JP6845038B2 - パッケージ基板の分割方法 - Google Patents
パッケージ基板の分割方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6845038B2 JP6845038B2 JP2017034628A JP2017034628A JP6845038B2 JP 6845038 B2 JP6845038 B2 JP 6845038B2 JP 2017034628 A JP2017034628 A JP 2017034628A JP 2017034628 A JP2017034628 A JP 2017034628A JP 6845038 B2 JP6845038 B2 JP 6845038B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- line
- package substrate
- apex
- alignment mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 252
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 73
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 23
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
- B28D5/0082—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/02—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
- B28D5/022—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67282—Marking devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Dicing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
を介してフレーム31に支持されたパッケージ基板W(以下、「ワークユニットU」という。)が複数収容される。
動する。
(1)被加工物の構成
図3に示すパッケージ基板W1は、配線基板の表面に複数の半導体チップを配置してボンディングし、樹脂によってモールディングすることにより、1枚の基板として構成されている。
(X軸方向)に延在する複数の第一のラインS1と短手方向である第二方向(Y軸方向)に延在する複数の第二のラインS2とを有しており、本来は第一のラインS1と第二のラインS2とが互いに直交するものであるが、余剰連結領域Dにおいて湾曲しているために、第一のラインS1が湾曲しており、また、第二のラインS2は、互いが平行でない状態となっている。図2の例における複数の第一のラインS1は、4本のラインS11、S12、S13、S14により構成され、複数の第二のラインS2は、8本のS21、S22、S23、S24、S25、S26、S27、S28により構成されている。
図1に示したカセット200に収容され切削しようとするワークユニットUは、カセット載置部20の昇降により所定の高さに位置づけされ、搬出入手段22によって挟持されて仮置き部21に搬出される。仮置き部21ではワークユニットUが所定の位置に位置合わせされる。
保持ステップの後、保持テーブル10が+X方向に移動しつつ、撮像手段190もY軸方向に移動しながらパッケージ基板W1の表面が撮像され、図3に示したすべてのアライメントマークが検出され、それぞれの座標を求める。また、第一のラインS11、すなわちアライメントマークA11、A14、B11、及びB14を通る湾曲した線の中点M1のX−Y座標を求める。同様に、ラインS12、S13、S14についてもそれぞれの中点M2、M3、M4の座標を求める。
1aとX軸方向とがなす角度α11aを求め、この角度の値を、例えば図2に示した記憶手段17に記憶させる。また、アライメントマークA11及び中点MのX座標の値の差から、この2点の距離を求め、この距離の値を記憶手段17に記憶させる。
アライメントステップの後、本ステップでは、第一のラインS11−S14について、それぞれの中点を境界として1本のラインを2つに分けて、第一次切削ステップと第二次切削ステップとの2段階に分けて切削する。切削時は、図2に示した切削ブレード113を外周余剰領域Eから切り込ませる。
まず、図2に示した回転手段103が、保持手段10を記憶手段17に記憶させた角度α11aだけ回転させることにより、ラインS11aをX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させることにより、切削ブレード113をラインS11aの+X方向の延長線上に位置させる。そして、切削ブレード113の下端位置がテープ30の上面のわずかに下方となるように切り込み送り手段14が切削ブレード113のZ軸方向の位置を合わせ、その状態で、切削送り手段12が保持テーブル10を+X方向に送り、図4に示すように、外周余剰領域EにおけるラインS11aの延長線上に位置する端部に切削ブレード113を切り込ませる。このときの切り込み深さは、切削ブレード113の下端がテープ30に僅かに切り込む深さとなる。
削ブレード113の下端位置がテープ30の上面のわずかに下となるように切り込み送り手段14が切削ブレード113のZ軸方向の位置を合わせ、その状態で、切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、ラインS12aに沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が中点M2に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、ラインS12aの切削を終了する。同様の切削を、ライン13a及び14aについても行う。
第一次切削ステップの後、保持テーブル10を180度回転させることにより、ラインS11b、S12b、S13b、S14bの未切削部分を+X方向側に位置させる。
