JP6745735B2 - Ni基溶射合金粉末及び合金皮膜製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施態様は以下のとおりである。
[1]Cr:15wt%〜25wt%、Mo:0wt%〜5wt%、Si:0.5wt%〜2wt%未満、Fe:5wt%以下、C:0.3wt%〜0.7wt%、及びB:4wt%〜7wt%を含み、残部はNi及び不可避的不純物であることを特徴とするNi基溶射合金粉末。
[2]Si及びBの含有量は、−0.25B(wt%)+1.75≦Si(wt%)≦−0.25B(wt%)+2.75を満たすことを特徴とする[1]に記載のNi基溶射合金粉末。
[3]Mo:0wt%〜1wt%であることを特徴とする[1]に記載のNi基溶射合金粉末。
[4]Mo:1wt%〜5wt%であることを特徴とする[1]に記載のNi基溶射合金粉末。
[5]基材に[1]〜[4]のいずれか1項に記載のNi基溶射合金粉末を溶射して形成した合金皮膜を再溶融させて、合金皮膜中の気孔率を低減させ、合金皮膜と基材との密着性を向上させることを特徴とする合金皮膜製造方法。
[6]前記再溶融は高周波誘導加熱によりなされることを特徴とする[5]に記載の合金皮膜製造方法。
本発明のNi基溶射合金粉末はCr:15wt%〜25wt%、好ましくは18wt%〜22wt%を含む。Crは高温での耐食性を維持するために不可欠な元素であり、15wt%より少ないと十分な耐食性を発揮することができない。一方、含有量を増やすと耐食性は向上するが、25wt%を越えると耐食耐摩耗性が悪化するとともに、合金の融点が上昇するため再溶融処理が難しくなる。
本発明のNi基溶射合金粉末はMo:0wt%〜5wt%を含む。ごみ焼却炉に代表される塩化腐食環境では、Moを9wt%含有するAlloy625が優れた耐食性を発揮することが知られている。しかし、後述する腐食試験を実施した結果、本発明のNi基合金においては、Moを7wt%まで添加すると耐食性が逆に悪化することがわかった。一方、耐食耐摩耗性については含有量を減らすと若干ではあるが減肉量が抑えられる結果となった。耐食耐摩耗性を重視する場合はMo含有量を抑えた0wt%〜1wt%が好ましく、耐食性を重視する場合は1wt%〜5wt%とすることが好ましい。
本発明のNi基溶射合金粉末はC:0.3wt%〜0.7wt%を含む。Cは硬いCr炭化物などを形成し、溶射皮膜の硬度を向上させることに用いられることが一般的である。炭化物を中心にした析出相が突出し、Ni母材が受ける摩耗を緩和することにより耐食耐摩耗性の向上に寄与する。0.3wt%未満では炭化物相が不十分であるが、0.7wt%を越えると母材中のCrが炭化物として消費され、耐食性が劣化する。
本発明のNi基溶射合金粉末はFe:5wt%以下を含む。FeはNi母材中に固溶し、Ni母材の強度を向上させる。しかし、FeはNiに比べ高温での耐食性に劣り、特に耐塩化腐食性に劣るため、過度の添加は耐食性の低下に繋がる。5wt%以下の添加であれば、耐食性および耐食耐摩耗性に対し悪影響を及ぼさない。
本発明のNi基溶射合金粉末はB:4wt%〜7wt%、好ましくは5wt%〜6wt%を含む。Bは施工性(再溶融性)に不可欠な元素であると共に、合金中で硼化物を形成してNi母材の硬化に寄与する。耐食性に劣る析出相が優先的に腐食されて腐食生成物が成長および突出することにより優先的に流動媒体の衝突を受け、結果としてNi母材が受ける摩耗条件を緩和し、減肉量を抑制すると考えられる。後述する腐食摩耗試験の結果、Bの含有量が7wt%を越えると耐食性が著しく悪化することがわかった。
本発明のNi基溶射合金粉末はSi:0.5wt%〜2.0wt%未満、好ましくはSi:0.5wt%〜1.5wt%未満を含む。Siは耐酸化性向上元素であり、耐食性向上に寄与することが知られている。後述する腐食試験及び耐食耐摩耗性試験の結果、Si添加量を増やすと耐食性が向上するが、減肉量が増加し耐食耐摩耗性が低下することがわかった。また、Siの含有量を0.5wt%よりも少なくすると、施工性(再溶融処理)に劣り、十分に再溶融せず、十分に緻密な皮膜を形成できないことがわかった。
本発明のNi基溶射合金粉末は、上記組成に加えて、Si及びBの含有量が−0.25B(wt%)+1.75≦Si(wt%)≦−0.25B(wt%)+2.75を満たす。耐食耐摩耗性を向上させるためには、Siの含有量を少なくすることが好ましいが、Siは耐酸化性や自溶性を付与するために自溶合金皮膜の施工性には不可欠な元素である。後述する腐食試験及び耐食耐摩耗性試験の結果、Si及びBの含有量が−0.25B(wt%)+1.75≦Si(wt%)≦−0.25B(wt%)+2.75を満たす条件においてSiを減らしてもBを増やすことで再溶融できることがわかった。
本発明の合金皮膜製造方法は、上記Ni基溶射合金粉末を基材に溶射して形成した合金皮膜を再溶融させて、合金皮膜中の気孔率を低減させ、合金皮膜と基材との密着性を向上させることを特徴とする。前記再溶融は高周波誘導加熱によりなされることが好ましい。
