JP6681566B1 - Solder paste and flux - Google Patents
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Abstract
【課題】金属表面の腐食抑制性に優れ、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さいはんだペースト及びフラックスを提供する。【解決手段】アゾール化合物と、有機酸と、溶剤とを含有するフラックス;及びAs:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:275≦2As+Bi+Pb (1)0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]を満たすはんだ合金;を含む、はんだペースト。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solder paste and a flux which are excellent in corrosion inhibiting property of a metal surface, have a thickening inhibiting effect, are excellent in wettability, and have a small temperature difference between a liquidus temperature and a solidus temperature. SOLUTION: A flux containing an azole compound, an organic acid, and a solvent; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, And the balance is Sn, and the following formulas (1) and (2): 275 ≦ 2As + Bi + Pb (1) 0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 A solder paste containing (2) a solder alloy satisfying [in the formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent a content (mass ppm) in the alloy composition]. [Selection diagram] None
Description
本発明は、はんだ付けに用いられるはんだペースト及びフラックスに関する。 The present invention relates to a solder paste and flux used for soldering.
近年、電子部品の表面実装等においては、あらかじめ常温で塗布又は接着しておいたはんだを、後から加熱溶融してはんだ付けする、リフローはんだ付けが行われている。
はんだペーストを用いたリフローはんだ付けの場合、はんだペーストは、主に、はんだ粉末と、樹脂成分、溶剤及び各種添加剤を含むフラックスとからなり、これをスクリーン印刷等によって接合予定部分に塗布、加熱することによってはんだ付けが行われる。
In recent years, in surface mounting of electronic components, reflow soldering has been performed in which solder that has been applied or bonded at room temperature in advance is heated and melted and then soldered.
In the case of reflow soldering using a solder paste, the solder paste is mainly composed of solder powder and a flux containing a resin component, a solvent and various additives, and this is applied to a planned joining portion by screen printing or the like and heated. By doing so, soldering is performed.
このような用途に用いられるはんだペーストとして、例えば、特許文献1には、適度の流動性を持ち、且つニジミやダレの生じないすぐれた印刷特性を有するクリームはんだとして、芳香族基および/または脂肪族基で置換された置換尿素化合物を含有するクリームはんだが記載されている。 As a solder paste used for such an application, for example, in Patent Document 1, an aromatic group and / or a fat is used as a cream solder having an appropriate fluidity and excellent printing characteristics without bleeding or sagging. Cream solders containing substituted urea compounds substituted with a group are described.
また、近年、電極の小型化が進むにつれて、はんだペーストの印刷面積も狭小化が進んでいることから、購入したはんだペーストを使い切るまでの時間は長期化している。はんだペーストは、はんだ粉末とフラックスを混錬したものであり、保管期間が長期に渡る場合には、保管状況によってははんだペーストの粘度が上がってしまい、購入当初の印刷性能を発揮することができないことがある。 Further, in recent years, as the size of the electrodes has been reduced, the printing area of the solder paste has also been narrowed, so that the time until the purchased solder paste is used up is prolonged. The solder paste is a mixture of solder powder and flux, and if the storage period is long, the viscosity of the solder paste will increase depending on the storage conditions and the printing performance at the time of purchase cannot be exhibited. Sometimes.
そこで、例えば特許文献2には、はんだペーストの経時変化を抑制するため、Snと、Ag、Bi、Sb、Zn、In及びCuからなる群から選択される1種又は2種以上と、を含み、かつ、所定量のAsを含むはんだ合金が開示されている。同文献には、25℃で2週間後の粘度が作製当初の粘度と比較して140%未満である結果が示されている。 Therefore, for example, Patent Document 2 includes Sn and one or more selected from the group consisting of Ag, Bi, Sb, Zn, In, and Cu in order to suppress the change over time of the solder paste. , And a solder alloy containing a predetermined amount of As is disclosed. The same document shows the result that the viscosity after 2 weeks at 25 ° C. is less than 140% as compared with the initial viscosity.
特許文献1に示されるはんだペーストは、リフローはんだ付けの後、一定期間を経過すると銅等の配線に用いられる金属を腐食することがあった。 The solder paste disclosed in Patent Document 1 may corrode a metal used for wiring such as copper after a lapse of a certain period after reflow soldering.