回転ステップの後に、さらに、保持テーブル10を角度α11bだけ回転させることにより、ラインS11bをX軸方向と平行にする。
チョッパーカットのように切削ブレードをゆっくりと下降させる必要がないため、加工時間を短縮することができる。
なお、本ステップでは、保持テーブル10を180度回転させずに切削することもできる。この場合は、切削ブレード113を第一次切削ステップとは逆方向に回転させるとともに、保持テーブル10を−X方向に移動させて切削を行う。
次に、第二のラインS21−S28について、両端の2つのアライメントマークを結ぶ直線に沿って切削する。
ライメントマークA11とA14とを検出してラインを設定し、その他のラインについてはライン間隔が一定でかつラインがすべて平行であるという想定に基づき、各ラインを設定してもよい。
(1)被加工物の構成
図8に示すパッケージ基板W2は、配線基板の表面に複数の半導体チップを配置してボンディングし、樹脂によってモールディングすることにより、1枚の基板として構成されている。
図1に示したカセット200に収容され切削しようとするワークユニットUは、カセット載置部20の昇降により所定の高さに位置づけされ、搬出入手段22によって挟持されて仮置き部21に搬出される。仮置き部21ではワークユニットUが所定の位置に位置合わせされる。
00においてワークユニットUのテープ30側が保持されるとともに、第一の搬送手段23による吸着を解除する。これにより、パッケージ基板W2がテープ30を介して保持テーブル10の吸着部100において吸引保持される。また、図2に示した固定クランプ104によってフレーム31が固定される。
保持ステップの後、保持テーブル10が+X方向に移動しつつ、撮像手段190もY軸方向に移動しながらパッケージ基板W2の表面が撮像され、図8に示したすべてのアライメントマークが検出される。
アライメントステップの前には、最大反り量の許容値が、例えば図2に示した記憶手段17に記憶される。この許容値は、図1に示した操作部26から入力される。
アライメントステップの後、各第一のライン2S11−2S14について、最大反り量と許容値とを比較し、各ラインの最大反り量が許容値以下か否かを判断する。そして、その判断結果を、ラインごとに記憶手段17に記憶する。
以下では、判断ステップにおいて、例えば、第一のライン2S11及び2S12については最大反り量が許容値を超えており、第一のライン2S13及び2S14については最大反り量が許容値以下と判断された場合について説明する。また、第一のライン2S12については、頂点をアライメントマークF25とする。
(6−1)第一次切削ステップ
第一のライン2S11の切削にあたっては、最初に、始点であるアライメントマークF11と頂点であるアライメントマークF15とを結ぶ直線と、X軸方向とがなす角度β11aを求め、その角度β11aだけ保持テーブル10を回転させ、アライメントマークF11と頂点であるアライメントマークF15とを結ぶ直線とX軸方向とを平行にする。
次に、図10に示すように、保持テーブル10を180度回転させ、さらに、頂点であるアライメントマークF15と終点であるアライメントマークF18とを結ぶ直線とX軸方向とがなす角度β11bだけ保持テーブル10を回転させることにより、アライメントマークF15とアライメントマークF18とを結ぶ直線をX軸方向と平行にする。そして、その直線の+X方向の延長線上に切削ブレード113を位置させるとともに、切削ブレード113の下端をテープ30の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、図11に示すように、その状態で切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送り、第一のライン2S11に沿って切削溝を形成し、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF15に到達すると、切削手段11を上昇させる。
本ステップでは、最大反り量が許容値以下と判断されたライン2S13及び2S14を切削する。まず、始点であるアライメントマークF38と終点であるアライメントマークF31とを結ぶ線をX軸方向に対して平行にする。そして、その直線の+X方向の延長線上に切削ブレード113を位置させるとともに、切削ブレード113の下端をテープ30
の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送ることにより、第一のライン2S13に沿って切削溝を形成し、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF31に到達すると、切削手段11を上昇させる。第一のライン2S14についても同様に切削を行う。このようにして、始点であるアライメントマークF38からF31、F48からF41が切削される。
10:保持テーブル 10a:着脱領域 10b:加工領域
100:吸着部 100a:保持面 101:枠体 102:カバー 103:回転手段
104:固定クランプ
11:切削手段
110:ハウジング 111:スピンドル 111a:ナット 112:モータ
113:切削ブレード 114:ブレードカバー 115:切削水供給ノズル
12:切削送り手段
120:ボールネジ 121:ガイドレール 122:モータ 123:可動板
13:割り出し送り手段
130:ボールネジ 131:ガイドレール 132:モータ133:可動板
14:切り込み送り手段
140:ボールネジ 141:ガイドレール 142:モータ 143:ホルダー
145:壁部
16:制御手段 17:記憶手段 18:表示手段
19:アライメント手段 190:撮像部
U:ワークユニット W:パッケージ基板 30:テープ 31:フレーム
20:カセット載置部 200:カセット
21:仮置き部 22:搬出入手段
23:第一の搬送手段 24:洗浄手段 25:第二の搬送手段 26:操作部
W1:パッケージ基板
A、B:ブロック C:チップ領域 D:余剰連結領域 E:外周余剰領域
S1(S11−S14):第一の分割予定ライン
S2(S21−S28):第二の分割予定ライン
A11−A44、B11−B44、:アライメントマーク
G11a−G14b:切削溝
W2:パッケージ基板
C:チップ領域 F:ブロック H:外周余剰領域
