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JP6700614B2 - Laser processing equipment - Google Patents

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JP6700614B2
JP6700614B2 JP2017063114A JP2017063114A JP6700614B2 JP 6700614 B2 JP6700614 B2 JP 6700614B2 JP 2017063114 A JP2017063114 A JP 2017063114A JP 2017063114 A JP2017063114 A JP 2017063114A JP 6700614 B2 JP6700614 B2 JP 6700614B2
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processing
laser beam
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laser
control unit
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俊二 内野
俊二 内野
幸喜 古川
幸喜 古川
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  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

本発明は、レーザ加工装置に関するものである。   The present invention relates to a laser processing device.

従来より、レーザ光を用いて対象物にレーザ加工する装置において、除去用のレーザ光を用いて、対象物から発生した生成物の除去処理を行う技術が知られている。例えば、特許文献1には、除去用のレーザ光を、レーザ加工(マーキング工程)の後で、照射する技術が開示されている。また、特許文献2には、除去用のレーザ光を、レーザ加工(第1レーザビームの照射)と同時あるいは直後に、照射する技術が開示されている。また、特許文献3には、除去用のレーザ光を、レーザ加工中に照射する技術が開示されている。尚、除去用のレーザ光は、例えば、レーザ加工にて照射するレーザ光よりも低いエネルギーのレーザ光である。   2. Description of the Related Art Conventionally, in an apparatus that laser-processes an object using a laser beam, a technique is known in which a removal laser beam is used to remove a product generated from the object. For example, Patent Document 1 discloses a technique of irradiating a laser beam for removal after laser processing (marking step). In addition, Patent Document 2 discloses a technique of irradiating a laser beam for removal with or simultaneously with laser processing (irradiation of a first laser beam). Patent Document 3 discloses a technique of irradiating a laser beam for removal during laser processing. The removal laser beam is, for example, a laser beam having lower energy than the laser beam applied in the laser processing.

特開平10−34359号公報JP, 10-34359, A 特開2002−263873号公報JP 2002-263873 A 特開平11−114690号公報JP, 11-114690, A

しかしながら、対象物の材料によっては、発生した生成物が対象物に付着した後、時間経過により生成物が対象物に固着してしまう場合がある。特許文献1または特許文献2のように、除去用のレーザ光の照射をレーザ加工の後に行うと、特に、レーザ加工開始直後に発生した生成物は、除去用のレーザ光が照射されるまでの時間が長くなってしまい、固着が進み、除去しきれずに生成物が対象物に残ってしまう場合があった。また、対象物に付着した生成物は除去用のレーザ光の照射により空気中に散り、所定時間経過後に対象物に再付着する。このため、特許文献2または特許文献3のように、レーザ加工と同時に除去用のレーザ光の照射を行ったとしても、除去用のレーザ光の照射後に生成物が対象物に再付着してしまう場合があった。   However, depending on the material of the object, the product may adhere to the object over time after the generated product adheres to the object. When the irradiation of the laser beam for removal is performed after the laser processing as in Patent Document 1 or Patent Document 2, in particular, the product generated immediately after the start of the laser processing is performed until the laser beam for removal is irradiated. In some cases, the time became long, the fixation proceeded, and the product could not be completely removed and remained on the object. Further, the product adhered to the object is scattered in the air by irradiation with the laser beam for removal, and is re-adhered to the object after a lapse of a predetermined time. Therefore, even if the laser beam for removal is irradiated at the same time as the laser processing as in Patent Document 2 or Patent Document 3, the product reattaches to the object after the irradiation with the laser beam for removal. There were cases.

本願は、上記の課題に鑑み提案されたものであって、最適なタイミングで除去処理を実行することができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。   The present application has been proposed in view of the above problems, and an object thereof is to provide a laser processing apparatus capable of performing a removal process at an optimum timing.

本明細書は、レーザ光を出射するレーザ光出射部と、レーザ光を走査する走査部と、制御部と、を備え、制御部は、レーザ光出射部および走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度のレーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、第1判断処理において除去タイミング条件を満たすと判断した場合、レーザ光出射部および走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度のレーザ光を加工対象物に照射させる除去処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置を開示する。除去タイミング条件を満たす場合に、除去処理を実行するので、最適なタイミングで除去処理を実行することができる。   The present specification includes a laser beam emitting unit that emits a laser beam, a scanning unit that scans the laser beam, and a control unit, and the control unit controls the laser beam emitting unit and the scanning unit to form a processing pattern. In the first determination process, a processing process of irradiating a processing object with a laser beam having a first energy density, a first determination process of determining whether a removal timing condition is satisfied after the processing process is started, and a first determination process. When it is determined that the removal timing condition is satisfied, the laser light emitting unit and the scanning unit are controlled to cause the object to be processed to be irradiated with laser light having a second energy density smaller than the first energy density based on the processing pattern. Disclosed is a laser processing apparatus that performs processing and. Since the removal process is executed when the removal timing condition is satisfied, the removal process can be executed at an optimum timing.

本願によれば、最適なタイミングで除去処理を実行することができるレーザ加工装置を提供することができる。   According to the present application, it is possible to provide a laser processing apparatus capable of performing removal processing at an optimum timing.

本実施形態に係るレーザ加工装置の概略構成である。1 is a schematic configuration of a laser processing apparatus according to this embodiment. レーザ加工装置の電気的構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electric constitution of a laser processing apparatus. 加工設定の表示画面を示す図である。It is a figure which shows the display screen of a process setting. 除去用レーザ光の照射領域を説明する図である。It is a figure explaining the irradiation area|region of the removal laser beam. 加工処理の処理内容を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows processing contents of processing processing. タイミング決定処理の処理内容を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing content of a timing determination process. 除去時間テーブルを説明する図である。It is a figure explaining a removal time table. 補正値算出処理の処理内容を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows processing contents of amendment value calculation processing. 塗り潰しのあるオブジェクトにおける線分間隔を説明する図である。It is a figure explaining the line segment space|interval in the object with painting. パターン補正テーブルを説明する図である。It is a figure explaining a pattern correction table. 除去処理の処理内容を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process content of a removal process. 補正値算出処理の処理内容を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows the processing contents of amendment value calculation processing. 加工パターンに複数のオブジェクトがある場合におけるオブジェクト間隔を説明する図である。It is a figure explaining the object space|interval in case a processing pattern has several objects. 品質補正テーブルを説明する図である。It is a figure explaining a quality correction table.

<レーザ加工装置の概略構成>
本実施形態に係るレーザ加工装置1の概略構成について図1を用いて説明する。本実施形態に係るレーザ加工装置1は、PC(Personal Computer)7、レーザ加工部2、レーザコントローラ5などを備える。また、レーザ加工部2は、レーザヘッド部3および電源ユニット6などを有する。レーザ加工部2は、レーザコントローラ5から送信される情報に基づいて、加工対象物Wの加工面WAに対してレーザ光Lを2次元走査して文字、記号、図形等をマーキングするレーザ加工を行う。以下の説明において、レーザ加工を印字と記載する場合がある。
<Schematic configuration of laser processing device>
A schematic configuration of the laser processing apparatus 1 according to this embodiment will be described with reference to FIG. The laser processing apparatus 1 according to this embodiment includes a PC (Personal Computer) 7, a laser processing unit 2, a laser controller 5, and the like. The laser processing unit 2 also includes a laser head unit 3 and a power supply unit 6. The laser processing unit 2 performs laser processing for two-dimensionally scanning the laser beam L on the processing surface WA of the processing target W based on the information transmitted from the laser controller 5 to mark characters, symbols, figures and the like. To do. In the following description, laser processing may be described as printing.

PC7は、例えばノートPCなどで実現され、LCD(Liquid Crystal Display)77、キーボード76、およびマウス78などを備え、ユーザからの加工命令を受け付け、印字データを作成し、レーザコントローラ5へ出力する。ここで、印字データとは、レーザ加工においてレーザ光Lにより描画される加工パターンの形状を示すXY座標データと、XY座標データにレーザ加工の条件を示す加工条件データとが対応付けられたデータである。レーザコントローラ5はコンピュータなどで実現され、レーザ加工部2およびPC7と双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ5はPC7から出力された印字データに基づいてレーザ加工部2を制御する。以後の説明において、方向は図1に示す方向を用いる。   The PC 7 is realized by, for example, a notebook PC, includes an LCD (Liquid Crystal Display) 77, a keyboard 76, a mouse 78, and the like, receives a processing command from a user, creates print data, and outputs the print data to the laser controller 5. Here, the print data is data in which XY coordinate data indicating a shape of a processing pattern drawn by the laser beam L in laser processing and processing condition data indicating laser processing conditions are associated with the XY coordinate data. is there. The laser controller 5 is realized by a computer or the like, and is connected to the laser processing unit 2 and the PC 7 so as to be capable of bidirectional communication. The laser controller 5 controls the laser processing unit 2 based on the print data output from the PC 7. In the following description, the direction shown in FIG. 1 is used.

レーザヘッド部3は、本体ベース11、レーザ光Lを出射するレーザ光出射部12、光シャッター部13、光ダンパー(不図示)、ハーフミラー(不図示)、ガイド光部15、反射ミラー17、光センサ20、ガルバノスキャナ18、およびfθレンズ19などを有し、不図示の略直方体形状の筐体カバーで覆われている。   The laser head unit 3 includes a main body base 11, a laser light emitting unit 12 for emitting the laser light L, an optical shutter unit 13, an optical damper (not shown), a half mirror (not shown), a guide light unit 15, a reflection mirror 17, It has an optical sensor 20, a galvano scanner 18, an fθ lens 19 and the like, and is covered with a substantially rectangular parallelepiped casing cover (not shown).

