JP6691891B2 - ベラプロストの製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2011年6月16日に出願された米国仮出願第61/497,754号の優先権を主張するものであり、前記出願の全文が参照により本明細書に組み込まれるものとする。
の化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に対する、下記の式:
の化合物による環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
(3) 式(V)の化合物のエステルを還元してベンジルアルコールを形成し、ベンジルアルコールを酸化してアルデヒドを形成した後、前記アルデヒドに炭素を付加してアルキンを形成することにより、下記の式:
(4) 末端アルキンをN2CH2CO2R1a[式中、R1aはC1-12アルキルを表す]とカップリングした後、アルキンを水素化して対応するアルカンを得て、下記の式:
(5) 第一級ヒドロキシ保護基を選択的に脱保護した後、第一級ヒドロキシ基を酸化して対応するアルデヒドを形成し、次いで、式:
の側鎖とカップリングして、下記の式:
(6) ケトンを還元し、残存するヒドロキシ保護基を脱保護し、場合によりR1aをカチオンまたはHに変換して、下記の式:
の立体選択的に製造された異性化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
の芳香族生成物を形成する工程を含む、前記方法を提供する。一実施形態において、R2aおよびR6はそれぞれ独立して、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、t-ブチルジフェニルシリル、フェニルジメチルシリル、またはテトラヒドロピラニルを表す。別の実施形態において、工程(1)の環化付加は逆電子要請型ディールス・アルダー反応およびそれに続く熱脱炭酸反応である。別の実施形態において、芳香族化工程(2)は式(IV)の化合物のパラジウム炭素による処理である。別の実施形態は、下記の式:
の化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に対する、下記の式:
の化合物による環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
(3) 式(V)の化合物のエステルを還元してベンジルアルコールを形成し、ベンジルアルコールを酸化してアルデヒドを形成した後、前記アルデヒドに炭素を付加してアルキンを形成することにより、下記の式:
(4) 末端アルキンをN2CH2CO2R1a[式中、R1aはC1-12アルキルを表す]とカップリングした後、アルキンを水素化して対応するアルカンを得て、次いでヒドロキシ保護基を脱保護して、下記の式:
の化合物を形成する工程を含む、前記方法を提供する。別の実施形態において、式(VII)の化合物は実質的に純粋な単一異性体として製造される。
R5はHまたはC1-6アルキルを表す]
により表される化合物を提供し、前記化合物は少なくとも95%のキラル純度を有する。さらなる実施形態は、少なくとも95%、97%、99%の、または99%を超えるキラル純度を提供する。別の実施形態はR4およびR5がそれぞれCH3である化合物を提供する。
R2はHまたはヒドロキシ保護基を表し、
R4はHまたはC1-3アルキルを表し、
R5はHまたはC1-6アルキルを表し、かつ
ZはC1-12アルキル-COOR12を表し、R12はカチオン、H、またはC1-12アルキルである]
の化合物を調製する方法であって、
(1) 式:
の化合物と反応させて、下記の式:
(2) カルボニルを選択的に還元し、第二級アルコールを脱保護して、実質的に純粋な下記の式:
(3) 場合により、Z’の保護された酸のエステルを脱保護して酸またはその塩を形成する工程を含む、前記方法を提供する。一実施形態において、カルボニルの選択的還元は不斉触媒を含む。一実施形態において、工程3はオプションではなく、Z’はC1-12アルキル-COOR12’であり、かつR12’はC1-6アルキルである。一実施形態において、工程3はオプションではなく、R4およびR5はそれぞれCH3であり、Zは(CH2)3COOR12であり、かつR12はカチオンまたはHである。一実施形態において、R12はカチオンであり、カチオンはK+である。一実施形態において、得られる実質的に純粋な化合物は、99%を超える下記の式:
本明細書に引用されるすべての参照文献は、参照により全体として本明細書に組み込まれる。
他に特定しない限り、本明細書および特許請求の範囲全体に渡って、「a」または「an」は「1以上」を意味する。