2S11−2S14:第一の分割予定ライン
2S21−2S28:第二の分割予定ライン
F11−F48:アライメントマーク
Claims (2)
- 互いに直交する第一の方向及び第二の方向の分割予定ラインによって区画されてデバイスが複数形成され各分割予定ラインに対応するアライメントマークを備えたデバイス領域と、該デバイス領域を囲む外周余剰領域とから形成されたパッケージ基板を、パッケージ基板を保持する保持テーブルとパッケージ基板を撮像する撮像手段とパッケージ基板を切削する切削ブレードとを少なくとも備える加工装置によって、デバイスごとに分割するパッケージ基板の分割方法であって、
パッケージ基板を該加工装置の該保持テーブルに保持する保持ステップと、
該アライメントマークのうち各分割予定ラインの両端に位置するものをそれぞれ始点及び終点とし、該始点と該終点とを結ぶラインを基準ラインとし、該始点と該終点との間に形成され該基準ラインから距離が一番離れたアライメントマークを頂点とし、該基準ラインと該頂点との距離を最大反り量としたとき、該最大反り量の許容値を設定する許容値設定ステップと、
各分割予定ラインについて該最大反り量が許容値以下か否かを判断する判断ステップと、
該判断ステップにおいて該最大反り量が該許容値を超えたと判断された分割予定ラインについては、該分割予定ラインのうち該始点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第一次切削ステップと、該終点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第二次切削ステップとによって切削し、該判断ステップにおいて該最大反り量が許容値以下と判断された分割予定ラインについては該始点と該終点とを結ぶ該基準ラインを切削する切削ステップと、
を備えることを特徴とするパッケージ基板の分割方法。 - パッケージ基板に切り込む前記切削ブレードの回転方向が前記第一次切削ステップと前記第二次切削ステップとで同方向になるように、該第一次切削ステップの実施後に、パッケージ基板を保持する前記保持テーブルを180度回転させる回転ステップをさらに備え、
該回転ステップの実施後に該第二次切削ステップを実施することを特徴とする、
請求項1に記載のパッケージ基板の分割方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017034628A JP6845038B2 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | パッケージ基板の分割方法 |
CN201810148821.8A CN108511391B (zh) | 2017-02-27 | 2018-02-13 | 封装基板的分割方法 |
TW107106040A TWI744489B (zh) | 2017-02-27 | 2018-02-22 | 封裝基板的分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017034628A JP6845038B2 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | パッケージ基板の分割方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018142572A JP2018142572A (ja) | 2018-09-13 |
JP6845038B2 true JP6845038B2 (ja) | 2021-03-17 |
Family
ID=63375621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017034628A Active JP6845038B2 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | パッケージ基板の分割方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6845038B2 (ja) |
CN (1) | CN108511391B (ja) |
TW (1) | TWI744489B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110828344B (zh) * | 2019-11-14 | 2022-02-11 | 江苏京创先进电子科技有限公司 | 一种用于半导体器件的切割道自动对准控制方法 |
CN111546521B (zh) * | 2020-04-10 | 2022-02-01 | 江苏京创先进电子科技有限公司 | 一种划片机的高效率切割控制方法 |
CN112331560A (zh) * | 2020-09-15 | 2021-02-05 | 沈阳和研科技有限公司 | 一种划片机的自动对准y、t平分算法 |
FR3133946A1 (fr) * | 2022-03-23 | 2023-09-29 | Stmicroelectronics (Research & Development) Limited | Procédé de découpe d'éléments de substrat |
JP2024024364A (ja) | 2022-08-09 | 2024-02-22 | Towa株式会社 | 切断装置、及び、切断品の製造方法 |
CN115410927B (zh) * | 2022-09-29 | 2024-09-27 | 北京超材信息科技有限公司 | 半导体器件的切割方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3528659B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2004-05-17 | 株式会社村田製作所 | セラミック板のダイシング方法および装置 |
JP4640715B2 (ja) * | 2000-07-14 | 2011-03-02 | 株式会社ディスコ | アライメント方法及びアライメント装置 |
JP4612441B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-01-12 | 株式会社ディスコ | アライメント方法 |
