーハでもよいし、セラミック、ガラス、サファイア系の無機材料基板にLED等の光デバイスが形成された光デバイスウエーハでもよい。また、板状物Wは、デバイスDが形成されていない円板状の石英ガラス基板やサファイア基板としてもよい。
板状物Wは、分割予定ラインLに沿って強度が低下して形成されており、かかる強度低下を実現するために板状物Wの内部に改質層(不図示)を形成し、分割起点とすることが例示できる。なお、改質層は、レーザーの照射によって板状物Wの内部の密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲と異なる状態となり、周囲よりも強度が低下する領域のことをいう。板状物Wでは、レーザーの照射で形成される改質層によって亀裂が表出し、本実施の形態では亀裂が分割予定ラインLとは逆となる板状物Wの裏面側に表出し、裏面を上向きとして板状物Wが環状フレームFに保持される。改質層は、例えば、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域であり、これらが混在した領域でもよい。
なお、分割起点としては、改質層に限定されず板状物Wの分割時の起点になればよく、例えば、レーザー加工溝、切削溝、スクライブラインで構成されてもよい。さらに、保護テープTは、伸縮性を有するものであればよく、特に材質は限定されない。なお、テープ基材は、例えば、PO(Polyolefin)、PVC(Polyvinyl Chloride)で形成されることが好ましい。
図1に戻り、分割装置1は、フレーム保持手段11と、板状物Wを分割予定ラインW2に沿ってチップC(図4参照)に分割する分割手段12と、フレーム保持手段11と分割手段12とを相対的に移動させる移動手段13とを備えている。
フレーム保持手段11は、環状に形成されたフレーム保持部材17を備え、フレーム保持部材17の上面は環状フレームF(図1参照)が載置される保持面17aとされる。フレーム保持部材17は磁力を有する材質であり、保持面17aに載置された環状フレームFが磁力によって吸着されて保持される。なお、フレーム保持手段11による環状フレームFの保持は、フレーム保持部材17の外周に複数のクランプ機構を設け、かかるクランプ機構によって環状フレームFを挟持してもよい。フレーム保持部材17は、その中央の貫通孔を中心としてギア18(図4参照)によって回転可能に構成されている。
分割手段12は、板状物Wの上面及び下面の両面側から挟んで保持する保持部20と、板状物Wにて保持部20により保持された部分の近傍を押圧する押圧部21とを備えている。
保持部20は、フレーム保持部材17の下方に位置する第1保持部23と、フレーム保持部材17の上方に位置する第2保持部24とを備えている。
第1保持部23は、回転中心軸がY軸方向に延びる回転体26と、回転体26の外周面から突出するように設けられた様々な長さの複数の矩形状当接部材27とを備えている。回転体26は、その両端側がブラケット28により支持され、また、回転機構(不図示)を介して中心軸周りに回転可能に設けられる。複数の矩形状当接部材27は、Y軸方向の長さがそれぞれ異なって様々な長さになるように形成されている。複数の矩形状当接部材27は、回転体26の回転によって突出する向きが変化し、複数の矩形状当接部材27のうち、回転体26の上方から鉛直上向きに配置された矩形状当接部材27の先端側で板状物Wを下面側から保持する。言い換えると、回転体26の回転角度を制御することで、上向きとなる矩形状当接部材27の長さを選択でき、その選択した矩形状当接部材27で板状物Wを保持するようになる。
第1保持部23は、ブラケット28を上下移動可能に支持する2本のガイドレール30aを備えた昇降機構30を更に備えている。昇降機構30は、図示省略したモータやボールネジ軸等の駆動機構を介してガイドレール30aに沿ってブラケット28及びこれを介して支持される矩形状当接部材27を上下方向(Z軸方向)に移動させる。
第2保持部24は、押圧部21とX軸方向に並んで設けられており、移動手段13の後述する支持板46に支持されている。また、第2保持部24は、第1保持部23にZ軸方向にて並んで設けられている(図4A参照)。図3は、本実施の形態の第2保持部及び押圧部周りの概略側面図である。図3に示すように、第2保持部24は、支持板46の下面から垂下するように配設されたエアシリンダ(進退手段)32と、エアシリンダ32におけるピストンロッド32aの下端に接続された上部当接部材33とを備えている。第2保持部24では、上部当接部材33がエアシリンダ32の駆動によって上下方向(Z軸方向)に移動可能に構成されている。上部当接部材33は、Y軸方向(図3中紙面直交方向)に延びる片状若しくは板状部材により形成され、矩形状当接部材27(図1参照)の上方に対向するように配設される。
押圧部21は、Z軸方向に向けられたエアシリンダ(進退手段)35と、エアシリンダ35におけるピストンロッド35aの下端に接続された押し下げ部材36とを備えている。押圧部21では、押し下げ部材36がエアシリンダ35の駆動によって上下方向(Z軸方向)に移動可能に構成されている。押し下げ部材36は、Y軸方向に延びる片状若しくは板状をなし(図1参照)、先端(下端)に向かうに従って次第にX軸方向の幅が小さくなるように形成されている。