のベラプロストまたはその関連誘導体の実質的に純粋な異性体を製造する方法であって、(1) 下記の式:
の化合物と、下記の式:
の化合物との間の環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエン化合物を芳香族化して、下記の式:
(3) 式(V)の化合物のエステルを還元してベンジルアルコールを形成し、ベンジルアルコールを酸化してアルデヒドを形成した後、前記アルデヒドに炭素を付加してアルキンを形成することにより、下記の式:
(4) 末端アルキンをN2CH2CO2R1a[式中、R1aはC1-12アルキルを表す]とカップリングした後、アルキンを水素化して対応するアルカンを得て、下記の式:
(5) 第一級ヒドロキシ保護基を選択的に脱保護した後、第一級ヒドロキシ基を酸化して対応するアルデヒドを形成し、次いで、式:
の側鎖とカップリングして、下記の式:
(6) ケトンを還元し、残存するヒドロキシ保護基を脱保護し、場合によりR1aをカチオンまたはHに変換して、下記の式:
式(XIII)の化合物に工程(5)および(6)をおこなってさらなるベラプロスト類似物を製造することができる。
の単一異性ワインレブ(Weinreb)アミド化合物から達成することができる。
一実施形態において、XはHである。別の実施形態において、XはPhである。Phの類似物および他のアリール、ヘテロアリールまたはアルキル基などのさらなる基もXとして使用し得る。一実施形態において、ホスホネート生成物は、97パーセント以上、または99パーセント以上のキラル純度で製造される。
により表される側鎖化合物を含み、ここで、キラル純度は97パーセント以上または99パーセント以上である。好ましい実施形態は、構造
マグネチックスターラーバーおよびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた500 mL二口丸底フラスコに、エステルジオール(1)(10.00 g)のジクロロメタン(200 mL)溶液を入れた。この溶液に、アルゴン雰囲気下、室温でトリエチルアミン(13.21 g)、4-(ジメチルアミノ)ピリジン(4.0 g)、およびDMF(20 mL)を加えた。透明な溶液が得られるまで混合物を攪拌した。反応液を室温で約31時間攪拌した。約31時間後に、反応の進行をTLCによりモニターした。混合物を飽和塩化アンモニウム(200 mL)により洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、濾過し、減圧濃縮して粗生成物(2)を粘性のオイルとして得た。別の10 gのバッチからの粗生成物を合わせて、カラムクロマトグラフィーにより230〜400メッシュのシリカゲルを用いて精製し、ヘキサン中の酢酸エチル(5〜50%)の勾配溶媒により溶離した。目的化合物を含むフラクション(TLCによる)を減圧蒸発させて、トリチルエーテル(2)(33.82g、2つの10 gバッチから94.6%)を得た。化合物をスペクトルデータにより解析した。
マグネチックスターラーバーおよびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた1000 mL二口丸底フラスコに、トリチルエーテル(2)(39.50 g)の無水ジクロロメタン(600 mL)溶液を入れた。この溶液に、アルゴン雰囲気下、室温で2,6-ルチジン(18.51 g)を加えた。混合物を透明な溶液が得られるまで攪拌した。混合物を-15℃に冷却し、TBDMSトリフレート(22.84 g)を、温度を-10℃未満に維持しながら少しずつ加えた。反応液を約1時間攪拌し、反応の進行をTLCによりモニターした。この段階で反応が終了した。反応混合物にヘキサンを加え(600 mL)、温度を室温に上げた。この混合物を230〜400メッシュのシリカゲル(384 g)のパッドに通し、ヘキサン中の酢酸エチル(5〜15%)の勾配溶媒により溶離した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、シリルエーテル(3)(47.70 g、99.6 %)を得た。化合物をスペクトルデータにより解析した。
マグネチックスターラーバーおよびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた500 mL二口丸底フラスコに、トリチルオキシ-TBDMSエーテル(3)(14.58 g)の無水ジクロロメタン(175 mL)溶液を入れた。この溶液に、アルゴン雰囲気下、室温でジエチルアルミニムクロリド(22.00 mL、1M、ジクロロメタン中、1.0当量)を加えた。反応液を約3時間攪拌し、反応の進行をTLCによりモニターした。この段階で反応は終了しておらず、追加の1当量のジエチルアルミニムクロリド(22.00 L、1M、ジクロロメタン中、1.0当量)を室温で加えて、反応の進行をTLCによりモニターしながら、反応混合物をさらに3時間攪拌した。合計6時間後に反応混合物がいくらかの出発物質の存在を示したので、さらに0.5当量のジエチルアルミニムクロリド(11.00 mL、1M、ヘプタン中、0.5当量)を室温で加えて、反応混合物をさらに1時間攪拌し、反応の進行をTLCによりモニターした。この段階で反応が終了し、反応混合物を0℃に冷却した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム溶液(240 mL)を加えた(注2)。温度を室温に上げた後、化合物をジクロロメタンにより抽出した。ジクロロメタン抽出物を合わせて、食塩水により洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥し、減圧蒸発させて、未精製の粘性のオイル(14.01 g)を得た。この粗化合物を230〜400メッシュのシリカゲル(197 g)のパッドに通し、ヘキサン中の酢酸エチル(10〜50%)の勾配溶媒混合物により溶離した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、ヒドロキシ-シリルエーテル(4)(8.54 g、92.3%)を得た。化合物をスペクトルデータにより解析した。
冷却し(-78℃)、攪拌した塩化オキサリル(23.00 mL)のジクロロメタン(60mL)溶液に、アルゴン雰囲気下で、ジメチルスルホキシド(4.33 mL)のジクロロメタン(35 mL)溶液をゆっくりと加えた。-78℃〜-70℃で45分間攪拌した後、アルコール(4)(8.54 g)のジクロロメタン(60 mL)溶液を、温度を-65℃未満に維持しながらこの反応混合物に加えた。-65℃で60分間攪拌した後、反応混合物の温度を-45℃〜-40℃に上げて、この温度で60分間攪拌した。この反応混合物を-65℃に冷却して、トリエチルアミン(14.15 mL)をゆっくりと加えることにより反応を止めた(注1)。反応混合物を-65℃でさらに30分間攪拌し、反応の終了をTLCにより確認した。反応混合物の温度を室温に上げ、水(60 mL)を加えた。2相混合物を室温で5分間攪拌した後、有機相を分離して、生成物が完全に有機層に抽出されることを保証するために水相をジクロロメタン(2×75 mL)により抽出した。有機抽出物を合わせて、食塩水(100 mL)により洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥し、減圧蒸発させて粗アルデヒド(9.77 g)を得た。別のマグネチックスターラーバーおよびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた500 mL二口丸底フラスコに、ホスホネート側鎖(8.50 g)のMTBE(175 mL)溶液を入れた。これに、LiOH・H20(1.86 g)を加えて、混合物を約1時間攪拌した。約1時間後に、粗アルデヒド(5)のMTBE(175 mL)溶液を10分間かけてゆっくりと加えて、反応が終了するまで攪拌した(注3)。反応の進行をTLCによりモニターした(注3)。反応が終了した後、反応混合物に水(175 mL)を加えて反応を止め、混合物を15分間攪拌した。有機層を分離して、水層を酢酸エチル(3×70 mL)により抽出した。有機抽出物を合わせて、水(70 mL)、食塩水(30 mL)により洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥し、減圧蒸発させて、エノン中間体(6)の未精製の粘性の液体(11.22 g)を得た。この粗エノン中間体(6)を230〜400メッシュのシリカゲル(328 g)のパッドに通して、ヘキサン中の酢酸エチル(2〜20%)の勾配溶媒により溶離した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、エノン(6)(19.42 g、80%;この粗化合物を他のロットからの14.99 gの粗化合物と合わせて、2つのロットに対してカラムクロマトグラフィーをおこなった)を得た。純粋な化合物をスペクトルデータにより解析した。
工程1:選択的還元
マグネチックスターラーバー、熱電対、およびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた100 mL三口丸底フラスコに、エノン化合物(0.11 g)および無水トルエン(5.0 mL)を入れた。アルゴン雰囲気下、室温で(R)-(+)-2-メチルCBSオキサザボロリジン溶液(1.0 M、トルエン中)(0.43 mL)を加えた。混合物をO℃以下に冷却し(ドライアイス/アセトン浴)、温度を-40℃〜-30℃の間に維持しながらボラン-硫化メチル錯体(0.32 mL)をゆっくりと加えた。添加が終了した後、反応混合物を-30℃〜-25℃で1〜2時間攪拌した。反応の進行をTLCによりモニターした。反応混合物に、温度を-15℃および-10℃の間に維持しながらメタノール(2.0 mL)を2〜3分間かけてゆっくりと加えることにより注意深く反応を止めた。反応混合物を室温に温め、さらに20〜30分間攪拌を続けた。この段階で、飽和塩化アンモニウム水溶液(5.0 ml)を攪拌しながら加えた。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(2×15 mL)により抽出した。有機層を合わせて食塩水(10 mL)により洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、濾過し、減圧濃縮して、粗アルコール(A)(0.27 g)を得た。この粗アルコール(A)を230〜400メッシュのシリカゲル(22.5 g)のパッドに通し、ヘキサン中の酢酸エチル(0〜12%)の勾配溶媒により溶離した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、純粋なアルコール(7)(0.096 g、87.2%)を得た。化合物をスペクトルデータにより解析した。
TBDMS保護エーテル(2.67 g)のメタノール(50 mL)溶液に、室温で10% HCl水溶液(10.00 mL)を加えた。反応混合物を室温で反応が終了するまで攪拌した。約1時間後に反応混合物をTLCによりチェックして反応の終了を確認した。この段階で、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム(10 mL)により中和してpH 7〜8として、減圧濃縮してメタノールを除去した。反応混合物を水(10 mL)により希釈した後、混合物を酢酸エチル(3×30 mL)により抽出した。酢酸エチル抽出物を合わせて、食塩水(15 mL)により洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、減圧濃縮して、ベラプロストエステル(A)を、未精製の淡黄色の粘性の液体(2.31 g)として得た。粗生成物をヘキサン中の酢酸エチル(0〜90%)の勾配溶媒を用いるカラムクロマトグラフィーにより精製した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、ベラプロストエステル(A)(1.26 g)を得た。これを酢酸エチルとシクロペンタンとの混合物を用いて結晶化して、96.24%のキラル純度(HPLCによる)を有するエステルを得た(mp 82〜83℃(dec.);理論値: C =72.79; H =7.82; 測定値C =72.86; H = 7.41)。化合物をスペクトルデータにより解析した。
工程1:保護されたアルコールの脱保護
エノン(0.450 g)のメタノール(10 mL)溶液に、室温で10% HCl水溶液(0.90 mL)を加えた。反応混合物を室温で反応が終了するまで攪拌した。約3時間後に反応混合物をTLCによりチェックして反応の終了を確認した。この段階で、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウムにより中和してpH 7〜8として、減圧濃縮してメタノールを除去した。反応物の塊を水(10 mL)により希釈して、混合物を酢酸エチル(2×15 mL)により抽出した。酢酸エチル抽出物を合わせて、食塩水(10 mL)により洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、減圧濃縮して、ケトアルコールを、未精製の淡黄色の粘性の液体(0.400 g)として得た。酢酸エチルとヘキサンとの混合物を用いて粗生成物を結晶化して、純粋な結晶性ケト-アルコール(0.210 g、60%)を得た(mp 75〜76℃)。化合物をスペクトルデータにより解析した。
マグネチックスターラーバー、熱電対、およびアルゴンインレット-アウトレットアダプターを取り付けた100 mL三口丸底フラスコに、ケト-アルコール(8)(3.25 g)および無水トルエン(100 mL)を入れた。アルゴン雰囲気下、室温で(R)-(+)-2-ブチルCBSオキサザボロリジン(1.0 M、トルエン中)(23.8 mL)の溶液を加えた。混合物を-15℃に冷却し(ドライアイス/アセトン浴)、温度を-15℃〜-10℃の間に維持しながら、カテコールボラン(23.8 mL)をゆっくりと加えた。添加が終了した後、反応混合物を1〜2時間攪拌し、その間に温度をゆっくりと室温に上げた。反応の進行をTLCによりモニターした。反応混合物に、温度を-15℃〜-10℃の間に維持しながらメタノール(50 mL)を10分間かけてゆっくりと加えることにより注意深く反応を止めた。反応混合物を室温に温め、さらに20〜30分間攪拌を続けた。この段階で、飽和塩化アンモニウム水溶液(10 ml)を攪拌しながら加えた。有機層を分離し、水層を酢酸エチル(3×50 mL)により抽出した。有機層を合わせて食塩水(15 mL)により洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、濾過し、減圧濃縮して、粗ベラプロストエステル(A)を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより、ヘキサン中の酢酸エチル(0〜90%)の勾配溶媒を用いて精製した。目的化合物を含むフラクションを減圧蒸発させて、ベラプロストエステル(A)(2.53 g、77%)を得た。少量のサンプルを酢酸エチルとヘキサンとの混合物を用いて結晶化して、分析的に純粋なベラプロストエステルジオールを得た(mp 75〜76℃)。化合物をスペクトルデータにより解析した。
ベラプロスト314dの合成
ベラプロストエステル(A)(0.700 g)のメタノール(10 mL)溶液に、室温で水酸化ナトリウム溶液(0.815 g、2.0 mLの水中)を加えた。反応混合物を室温で約16時間攪拌し、反応の進行をTLCによりモニターした。反応混合物を減圧濃縮してメタノールを除去し、水(10 mL)により希釈した。この混合物を10%塩酸溶液によりpH 2〜3に酸性化した。混合物を酢酸エチル(2×10 mL)により抽出した。酢酸エチル抽出物を合わせて、食塩水(1×10 mL)により洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、濾過し、減圧濃縮して、目的のベラプロストの立体異性体(314d)を、泡状の固体(0.700 g)として得た。この酸をそのままカリウム塩の形成に使用した。
本発明の実施形態として例えば以下を挙げることができる。
[実施形態1]
下記の式:
R 2 およびR 3 はそれぞれHまたはヒドロキシ保護基を表し、
R 4 はHまたはC 1-3 アルキルを表し、かつ
R 5 はHまたはC 1-6 アルキルを表す]
の化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に対する、下記の式:
の化合物による環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
(3) 式(V)の化合物のエステルを還元してベンジルアルコールを形成し、ベンジルアルコールを酸化してアルデヒドを形成した後、前記アルデヒドに炭素を付加してアルキンを形成することにより、下記の式:
(4) 末端アルキンをN 2 CH 2 CO 2 R 1a [式中、R 1a はC 1-12 アルキルを表す]とカップリングした後、アルキンを水素化して対応するアルカンを得て、下記の式:
(5) 第一級ヒドロキシ保護基を選択的に脱保護した後、第一級ヒドロキシ基を酸化して対応するアルデヒドを形成し、次いで、式:
の側鎖とカップリングして、下記の式:
(6) ケトンを還元し、残存するヒドロキシ保護基を脱保護し、場合によりR 1a をカチオンまたはHに変換して、下記の式:
[実施形態2]
式(I)の化合物が実質的に純粋な単一異性体として製造される、実施形態1に記載の方法。
[実施形態3]
R 1 がカチオンまたはHであり、R 2 およびR 3 がHであり、R 4 およびR 5 がCH 3 である、実施形態1に記載の方法。
[実施形態4]
R 2 、R 3 、R 2a およびR 6 がそれぞれ独立して、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、t-ブチルジフェニルシリル、フェニルジメチルシリル、またはテトラヒドロピラニルを表す、実施形態1に記載の方法。
[実施形態5]
工程(1)の環化付加が、逆電子要請型ディールス・アルダー反応およびそれに続く熱脱炭酸反応である、実施形態1に記載の方法。
[実施形態6]
芳香族化工程(2)が式(IV)の化合物のパラジウム炭素による処理である、実施形態1に記載の方法。
[実施形態7]
下記の式:
の立体選択的に製造された異性化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
の芳香族生成物を形成する工程を含む、前記方法。
[実施形態8]
R 2a およびR 6 がそれぞれ独立して、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、t-ブチルジフェニルシリル、フェニルジメチルシリル、またはテトラヒドロピラニルを表す、実施形態7に記載の方法。
[実施形態9]
工程(1)の環化付加が逆電子要請型ディールス・アルダー反応およびそれに続く熱脱炭酸反応である、実施形態7に記載の方法。