JP5215556B2 (ja) * | 2006-12-20 | 2013-06-19 | Towa株式会社 | 電子部品製造用の個片化装置 |
US8053279B2 (en) * | 2007-06-19 | 2011-11-08 | Micron Technology, Inc. | Methods and systems for imaging and cutting semiconductor wafers and other semiconductor workpieces |
JP5025383B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2012-09-12 | 株式会社ディスコ | パッケージ基板の分割方法 |
JP5457660B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2014-04-02 | アピックヤマダ株式会社 | 切断方法及び切断装置 |
JP2011222651A (ja) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | パッケージ基板の分割方法 |
JP2012043889A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Renesas Electronics Corp | 半導体ウェーハのダイシング方法 |
JP2012069688A (ja) * | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Murata Mfg Co Ltd | ダイシング方法 |
JP5645692B2 (ja) * | 2011-02-08 | 2014-12-24 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP5904721B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2016-04-20 | 株式会社ディスコ | 分割予定ライン検出方法 |
JP6252838B2 (ja) * | 2013-07-18 | 2017-12-27 | 株式会社東京精密 | ダイシング装置及びその切削方法 |
JP6218511B2 (ja) * | 2013-09-02 | 2017-10-25 | Towa株式会社 | 切断装置及び切断方法 |
JP6229883B2 (ja) * | 2013-11-27 | 2017-11-15 | 株式会社東京精密 | ダイシング装置及びその切削方法 |
JP6184855B2 (ja) * | 2013-12-16 | 2017-08-23 | 株式会社ディスコ | パッケージ基板の分割方法 |
-
2017
- 2017-02-27 JP JP2017034628A patent/JP6845038B2/ja active Active
-
2018
- 2018-02-13 CN CN201810148821.8A patent/CN108511391B/zh active Active
- 2018-02-22 TW TW107106040A patent/TWI744489B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108511391B (zh) | 2023-08-04 |
TWI744489B (zh) | 2021-11-01 |
CN108511391A (zh) | 2018-09-07 |
TW201832277A (zh) | 2018-09-01 |
JP2018142572A (ja) | 2018-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6845038B2 (ja) | パッケージ基板の分割方法 | |
JP4640715B2 (ja) | アライメント方法及びアライメント装置 | |
US8230805B2 (en) | Method and apparatus for dispensing material on a substrate | |
JP5808190B2 (ja) | 硬質脆性板の周縁加工装置 | |
JP5122378B2 (ja) | 板状物の分割方法 | |
CN1935480B (zh) | 晶片的对准方法 | |
CN108527499B (zh) | 加工装置 | |
JP2011114070A (ja) | 加工装置 | |
US20090029627A1 (en) | Polishing apparatus and polishing method | |
JP5025383B2 (ja) | パッケージ基板の分割方法 | |
US9607872B2 (en) | Inline system | |
JP2018062052A (ja) | 切削方法及び切削装置 | |
CN105845561B (zh) | 对准方法 | |
JP6498073B2 (ja) | 切削ブレードの位置ずれ検出方法 | |
JP6184855B2 (ja) | パッケージ基板の分割方法 | |
JP7036616B2 (ja) | パッケージ基板の分割方法 | |
JP5645692B2 (ja) | 加工方法 | |
JP5947026B2 (ja) | 切削装置 | |
JP6830731B2 (ja) | 切削装置 | |
JP2018032825A (ja) | 被加工物のアライメント方法 | |
JP2009049303A (ja) | パッケージ基板の分割方法 | |
JP2008091733A (ja) | 部品実装装置 | |
JP3222726U (ja) | 切削装置 | |
JP4969977B2 (ja) | 部品実装装置 | |
JP6191402B2 (ja) | ダイシング装置及びダイシング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6845038 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |