JP6777594B2 - 摺動部材およびすべり軸受 - Google Patents

Description

本発明は、摺動面にて相手材が摺動する摺動部材およびすべり軸受に関する。

０．３〜２５容量％の無機物粒子をめっき被膜中に分散させたすべり軸受が知られている（特許文献１、参照。）。特許文献１において、めっき被膜中に含まれる無機物粒子によって耐摩耗性を向上させることができる。

特開平４−３３１８１７号公報

しかしながら、特許文献１のように、めっき被膜中に無機物粒子を分散させることは技術的に困難であるという問題があった。具体的に、めっきの際に、無機物粒子の凝集が生じるとともに、共析率をコントロールすることが困難であるという問題があった。その結果、めっき被膜中における無機物粒子の分散状態を安定してコントロールできず、良好な耐摩耗性を実現することができなかった。
本発明は、前記課題にかんがみてなされたもので、簡易な構成により良好な耐摩耗性を実現できる技術を提供することを目的とする。

前記の目的を達成するため、本発明の摺動部材およびすべり軸受は、基層上に、相手材との摺動面を有する被覆層が形成された摺動部材およびすべり軸受であって、基層は、被覆層よりも硬い硬質材料で形成され、被覆層のうち、基層との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲において、基層から拡散した硬質材料の拡散成分の平均濃度が４ｗｔ％以上となる。

前記の構成において、被覆層は基層の硬質材料よりも軟らかい材料で形成されるが、基層からの拡散成分が被覆層中に拡散することにより、耐摩耗性を向上させることができる。また、硬質材料を基層から被覆層中に拡散させることにより、容易に耐摩耗性を向上させることができる。硬質材料を基層から被覆層中に拡散させることにより、基層から遠い被覆層の表面側を軟らかい状態で維持することができ、良好な初期なじみ性を得ることができる。また、基層との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲における拡散成分の平均濃度を４ｗｔ％以上とすることにより、遅くとも評価範囲まで摩耗が進行した段階で良好な耐摩耗性を発揮できる。また、評価範囲における拡散成分の平均濃度を８．２ｗｔ％以上とするのがより望ましい。

ここで、被覆層は、Ｂｉ，Ｓｎ，Ｐｂ，ＩｎまたはＳｂで形成されてもよい。Ｂｉ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｉｎ，Ｓｂは、いずれも硬度（例えばモース硬度）が小さく、基層の硬質材料よりも軟らかい材料として好適である。一方、基層の硬質材料は、これらの被覆層の材料よりも硬い材料であればよく、これらの被覆層中に拡散可能な材料であればよい。基層は、単一元素の金属で形成されてもよいし、合金で形成されてもよいし、マトリクス中に各種粒子が分散した材料で形成されてもよい。

また、基層からの拡散成分は、少なくとも被覆層の結晶粒界における粒界拡散によって被覆層に拡散してもよい。これにより、摺動面のうち被覆層の結晶粒の粒界が露出した部分を強化する一方で、被覆層の結晶粒の粒界以外の部分（粒内）が露出した部分においては柔軟性を維持することができる。従って、耐摩耗性となじみ性とを両立させることができる。なお、拡散成分は、少なくとも粒界拡散によって拡散した成分を含めばよく、粒内拡散の成分と粒界拡散の成分とが含まれてもよい。

さらに、評価範囲において、界面に平行な方向における拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上であってもよい。このように、基層と被覆層との界面に平行な方向における拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上となる場合に、粒界に偏って拡散成分が拡散していると判断することができる。

本発明の実施形態にかかる摺動部材の斜視図である。 摺動部材の断面模式図である。 拡散成分の濃度のグラフである。 摺動部材の断面写真である。

ここでは、下記の順序に従って本発明の実施の形態について説明する。
（１）第１実施形態：
（１−１）摺動部材の構成：
（１−２）計測方法：
（１−３）摺動部材の製造方法：
（２）他の実施形態：

（１）第１実施形態：
（１−１）摺動部材の構成：
図１は、本発明の一実施形態にかかる摺動部材１の斜視図である。摺動部材１は、裏金１０とライニング１１とオーバーレイ１２とを含む。摺動部材１は、中空状の円筒を直径方向に２等分した半割形状の金属部材であり、断面が半円弧状となっている。２個の摺動部材１を円筒状になるように組み合わせることにより、すべり軸受Ａが形成される。すべり軸受Ａは内部に形成される中空部分にて円柱状の相手軸２（エンジンのクランクシャフト）を軸受けする。相手軸２の外径はすべり軸受Ａの内径よりもわずかに小さく形成されている。相手軸２の外周面と、すべり軸受Ａの内周面との間に形成される隙間に潤滑油（エンジンオイル）が供給される。その際に、すべり軸受Ａの内周面上を相手軸２の外周面が摺動する。