[実施形態10]
芳香族化工程(2)が式(IV)の化合物のパラジウム炭素による処理である、実施形態7に記載の方法。
[実施形態11]
下記の式:
の化合物を調製する方法であって、
(1) 下記の式:
の化合物に対する、下記の式:
の化合物による環化付加反応をおこなって、下記の式:
の化合物を形成する工程;
(2) 式(IV)のシクロジエンを芳香族化して、下記の式:
(3) 式(V)の化合物のエステルを還元してベンジルアルコールを形成し、ベンジルアルコールを酸化してアルデヒドを形成した後、前記アルデヒドに炭素を付加してアルキンを形成することにより、下記の式:
(4) 末端アルキンをN 2 CH 2 CO 2 R 1a [式中、R 1a はC 1-12 アルキルを表す]とカップリングした後、アルキンを水素化して対応するアルカンを得て、次いでヒドロキシ保護基を脱保護して、下記の式:
の化合物を形成する工程を含む、前記方法。
[実施形態12]
式(VII)の化合物が実質的に純粋な単一異性体として製造される、実施形態11に記載の方法。
[実施形態13]
式:
R 5 はHまたはC 1-6 アルキルを表す]
により表される化合物であって、前記化合物が少なくとも95%のキラル純度を有する、前記化合物。
[実施形態14]
R 4 およびR 5 がそれぞれCH 3 である、実施形態13に記載の化合物。
[実施形態15]
実質的に純粋な下記の式:
R 4 はHまたはC 1-3 アルキルを表し、
R 5 はHまたはC 1-6 アルキルを表し、かつ
ZはC 1-12 アルキル-COOR 12 を表し、R 12 はカチオン、H、またはC 1-12 アルキルである]
の化合物を調製する方法であって、
(1) 式
の化合物と反応させて、下記の式:
(2) カルボニルを選択的に還元し、第二級アルコールを脱保護して、実質的に純粋な下記の式:
(3) 場合により、Z’の保護された酸のエステルを脱保護して酸またはその塩を形成する工程を含む、前記方法。
[実施形態16]
カルボニルの選択的還元が不斉触媒を含む、実施形態15に記載の方法。
[実施形態17]
工程3がオプションではなく、Z’がC 1-12 アルキル-COOR 12’ であり、かつR 12’ がC 1-6 アルキルである、実施形態15に記載の方法。
[実施形態18]
工程3がオプションではなく、R 4 およびR 5 がそれぞれCH 3 であり、Zが(CH 2 ) 3 COOR 12 であり、かつR 12 がカチオンまたはHである、実施形態15に記載の方法。
[実施形態19]
R 12 がカチオンであり、カチオンがK + である、実施形態18に記載の方法。
[実施形態20]
得られる実質的に純粋な化合物が、99%を超える下記の式:
Claims (8)
- 95%を超えるキラル純度を有する下記の式:
R4はHまたはC1-3アルキルを表し、
R5はHまたはC1-6アルキルを表し、かつ
ZはC1-12アルキル-COOR12を表し、R12はカチオン、H、またはC1-12アルキルである]
の化合物を調製する方法であって、
(1) 式
の化合物と反応させて、下記の式:
(2) カルボニルを選択的に還元し、第二級アルコールを脱保護して、95%を超えるキラル純度を有する下記の式:
を含む、前記方法。 - カルボニルの選択的還元が不斉触媒を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記選択的還元が(R)-(+)-2-ブチル-CBS-オキサザボロリジンおよびカテコールボラン、(R)-(+)-2-メチル-CBS-オキサザボロリジンおよびカテコールボラン、(+)DIP-クロリド、NaBH4および2-(3-ニトロフェニル)-1,3,2-ジオキサボロラン-4S,5S-ジカルボン酸(D-TarB-NO2)からなる群から選択される選択的還元剤を使用する、請求項1に記載の方法。
- Z’の保護された酸のエステルを脱保護して酸またはその塩を形成する工程を更に含む、請求項1に記載の方法
- Z’がC1-12アルキル-COOR12’であり、かつR12’がC1-6アルキルである、請求項4に記載の方法。
- R4およびR5がそれぞれCH3であり、Zが(CH2)3COOR12であり、かつR12がカチオンまたはHである、請求項4に記載の方法。
- R12がカチオンであり、カチオンがK+である、請求項6に記載の方法。
- R2aがトリメチルシリル、トリエチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、t-ブチルジフェニルシリル、又はフェニルジメチルシリルである、請求項1に記載の方法。
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