JP6803304B2 - シロキサン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
更に本発明は、上記シロキサン化合物の製造方法を提供する。
上記式(1)で示される化合物は、下記式(4)で表されるシロキサン化合物と
下記式(5)で表される不飽和基含有化合物とを反応させて得られる。
次いで、下記式(11)で表されるハロゲン化シラン化合物と
を反応させて得ることができる。
a.核磁気共鳴分析(NMR)
1H−NMR分析によりシロキサン化合物の構造確認を行った。測定は、JEOL製のECS500を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用した。
i.装置とパラメータ
装置:Agilent製GC system 7890A型。検出器:水素炎イオン化検出器(FID)。カラム:J&W HP−5MS(0.25mm*30m*0.25μm)。キャリアガス:ヘリウム。一定流量:1.0mL/分。サンプル注入量:1.0μL。スプリット比:50:1。注入口温度:250℃。検出器温度:300℃。
ii.温度プログラム
開始温度50℃。開始時間:2分間。勾配:10℃/分;終了時温度:300℃(保持時間:10分間)。
iii.サンプル調製
サンプル溶液を希釈することなくGC用バイアル瓶に直接入れた。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた1Lの三口ナスフラスコに、エチルビニルエーテル400.0g、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含有量0.5wt%)0.06gを添加し、トリメチルトリシロキサン150.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温80℃で減圧留去し、以下の式(12)で表される環状トリシロキサン化合物を得た。収量310.5g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた300mLの三口ナスフラスコに、上記合成例1で得た環状トリシロキサン化合物(12) 50.0g、トルエン50.0gを添加し、n−ブチルリチウムヘキサン溶液(n−ブチルリチウム含有量15%) 28.3gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン20.0 gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で環状トリシロキサン化合物(12)の消失を確認して反応終了とした。反応終了後にジメチルクロロシラン 6.3gを添加し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温120℃で減圧留去し、以下の式(16)で表されるシロキサン化合物を得た。収量46.5g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた300mLの三口ナスフラスコに、上記合成例1で得た環状トリシロキサン化合物(12)25.0g、ヘキサメチルシクロトリシロキサン20.0g、トルエン50.0gを添加し、n−ブチルリチウムヘキサン溶液(n−ブチルリチウム含有量15%) 32.6gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン20.0 gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で環状トリシロキサン化合物(12)およびヘキサメチルシクロトリシロキサンの消失を確認して反応終了とした。反応終了後にジメチルクロロシラン 6.3gを添加し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温120℃で減圧留去し、以下の式(17)で表されるシロキサン化合物を得た。収量49.1g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた300mLの三口ナスフラスコに、上記合成例1で得た環状トリシロキサン化合物(12)50.0g、トルエン40.0gを添加し、n−ブチルリチウムヘキサン溶液(n−ブチルリチウム含有量15%) 32.6gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン15.0 gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で環状トリシロキサン化合物(12)の消失を確認して反応終了とした。反応終了後にヘキサメチルシクロトリシロキサン50.0g、テトラヒドロフラン20.0gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)でヘキサメチルシクロトリシロキサンの消失を確認して反応終了とした。反応終了後にジメチルクロロシラン 6.3gを添加し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温120℃で減圧留去し、以下の式(18)で表されるシロキサン化合物を得た。収量92.1g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた300mLの三口ナスフラスコに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン50.0g、トルエン40.0gを添加し、n−ブチルリチウムヘキサン溶液(n−ブチルリチウム含有量15%) 32.6gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン15.0gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)でヘキサメチルシクロトリシロキサンの消失を確認して反応終了とした。反応終了後に上記合成例1で得た環状トリシロキサン化合物(12)50.0g、テトラヒドロフラン20.0gを添加し、室温で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で環状トリシロキサン化合物(12)の消失を確認して反応終了とした。反応終了後にジメチルクロロシラン 6.3gを添加し、室温で1時間撹拌した。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温120℃で減圧留去し、以下の式(19)で表されるシロキサン化合物を得た。収量83.7g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた100mLの三口ナスフラスコに、アリルメタクリレート8.1g、トルエン30.0g、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含有量0.5wt%)0.02gを添加し、上記合成例5で得たシロキサン化合物(16)30.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を80℃で3時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層にn−ヘキサンを30.0g添加し、有機層を分液漏斗に移してメタノール水(メタノール:水=4:1)で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温80℃で減圧留去し、以下の式(23)で表されるシロキサン化合物1を得た。収量25.3g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(16H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
アリルメタクリレートを2−アリロキシエチルメタクリレートに変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(24)で表されるシロキサン化合物2を得た。収量26.6g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(20H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
アリルメタクリレートを3−アリロキシ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレートに変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(25)で表されるシロキサン化合物3を得た。収量22.5。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(20H)、4.0ppm(1H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
アリルメタクリレートをN−アリルアクリルアミドに変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(26)で表されるシロキサン化合物4を得た。収量21.2g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、3.5−3.6ppm(18H)、5.6−5.7ppm(2H)、6.1ppm(1H)、6.3ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例6で得たシロキサン化合物(17)に変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(27)で表されるシロキサン化合物5を得た。収量20.7g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(30H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(4H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(6H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(8H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例7で得たシロキサン化合物(18)に変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(28)で表されるシロキサン化合物6を得た。収量18.3g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(72H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(16H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例8で得たシロキサン化合物(19)に変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(29)で表されるシロキサン化合物7を得た。収量19.4g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(72H)、0.5ppm(4H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(12H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(16H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例9で得たシロキサン化合物(20)に変えた以外は実施例1を繰り返して以下の式(30)で表されるシロキサン化合物8を得た。収量24.4g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(4H)、0.6ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.1ppm(24H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(12H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例10で得たシロキサン化合物(21)に変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(31)で表されるシロキサン化合物9を得た。収量21.6g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(12H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(10H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(52H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(16)を上記合成例11で得たシロキサン化合物(22)に変えた以外は実施例1を繰り返して、以下の式(32)で表されるシロキサン化合物10を得た。収量14.8g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(18H)、0.5ppm(12H)、0.7ppm(8H)、0.9ppm(3H)、1.4ppm(4H)、1.6ppm(10H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(100H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルを1−ペンテンに変えた以外は合成例1を繰り返して、トリメチルトリペンチルシクロトリシロキサンを得た。
上記で得たシロキサン化合物1〜13の各々について、下記試験を行った。
20mLスクリュー管に、シロキサン化合物0.1g、2−プロパノール(3.90g)、酢酸(0.24g)、蒸留水(0.90g)、及び重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(2mg)を入れてよく混合し、密閉した。該スクリュー管を80℃下に168時間置いた。混合直後(0時間)の混合溶液及び168時間置いた後の混合溶液を夫々ガスクロマトグラフィー測定に付した。ガスクロマトグラフィーの測定条件は上記した通りである。
混合直後(0時間)のシロキサン化合物のピーク面積(100%)に対する、168時間後のシロキサン化合物のピーク面積割合(%)を算出した。結果を表1に示す。尚、ガスクロマトグラフィー測定により得られたピーク面積は含まれる成分量に比例する。数値が高いほど加水分解による重量減少が少なく、耐加水分解性に優れることを意味する。
親水性モノマーとの相溶性は,眼科用デバイスの製造において広く用いられるN−ビニルピロリドン(NVP)を用いて評価した。シロキサン化合物とNVPを同質量比で混合し,25℃の条件下で10分間撹拌を行った。撹拌後,25℃の条件下で5時間静置させ,その外観を目視により観察し、以下の指標に基づき評価した。
〇:均一かつ透明 ×:白濁
結果を下記表1に示す。
Claims (25)
- 下記式(1)で表される化合物
- nが0または1である、請求項2記載の化合物。
- mが3であり、nが1である、請求項3記載の化合物。
- mが3であり、nが0である、請求項3記載の化合物。
- aが1又は2であり、及び、R9が炭素数1〜3のアルキル基である、請求項1〜5のいずれか1項記載の化合物。
- bが0又は1であり、R8が水素原子である、請求項6記載の化合物。
- R1がブチル基である、請求項1〜7のいずれか1項記載の化合物。
- R3〜R5が、いずれもメチル基である、請求項1〜8のいずれか1項記載の化合物。
- Mが、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する基である、請求項1〜9のいずれか1項記載の化合物。
- Mが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、又はメタクリルアミド基である、請求項10記載の化合物。
- pが2〜50であり、及びqが0〜50である、請求項1〜10のいずれか1項記載の化合物。
- 請求項1〜12のいずれか1項記載の化合物のラジカル重合性基Mの付加重合から導かれる繰返し単位を含む重合体。
- 請求項1〜12のいずれか1項記載の化合物のラジカル重合性基Mと、これと重合性の基を有する他の化合物との重合から導かれる繰返し単位を含む共重合体。
- 請求項14記載の共重合体からなる眼科デバイス。
- 下記式(1)で表される化合物の製造方法において、
下記式(4)で表されるシロキサン化合物と
下記式(5)で表される不飽和基含有化合物
とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る工程を含む、前記製造方法。 - nが0又は1である、請求項17記載の製造方法。
- aが1又は2であり、及び、R9が炭素数1〜3のアルキル基である、請求項16〜18のいずれか1項記載の製造方法。
- R1がブチル基である、請求項16〜19のいずれか1項記載の製造方法。
- R3〜R5がいずれもメチル基である、請求項16〜20のいずれか1項記載の製造方法。
- Mが、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する基である、請求項16〜21のいずれか1項記載の製造方法。
- Mが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、又はメタクリルアミド基である、請求項22記載の製造方法。
- pが2〜50であり、qが0〜50である、請求項16〜23のいずれか1項記載の製造方法。
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