摺動部材１は、曲率中心から遠い順に、裏金１０とライニング１１とオーバーレイ１２とが順に積層された構造を有する。従って、裏金１０が摺動部材１の最外層を構成し、オーバーレイ１２が摺動部材１の最内層を構成する。裏金１０とライニング１１とオーバーレイ１２とは、それぞれ円周方向において一定の厚みを有している。裏金１０の厚みは１．８ｍｍであり、ライニング１１の厚みは０．２ｍｍであり、オーバーレイ１２の厚みは１０μｍである。オーバーレイ１２の曲率中心側の表面の直径（摺動部材１の内径）７３ｍｍである。以下、内側とは摺動部材１の曲率中心側を意味し、外側とは摺動部材１の曲率中心と反対側を意味することとする。オーバーレイ１２の内側の表面は、相手軸２の摺動面を構成する。

裏金１０は、Ｃを０．１５ｗｔ％含有し、Ｍｎを０．０６ｗｔ％含有し、残部がＦｅからなる鋼で形成されている。なお、裏金１０は、ライニング１１とオーバーレイ１２とを介して相手軸２からの荷重を支持できる材料で形成されればよく、必ずしも鋼で形成されなくてもよい。

ライニング１１は、裏金１０の内側に積層された層であり、本発明の基層を構成する。ライニング１１は、Ｓｎを１０ｗｔ％含有し、Ｂｉを８ｗｔ％含有し、残部がＣｕと不可避不純物とからなる。ライニング１１の不可避不純物はＭｇ，Ｔｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｃｒ等であり、精錬もしくはスクラップにおいて混入する不純物である。不可避不純物の含有量は、全体で１．０ｗｔ％以下である。

オーバーレイ１２は、ライニング１１の内側の表面上に積層された層であり、本発明の被覆層を構成する。オーバーレイ１２は、Ｂｉとライニング１１からの拡散成分と不可避不純物とからなり、不可避不純物の含有量は１．０ｗｔ％以下である。

図２は、摺動部材１の断面模式図である。同図において、摺動部材１の軸方向の垂直断面が示されている。ライニング１１上にオーバーレイ１２が形成されており、ライニング１１とオーバーレイ１２との境界線Ｘ（破線）が直線状となっている。厳密には境界線Ｘは円弧状となるが、摺動部材１の曲率に対して十分に小さい領域を図示しており、境界線Ｘを直線と見なしている。境界線Ｘは、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面上の線である。図２において、オーバーレイ１２のうち、境界線Ｘを１μｍだけ摺動面Ｓ側に平行移動させた線と、当該境界線Ｘを２μｍだけ摺動面Ｓ側に平行移動させた線によって挟まれた範囲を評価範囲Ｅとする。本実施形態では、評価範囲Ｅの幅方向の長さを９μｍとした。

図２に示すように、オーバーレイ１２の結晶粒１２ａは、ライニング１１との境界線Ｘに対してほぼ垂直な柱状の形状を有している。単一の結晶粒１２ａの輪郭線上の２点を接続する線分のうち、長さが最大となる線分を長軸ＬＡとし、当該長軸ＬＡの中点にて当該長軸ＬＡに直交する結晶粒１２ａ上の線分を短軸ＳＡとする。また、各結晶粒１２ａにおける長軸ＬＡの長さを短軸ＳＡで除算した比の平均値を平均アスペクト比とする。結晶粒１２ａの平均アスペクト比は３であった。さらに、各結晶粒１２ａにおける長軸ＬＡの方向（摺動面Ｓに近づく方向）を結晶成長方向とし、各結晶粒１２ａにおける結晶成長方向の算術平均値を平均結晶成長方向とする。本実施形態における平均結晶成長方向は、摺動面Ｓに対してほぼ垂直（８５度）であった。

図３は、評価範囲ＥにおけるＣｕの平均濃度を示すグラフである。オーバーレイ１２に含まれるＣｕは、ライニング１１からの拡散成分である。図３に示すように、後述する熱処理を行う前では評価範囲ＥにおけるＣｕの平均濃度が３．０ｗｔ％であったのに対し、後述する熱処理を行った後では評価範囲ＥにおけるＣｕの平均濃度が８．２ｗｔ％となった。評価範囲Ｅにおいては、もともとライニング１１のＣｕが３．０ｗｔ％だけ拡散しているが、熱処理を行うことにより、Ｃｕの濃度が５．２ｗｔ％増加する。