流動層試験装置1は、流動媒体による流動層4を形成させる容器2と、容器2の外周に設けられている電気炉3とを具備する。容器2の底部には流動媒体を保持し且つ流動化空気を供給するガラスフィルタ5が設けられている。容器2の上部の試験部6には、流動層4の内部又は上方に試験片Sを保持する試験片ホルダー(水冷銅ブロック)7が設けられている。試験片ホルダー7には冷却水を供給する冷却水導管8が接続されている。
流動層試験装置1を用いて、腐食及び腐食摩耗環境でのNi基合金の減肉特性を調べた。図2は、塩化物存在下で、砂が流動している層内(腐食摩耗環境:erosion-corrosion)と、砂による摩耗の影響がない層の上部(腐食環境:corrosion)の2箇所に試験片Sを設置し、それぞれの減肉量(Metal loss)を調査した結果を示すグラフである。図2から明らかなように、Cr含有量(Cr content in alloys)が多いほど腐食量は減少し耐食性が向上するが、逆に減肉量は増加し耐腐食摩耗性は低下することがわかった。耐摩耗性は材料硬さと概ね一致するため、耐摩耗性と共に耐食性を有するためには、硬くて耐食性に優れる材料であればよい。しかし、図2の結果から、耐食耐摩耗性を有するためには、硬さ(耐摩耗性)や耐食性とは異なる材料特性が求められることが判明した。
図3に腐食摩耗試験後のNi基自溶合金の表面の状態を示す。流動媒体中に投入する塩を(a)1.0wt%および(b)0.5wt%の2条件で行った結果である。流動媒体としては平均粒径0.45mmの珪砂、塩としては25wt%NaCl−25wt%KCl−50wt%CaCl2混合塩を用いた。流動層を形成するための空気供給量は20L/minとし、2Umf比に相当する空気量を流した。塩の投入量が多いほど腐食環境は厳しくなる。試験後の試験片表面を観察すると、(a)塩濃度1.0wt%の場合は、表面が腐食生成物で覆われていたが、(b)塩濃度0.5wt%の場合は、表面が滑らかで明瞭な腐食生成物は観察されず、金属素地が露出に近い状態であった。両者の250時間後の減肉量を比較すると、(a)塩濃度1.0wt%で16.5μm、(b)塩濃度0.5wt%では27.4μmとなり、腐食条件の穏やかな塩濃度0.5wt%で減肉量が増加していた。腐食環境が厳しいと腐食生成物の成長速度が速く、合金表面が速やかに腐食生成物で覆われて保護皮膜を形成し、その後の腐食並びに摩耗を抑制するのに対し、腐食環境が穏やかであると腐食生成物の成長速度が遅く、生成した腐食生成物が摩耗により損傷を受けるため保護皮膜を形成することができず、速い速度で腐食が進行し続けるためと考えられる。このことからも、耐食耐摩耗性を有するためには、単純な耐食性や耐摩耗性ではなく、腐食並びに摩耗を十分に抑制できる腐食生成物を速やかに形成させることが重要なポイントとなることが確認できた。
これらの観点から、表1に示す種々の組成を有するNi−Cr合金における元素の影響を評価した。
施工可能な合金組成範囲を検討し、Siを減らしてもBを増やすことで再溶融できることを見出した。結果を図5に示す。
図6に、本発明のNi基溶射合金(表2のNo.16)と、SiおよびBが本発明の範囲外の合金(比較合金;No.16のSiを4wt%、Bを0wt%に変更した)の示差熱分析(20℃/minにて1500℃まで昇温し、20℃/minで冷却した)結果を示す。本発明のNi基溶射合金(図6A)より、昇温時のDTA曲線から977℃に大きな吸熱ピークが存在し、溶融が始まることがわかる。そして降温時のDTA曲線から1142℃に大きな発熱ピークが存在し、凝固が始まることがわかる。以上より、本発明のNi基溶射合金は1,000℃以下の溶融開始温度と、100℃以上(165℃)の液相線と固相線の間の温度幅を有しているといえる。一方、比較合金(図6B)においては、昇温時のDTA曲線に1321℃吸熱ピークと降温時のDTA曲線に1331℃の発熱ピークが見られ、溶融開始温度は1000℃を大きく超え、また液相線と固相線の間の温度幅も10℃と小さいことがわかる。
表2に示す組成のNi基溶射合金粉末を作製し、試験3と同様の腐食摩耗試験及び腐食試験により評価した。
Claims (6)
- Cr:15wt%〜25wt%、Mo:0wt%〜5wt%、Si:0.5wt%〜2.0wt%未満、Fe:5wt%以下、C:0.3wt%〜0.7wt%、及びB:4wt%〜7wt%を含み、残部はNi及び不可避的不純物であることを特徴とするNi基溶射合金粉末。
- Si及びBの含有量は、−0.25B(wt%)+1.75≦Si(wt%)≦−0.25B(wt%)+2.75を満たすことを特徴とする請求項1に記載のNi基溶射合金粉末。
- Mo:0wt%〜1wt%であることを特徴とする請求項1に記載のNi基溶射合金粉末。
- Mo:1wt%〜5wt%であることを特徴とする請求項1に記載のNi基溶射合金粉末。
- 基材に請求項1〜4のいずれか1項に記載のNi基溶射合金粉末を溶射して形成した合金皮膜を再溶融させて、合金皮膜中の気孔率を低減させ、合金皮膜と基材との密着性を向上させることを特徴とする合金皮膜製造方法。
- 前記再溶融は高周波誘導加熱によりなされることを特徴とする請求項5に記載の合金皮膜製造方法。
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