レーザ光出射部12は、レーザ発振器21、およびビームエキスパンダ22などを有する。レーザ光出射部12は本体ベース11に取り付けられており、励起用レーザ光出射部40(後述)から出射される励起用レーザ光が光ファイバFを介して入射される。レーザ発振器21は、不図示の例えばYAGレーザおよび受動Qスイッチなどを有する。レーザ発振器21は光ファイバFを介して入射される励起用レーザ光に応じて、加工対象物Wの加工面WAに加工を行うためのパルス状のレーザ光Lを出射する。ビームエキスパンダ22は、レーザ発振器21と同軸に設けられており、レーザ光Lのビーム径を調整する。尚、レーザ発振器21がレーザ光Lを出射する方向が前方向であり、レーザヘッド部3の上下方向及び前後方向に直交する方向が、レーザヘッド部3の左右方向である。   The laser light emitting unit 12 has a laser oscillator 21, a beam expander 22, and the like. The laser light emitting portion 12 is attached to the main body base 11, and the excitation laser light emitted from the excitation laser light emitting portion 40 (described later) is incident through the optical fiber F. The laser oscillator 21 has, for example, a YAG laser and a passive Q switch, which are not shown. The laser oscillator 21 emits pulsed laser light L for performing processing on the processing surface WA of the processing target W in response to the excitation laser light input through the optical fiber F. The beam expander 22 is provided coaxially with the laser oscillator 21, and adjusts the beam diameter of the laser light L. The direction in which the laser oscillator 21 emits the laser beam L is the front direction, and the direction orthogonal to the vertical direction and the front-back direction of the laser head unit 3 is the horizontal direction of the laser head unit 3.

光シャッター部13は、シャッターモータ26および平板状のシャッター27を有する。シャッター27は、シャッターモータ26のモータ軸に取り付けられて同軸に回転する。シャッター27は、ビームエキスパンダ22から出射されたレーザ光Lの光路を遮る位置に回転された際には、レーザ光Lを光ダンパーへ反射する。光ダンパーはシャッター27で反射されたレーザ光Lを吸収する。一方、シャッター27がビームエキスパンダ22から出射されたレーザ光Lの光路を遮らない位置に回転された際には、ビームエキスパンダ22から出射されたレーザ光Lは、光シャッター部13の前側に配置されたハーフミラーに入射する。ハーフミラーは、後側から入射されるレーザ光Lのほぼ全部を透過し、一部を反射ミラー17へ反射する。ハーフミラーを透過したレーザ光Lはガルバノスキャナ18に入射される。反射ミラー17は入射されたレーザ光Lを光センサ20へ反射する。光センサ20は、入射されたレーザ光Lの発光強度に応じた信号をレーザコントローラ5へ出力する。   The optical shutter unit 13 has a shutter motor 26 and a flat shutter 27. The shutter 27 is attached to the motor shaft of the shutter motor 26 and rotates coaxially. The shutter 27 reflects the laser light L to the optical damper when it is rotated to a position that blocks the optical path of the laser light L emitted from the beam expander 22. The light damper absorbs the laser light L reflected by the shutter 27. On the other hand, when the shutter 27 is rotated to a position that does not block the optical path of the laser light L emitted from the beam expander 22, the laser light L emitted from the beam expander 22 is directed to the front side of the optical shutter unit 13. It is incident on the arranged half mirror. The half mirror transmits almost all of the laser light L incident from the rear side and reflects a part of the laser light L to the reflection mirror 17. The laser beam L transmitted through the half mirror is incident on the galvano scanner 18. The reflection mirror 17 reflects the incident laser light L to the optical sensor 20. The optical sensor 20 outputs a signal according to the emission intensity of the incident laser light L to the laser controller 5.

ガイド光部15は、ガイド光レーザ28(図2)およびレンズ群(不図示)などを有する。ガイド光レーザ28は例えば赤色の、可視レーザ光を出射する半導体レーザである。レンズ群(不図示)は可視レーザ光を平行光に収束する。ガイド光部15はハーフミラーの右側に配置されている。ハーフミラーはガイド光部15から出射された可視レーザ光であるガイド光をガルバノスキャナ18へ向けて反射する。ここで、ハーフミラーにより反射されたガイド光の光路と、ハーフミラーを透過したレーザ光Lの光路とは一致する。尚、ガイド光は、レーザ加工の際に加工対象物Wの位置合わせに用いられるものである。   The guide light unit 15 has a guide light laser 28 (FIG. 2) and a lens group (not shown). The guide light laser 28 is, for example, a red semiconductor laser that emits visible laser light. A lens group (not shown) focuses the visible laser light into parallel light. The guide light unit 15 is arranged on the right side of the half mirror. The half mirror reflects the guide light, which is the visible laser light emitted from the guide light unit 15, toward the galvano scanner 18. Here, the optical path of the guide light reflected by the half mirror and the optical path of the laser light L transmitted through the half mirror match. The guide light is used to align the workpiece W during laser processing.

ガルバノスキャナ18は、本体ベース11の前側端部に形成された貫通孔(不図示)の上側に取り付けられている。ガルバノスキャナ18は、ガルバノX軸モータ31、ガルバノY軸モータ32、本体部33などを有する。ガルバノX軸モータ31およびガルバノY軸モータ32の各々は、モータ軸およびモータ軸の先端部に取り付けられた走査ミラーを有する。ガルバノX軸モータ31およびガルバノY軸モータ32は、各々のモータ軸が互いに直交し、各々の走査ミラーが互いに対向するように、本体部33に取り付けられている。各モータ31,32が回転することにより、各走査ミラーが回転する。これにより、レーザ光Lおよびガイド光が2次元走査される。ここで、走査方向は、レーザヘッド部3の方向において、前から後へ向かうX方向と、右から左へ向かうY方向である。   The galvano scanner 18 is attached to the upper side of a through hole (not shown) formed at the front end of the main body base 11. The galvano scanner 18 includes a galvano X-axis motor 31, a galvano Y-axis motor 32, a main body 33, and the like. Each of the Galvano X-axis motor 31 and the Galvano Y-axis motor 32 has a motor shaft and a scanning mirror attached to the tip of the motor shaft. The galvano X-axis motor 31 and the galvano Y-axis motor 32 are attached to the main body 33 such that their motor axes are orthogonal to each other and their scanning mirrors face each other. As each motor 31, 32 rotates, each scanning mirror rotates. As a result, the laser light L and the guide light are two-dimensionally scanned. Here, the scanning directions are the X direction from the front to the rear and the Y direction from the right to the left in the direction of the laser head unit 3.

fθレンズ19は、ガルバノスキャナ18によって2次元走査されたレーザ光Lとガイド光とを下方に配置された加工対象物Wの加工面WAに集光させる。   The fθ lens 19 focuses the laser light L two-dimensionally scanned by the galvano scanner 18 and the guide light on the processing surface WA of the processing object W arranged below.

電源ユニット6は、励起用レーザ光出射部40、励起用レーザドライバ51、および電源部52などを有する。電源部52は不図示の電源コードを介して商用電源に接続される。電源部52は給電される交流電力を直流電力に変換し、レーザ加工部2の各部へ給電する。励起用レーザドライバ51は、レーザコントローラ5からの命令に応じて、励起用レーザ光出射部40を駆動する。励起用レーザ光出射部40は光ファイバFを介してレーザ発振器21と光学的に接続されている。励起用レーザ光出射部40は半導体レーザを有し、励起用レーザドライバ51から供給される駆動電流の電流値に応じたパワーの励起用レーザ光を光ファイバF内に出射する。   The power supply unit 6 includes an excitation laser light emitting unit 40, an excitation laser driver 51, a power supply unit 52, and the like. The power supply unit 52 is connected to a commercial power supply via a power cord (not shown). The power supply unit 52 converts the supplied AC power into DC power and supplies the power to each unit of the laser processing unit 2. The pumping laser driver 51 drives the pumping laser light emitting unit 40 according to a command from the laser controller 5. The excitation laser light emitting section 40 is optically connected to the laser oscillator 21 via an optical fiber F. The pumping laser light emitting unit 40 has a semiconductor laser, and emits into the optical fiber F a pumping laser light having a power corresponding to the current value of the drive current supplied from the pumping laser driver 51.

<レーザ加工装置の電気的構成>
次に、レーザ加工装置1の電気的構成について、図2を用いて説明する。PC7は、図1で示した構成の他に、制御部70、制御回路74などを備える。制御部70は、CPU71、RAM72、ROM73、およびHDD(Hard Disk Drive)75等を有する。PC7にはレーザ加工のためのアプリケーションソフトウェアが予めインストールされている。ROM73にはファームウェアなどが記憶されている。RAM72はCPU71が各種の処理を実行するための主記憶装置として用いられる。また、HDD75には加工処理のプログラムおよび文字パラメータ情報などが記憶されている。文字パラメータ情報とは、フォント毎のパラメータ情報であり、例えばストロークフォントの場合には、文字の中心の点の座標と、各点を結ぶ線を表す式のパラメータなどの情報である。また、アウトラインフォントの場合には、文字の輪郭線を構成する点の座標と、各点を結ぶ線を表す式のパラメータなどの情報である。CPU71、RAM72、およびROM73は、不図示のバス線により相互に接続されている。また、CPU71とHDD75は、不図示の入出力インターフェースを介して接続されている。
<Electrical configuration of laser processing equipment>
Next, the electrical configuration of the laser processing device 1 will be described with reference to FIG. The PC 7 includes a control unit 70, a control circuit 74, and the like in addition to the configuration shown in FIG. The control unit 70 includes a CPU 71, a RAM 72, a ROM 73, an HDD (Hard Disk Drive) 75, and the like. Application software for laser processing is pre-installed in the PC 7. Firmware and the like are stored in the ROM 73. The RAM 72 is used as a main storage device for the CPU 71 to execute various processes. Further, the HDD 75 stores a processing program, character parameter information, and the like. The character parameter information is parameter information for each font. For example, in the case of a stroke font, it is information such as the coordinates of the center point of the character and the parameters of the formula expressing the line connecting the points. Further, in the case of the outline font, it is information such as the coordinates of the points forming the outline of the character and the parameters of the formula expressing the line connecting the points. The CPU 71, the RAM 72, and the ROM 73 are connected to each other by a bus line (not shown). Further, the CPU 71 and the HDD 75 are connected via an input/output interface (not shown).

制御回路74は、LCD77、キーボード76、マウス78などと電気的に接続されており、キーボード76およびマウス78が受け付けた操作を信号に変換して、CPU71へ出力する。また、CPU71からの命令に応じた表示画面をLCD77に表示させる。   The control circuit 74 is electrically connected to the LCD 77, the keyboard 76, the mouse 78, etc., converts the operation received by the keyboard 76 and the mouse 78 into a signal, and outputs the signal to the CPU 71. Further, the LCD 77 displays a display screen corresponding to the instruction from the CPU 71.

レーザコントローラ5は、例えばコンピュータなどで実現され、CPU41、RAM42、ROM43等を有する。CPU41はROM43に記憶されている各種のプログラムを実行することによって、後述のガルバノコントローラ56、ガイド光レーザドライバ58、および励起用レーザドライバ51などを制御する。RAM42はCPU41が各種の処理を実行するための主記憶装置として用いられる。尚、CPU41、RAM42、ROM43は、不図示のバス線により相互に接続されている。レーザコントローラ5は、PC7から出力される印字データに基づき、ガルバノスキャナ18の駆動角度および回転速度などを含む駆動情報および励起用レーザドライバ51の駆動電流値などを含む駆動情報を作成する。   The laser controller 5 is realized by, for example, a computer and has a CPU 41, a RAM 42, a ROM 43 and the like. The CPU 41 executes various programs stored in the ROM 43 to control a galvano controller 56, a guide light laser driver 58, an excitation laser driver 51, and the like, which will be described later. The RAM 42 is used as a main storage device for the CPU 41 to execute various processes. The CPU 41, the RAM 42, and the ROM 43 are connected to each other by a bus line (not shown). The laser controller 5 creates drive information including drive angle and rotation speed of the galvano scanner 18 and drive information including drive current value of the excitation laser driver 51 based on the print data output from the PC 7.

レーザヘッド部3は、図1で示した構成の他に、ガルバノコントローラ56、ガルバノドライバ36、およびガイド光レーザドライバ58などを有する。ガルバノコントローラ56は、レーザコントローラ5から入力された駆動情報に基づいて、例えば駆動電流値、ON・OFFなどの制御信号をガルバノドライバ36へ出力する。ガルバノドライバ36は、ガルバノコントローラ56から入力された制御信号に応じた駆動電流をガルバノX軸モータ31およびガルバノY軸モータ32へ供給する。   The laser head unit 3 has a galvano controller 56, a galvano driver 36, a guide light laser driver 58, and the like in addition to the configuration shown in FIG. The galvano controller 56 outputs control signals such as a drive current value and ON/OFF to the galvano driver 36 based on the drive information input from the laser controller 5. The galvano driver 36 supplies a driving current corresponding to the control signal input from the galvano controller 56 to the galvano X-axis motor 31 and the galvano Y-axis motor 32.

<除去処理の概要>
加工対象物Wにレーザ加工が行われると、加工対象物Wの材料によっては、発生した生成物が加工対象物Wに付着した後、時間経過により生成物が加工対象物Wに固着してしまう場合がある。固着し易い加工対象物Wは、例えば、ラベルに用いられる、接着剤が塗布された紙などである。そこで、レーザ加工装置1は、レーザ加工におけるレーザ光Lよりも、エネルギー密度の小さいレーザ光Lを加工対象物に照射する。これにより、レーザ加工装置1は、加工対象物Wに付着した生成物を除去することができる。以下の説明において、レーザ加工におけるレーザ光Lを加工用レーザ光、加工用レーザ光よりもエネルギー密度の小さいレーザ光Lを、除去用レーザ光と称する。また、加工用レーザ光を照射する処理をレーザ加工処理、除去用レーザ光を照射する処理を除去処理と称する。レーザ加工装置1は、除去タイミングが到来すると、レーザ加工処理を中断し、除去処理を実行する。尚、除去用レーザ光のエネルギー密度は、加工対象物Wを融解する、削るなどの加工が行われない程度の大きさである。これにより、レーザ加工装置1は、除去用レーザ光を照射することにより、加工対象物Wに加工を行うことなく、生成物を除去することができる。
<Outline of removal process>
When laser processing is performed on the processing target W, depending on the material of the processing target W, after the generated product adheres to the processing target W, the product sticks to the processing target W over time. There are cases. The object W to be easily fixed is, for example, a paper used for a label and coated with an adhesive. Therefore, the laser processing apparatus 1 irradiates the processing target with the laser light L having an energy density lower than that of the laser light L in the laser processing. Thereby, the laser processing apparatus 1 can remove the product attached to the processing target W. In the following description, the laser light L in laser processing will be referred to as processing laser light, and the laser light L having an energy density smaller than that of processing laser light will be referred to as removal laser light. Further, the process of irradiating the processing laser beam is called a laser processing process, and the process of irradiating the removing laser beam is called a removing process. When the removal timing arrives, the laser processing apparatus 1 interrupts the laser processing process and executes the removal process. The energy density of the laser light for removal is such that the object W to be processed is not melted or cut. As a result, the laser processing apparatus 1 can remove the product by irradiating the removal laser beam without processing the object W to be processed.

<加工処理>
次に、CPU71が実行する加工処理について説明する。レーザ加工装置1の電源がONされ、レーザ加工のためのアプリケーションが起動されると、PC7はメイン画面(不図示)をLCD77に表示する。ユーザはメイン画面にて、加工したい文字、記号、図形などの情報である印字情報を入力する。ここで、ユーザが入力する、加工したい文字、記号、図形などのパターンが加工パターンである。CPU71は印字情報が入力されると、印字情報をRAM72に記憶させる。次に、ユーザはマウス78などを操作して、メイン画面に表示される、加工に関する設定を受付ける加工設定ボタン(不図示)を選択する。PCは加工設定ボタンが選択されると図3に示す加工設定画面100を表示する。
<Processing>
Next, the processing process executed by the CPU 71 will be described. When the laser processing apparatus 1 is turned on and an application for laser processing is activated, the PC 7 displays a main screen (not shown) on the LCD 77. The user inputs print information, which is information such as characters, symbols, and figures to be processed, on the main screen. Here, a pattern such as a character, a symbol, or a figure to be processed, which the user inputs, is a processing pattern. When the print information is input, the CPU 71 stores the print information in the RAM 72. Next, the user operates the mouse 78 or the like to select a processing setting button (not shown) displayed on the main screen for accepting the setting regarding processing. When the processing setting button is selected, the PC displays the processing setting screen 100 shown in FIG.

加工設定画面100には、加工材料プルダウンメニュー101、パワー設定ボタン102、走査速度設定ボタン103、除去時間プルダウンメニュー104、除去範囲プルダウンメニュー105、除去品質設定ボタン106、およびOKボタン107などが表示される。加工材料プルダウンメニュー101は予め設定されている材料種別の何れかを選択させるものである。パワー設定ボタン102は、加工用レーザのパワーを小〜大の範囲で選択させるものである。走査速度設定ボタン103は、レーザ加工におけるガルバノスキャナ18の走査速度を遅〜早の範囲で選択させるものである。除去時間プルダウンメニュー104は、除去時間を受け付けるものである。ここで、除去時間とは、除去タイミングが到来したか否かをCPU71が判断するのに使用する時間である。詳しくは、CPU71は、加工用レーザ光の照射時間に応じた時間である、レーザ加工処理の実行時間が除去時間となると、除去タイミングが到来したと判断する。尚、除去時間の単位はsecである。ユーザは、除去時間を所望の値に設定したい場合、チェックボックスにチェックを入れ、除去時間プルダウンメニュー104にて値を入力する。除去範囲プルダウンメニュー105は、除去用レーザ光が照射される除去範囲の設定を受け付けるものである。ここで、除去範囲とは、レーザ加工装置1が除去用レーザ光を照射する領域である。除去品質設定ボタン106は、除去処理のモードを、きれい〜はやい、の範囲で選択させるものである。   On the processing setting screen 100, a processing material pull-down menu 101, a power setting button 102, a scanning speed setting button 103, a removal time pull-down menu 104, a removal range pull-down menu 105, a removal quality setting button 106, an OK button 107, etc. are displayed. It The processing material pull-down menu 101 is for selecting one of preset material types. The power setting button 102 is used to select the power of the processing laser in the range of small to large. The scanning speed setting button 103 is for selecting the scanning speed of the galvano scanner 18 in laser processing in the range of slow to fast. The removal time pull-down menu 104 receives the removal time. Here, the removal time is the time used by the CPU 71 to determine whether the removal timing has come. Specifically, the CPU 71 determines that the removal timing has come when the execution time of the laser processing, which is the time corresponding to the irradiation time of the processing laser light, reaches the removal time. The unit of the removal time is sec. When the user wants to set the removal time to a desired value, he or she checks the check box and inputs the value in the removal time pull-down menu 104. The removal range pull-down menu 105 is for receiving the setting of the removal range irradiated with the removal laser beam. Here, the removal range is a region where the laser processing apparatus 1 irradiates the removal laser beam. The removal quality setting button 106 is used to select a removal processing mode in a range from clean to fast.

次に、図4を用いて、除去範囲について詳しく説明する。除去範囲の選択肢には、(1)全体(2)オブジェクト単位(3)照射部分、の3つがある。尚、オブジェクトとは、一連の文字、記号、図形などである。ここでは、加工パターンにオブジェクトobj1〜obj3の3つがある場合を例に説明する。オブジェクトobj1は「ABCD」のアルファベット、obj2は「あいうえお」の文字、obj3はバーコードである。また、オブジェクトobj2の点200まで、加工用レーザの照射が終了しているものとする。(1)全体は、オブジェクトobj1〜obj3を含む1つの領域である領域201を除去範囲とする場合である。詳しくは、除去範囲は、オブジェクトobj1〜obj3の外側で、オブジェクトobj1〜obj3と接する矩形の領域である。(2)オブジェクト単位は、オブジェクトobj1〜obj3に対応する複数の領域である領域202〜204を除去範囲とする場合である。尚、領域202〜204の各々はオブジェクトobj1〜obj3の各々を含む領域である。詳しくは、除去範囲は、オブジェクトobj1〜obj3の各々の外側で、オブジェクトobj1〜obj3の各々と接する矩形の領域である。(3)照射部分は、オブジェクトobj1〜obj3の各々に対応する複数の領域のうち、加工用レーザが照射された部分205、206を除去範囲とする場合である。   Next, the removal range will be described in detail with reference to FIG. There are three options for the removal range: (1) whole (2) object unit (3) irradiation part. The object is a series of characters, symbols, figures, and the like. Here, a case where the processing pattern has three objects obj1 to obj3 will be described as an example. The object obj1 is the alphabet "ABCD", obj2 is the character "aiueo", and obj3 is the barcode. Further, it is assumed that the irradiation of the processing laser has been completed up to the point 200 of the object obj2. (1) The whole case is the case where the removal range is the area 201, which is one area including the objects obj1 to obj3. Specifically, the removal range is a rectangular area outside the objects obj1 to obj3 and in contact with the objects obj1 to obj3. (2) The object unit is a case where areas 202 to 204, which are a plurality of areas corresponding to the objects obj1 to obj3, are set as the removal range. Each of the areas 202 to 204 is an area including each of the objects obj1 to obj3. Specifically, the removal range is a rectangular area outside each of the objects obj1 to obj3 and in contact with each of the objects obj1 to obj3. (3) The irradiation portion is a case where, of the plurality of regions corresponding to each of the objects obj1 to obj3, the portions 205 and 206 irradiated with the processing laser are the removal range.

ユーザは加工設定画面100の入力を終了すると、OKボタン107(図3)を選択する。CPU71は、OKボタン107が選択されると、入力値をRAM72に記憶させる。   When the user finishes inputting the processing setting screen 100, the user selects the OK button 107 (FIG. 3). When the OK button 107 is selected, the CPU 71 stores the input value in the RAM 72.

CPU71は、メイン画面における入力値およびRAM72に記憶されている印字情報に基づき、XY座標データを作成し、RAM72に記憶する。詳しくは、CPU71は、加工パターンの全ての線を線分に分解して、線分に対して始点座標、終点座標を指定したXY座標データを作成する。例えば、加工パターンが文字もしくは記号である場合には、CPU71は、ROM73に記憶されている文字パラメータ情報から、印字情報に含まれるフォントの種別に対応する情報を抽出し、印字情報に含まれる、大きさおよび位置に基づき、XY座標データを作成する。また、CPU71は、加工設定画面100の入力値に基づいて、XY座標データの1つの線分もしくは複数の線分を含む範囲毎に、加工レーザ光のパワー、パルス幅、照射回数、線分間隔Dline、オブジェクト間隔Dobj、ガルバノスキャナ18の走査速度などを算出してレーザ加工の条件を示す加工条件データを作成し、XY座標データに対応付けて、印字データを作成する。   The CPU 71 creates XY coordinate data based on the input value on the main screen and the print information stored in the RAM 72, and stores the XY coordinate data in the RAM 72. Specifically, the CPU 71 decomposes all the lines of the processing pattern into line segments, and creates XY coordinate data in which start point coordinates and end point coordinates are specified for the line segments. For example, when the processing pattern is a character or a symbol, the CPU 71 extracts information corresponding to the font type included in the print information from the character parameter information stored in the ROM 73 and includes the information in the print information. XY coordinate data is created based on the size and position. Further, the CPU 71, based on the input value of the processing setting screen 100, the power of the processing laser light, the pulse width, the number of irradiations, and the line segment interval for each line segment of the XY coordinate data or for each range including a plurality of line segments. Dline, the object interval Dobj, the scanning speed of the galvano scanner 18 and the like are calculated to create processing condition data indicating laser processing conditions, and print data is created in association with the XY coordinate data.

レーザ加工を開始させたい場合、ユーザはメイン画面に表示される加工実行ボタン(不図示)を選択する。CPU71は加工実行ボタンが選択されると、図5に示す加工処理を開始する。CPU71は加工処理において、除去タイミングを判断するために、変数である判断時間を使用する。   When the user wants to start laser processing, the user selects a processing execution button (not shown) displayed on the main screen. When the processing execution button is selected, the CPU 71 starts the processing processing shown in FIG. In the processing, the CPU 71 uses a judgment time which is a variable to judge the removal timing.

CPU71は、まず、タイミング決定処理を実行する(S1)。タイミング決定処理について、図6を用いて説明する。タイミング決定処理を開始すると、CPU71はまず、RAM72に記憶されている加工設定画面100における入力値に基づき、除去時間の指定があるか否かを判断する(S21)。除去時間プルダウンメニュー104のチェックボックスにチェックがあった場合、CPU71は除去時間の指定ありと判断し、チェックボックスにチェックがない場合、除去時間の指定なしと判断する。除去時間の指定があると判断すると(S21:YES)、CPU71は除去時間プルダウンメニュー104の入力値を除去時間に決定し(S33)、タイミング決定処理を終了する。一方、除去時間の指定がなしと判断すると(S21:NO)、CPU71は除去時間を決定するため、まず、パワーパラメータPWRおよび速度パラメータSPDの値を取得する(S23)。パワーパラメータPWRおよび速度パラメータSPDは0〜10の整数を値とする。パワーパラメータPWRは、加工設定画面100におけるパワー設定ボタン102の入力値に応じて、決められる。詳しくは、パワー設定ボタン102は、加工用レーザのパワーを0(大)〜10(小)の11段階で受け付けるものであり、CPU71は受け付けた段階に応じて、パワーパラメータPWRの値に決定する。例えば、パワー設定ボタン102の入力値が「大」である場合、CPU71はパワーパラメータPWRを0とする。速度パラメータSPDは、加工設定画面100における走査速度設定ボタン103の入力値に応じて、決められる。詳しくは、走査速度設定ボタン103は、ガルバノスキャナ18の速度を0(遅)〜10(速)の11段階で受け付けるものであり、CPU71は受け付けた段階に応じて、速度パラメータSPDの値に決定する。例えば、走査速度設定ボタン103の入力値が「遅」である場合、CPU71は速度パラメータSPDを0とする。   The CPU 71 first executes timing determination processing (S1). The timing determination process will be described with reference to FIG. When the timing determination process is started, the CPU 71 first determines whether or not the removal time is designated based on the input value on the machining setting screen 100 stored in the RAM 72 (S21). If the check box of the removal time pull-down menu 104 is checked, the CPU 71 determines that the removal time is specified, and if the check box is not checked, it is determined that the removal time is not specified. When determining that the removal time is designated (S21: YES), the CPU 71 determines the input value of the removal time pull-down menu 104 as the removal time (S33), and ends the timing determination process. On the other hand, if it is determined that the removal time is not designated (S21: NO), the CPU 71 first determines the values of the power parameter PWR and the speed parameter SPD to determine the removal time (S23). The power parameter PWR and the speed parameter SPD have integers of 0 to 10 as values. The power parameter PWR is determined according to the input value of the power setting button 102 on the processing setting screen 100. More specifically, the power setting button 102 receives the power of the processing laser in 11 steps from 0 (large) to 10 (small), and the CPU 71 determines the value of the power parameter PWR according to the received step. .. For example, when the input value of the power setting button 102 is “large”, the CPU 71 sets the power parameter PWR to 0. The speed parameter SPD is determined according to the input value of the scanning speed setting button 103 on the processing setting screen 100. More specifically, the scan speed setting button 103 receives the speed of the galvano scanner 18 in 11 steps from 0 (slow) to 10 (speed), and the CPU 71 determines the value of the speed parameter SPD according to the received step. To do. For example, when the input value of the scanning speed setting button 103 is “slow”, the CPU 71 sets the speed parameter SPD to 0.

次に、CPU71は、パワーパラメータPWRの値と、速度パラメータSPDの値とを合計する(S25)。ここで合計した値は、除去の除去時間を決定するための条件パラメータPARAMの値となる。次に、CPU71は、図7に示す除去時間テーブル111に基づいて、除去時間を決定する(S27)。除去時間テーブル111は、材料種別毎に、条件パラメータPARAMの値に除去時間の値が対応づけられたテーブルである。ここで、材料種別は、加工材料プルダウンメニュー101の選択肢と一致している。CPU71は、除去時間テーブル111を参照し、加工材料プルダウンメニュー101の入力値である列にて、条件パラメータPARAMの値を検索し、該当する値を除去時間とする。例えば、材料種別が材料1で条件パラメータPARAMの値が2であれば、除去時間は30となる。   Next, the CPU 71 sums the value of the power parameter PWR and the value of the speed parameter SPD (S25). The value summed here becomes the value of the condition parameter PARAM for determining the removal time of removal. Next, the CPU 71 determines the removal time based on the removal time table 111 shown in FIG. 7 (S27). The removal time table 111 is a table in which the value of the removal parameter is associated with the value of the condition parameter PARAM for each material type. Here, the material type matches the option of the processing material pull-down menu 101. The CPU 71 refers to the removal time table 111, searches the column of the input value of the processing material pull-down menu 101 for the value of the condition parameter PARAM, and sets the corresponding value as the removal time. For example, if the material type is material 1 and the value of the condition parameter PARAM is 2, the removal time is 30.

次に、CPU71は、補正値算出処理を実行する(S29)。補正値算出処理については図8を用いて説明する。まず、CPU71は線分間隔DlineをRAM72から読み出す(S41)。ここで、線分間隔Dlineについて図9を用いて説明する。オブジェクトの種別により、走査手順は予め決められている。例えば、オブジェクトが塗り潰しのあるアウトラインフォントの場合には、まず、文字の輪郭であるアウトラインに沿ってベクター走査し、次に、アウトラインで囲まれた領域を、ラスタ走査する。詳しくは、走査方向と垂直な垂直方向に所定間隔に並ぶ複数の線分を順に走査方向に沿って走査する。例えば、オブジェクトがストロークフォントもしくは単線図形の場合には、ベクター走査する。また、印字データにオブジェクトが複数ある場合には、定められた加工順に従って順次走査する。図9は、塗り潰しのあるアウトラインフォントのアルファベットAであるオブジェクトobj4を示している。実線は、輪郭を示し、破線は、塗り潰し部分の線分を示している。また、図9における左右方向が走査方向である。塗り潰し部分の線分の間隔が、線分間隔Dlineである。次に、CPU71は、補正値CTを次式により算出する(S43:図8)。
CT=−Ka/Dline
ここで、Kaは所定の定数である。次に、CPU71は、図10に示すパターン補正テーブル112に基づいて、パターン補正値PTを取得する(S45)。パターン補正テーブル112は、オブジェクトの種別にパターン補正値PTの値が対応付けられたものである。CPU71は、レーザ加工において最初に加工用レーザ光を照射するオブジェクトの種別に対応するパターン補正値PTの値をパターン補正値PTの値とする。次に、CPU71は、補正値CTにパターン補正値PTを加算した値を補正値CTとしてRAM72に記憶し(S47)、補正値算出処理を終了する。
Next, the CPU 71 executes a correction value calculation process (S29). The correction value calculation process will be described with reference to FIG. First, the CPU 71 reads the line segment interval Dline from the RAM 72 (S41). Here, the line segment interval Dline will be described with reference to FIG. The scanning procedure is predetermined according to the type of object. For example, when the object is a filled outline font, vector scanning is first performed along the outline that is the outline of the character, and then the area surrounded by the outline is raster-scanned. Specifically, a plurality of line segments lined up at predetermined intervals in the vertical direction perpendicular to the scanning direction are sequentially scanned along the scanning direction. For example, when the object is a stroke font or a single line figure, vector scanning is performed. If the print data includes a plurality of objects, the objects are sequentially scanned according to a predetermined processing order. FIG. 9 shows an object obj4 that is the alphabet A of a filled outline font. The solid line indicates the contour, and the broken line indicates the line segment of the filled portion. Further, the horizontal direction in FIG. 9 is the scanning direction. The line segment interval of the filled portion is the line segment interval Dline. Next, the CPU 71 calculates the correction value CT by the following formula (S43: FIG. 8).
CT=-Ka/Dline
Here, Ka is a predetermined constant. Next, the CPU 71 acquires the pattern correction value PT based on the pattern correction table 112 shown in FIG. 10 (S45). In the pattern correction table 112, the value of the pattern correction value PT is associated with the type of object. The CPU 71 sets the value of the pattern correction value PT corresponding to the type of the object to which the processing laser beam is first irradiated in the laser processing as the value of the pattern correction value PT. Next, the CPU 71 stores the value obtained by adding the pattern correction value PT to the correction value CT as the correction value CT in the RAM 72 (S47), and ends the correction value calculation process.

図6に戻り、CPU71は、除去時間に補正値CTを加算した値を、除去時間と設定して(S31)、タイミング決定処理を終了する。尚、ステップS31において、除去時間に補正値を加算した値が5未満の場合には、除去時間を5とする。   Returning to FIG. 6, the CPU 71 sets the value obtained by adding the correction value CT to the removal time as the removal time (S31), and ends the timing determination process. If the value obtained by adding the correction value to the removal time is less than 5 in step S31, the removal time is set to 5.

CPU71はステップS1実行後、レーザコントローラ5にレーザ加工の開始を指示する(S3:図5)。これにより、レーザコントローラ5は、レーザ加工部2を制御して、加工パターンに基づいて、パワー設定ボタン102の入力値に応じたエネルギー密度の加工用レーザ光を加工対象物Wに照射させるレーザ加工処理(加工処理の一例)を開始する。また、CPU71は、判断時間を初期値の0にセットし、レーザ加工の開始を指示してからの経過時間の計測をスタートする。次に、CPU71は、経過時間の計測を中止し、判断時間が除去時間以上となったか否かを判断する(S5)。尚、加工処理を開始後、最初のステップS5では、判断時間は0であるため、判断時間が除去時間以上となっていないと判断される。判断時間が除去時間以上となっていないと判断すると(S5:NO)、CPU71は経過時間を判断時間に加算し、経過時間の計測をリスタートする(S11)。次に、CPU71はレーザ加工処理が終了したか否かを判断する(S13)。詳しくは、CPU71はレーザコントローラ5へ、加工用レーザ光の照射が終了したかを問い合わせ、終了したとの信号を受け付けると、加工用レーザ光の照射が終了したと判断する。レーザ加工処理が終了していないと判断すると(S13:NO)、CPU71はステップS5へ戻る。ステップS11にて経過時間が判断時間に加算されて、判断時間が除去時間以上となったと判断すると(S5:YES)、除去タイミングが到来したため、CPU71は除去処理を実行する(S7)。   After executing step S1, the CPU 71 instructs the laser controller 5 to start laser processing (S3: FIG. 5). Thereby, the laser controller 5 controls the laser processing unit 2 to cause the processing target W to be irradiated with the processing laser light having the energy density corresponding to the input value of the power setting button 102 based on the processing pattern. Processing (an example of processing) is started. Further, the CPU 71 sets the determination time to an initial value of 0, and starts measuring the elapsed time after instructing the start of laser processing. Next, the CPU 71 stops the measurement of the elapsed time and determines whether or not the determination time has become the removal time or more (S5). In the first step S5 after starting the processing, the judgment time is 0, so it is judged that the judgment time is not longer than the removal time. When the CPU 71 determines that the determination time is not longer than the removal time (S5: NO), the CPU 71 adds the elapsed time to the determination time and restarts the measurement of the elapsed time (S11). Next, the CPU 71 determines whether or not the laser processing process is completed (S13). More specifically, the CPU 71 inquires of the laser controller 5 whether the irradiation of the processing laser light has ended, and when receiving a signal indicating that the irradiation of the processing laser light has ended, the CPU 71 determines that the irradiation of the processing laser light has ended. If it is determined that the laser processing process has not been completed (S13: NO), the CPU 71 returns to step S5. When the elapsed time is added to the determination time in step S11 and it is determined that the determination time is equal to or longer than the removal time (S5: YES), the removal timing has arrived, and therefore the CPU 71 executes the removal processing (S7).

除去処理については、図11を用いて説明する。まず、CPU71は現在のガルバノスキャナ18が走査している点は、線分の終端であるか否かを判断する(S51)。詳しくは、CPU71はレーザコントローラ5へ、線分の走査中であるか否かを問い合わせ、線分の走査中ではないとの信号を受け付けると、CPU71は線分の終端であると判断する。線分の終端でないと判断すると(S51:NO)、CPU71は線分の終端であると判断するまで、ステップS51を繰り返し実行する。線分の終端であると判断すると(S51:YES)、CPU71はレーザコントローラ5に加工用レーザ光を照射するレーザ加工処理を一時停止するよう指示する(S53)。次に、CPU71はRAM72に記憶されている除去範囲プルダウンメニュー105の入力値を読み出し、除去範囲を取得する(S55)。次に、CPU71はレーザコントローラ5に除去範囲に除去用レーザ光を照射するように指示する(S57)。これにより、レーザコントローラ5は、レーザ加工部2を制御して、除去範囲に加工用レーザ光のエネルギー密度より小さいエネルギー密度の除去用レーザ光を加工対象物Wに照射させる処理を開始する。次に、CPU71は除去範囲への除去用レーザ光の照射が終了したか否かを判断する(S59)。詳しくは、CPU71はレーザコントローラ5へ、除去用レーザ光の照射が終了したかを問い合わせ、終了したとの信号を受け付けると、除去用レーザ光の照射が終了したと判断する。除去用レーザ光の照射が終了していないと判断すると(S59:NO)、CPU71は、終了したと判断するまで、ステップS59を繰り返し実行する。除去用レーザ光の照射が終了したと判断すると(S59:YES)、CPU71はレーザコントローラ5に加工用レーザ光を照射するレーザ加工処理の再開を指示し(S61)、除去処理を終了する。   The removal process will be described with reference to FIG. First, the CPU 71 determines whether or not the current scanning point of the galvano scanner 18 is the end of the line segment (S51). Specifically, the CPU 71 inquires of the laser controller 5 whether or not the line segment is being scanned, and when a signal indicating that the line segment is not being scanned is received, the CPU 71 determines that it is the end of the line segment. When it is determined that the line segment is not the end (S51: NO), the CPU 71 repeats step S51 until it is determined that the line segment is the end. When it is determined that it is the end of the line segment (S51: YES), the CPU 71 instructs the laser controller 5 to temporarily stop the laser processing process of irradiating the processing laser light (S53). Next, the CPU 71 reads the input value of the removal range pull-down menu 105 stored in the RAM 72 and acquires the removal range (S55). Next, the CPU 71 instructs the laser controller 5 to irradiate the removal range with the removal laser light (S57). As a result, the laser controller 5 controls the laser processing unit 2 to start the process of irradiating the processing target W with the removal laser light having an energy density smaller than the energy density of the processing laser light in the removal range. Next, the CPU 71 determines whether or not the irradiation of the removal laser beam to the removal range is completed (S59). More specifically, the CPU 71 inquires of the laser controller 5 whether the irradiation of the removing laser light has been completed, and when receiving a signal indicating that the irradiation of the removing laser light is completed, the CPU 71 determines that the irradiation of the removing laser light is completed. When it is determined that the removal laser beam irradiation has not been completed (S59: NO), the CPU 71 repeats step S59 until it determines that the irradiation is completed. When the CPU 71 determines that the irradiation of the removal laser light is completed (S59: YES), the CPU 71 instructs the laser controller 5 to restart the laser processing process of irradiating the processing laser light (S61), and ends the removal process.

CPU71はステップS7(図5)の実行後、判断時間を初期値の0にクリアする(S9)。次に、CPU71はレーザ加工処理が終了したか否かを判断する(S13)。レーザ加工処理が終了したと判断すると(S13:YES)、CPU71は加工処理を終了する。   After executing step S7 (FIG. 5), the CPU 71 clears the determination time to an initial value of 0 (S9). Next, the CPU 71 determines whether or not the laser processing process is completed (S13). When it is determined that the laser processing process is completed (S13: YES), the CPU 71 ends the processing process.

ここで、レーザ加工装置1はレーザ加工装置の一例であり、励起用レーザドライバ51、励起用レーザ光出射部40、およびレーザ光出射部12はレーザ光出射部の一例であり、ガルバノスキャナ18は走査部の一例であり、制御部70およびレーザコントローラ5は制御部の一例である。また、ステップS5は第1判断処理の一例であり、ステップS57は除去処理の一例であり、ステップS11は累積処理の一例であり、判断時間は累積時間の一例である。ステップS1は設定処理の一例であり、ステップS53は停止処理の一例であり、ステップS61は再開処理の一例であり、ステップS51は第2判断処理の一例である。   Here, the laser processing apparatus 1 is an example of a laser processing apparatus, the excitation laser driver 51, the excitation laser light emission unit 40, and the laser light emission unit 12 are examples of a laser light emission unit, and the galvano scanner 18 is The controller 70 and the laser controller 5 are examples of the scanning unit. Further, step S5 is an example of the first determination process, step S57 is an example of the removal process, step S11 is an example of the accumulating process, and the determination time is an example of the accumulating time. Step S1 is an example of a setting process, step S53 is an example of a stop process, step S61 is an example of a restart process, and step S51 is an example of a second determination process.

以上、説明した実施形態によれば、以下の効果を奏する。
CPU71は、励起用レーザドライバ51、励起用レーザ光出射部40、レーザ光出射部12、およびガルバノスキャナ18を制御して、加工パターンに基づいて、パワー設定ボタン102の入力値に応じたエネルギー密度のレーザ光Lである加工用レーザ光を加工対象物に照射させるレーザ加工処理を実行する。また、CPU71は加工処理の開始後、ステップS1にて除去時間を設定する。また、CPU71はステップS11にて経過時間を判断時間に加算し、経過時間を累積する。また、ステップS3にて判断時間が除去時間を超えたと判断した場合、加工パターンに基づいて、加工用レーザ光のエネルギー密度よりも小さいエネルギー密度のレーザ光Lである除去用レーザ光を加工対象物に照射させる(S57)。レーザ加工により発生する生成物は、時間に応じて再付着したり、固着したりする。そこで、生成物が発生してからの経過時間に応じている判断時間に基づき、判断時間が除去時間を超えたと判断した場合に除去処理を実行することにより、最適なタイミングで除去処理を実行することができる。
According to the embodiment described above, the following effects are achieved.
The CPU 71 controls the excitation laser driver 51, the excitation laser light emission unit 40, the laser light emission unit 12, and the galvano scanner 18, and based on the processing pattern, the energy density according to the input value of the power setting button 102. The laser processing process of irradiating the processing object with the processing laser beam that is the laser beam L is performed. Further, the CPU 71 sets the removal time in step S1 after starting the processing. Further, the CPU 71 adds the elapsed time to the determination time in step S11 and accumulates the elapsed time. Further, when it is determined that the determination time exceeds the removal time in step S3, the removal laser light, which is the laser light L having an energy density lower than the energy density of the processing laser light, is processed based on the processing pattern. (S57). The product generated by laser processing reattaches or adheres depending on time. Therefore, based on the judgment time corresponding to the elapsed time from the generation of the product, the removal process is executed when it is judged that the judgment time exceeds the removal time, so that the removal process is executed at the optimum timing. be able to.

また、CPU71はステップS27において、条件パラメータPARAMに基づいて、除去時間を決定する。条件パラメータPARAMの値は加工用レーザ光のパワーが大きい程、小さくなる。また、条件パラメータPARAMの値が小さい程、除去時間は小さく設定される。従って、加工用レーザ光のエネルギー密度が大きい程、除去時間は小さく設定される。加工用レーザ光のエネルギー密度が大きいほど、レーザ加工処理にて発生する生成物の発生量は多くなり、除去処理の実行間隔が長いと、1回の除去処理で生成物を除去しきれないおそれがある。そこで、除去時間を短くし、除去処理の実行間隔を短くすることにより、生成物の除去を確実に行うことができるレーザ加工装置1を提供することができる。   Further, in step S27, the CPU 71 determines the removal time based on the condition parameter PARAM. The value of the condition parameter PARAM decreases as the power of the processing laser light increases. Further, the smaller the value of the condition parameter PARAM, the shorter the removal time is set. Therefore, the removal time is set to be shorter as the energy density of the processing laser light is higher. The larger the energy density of the laser beam for processing, the larger the amount of products generated in the laser processing process, and the longer the interval of the removal process, the more likely it is that the products cannot be completely removed in one removal process. There is. Therefore, it is possible to provide the laser processing apparatus 1 capable of surely removing the product by shortening the removal time and shortening the execution interval of the removal process.

また、CPU71はステップS27において、条件パラメータPARAMに基づいて、除去時間を決定する。条件パラメータPARAMの値はガルバノスキャナ18の走査速度遅い程、小さくなる。また、条件パラメータPARAMの値が小さい程、除去時間は小さく設定される。従って、走査速度が遅い程、除去時間は小さく設定される。走査速度が遅いほど、加工対象物Wの単位面積当たりに照射されるエネルギーの大きさは大きくなり、レーザ加工処理にて発生する生成物の発生量は多くなる。このため、除去処理の実行間隔が長いと、1回の除去処理で生成物を除去しきれないおそれがある。そこで、除去時間を短くし、除去処理の実行間隔を短くすることにより、生成物の除去を確実に行うことができるレーザ加工装置1を提供することができる。   Further, in step S27, the CPU 71 determines the removal time based on the condition parameter PARAM. The value of the condition parameter PARAM becomes smaller as the scanning speed of the galvano scanner 18 becomes slower. Further, the smaller the value of the condition parameter PARAM, the shorter the removal time is set. Therefore, the lower the scanning speed, the shorter the removal time is set. The slower the scanning speed, the larger the amount of energy irradiated per unit area of the workpiece W, and the larger the amount of products generated by the laser processing. Therefore, if the execution interval of the removal process is long, there is a possibility that the product cannot be completely removed by one removal process. Therefore, it is possible to provide the laser processing apparatus 1 capable of surely removing the product by shortening the removal time and shortening the execution interval of the removal process.

また、CPU71はステップS27において、除去時間テーブル111に基づいて、除去時間を決定する。除去時間テーブル111は、材料種別に応じて、除去時間が設定されたものである。照射されるエネルギーの大きさが同じであっても、加工対象物Wの材料種別により、発生する生成物の量は異なる。そこで、除去時間を材料種別に応じたものとすることにより、材料種別に応じた最適な除去時間とすることができる。   Further, in step S27, the CPU 71 determines the removal time based on the removal time table 111. In the removal time table 111, the removal time is set according to the material type. Even if the amount of energy applied is the same, the amount of generated product varies depending on the material type of the workpiece W. Therefore, by setting the removal time according to the material type, it is possible to obtain the optimum removal time according to the material type.

また、CPU71は、ステップS43において、輪郭部分の内側の塗り潰し部分の線分間隔Dlineに基づき、補正値CTを算出する。ステップS31において、補正値CTに基づき、除去時間を補正する。ここで、線分間隔Dlineが小さい程、除去時間は短くなる。線分間隔Dlineが小さいと、加工対象物Wにおいて、照射領域の温度は高くなる。すでに与えられた照射エネルギー密度によって加工対象物Wの温度が高くなっているほど、レーザ加工処理にて発生する生成物の発生量は多くなる。このため、除去処理の実行間隔が長いと、1回の除去処理で生成物を除去しきれないおそれがある。そこで、除去時間を短くし、除去処理の実行間隔を短くすることにより、生成物の除去を確実に行うことができるレーザ加工装置1を提供することができる。   Further, in step S43, the CPU 71 calculates the correction value CT based on the line segment spacing Dline of the filled portion inside the contour portion. In step S31, the removal time is corrected based on the correction value CT. Here, the smaller the line segment interval Dline, the shorter the removal time. When the line segment interval Dline is small, the temperature of the irradiation region of the workpiece W becomes high. The higher the temperature of the object W to be processed by the already applied irradiation energy density, the larger the amount of products generated by the laser processing process. Therefore, if the execution interval of the removal process is long, there is a possibility that the product cannot be completely removed by one removal process. Therefore, it is possible to provide the laser processing apparatus 1 capable of surely removing the product by shortening the removal time and shortening the execution interval of the removal process.

また、CPU71は、ステップS47において、パターン補正値PTに基づいて、補正値CTを算出する。パターン補正値PTは、オブジェクトの種類に応じて設定されたものである。ここで、バーコードおよびQRコード(登録商標)のパターン補正値PTは、単線文字、TrueType文字、および画像のパターン補正値PTよりも小さく設定されている。これにより、バーコードおよびQRコードなどの識別コードの除去時間は、文字および画像の除去時間よりも短くなる。識別コードは、識別コードリーダに確実に読み取られることが必要とされる。識別コードにおいては、除去時間を短くし、除去処理の実行間隔を短くすることにより、生成物の除去を確実に行うことができる。このように、オブジェクトの種類に応じて、除去時間を設定することができる。   Further, the CPU 71 calculates the correction value CT based on the pattern correction value PT in step S47. The pattern correction value PT is set according to the type of object. Here, the pattern correction value PT of the barcode and the QR code (registered trademark) is set to be smaller than the pattern correction values PT of the single line characters, TrueType characters, and images. Thereby, the removal time of the identification code such as the bar code and the QR code is shorter than the removal time of the characters and the image. The identification code needs to be reliably read by the identification code reader. In the identification code, the removal time is shortened and the removal processing execution interval is shortened, whereby the product can be reliably removed. In this way, the removal time can be set according to the type of object.

また、CPU71は、ステップS53において加工用レーザ照射を一時停止し、ステップS59でYESと判断すると、ステップS61において加工用レーザ照射を再開する。また、ステップS51において、線分の走査中であるか否かを判断し、ステップS51にてNOと判断した場合には、ステップS51にてYESと判断するのを待って、ステップS53を実行する。このように、CPU71は線分の走査の終了後、加工用レーザ照射を一時停止させる。線分の途中でレーザ加工処理が一時停止され、再開される場合、再開前後で、例えばレーザ光Lのエネルギー密度などに僅かな差が生じてしまい、加工対象物Wの加工状態に差が生じてしまう場合がある。そこで、線分の走査の終了後に除去処理を行うことで、加工品質を維持することができる。   Further, the CPU 71 temporarily stops the processing laser irradiation in step S53, and when it determines YES in step S59, restarts the processing laser irradiation in step S61. In step S51, it is determined whether or not the line segment is being scanned. If NO in step S51, the process waits for YES in step S51, and then executes step S53. .. In this way, the CPU 71 suspends the processing laser irradiation after the scanning of the line segment is completed. When the laser processing is temporarily stopped and restarted in the middle of the line segment, a slight difference occurs in the energy density of the laser light L before and after the restart, and a difference in the processing state of the processing target W occurs. It may happen. Therefore, the processing quality can be maintained by performing the removal processing after the scanning of the line segment is completed.

また、ステップS57にて除去用レーザ光を照射する領域は、(1)複数のオブジェクトのすべてを含む1つの領域、(2)複数のオブジェクトの各々を含む領域、(3)加工用レーザ光が照射された領域とすることができる。   Further, the area irradiated with the removal laser light in step S57 is (1) one area including all of the plurality of objects, (2) area including each of the plurality of objects, and (3) processing laser light. It can be the illuminated area.

[補正値算出処理の別例]
次に、図12を用いて、補正値算出処理の別例について説明する。CPU71は補正値算出処理を開始すると、オブジェクト間隔DobjをRAM72から読み出す(S71)。ここで、オブジェクト間隔Dobjについて図13を用いて説明する。図13は、オブジェクトobj5およびオブジェクトobj6を有する加工パターンを示している。オブジェクトobj5は塗り潰しのないアウトラインフォントのアルファベットAであり、オブジェクトobj6は塗り潰しのない単線の図形である。重心210はオブジェクトobj5の重心であり、重心211はオブジェクトobj6の重心である。ここでの重心とは、オブジェクト毎に、XY座標データに含まれるすべての始点座標および終点座標のX値、Y値をそれぞれ合計して座標数で除した値を座標値とする点のことである。重心210と重心211との距離がオブジェクト間隔Dobjである。次に、CPU71は、補正値CTを次式により算出する(S73:図12)。
CT=−Kb/Dobj
ここで、Kbは所定の定数である。次に、CPU71は、図14に示す品質補正テーブル113に基づいて、品質補正値QTを取得する(S75)。品質補正テーブル113は、除去品質のモードに品質補正値QTの値が対応づけられてものである。除去品質のモードは除去品質設定ボタン106のモードと一致している。詳しくは、除去品質設定ボタン106は、除去品質のモードをきれい5(きれい)〜はやい5(はやい)の11段階で受け付けるものであり、CPU71は受け付けた段階に対応する値を品質補正値QTの値に決定する。次に、CPU71は補正値CTに品質補正値QTを加算した値を補正値CTとしてRAM72に記憶し(S77,図12)、補正値算出処理を終了する。
[Another example of correction value calculation processing]
Next, another example of the correction value calculation process will be described with reference to FIG. When the correction value calculation process is started, the CPU 71 reads out the object interval Dobj from the RAM 72 (S71). Here, the object interval Dobj will be described with reference to FIG. FIG. 13 shows a processing pattern having an object obj5 and an object obj6. The object obj5 is a non-filled outline font alphabet A, and the object obj6 is a non-filled single-line graphic. The center of gravity 210 is the center of gravity of the object obj5, and the center of gravity 211 is the center of gravity of the object obj6. Here, the center of gravity means a point whose coordinate value is a value obtained by summing the X and Y values of all the start point coordinates and end point coordinates included in the XY coordinate data for each object and dividing by the number of coordinates. is there. The distance between the center of gravity 210 and the center of gravity 211 is the object interval Dobj. Next, the CPU 71 calculates the correction value CT by the following formula (S73: FIG. 12).
CT=-Kb/Dobj
Here, Kb is a predetermined constant. Next, the CPU 71 acquires the quality correction value QT based on the quality correction table 113 shown in FIG. 14 (S75). In the quality correction table 113, the value of the quality correction value QT is associated with the mode of the removal quality. The mode of removal quality matches the mode of the removal quality setting button 106. More specifically, the removal quality setting button 106 accepts the removal quality mode in 11 stages of clean 5 (clean) to fast 5 (fast), and the CPU 71 sets the value corresponding to the accepted stage to the quality correction value QT. Determine the value. Next, the CPU 71 stores the value obtained by adding the quality correction value QT to the correction value CT as the correction value CT in the RAM 72 (S77, FIG. 12), and ends the correction value calculation process.

以上、説明した補正値算出処理の別例によれば、以下の効果を奏する。
CPU71は、ステップS77において、オブジェクト間隔Dobjに基づき、除去時間を補正する。ここで、オブジェクト間隔Dobjが小さい程、除去時間は短くなる。オブジェクト間隔Dobjが小さいと、加工対象物Wにおいて、加工用レーザ光の照射領域の温度は高くなる。すでに与えた照射エネルギー密度によって加工対象物Wの温度が高くなっているほど、レーザ加工処理にて発生する生成物の発生量は多くなる。このため、除去処理の実行間隔が長いと、1回の除去処理で生成物を除去しきれないおそれがある。そこで、除去時間を短くし、除去処理の実行間隔を短くすることにより、生成物の除去を確実に行うことができるレーザ加工装置1を提供することができる。
According to another example of the correction value calculation process described above, the following effects are obtained.
In step S77, the CPU 71 corrects the removal time based on the object interval Dobj. Here, the smaller the object interval Dobj, the shorter the removal time. When the object distance Dobj is small, the temperature of the irradiation area of the processing laser light in the processing object W becomes high. The higher the temperature of the object W to be processed by the irradiation energy density that has already been given, the larger the amount of products generated in the laser processing process. Therefore, if the execution interval of the removal process is long, there is a possibility that the product cannot be completely removed by one removal process. Therefore, it is possible to provide the laser processing apparatus 1 capable of surely removing the product by shortening the removal time and shortening the execution interval of the removal process.

また、CPU71は、ステップS77において、品質補正値QTに応じて、除去時間を補正する。品質補正値QTは、品質補正テーブル113にて除去品質のモードに応じた値が設定されている。除去品質のモードが「きれい5」であれば、「はやい5」の場合よりも、品質補正値QTの値が小さいので、除去時間は短く設定される。これにより、除去時間を除去品質のモードに応じた時間とすることができる。   Further, in step S77, the CPU 71 corrects the removal time according to the quality correction value QT. The quality correction value QT is set in the quality correction table 113 according to the mode of removal quality. If the removal quality mode is “clean 5”, the removal time is set shorter because the quality correction value QT is smaller than in the case of “fast 5”. Thereby, the removal time can be set to a time corresponding to the removal quality mode.

また、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内での種々の改良、変更が可能であることは言うまでもない。
例えば、図4にて除去範囲は3つであると説明したが、除去範囲はこれに限定されない。各場合において、過去に除去用レーザ光を照射した領域は省略し、前回の除去用レーザ光を照射した線分の終端部を、今回の除去用レーザ光を照射する開始点をする構成としても良い。具体的には、CPU71は除去処理のステップS61を実行後に、加工用レーザ光が照射される線分の開始点を記憶しておく。後に実行するステップS55では、除去範囲プルダウンメニュー105の入力値に応じた除去範囲のうち、走査手順において、加工用レーザ光の開始点より前の範囲を、除去用レーザ光の照射領域から除外する。
Further, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements and changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, although it has been described that there are three removal ranges in FIG. 4, the removal range is not limited to this. In each case, the region irradiated with the removal laser beam in the past may be omitted, and the end of the line segment irradiated with the previous removal laser beam may be set as the start point of the irradiation with the removal laser beam this time. good. Specifically, the CPU 71 stores the start point of the line segment irradiated with the processing laser light after executing step S61 of the removal process. In step S55 executed later, of the removal ranges corresponding to the input values of the removal range pull-down menu 105, the range before the starting point of the processing laser light in the scanning procedure is excluded from the irradiation area of the removal laser light. ..

また、上記では、レーザ発振器21は1つであり、レーザ加工処理と除去処理との何れか一方を実行する構成を例示したが、この構成に限定されない。例えば、レーザ発振器21は1つとし、レーザ発振器21から出射されるレーザ光Lを、加工用レーザ光と、除去用レーザ光とに分岐させる構成としても良い。また、加工用レーザ光を出射するレーザ発振器21とは別に、除去用レーザ光を出射させるレーザ発振器を備える構成としても良い。また、除去用レーザ光照射の期間と、加工用レーザ光照射の期間とが重複する構成としても良い。   Further, in the above description, the number of the laser oscillators 21 is one, and the configuration for performing either one of the laser processing process and the removal process is illustrated, but the configuration is not limited to this configuration. For example, the number of the laser oscillator 21 may be one, and the laser light L emitted from the laser oscillator 21 may be branched into the processing laser light and the removal laser light. In addition to the laser oscillator 21 that emits the processing laser beam, a laser oscillator that emits the removal laser beam may be provided. Further, the removal laser light irradiation period and the processing laser light irradiation period may overlap with each other.

また、タイミング決定処理において、ステップS29,S31の実行をスキップする構成としても良い。また、タイミング決定処理のステップS31にて算出された除去時間に、さらに、図12に示す補正値算出処理にて算出された補正値CTを加算した値を除去時間とする構成としても良い。   Further, in the timing determination process, the steps S29 and S31 may be skipped. Further, the removal time may be a value obtained by adding the correction value CT calculated in the correction value calculation process shown in FIG. 12 to the removal time calculated in step S31 of the timing determination process.

また、除去時間を設定するのに、除去時間テーブル111および品質補正テーブル113を使用すると説明したが、テーブルではなく、関数を使用する構成としても良い。具体的には、例えば、加工条件パラメータ対除去時間を表す関数を使用する構成としても良い。   Further, although it has been described that the removal time table 111 and the quality correction table 113 are used to set the removal time, it is also possible to use a function instead of the tables. Specifically, for example, it may be configured to use a function representing the processing condition parameter versus the removal time.

また、加工対象物Wとして、接着剤が塗布された紙を例示したが、加工対象物Wの材料を限定するものではない。   Further, as the processing target W, the paper coated with the adhesive is illustrated, but the material of the processing target W is not limited.

1 レーザ加工装置
5 レーザコントローラ
7 PC
12 レーザ光出射部
18 ガルバノスキャナ
40 励起用レーザ光出射部
51 励起用レーザドライバ
70 制御部

1 Laser processing device 5 Laser controller 7 PC
12 Laser Light Emitting Section 18 Galvano Scanner 40 Excitation Laser Light Emitting Section 51 Excitation Laser Driver 70 Control Section

Claims (12)

レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記第1エネルギー密度の値が大きいほど、前記所定時間を短く設定することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser beam;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam of the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The control unit, in the setting process,
The higher the value of the first energy density is large, the predetermined time shorter characteristics and, Relais chromatography The processing apparatus to set.
レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記加工処理における前記走査部の走査速度が遅いほど、前記所定時間を短く設定することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser light;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting section and the scanning section to irradiate the object to be processed with the laser beam having the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The control unit, in the setting process,
The processing Slower scanning speed of the scanning unit in the processing, characteristics and, Relais chromatography The processing apparatus to set a short predetermined time.
レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記加工対象物の材料種別に応じた前記所定時間とすることを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser beam;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting section and the scanning section to irradiate the object to be processed with the laser beam having the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The control unit, in the setting process,
Features and, Relais chromatography The processing apparatus to a predetermined time according to the material type of the workpiece.
レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記加工パターンに含まれるオブジェクトは、輪郭部分と、前記輪郭部分の内側の塗り潰し部分とで構成されており、
前記加工処理において、前記走査部は前記塗り潰し部分を走査方向と垂直な垂直方向に所定間隔に並ぶ複数の線分を順に前記走査方向に沿って走査し、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記所定間隔が小さいほど、前記所定時間を短く設定することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser beam;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting section and the scanning section to irradiate the object to be processed with the laser beam having the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The object included in the processing pattern is composed of a contour portion and a filled portion inside the contour portion,
In the processing, the scanning unit scans a plurality of line segments arranged in a predetermined interval in a vertical direction perpendicular to the scanning direction in the scanning direction in order along the scanning direction,
The control unit, in the setting process,
Said predetermined distance is smaller, the predetermined time shorter characteristics and, Relais chromatography The processing apparatus to set.
レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記加工パターンは、複数のオブジェクトを含み、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記複数のオブジェクト間の間隔が小さいほど、前記所定時間を短く設定することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser beam;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam of the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The processing pattern includes a plurality of objects,
The control unit, in the setting process,
Wherein the plurality of higher spacing between objects is small, the predetermined time shorter characteristics and, Relais chromatography The processing apparatus to set.
レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光を走査する走査部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、加工パターンに基づいて、第1エネルギー密度の前記レーザ光を加工対象物に照射させる加工処理と、
前記加工処理の開始後、除去タイミング条件を満たすか否かを判断する第1判断処理と、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記レーザ光出射部および前記走査部を制御して、前記加工パターンに基づいて、前記第1エネルギー密度よりも小さい第2エネルギー密度の前記レーザ光を前記加工対象物に照射させる除去処理と、を実行し、
前記制御部は、
前記加工処理の実行時間を累積する累積処理と、
所定時間を設定する設定処理と、を実行し、
前記第1判断処理において、
前記累積処理にて累積した累積時間が前記所定時間を超えたか否かを判断し、前記累積時間が前記所定時間を超えたと判断した場合、前記除去タイミング条件を満たすと判断し、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記加工パターンに含まれるオブジェクトの種類に応じて、前記所定時間を設定することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting portion for emitting a laser beam,
A scanning unit that scans the laser beam;
And a control unit,
The control unit is
A processing process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam of the first energy density based on a processing pattern;
A first determination process of determining whether or not a removal timing condition is satisfied after the start of the processing process;
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A removal process of controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to irradiate the object to be processed with the laser beam having a second energy density lower than the first energy density, based on the processing pattern. Run and
The control unit is
An accumulation process for accumulating the execution time of the processing process,
Execute the setting process to set the predetermined time,
In the first determination process,
It is determined whether or not the cumulative time accumulated in the cumulative processing exceeds the predetermined time, and when it is determined that the cumulative time exceeds the predetermined time, it is determined that the removal timing condition is satisfied,
The control unit, in the setting process,
The processing pattern according to the type of object included in the setting characteristics and, Relais chromatography The processing apparatus to a predetermined time.
前記除去処理は、前記所定時間が互いに異なる複数のモードがあり、
前記制御部は、前記設定処理において、
前記複数のモードのうち設定されているモードに応じて、前記所定時間を設定することを特徴とする請求項乃至の何れかに記載のレーザ加工装置。
The removal process has a plurality of modes in which the predetermined time is different from each other,
The control unit, in the setting process,
Depending on which mode is set among the plurality of modes, the laser machining apparatus according to any one of claims 1 to 6, characterized in that sets the predetermined time.
前記制御部は、
前記第1判断処理において、前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記除去処理の実行前に、前記加工処理を一時停止させる停止処理と、
前記除去処理の実行後、前記加工処理を再開させる再開処理と、を実行することを特徴とする請求項1乃至の何れかに記載のレーザ加工装置。
The control unit is
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
A stop process for temporarily stopping the processing process before the removal process is executed;
After execution of the removal process, a laser machining apparatus according to any one of claims 1 to 7, characterized in that to perform a restart process for resuming the processing.
前記加工パターンは線分で構成されており、
前記加工処理は、前記線分を順々に走査するものであり、
前記制御部は、
前記第1判断処理において前記除去タイミング条件を満たすと判断した場合、
前記加工処理において、前記線分の走査中であるか否かを判断する第2判断処理を実行し、
前記第2判断処理において、前記線分の走査中であると判断した場合、当該線分の走査の終了後、前記停止処理を実行することを特徴とする請求項に記載のレーザ加工装置。
The processing pattern is composed of line segments,
The processing is to sequentially scan the line segments,
The control unit is
When it is determined that the removal timing condition is satisfied in the first determination process,
In the processing process, a second determination process is performed to determine whether the line segment is being scanned,
9. The laser processing apparatus according to claim 8 , wherein when it is determined in the second determination process that the line segment is being scanned, the stop process is executed after the scan of the line segment is completed.
前記加工パターンは複数のオブジェクトで構成されており、
前記除去処理において、
前記第2エネルギー密度の前記レーザ光を照射する領域は、前記複数のオブジェクトのすべてを含む1つの領域であることを特徴とする請求項1乃至の何れかに記載のレーザ加工装置。
The processing pattern is composed of a plurality of objects,
In the removal process,
The region to be irradiated with the laser beam of the second energy density, the laser machining apparatus according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the one area that includes all of the plurality of objects.
前記加工パターンは複数のオブジェクトで構成されており、
前記除去処理において、
前記第2エネルギー密度の前記レーザ光を照射する領域は、前記複数のオブジェクトに対応する複数の領域であり、前記複数の領域の各々は前記複数のオブジェクトの各々を含む領域であることを特徴とする請求項1乃至の何れかに記載のレーザ加工装置。
The processing pattern is composed of a plurality of objects,
In the removal process,
The region irradiated with the laser beam of the second energy density is a plurality of regions corresponding to the plurality of objects, and each of the plurality of regions is a region including each of the plurality of objects. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 9 .
前記除去処理において、
前記第2エネルギー密度の前記レーザ光を照射する領域は、前記加工処理にて前記第1エネルギー密度の前記レーザ光が照射された領域を含む領域であることを特徴とする請求項1乃至の何れかに記載のレーザ加工装置。
In the removal process,
The region to be irradiated with the laser beam of the second energy density, of claims 1 to 9, wherein the laser beam of the first energy density at the processing process is characterized in that a region including a region irradiated The laser processing apparatus according to any one of claims.
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