オーバーレイ１２において、ライニング１１との界面から遠くなるほど、ライニング１１からの拡散成分としてのＣｕの濃度が小さくなる。なお、ライニング１１に含まれるＳｎもＣｕと同様にオーバーレイ１２内に拡散している。

図２において、評価範囲Ｅを境界線Ｘの方向に分割した分割範囲ｅごとにＣｕの濃度を計測し、分割範囲ｅごとのＣｕの濃度の標準偏差を算出した。その結果、分割範囲ｅごとのＣｕの濃度の標準偏差は、５．６ｗｔ％であった。境界線Ｘの方向における分割範囲ｅの幅は、境界線Ｘの方向におけるＢｉの結晶粒の平均幅と同じである。Ｂｉの結晶粒の平均幅は、各結晶粒１２ａの短軸ＳＡの長さの算術平均値である。

図４は、摺動部材１の断面写真である。同図において、色（グレー）が濃いほど、Ｃｕの濃度が高いことを意味する。同図に示すように、境界線Ｘよりもオーバーレイ１２側においてＣｕの濃度が高濃度となっている突出部Ｐが存在している。この突出部Ｐは、結晶粒１２ａの粒界のうち、図４の断面に露出している部分であると考えられる。つまり、オーバーレイ１２において、結晶粒１２ａの粒界において結晶粒１２ａの粒内よりも高濃度でＣｕが拡散しており、図４の断面のうち結晶粒１２ａの粒界が露出している部分が突出部Ｐとして表れることとなる。このことは、評価範囲Ｅを境界線Ｘの方向に分割した分割範囲ｅごとのＣｕの濃度の標準偏差が５．６ｗｔ％と大きいことによっても裏付けられる。

以上説明した本実施形態において、ライニング１１からの拡散成分がオーバーレイ１２中に拡散することにより、耐摩耗性を向上させることができる。また、硬質材料としてのＣｕを基層としてのライニング１１から被覆層としてのオーバーレイ１２中に拡散させることにより、容易に耐摩耗性を向上させることができる。Ｃｕをオーバーレイ１２中に拡散させることにより、ライニング１１から遠いオーバーレイ１２の表面側を軟らかい状態で維持することができ、良好な初期なじみを得ることができる。また、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲Ｅにおける拡散成分（Ｃｕ）の平均濃度を８．２ｗｔ％とすることにより、遅くとも評価範囲Ｅまで摩耗が進行した段階で良好な耐摩耗性を発揮できる。本発明者は、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲Ｅにおける拡散成分の平均濃度を４ｗｔ％以上となるように管理することにより、当該拡散成分の平均濃度が４ｗｔ％未満である場合よりも耐摩耗性が向上することを確認した。

また、ライニング１１からの拡散成分は、粒界拡散によってオーバーレイ１２に拡散している。これにより、摺動面Ｓのうちオーバーレイ１２の結晶粒１２ａの粒界が露出した部分を強化する一方で、結晶粒１２ａの結晶粒１２ａの粒界以外の部分（粒内）が露出した部分においては柔軟性を維持することができる。従って、耐摩耗性となじみ性とを両立させることができる。さらに、評価範囲Ｅにおいて、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面に平行な方向における拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上の５．６ｗｔ％となる。このように、界面に平行な方向における拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上となる場合に、粒界と粒内のうち粒界に偏って拡散成分が拡散していると判断することができる。本発明者は、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面に平行な方向における拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上となるように管理することにより、当該拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％未満である場合よりもなじみ性が向上することを確認した。

（１−２）計測方法：
上述した実施形態において示した各数値を以下の手法によって計測した。摺動部材１の各層を構成する元素の質量は、ＩＣＰ発光分光分析装置（島津社製ＩＣＰＳ−８１００）によって計測した。

各層の厚みは、以下の手順で計測した。まず、摺動部材１の軸方向の垂直断面をクロスセクションポリッシャ（日本電子製 ＩＢ−０９０１０ＣＰ）で研磨した。そして、摺動部材１の断面を電子顕微鏡（日本電子製 ＪＳＭ−６６１０Ａ）によって７０００倍の倍率で撮影することにより、観察画像（反射電子像）の画像データを得た。そして、観察画像を画像解析装置（ニレコ社製 ルーゼックス ＡＰ）によって解析することにより膜厚を計測した。

さらに、摺動部材１の断面を電子顕微鏡（日本電子製 ＪＳＭ−６６１０Ａ）によって１５０００倍の倍率で撮影することにより解析画像を得た。そして、解析画像を画像解析装置（ニレコ社製 ルーゼックス ＡＰ）によって解析した。具体的に、画像解析装置によって、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面をなすうねり曲線の平均線（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）を境界線Ｘとして特定した。さらに、画像解析装置によって、オーバーレイ１２における各結晶粒１２ａの粒界を検出し、各結晶粒１２ａの長軸ＬＡと短軸ＳＡと結晶成長方向とを特定した。各結晶粒１２ａの粒界は、例えばエッジ検出によって検出できる。さらに、各結晶粒１２ａにおける長軸ＬＡの長さを短軸ＳＡで除算した比の平均値を平均アスペクト比として算出した。なお、円相当径が０．１μｍ未満となる結晶粒１２ａについては、アスペクト比の算出対象から除外した。

また、図２の評価範囲ＥにおけるＣｕの濃度を以下のように計測した。具体的に、上述したクロスセクションポリッシャで研磨した摺動部材１の断面を元素分析装置（日本電子製 ＪＳＭ−６６１０ＡのＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分光器））によって分析することにより、評価範囲ＥにおけるＣｕの濃度を計測した。

（１−３）摺動部材の製造方法：
まず、裏金１０と同じ厚みを有する低炭素鋼の平面板を用意した。
次に、低炭素鋼で形成された平面板上に、ライニング１１を構成する材料の粉末を散布した。具体的に、上述したライニング１１における各成分の質量比となるように、Ｃｕの粉末とＢｉの粉末とＳｎの粉末とを低炭素鋼の平面板上に散布した。ライニング１１における各成分の質量比が満足できればよく、Ｃｕ−Ｂｉ，Ｃｕ−Ｓｎ等の合金粉末を低炭素鋼の平面板上に散布してもよい。粉末の粒径は、試験用ふるい（ＪＩＳ Ｚ８８０１）によって１５０μｍ以下に調整した。

次に、低炭素鋼の平面板と、当該平面板上に散布した粉末とを焼結した。焼結温度を７００〜１０００℃に制御し、不活性雰囲気中で焼結した。焼結後、冷却した。なお、ライニング１１は必ずしも焼結によって形成されなくてもよく、鋳造等によって形成されてもよい。

冷却が完了すると、低炭素鋼の平面板上にＣｕ合金層が形成される。このＣｕ合金層には、冷却中に析出した軟質のＢｉ粒子が含まれることとなる。
次に、中空状の円筒を直径で２等分した形状となるように、Ｃｕ合金層が形成された低炭素鋼をプレス加工した。このとき、低炭素鋼の外径が摺動部材１の外径と一致するようにプレス加工した。

次に、裏金１０上に形成されたＣｕ合金層の表面を切削加工した。このとき、裏金１０上に形成されたＣｕ合金層の厚みがライニング１１と同一となるように、切削量を制御した。これにより、切削加工後のＣｕ合金層によってライニング１１が形成できる。切削加工は、例えば焼結ダイヤモンドで形成された切削工具材をセットした旋盤によって行った。切削加工後のライニング１１の表面は、ライニング１１とオーバーレイ１２との界面を構成する。

次に、ライニング１１の表面上にＢｉを電気めっきによって１０μｍの厚みだけ積層することにより、オーバーレイ１２を形成した。電気めっきの手順は以下のとおりとした。まず、ライニング１１の表面を水洗した。さらに、ライニング１１の表面を酸洗することにより、ライニング１１の表面から不要な酸化物を除去した。その後、ライニング１１の表面を、再度、水洗した。

以上の前処理が完了すると、めっき浴に浸漬させたライニング１１に電流を供給することにより電気めっきを行った。メタンスルホン酸：５０〜２５０ｇ／ｌ、メタンスルホン酸Ｂｉ：５〜４０ｇ／ｌ（Ｂｉ濃度）、界面活性剤：０．５〜５０ｇ／ｌとを含むめっき浴の浴組成とした。めっき浴の浴温度は、２０〜５０℃とした。さらに、ライニング１１に供給する電流は直流電流とし、その電流密度は０．５〜７．５Ａ／ｄｍ²とした。電気めっきにおいて、めっき浴（液）を液流のない静止状態とした。これにより、ライニング１１の表面から曲率中心に向けて結晶粒１２ａを結晶成長させることができる。電気めっきの完了後に、水洗と乾燥を行った。

次に、１５０℃を維持した状態で５０時間にわたって熱処理することにより、ライニング１１の成分（おもにＣｕ）をオーバーレイ１２中に拡散させた。これにより、図３のグラフで示すように、評価範囲Ｅにおけるライニング１１からの拡散成分の濃度を熱処理後において増加させることができた。熱処理の温度は、被拡散元素の融点の６５％以下の温度であることが望ましく、被拡散元素がＢｉである場合には１７５℃以下であることが望ましい。これにより、Ｂｉの結晶粒１２ａ内にライニング１１の成分が拡散することを防止し、Ｂｉの結晶粒１２ａの粒界にライニング１１の成分を拡散させることができる。

以上のようにして、摺動部材１を完成させると、２個の摺動部材１を円筒状に組み合わせることにより、すべり軸受Ａを形成した。

（２）他の実施形態：
前記実施形態においては、エンジンのクランクシャフトを軸受けするすべり軸受Ａを構成する摺動部材１を例示したが、本発明の摺動部材１によって他の用途のすべり軸受Ａを形成してもよい。例えば、本発明の摺動部材１によってトランスミッション用のギヤブシュやピストンピンブシュ・ボスブシュ等のラジアル軸受を形成してもよい。さらに、本発明の摺動部材は、スラスト軸受であってもよく、各種ワッシャであってもよいし、カーエアコンコンプレッサ用の斜板であってもよい。また、ライニング１１のマトリクスはＣｕ合金に限られず、相手軸２の硬さに応じてマトリクスの材料が選択されればよい。また、被覆層の材料はライニング１１よりも軟らかい材料であればよく、例えばＰｂ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｓｂのいずれかであってもよい。

１…摺動部材、２…相手軸、１０…裏金、１１…ライニング、１２…オーバーレイ、１２ａ…結晶粒、Ａ…軸受、Ｅ…評価範囲、ＬＡ…長軸、Ｐ…突出部、Ｓ…摺動面、ＳＡ…短軸、Ｘ…境界線、ｅ…分割範囲

Claims (6)

1. 基層上に、相手材との摺動面を有する被覆層が形成された摺動部材であって、
   前記基層は、前記被覆層を形成する金属よりも硬い硬質材料を含み、
   前記被覆層のうち、前記基層との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲において、前記基層から拡散した前記硬質材料の拡散成分の平均濃度は８．２ｗｔ％であり、前記界面からの距離が２μｍより離れた範囲において、前記拡散成分の平均濃度は８．２ｗｔ％より低い、
   摺動部材。
2. 前記拡散成分は、少なくとも前記被覆層の結晶粒界における粒界拡散によって前記被覆層に拡散している、
   請求項１に記載の摺動部材。
3. 前記被覆層において、前記評価範囲を前記界面上の線である境界線の方向に分割した分割範囲ごとに計測された前記拡散成分の濃度を用いて算出される前記境界線の方向における前記拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上となり、
   前記分割範囲の幅は、前記境界線の方向における前記被覆層を形成する金属の結晶粒の平均幅と同じである、
   請求項２に記載の摺動部材。
4. 基層上に、相手材との摺動面を有する被覆層が形成されたすべり軸受であって、
   前記基層は、前記被覆層を形成する金属よりも硬い硬質材料を含み、
   前記被覆層のうち、前記基層との界面からの距離が１μｍ以上かつ２μｍ以下の評価範囲において、前記基層から拡散した前記硬質材料の拡散成分の平均濃度は８．２ｗｔ％であり、前記界面からの距離が２μｍより離れた範囲において、前記拡散成分の平均濃度は８．２ｗｔ％より低い、
   すべり軸受。
5. 前記拡散成分は、少なくとも前記被覆層の結晶粒界における粒界拡散によって前記被覆層に拡散している、
   請求項４に記載のすべり軸受。
6. 前記被覆層において、前記評価範囲を前記界面上の線である境界線の方向に分割した分割範囲ごとに計測された前記拡散成分の濃度を用いて算出される前記境界線の方向における前記拡散成分の濃度の標準偏差が３ｗｔ％以上となり、
   前記分割範囲の幅は、前記境界線の方向における前記被覆層を形成する金属の結晶粒の平均幅と同じである、
   請求項５に記載のすべり軸受。