特許文献2には、As含有量が多いと溶融性が劣る結果が示されており、当該溶融性は、溶融はんだの濡れ性に相当すると考えられる。一般に、溶融はんだの濡れ性を向上させるためには高活性のフラックスを用いる必要がある。特許文献2に記載のフラックスにおいて、Asによる濡れ性の劣化が抑制されるためには、高活性のフラックスを用いればよいと考えられる。しかし、高活性のフラックスを用いるとはんだペーストの粘度上昇率が上がってしまう。また、特許文献2の記載を鑑みると、粘度上昇率の上昇を抑えるためにはAs含有量を増加させる必要がある。特許文献2に記載のはんだペーストが更に低い粘度上昇率と優れた濡れ性を示すためには、フラックスの活性力とAs含有量を増加しつづける必要があり、悪循環を招くことになる。 Patent Document 2 shows the result that the meltability is poor when the As content is high, and the meltability is considered to correspond to the wettability of the molten solder. Generally, it is necessary to use a highly active flux in order to improve the wettability of the molten solder. In the flux described in Patent Document 2, it is considered that a highly active flux may be used in order to suppress deterioration of wettability due to As. However, if a highly active flux is used, the viscosity increase rate of the solder paste will increase. Further, in view of the description in Patent Document 2, it is necessary to increase the As content in order to suppress the increase in the viscosity increase rate. In order for the solder paste described in Patent Document 2 to exhibit a lower viscosity increase rate and excellent wettability, it is necessary to keep increasing the activity of the flux and the As content, which causes a vicious circle.
また、微細な電極を接合するためには、はんだ継手の機械的特性等を向上させる必要がある。元素によっては、含有量が多くなると液相線温度が上昇して液相線温度と固相線温度が広がり、凝固時に偏析して不均一な合金組織が形成されてしまう。はんだ合金がこのような合金組織を有すると、引張強度などの機械的特性が劣り外部からの応力により容易に破断してしまう。この問題は、近年の電極の小型化にともない顕著になってきている。 Further, in order to bond fine electrodes, it is necessary to improve the mechanical characteristics and the like of the solder joint. Depending on the element, when the content increases, the liquidus temperature rises, the liquidus temperature and the solidus temperature widen, and segregates during solidification to form a non-uniform alloy structure. When the solder alloy has such an alloy structure, mechanical properties such as tensile strength are poor and the solder alloy easily breaks due to external stress. This problem has become more prominent with the recent miniaturization of electrodes.
そこで、本発明は、金属表面の腐食抑制性に優れ、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さいはんだペースト及びフラックスを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a solder paste and a flux that have excellent corrosion inhibition of the metal surface, and also have an effect of inhibiting thickening, have excellent wettability, and have a small temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature. The purpose is to provide.
本発明者らは、特定のはんだ合金を用いることで優れた増粘抑制効果を示し、さらに、フラックスがアゾール化合物を含むことで、金属表面の腐食抑制性を向上させられることを見出した。 The present inventors have found that the use of a specific solder alloy exhibits an excellent effect of suppressing thickening, and further, that the flux contains an azole compound, the corrosion inhibiting property of the metal surface can be improved.
本発明は、以下の[1]〜[16]に関する。
[1]
アゾール化合物と、有機酸と、溶剤とを含有するフラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
[2]
前記アゾール化合物は、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、ベンゾイミダゾール及び2−オクチルベンゾイミダゾールからなる群より選択される少なくとも一種である、上記[1]に記載のはんだペースト。
[3]
前記フラックスは、前記アゾール化合物を前記フラックス全質量に対して0.1質量%以上10質量%以下含む、上記[1]又は[2]に記載のはんだペースト。
[4]
前記フラックスは、前記有機酸を前記フラックス全質量に対して0.5質量%以上20質量%以下含む、上記[1]〜[3]のいずれかに記載のはんだペースト。
[5]
前記フラックスは、ロジンを更に含有する、上記[1]〜[4]のいずれかに記載のはんだペースト。
[6]
前記フラックスは、前記ロジンを前記フラックス全質量に対して30質量%以上60質量%以下含む、上記[5]に記載のはんだペースト。
[7]
前記フラックスは、チキソ剤を更に含有する、上記[1]〜[6]のいずれかに記載のはんだペースト。
[8]
前記フラックスは、前記チキソ剤を前記フラックス全質量に対して1.5質量%以上10質量%以下含む、上記[7]に記載のはんだペースト。
[9]
前記はんだ合金が粒子状の形態を有する、上記[1]〜[8]のいずれかに記載のはんだペースト。
[10]
前記はんだ合金が、下記(1a)式:
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[9]のいずれかに記載のはんだペースト。
[11]
前記はんだ合金が、下記(1b)式:
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[10]のいずれかに記載のはんだペースト。
[12]
前記はんだ合金が、下記(2a)式:
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[11]のいずれかに記載のはんだペースト。
[13]
さらに、前記合金組成が、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%の少なくとも1種を含有する、上記[1]のいずれかに記載のはんだペースト。
[14]
さらに、酸化ジルコニウム粉末を有する、上記[1]〜[13]のいずれかに記載のはんだペースト。
[15]
前記酸化ジルコニウム粉末を前記はんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%含有する、上記[14]に記載のはんだペースト。
[16]
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
アゾール化合物と、有機酸と、溶剤とを含有するフラックス。
The present invention relates to the following [1] to [16].
[1]
A flux containing an azole compound, an organic acid, and a solvent; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm to 8000 mass ppm or less, and the balance Sn. The alloy composition has the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Satisfying solder alloy;
Including solder paste.
[2]
The azole compound is at least one selected from the group consisting of 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, benzimidazole and 2-octylbenzimidazole, in the above [1]. The listed solder paste.
[3]
The solder paste according to the above [1] or [2], wherein the flux contains the azole compound in an amount of 0.1% by mass or more and 10% by mass or less based on the total mass of the flux.
[4]
The said paste contains the said organic acid 0.5 mass% or more and 20 mass% or less with respect to the said flux total mass, The solder paste in any one of said [1]-[3].
[5]
The said solder paste in any one of said [1]-[4] which further contains rosin.
[6]
The solder paste according to the above [5], wherein the flux contains 30% by mass or more and 60% by mass or less of the rosin with respect to the total mass of the flux.
[7]
The said solder paste in any one of said [1]-[6] which further contains a thixotropic agent.
[8]
The solder paste according to the above [7], wherein the flux contains the thixotropic agent in an amount of 1.5% by mass or more and 10% by mass or less based on the total mass of the flux.
[9]
The solder paste according to any of [1] to [8] above, wherein the solder alloy has a particulate form.
[10]
The solder alloy has the following formula (1a):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of [1] to [9], which satisfies the above condition.
[11]
The solder alloy has the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of the above [1] to [10], which satisfies the above condition.
[12]
The solder alloy has the following formula (2a):
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
[In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of [1] to [11], which satisfies the above condition.
[13]
Further, the solder paste according to any one of the above [1], wherein the alloy composition contains at least one of Ag: 0 to 4 mass% and Cu: 0 to 0.9 mass%.
[14]
Furthermore, the solder paste according to any one of the above [1] to [13], which contains zirconium oxide powder.
[15]
The solder paste according to the above [14], which contains the zirconium oxide powder in an amount of 0.05 to 20.0 mass% with respect to the total mass of the solder paste.
[16]
As: 25-300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: more than 0 mass ppm and 8,000 mass ppm or less, and the balance has an alloy composition of Sn, and the following formula (1) and (2) )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
For soldering a solder alloy that satisfies the
A flux containing an azole compound, an organic acid, and a solvent.
本発明によれば、金属表面の腐食抑制性に優れ、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さいソルダスペースト及びフラックスを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in corrosion inhibitory property of a metal surface, and also has a thickening inhibitory effect, is excellent in wettability, and has a small temperature difference between a liquidus temperature and a solidus temperature. Can be provided.
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described in more detail. However, the present invention is not limited to these, and various modifications may be made without departing from the gist thereof. Deformation is possible.
[はんだペースト]
本実施形態のはんだペーストは、フラックス及びはんだ合金を含む。
上述のフラックスは、アゾール化合物と、有機酸と、溶剤とを含有する。
上述のはんだ合金は、As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす。
本実施形態のはんだペーストによれば、増粘抑制効果を有し、腐食抑制性に優れる。
[Solder paste]
The solder paste of this embodiment contains a flux and a solder alloy.
The above-mentioned flux contains an azole compound, an organic acid, and a solvent.