図1に戻り、移動手段13は、水平となる基台(不図示)上に固定された門型の柱部40と、柱部40の前面に配置されたY軸方向に平行な一対のガイドレール41と、各ガイドレール41にスライド可能に設置されたY軸テーブル42とを有している。また、移動手段13は、Y軸テーブル42の前面に配置されたZ軸方向に平行な一対のガイドレール44と、各ガイドレール44にスライド可能に設置されたZ軸テーブル45とを有している。更に、移動手段13は、Z軸テーブル45の前面で支持されてXY面に平行となる支持板46と、支持板46の下面に配置されたX軸方向に平行な一対のガイドレール48と、各ガイドレール48にスライド可能に設けられたスライダ49とを備えている。Y軸テーブル42、Z軸テーブル45及びスライダ49は、ガイドレール41、44、48の延出方向に沿ってボールねじ式の移動機構(不図示)等により駆動される。従って、Y軸テーブル42及びZ軸テーブル45の駆動によって、第2保持部24及び押圧部21がY軸及びZ軸方向に駆動し、更に、スライダ49の駆動によって押圧部21がX軸方向に駆動するようになる。
移動手段13は、柱部40が固定される基台(不図示)上に配置されたX軸方向に平行な一対のガイドレール51と、各ガイドレール51にスライド可能に設けられたX軸テーブル52とを更に備えている。X軸テーブル52においても、ガイドレール51の延出方向に沿ってボールねじ式の移動機構(不図示)等により駆動される。X軸テーブル52の上面側にはフレーム保持部材17が装着され、フレーム保持部材17の中央の貫通孔に対応する領域においてX軸テーブル52は開口した形状に設けられる(図4参照)。従って、X軸テーブル52の駆動によって、フレーム保持部材17及びこれに支持される環状フレームFに装着された板状物WがX軸方向に駆動するようになる。
分割装置10においては、フレーム保持部材17に保持された環状フレームFに保護テープTを介して支持されている板状物Wの分割予定ラインL(図2参照)を検出するための検出手段55を更に備えている。検出手段55は、改質層による亀裂が分割予定ラインLとは逆となる板状物Wの裏面側に表出し、裏面を上向きとして板状物Wが支持されるので、板状物Wを下方から検出している。検出手段55は、光学系および撮像素子(CCD)等で構成され、YZ面に平行な取付板56に取り付けられている。取付板56は、図1中の矢印で示すようにY軸及びZ軸方向に駆動可能に設けられ、フレーム保持部材17に保持された板状物Wに対する検出手段55の相対位置を調整可能に設けられる。なお、検出手段55にあっては、板状物Wがシリコン等の場合、板状物Wを透過する赤外線カメラとしてもよい。
次いで、本実施の形態の分割装置10による板状物Wの分割方法について図4をも参照して説明する。図4Aは、板状物を分割する準備状態の説明図、図4Bは、板状物を保持した状態の説明図、図4Cは、板状物を分割している状態の説明図である。
分割装置10による分割を行う前に、板状物Wにおいては、予めレーザー光線の照射による改質層の連続形成等により、分割予定ラインLに沿って強度が低下された状態となっている。また、板状物Wは、環状フレームFに装着された保護テープTに貼着されて保持される。
先ず、図4Aに示すように、板状物Wと一体として環状フレームFがフレーム保持部材17の保持面17aに載置され、磁力によって環状フレームFが保持される。この状態で、検出手段55(図1参照)によって板状物Wの分割予定ラインLが検出され、この検出結果に応じて移動手段13(図1参照)を駆動させて板状物WのX軸及びY軸方向のアライメントが行われる。このアライメントにより、検出手段55で検出された分割予定ラインLの近傍を押圧、割断するため、押圧部21、第1保持部23及び第2保持部24とフレーム保持部材17に保持された板状物Wとの相対位置が調整される。具体的には、板状物Wの上方にて、検出手段55で検出された分割予定ラインLを挟む一方の位置(図4Aでは左側)に押圧部21、他方の位置(図4Aで右側)に第2保持部24が配設される。また、板状物Wの下方にて、第2保持部24の直下に第1保持部23が配設されるので、板状物Wに対して第1保持部23と第2保持部24とが対向するように位置付けられる。
なお、押圧部21の位置付けでは、ガイドレール48に沿って押圧部21を移動させることで、チップCの平面チップサイズに応じて第2保持部24から押圧部21までの距離が調整される。好ましくは、割断される分割予定ラインLに対し、各保持部23、24が位置する方向とは反対方向にて直近となる分割予定ラインLの近傍に押圧部21の押し下げ部材36の先端が位置付けられる。
上記の位置付けと前後して、不図示の制御手段によって、例えば、検出手段55で検出した分割予定ラインLの長さを求め、この長さに応じて対応する長さの矩形状当接部材27が上向きに位置付けられるよう回転体26の回転が制御される。具体的には、第1保持部23にて上向きに位置付けられる矩形状当接部材27の長さが、検出手段55で検出した分割予定ラインLの長さより長く、且つ、図5Aに示すように矩形状当接部材27の両端が環状フレームFの内側に位置するように設定される。これにより、分割予定ラインLの延在方向全体に亘って矩形状当接部材27が位置するようになり、且つ、図5Bに示すように矩形状当接部材27が環状フレームFに接触して後述する保持が行えなくなることを回避できる。
その後、図4Bに示すように、第1保持部23の昇降機構30を駆動させ、矩形状当接部材27を上昇させて板状物Wに対して進行させる。これにより、保護テープTを介して板状物Wの裏面(下面)側から板状物Wが突き上げられ、環状フレームFの上面より上方に板状物Wが配置される。この状態で、第2保持部24のエアシリンダ32を駆動させ、上部当接部材33を下降させて板状物Wに対して進行させる。これにより、板状物Wに上方から上部当接部材33が当接し、上部当接部材33と矩形状当接部材27とで板状物Wの割断する分割予定ラインLの近傍が板状物Wの上面及び下面の両面側から挟むように保持される。
このように保持した状態で、図4Cに示すように、押圧部21のエアシリンダ35を駆動させ、押し下げ部材36を下降させて板状物Wに対して進行させる。これにより、各保持部23、24により保持しているチップCに対して分割予定ラインLを挟んで隣り合うチップCが、押し下げ部材36によって下方に押圧され、かかる分割予定ラインLに沿って板状物Wが割断して分割される。
分割予定ラインLにて分割された後、押圧部21及び各保持部23、24にて、押し下げ部材36、矩形状当接部材27、上部当接部材33を板状物Wに対して退行させる。そして、フレーム保持部材17及び板状物WをX軸方向に移動させ、隣接する領域で未分割となる分割予定ラインLにて上述と同様の要領で分割が行われ、かかる分割が板状物Wの各分割予定ラインLにて繰り返し行われる。
このような実施の形態によれば、押圧部21で板状物Wを押圧して分割するときに、分割される分割予定ラインLに隣り合うチップCが保持部20で両面側から保持される。これにより、保持部20で保持されたチップCが押圧部21から加わる力で動くことを規制でき、従来の3点ブレーキング法のようにチップCのエッジにチッピングが発生することを回避することができる。
また、図4Cに示すように、保持部20で保持してから押圧部21で板状物Wを押圧して分割するときに、押圧されたチップCと、当該チップCの保持部20と反対側で隣り合うチップCとが同様の傾斜角度で傾くようになる。これにより、それらチップCのエッジ同士が擦れたり突き合わされたりすることを防ぐことができ、これによっても、チップCのチッピング発生を低減でき、良好な分割が実現することが可能となる。
なお、上記実施の形態では、第1保持部23が複数の矩形状当接部材27を備えた構成としたが、これに限定されず、板状物Wを保持するための単一の当接部材を備えた構成としてもよい。但し、上記実施の形態のように、長さが異なる複数の矩形状当接部材27の何れかを選択して用いることで、矩形状当接部材27の長さを調整できるようになる点で有利となる。
また、上記の矩形状当接部材27、上部当接部材33、押し下げ部材36の形態や構成等は、一例に過ぎないものであり、上記実施の形態と同様の機能を発揮するものであれば、他の構成等に変更してもよい。
また、上記実施の形態にて、板状物Wの最初の分割位置の分割予定ラインLを検出手段55で検出してから分割し、2本目以降の分割予定ラインLの分割では、チップCのサイズに応じて板状物Wを移動するよう制御することで検出手段55による検出を省略してもよい。
また、上記実施の形態では、板状物Wの下方から検出手段55で検出を行うようにしたが、板状物Wの上方から検出手段55で検出を行ってもよい。板状物Wでは、改質層によって表面又は裏面に亀裂が表出するので、亀裂及び分割予定ラインLが両方とも板状物Wの表面にある場合は板状物Wの表面を上向きとして上方から検出手段55で検出を行うとよい。更に、検出手段55を板状物Wの上下両側に設けて上方及び下方の両方から検出を行えるようにし、亀裂の方向と分割予定ラインLがある面の方向との関係によって上下の検出手段55を使い分けるようにしてもよい。
また、本実施の形態及び変形例を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。
また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。
以上説明したように、本発明は、分割予定ラインに沿って板状物を複数のチップに分割するときにチッピングの発生を低減することができるという効果を有し、特に、板状物から複数のチップを分割して生成する分割装置に有用である。
10 分割装置
11 フレーム保持手段
12 分割手段
13 移動手段
20 保持部
21 押圧部
23 第1保持部
24 第2保持部
27 矩形状当接部材
55 検出手段
C チップ
F 環状フレーム
L 分割予定ライン
T 保護テープ
W 板状物

Claims (2)

  1. 環状フレームに装着された保護テープの上面に貼着され分割予定ラインに沿って強度が低下して形成されている板状物を、該分割予定ラインに沿って分割する板状物の分割装置であって、
    該環状フレームを保持する保持面を有し回転可能に構成されたフレーム保持手段と、該保護テープに貼着された該板状物の分割予定ラインを検出する検出手段と、該検出手段によって検出された該板状物の該分割予定ラインの近傍を押圧し、該板状物を該分割予定ラインに沿ってチップに分割する分割手段と、該フレーム保持手段と該分割手段とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、
    該分割手段は、該板状物の割断する分割予定ライン近傍を該板状物の上面及び下面の両面側から保持する保持部と、該保持部により保持しているチップの該割断する分割予定ラインに対して隣り合うチップを押圧して該分割予定ラインに沿って分割する押圧部と、を備え
    該押圧部は、進退手段と、該進退手段に接続された押し下げ部材とを備え、
    該保持部で該板状物を挟んで保持し、該進退手段の駆動によって該押し下げ部材を該板状物に対して進行させて該分割予定ラインに沿って分割し、該進退手段の駆動によって該押し下げ部材を該板状物に対して退行し、該保持部を該板状物から退行する分割要領を、該板状物の各該分割予定ラインにて繰り返す板状物の分割装置。
  2. 該保持部は、該保護テープを介して該板状物の下面側から該板状物を突き上げる第1保持部と、該板状物に対して該第1保持部と対向して該板状物の上方に配設され且つ該板状物を上方から当接して保持する第2保持部とを備え、
    該第1保持部は、様々な長さの複数の矩形状当接部材を備え、該分割予定ラインの長さに応じて対応する長さの該矩形状当接部材が位置付けられること、を特徴とする請求項1記載の板状物の分割装置。
JP2017197829A 2017-10-11 2017-10-11 板状物の分割装置 Active JP7015668B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017197829A JP7015668B2 (ja) 2017-10-11 2017-10-11 板状物の分割装置
MYPI2018703630A MY191251A (en) 2017-10-11 2018-10-02 Apparatus for dividing workpiece
SG10201808747SA SG10201808747SA (en) 2017-10-11 2018-10-03 Apparatus for dividing workpiece
US16/153,010 US10818523B2 (en) 2017-10-11 2018-10-05 Apparatus for dividing workpiece
CN201811168040.1A CN109659253B (zh) 2017-10-11 2018-10-08 板状物的分割装置
KR1020180119654A KR102515300B1 (ko) 2017-10-11 2018-10-08 판형물의 분할 장치
TW107135497A TWI799452B (zh) 2017-10-11 2018-10-09 板狀物的分割裝置
DE102018217297.8A DE102018217297B4 (de) 2017-10-11 2018-10-10 Vorrichtung zum Teilen eines Werkstücks

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017197829A JP7015668B2 (ja) 2017-10-11 2017-10-11 板状物の分割装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019071390A JP2019071390A (ja) 2019-05-09
JP7015668B2 true JP7015668B2 (ja) 2022-02-03

Family

ID=65816759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017197829A Active JP7015668B2 (ja) 2017-10-11 2017-10-11 板状物の分割装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US10818523B2 (ja)
JP (1) JP7015668B2 (ja)
KR (1) KR102515300B1 (ja)
CN (1) CN109659253B (ja)
DE (1) DE102018217297B4 (ja)
MY (1) MY191251A (ja)
SG (1) SG10201808747SA (ja)
TW (1) TWI799452B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200075386A1 (en) * 2018-08-30 2020-03-05 Texas Instruments Incorporated Subring for semiconductor dies
JP7355618B2 (ja) * 2018-12-04 2023-10-03 株式会社ディスコ ウエーハ分割装置
CN110739261B (zh) * 2019-11-20 2024-09-27 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所) 一种石英舟硅片的顶升机构
JP2023128800A (ja) * 2022-03-04 2023-09-14 株式会社ディスコ 分割装置
JP2024027963A (ja) 2022-08-19 2024-03-01 株式会社ディスコ ブレーキング装置及びブレーキング方法
CN117533788B (zh) * 2023-11-10 2024-04-19 珠海诚锋电子科技有限公司 一种自动上下料的圆晶检测设备及其使用方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011243804A (ja) 2010-05-19 2011-12-01 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の分割装置
JP2014120508A (ja) 2012-12-13 2014-06-30 Disco Abrasive Syst Ltd 分割装置および分割方法
JP2017073443A (ja) 2015-10-06 2017-04-13 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの加工方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1218088B (it) 1988-06-16 1990-04-12 Aisa Spa Attrezzatura per la separazione automatica lungo le linee di frattura per flessione predisposte in piastrelle ceramiche di base di circuiti elettronici ibridi
JP2002050670A (ja) * 2000-08-04 2002-02-15 Toshiba Corp ピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2004055860A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2004304066A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP4256214B2 (ja) * 2003-06-27 2009-04-22 株式会社ディスコ 板状物の分割装置
JP4694795B2 (ja) * 2004-05-18 2011-06-08 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
JP2006114691A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP5054933B2 (ja) * 2006-05-23 2012-10-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP4841355B2 (ja) * 2006-08-08 2011-12-21 日東電工株式会社 半導体ウエハの保持方法
US20080242052A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-02 Tao Feng Method of forming ultra thin chips of power devices
JP2009148982A (ja) 2007-12-20 2009-07-09 Daitron Technology Co Ltd ブレーキング装置
JP5203744B2 (ja) * 2008-02-21 2013-06-05 株式会社ディスコ ウエーハの裏面に装着された接着フィルムの破断方法
JP5231136B2 (ja) * 2008-08-22 2013-07-10 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの加工方法
JP5308213B2 (ja) * 2009-03-31 2013-10-09 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 半導体装置の製造方法
WO2011077962A1 (ja) * 2009-12-24 2011-06-30 株式会社 村田製作所 電子部品の製造方法
JP5597422B2 (ja) * 2010-01-19 2014-10-01 デクセリアルズ株式会社 接着フィルム付き電子部品の製造方法および実装体の製造方法
JP2012209635A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Instruments Inc 接合ガラスの切断方法、パッケージの製造方法、パッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計
JP5806185B2 (ja) * 2012-09-07 2015-11-10 東京エレクトロン株式会社 剥離システム
KR102007042B1 (ko) * 2012-09-19 2019-08-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 박리 장치
JP6189700B2 (ja) * 2013-10-03 2017-08-30 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP2015233077A (ja) * 2014-06-10 2015-12-24 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP2016001677A (ja) * 2014-06-12 2016-01-07 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6351490B2 (ja) * 2014-11-26 2018-07-04 株式会社ディスコ パッケージ基板の分割方法
JP2017038030A (ja) * 2015-08-14 2017-02-16 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法及び電子デバイス

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011243804A (ja) 2010-05-19 2011-12-01 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の分割装置
JP2014120508A (ja) 2012-12-13 2014-06-30 Disco Abrasive Syst Ltd 分割装置および分割方法
JP2017073443A (ja) 2015-10-06 2017-04-13 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
MY191251A (en) 2022-06-10
SG10201808747SA (en) 2019-05-30
DE102018217297B4 (de) 2024-12-05
KR20190040904A (ko) 2019-04-19
DE102018217297A1 (de) 2019-04-11
CN109659253B (zh) 2024-03-12
TW201914972A (zh) 2019-04-16
TWI799452B (zh) 2023-04-21
US10818523B2 (en) 2020-10-27
US20190109023A1 (en) 2019-04-11
JP2019071390A (ja) 2019-05-09
KR102515300B1 (ko) 2023-03-28
CN109659253A (zh) 2019-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7015668B2 (ja) 板状物の分割装置
KR102185243B1 (ko) 웨이퍼의 생성 방법
KR102368338B1 (ko) 웨이퍼의 가공 방법
CN107452678B (zh) 晶片的加工方法
KR20180018353A (ko) SiC 웨이퍼의 생성 방법
JP2014143297A (ja) 拡張装置および拡張方法
JP6170681B2 (ja) 拡張装置および拡張方法
KR102660540B1 (ko) 절삭 블레이드의 정형 방법
KR20110092214A (ko) 워크 유지 기구
JP6047392B2 (ja) 分割装置および分割方法
JP5244548B2 (ja) 保持テーブルおよび加工装置
TWI719225B (zh) 晶圓的加工方法
KR20190066571A (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP2005177763A (ja) レーザー加工された変質層の確認装置
JP6054202B2 (ja) 切削装置
JP7144162B2 (ja) ウェハ分断装置及び方法
JP7271085B2 (ja) ウェハ分断装置及び方法
JP7271086B2 (ja) ウェハ分断装置及び方法
JP2018078166A (ja) 切削ブレードの製造方法
JP2017152524A (ja) 板状物の分割装置
KR20110092213A (ko) 접착 필름 유지 기구

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200814

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210810

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210908

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220105

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220124

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7015668

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250