The above-mentioned solder alloy has an alloy composition of As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25,000 mass ppm, Pb: more than 0 mass ppm and 8,000 mass ppm, and the balance of Sn, and the following ( Formula 1 and formula (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Meet.
According to the solder paste of the present embodiment, it has a thickening suppressing effect and excellent corrosion suppressing properties.
<フラックス>
(アゾール化合物)
本実施の形態のフラックスは、アゾール化合物を含有する。後述の有機酸と組み合わせることで、接合対象物の金属表面(例えば銅板)の腐食抑制性を向上させることができる。
ここでいう「アゾール化合物」とは、窒素原子を1つ以上含む複素5員環構造を有する化合物を意味し、当該複素5員環構造と他の環構造との縮合環も包含する。
<Flux>
(Azole compound)
The flux of this embodiment contains an azole compound. By combining with an organic acid described below, it is possible to improve the corrosion inhibiting property of the metal surface (for example, copper plate) of the object to be joined.
The "azole compound" as used herein means a compound having a hetero 5-membered ring structure containing one or more nitrogen atoms, and also includes a condensed ring of the hetero 5-membered ring structure and another ring structure.
アゾール化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、エポキシ−イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2’−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1−(1’,2’−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−フェニルテトラゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6’−tert−ブチル−4’−メチル−2,2’−メチレンビスフェノール等が挙げられる。 Examples of the azole compound include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4. -Methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole 2,3-Dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, epoxy-imidazole adduct, 2-methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2- (1-ethylpentyl) Benzimidazole, 2-nonylbenzimidazole, 2- (4-thiazolyl) benzimidazole, benzimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'- tert-Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5). '-Tert-octylphenyl) benzotriazole, 2, '-Methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol], 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzo Triazole, carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotriazole, 2,2 '-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] bis Ethanol, 1- (1 ', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6- Bis [(1H-benzotriazol-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole, 5-phenyltetrazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'- Methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 -[2'-Ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s- Triazine isocyanuric acid adduct, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazole Phosphorus, 6- (2-benzotriazolyl) -4-tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylene bisphenol, and the like.
アゾール化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
アゾール化合物は、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、ベンゾイミダゾール及び2−オクチルベンゾイミダゾールからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましく、2−フェニルイミダゾールを含むものがより好ましい。
本実施の形態のフラックスは、アゾール化合物を0.1質量%以上10質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは、アゾール化合物を0.5質量%以上5.0質量%以下含む。
The azole compounds may be used alone or in combination of two or more.
The azole compound is preferably at least one selected from the group consisting of 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, benzimidazole and 2-octylbenzimidazole, and 2-phenyl Those containing imidazole are more preferable.
The flux of the present embodiment preferably contains an azole compound in an amount of 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 5.0% by mass or less.
(有機酸)
本実施の形態のフラックスは、有機酸を含有する。
有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。
(Organic acid)
The flux of this embodiment contains an organic acid.
Organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosane diacid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, thioglycol. Acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, isocyanuric acid tris (2-carboxyethyl) , Glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid , 2-quinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, Gore acid, p- anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid.
また、有機酸としては、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸が挙げられる。 Examples of the organic acid include dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product of dimer acid, and hydrogenated trimer acid which is a hydrogenated product of trimer acid.
例えば、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述した各ダイマー酸の水添物である水添ダイマー酸、上述した各トリマー酸の水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。 For example, dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid, and methacrylic acid. The reaction product of dimer acid, the reaction product of methacrylic acid is trimer acid, the reaction product of acrylic acid and methacrylic acid is dimer acid, the reaction product of acrylic acid and methacrylic acid is trimer acid, and the reaction product of oleic acid. A dimer acid, a trimer acid that is a reaction product of oleic acid, a dimer acid that is a reaction product of linoleic acid, a trimer acid that is a reaction product of linoleic acid, a dimer acid that is a reaction product of linolenic acid, and a reaction product of linolenic acid. Some trimer acids, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, Dimer acid which is a reaction product of lylic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, and trimer which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid Acid, a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, dimer acid, a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, trimer acid, a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid. Some trimer acid, dimer acid which is the reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, trimer acid which is the reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, dimer acid which is the reaction product of oleic acid and linolenic acid, and reaction of oleic acid and linolenic acid Trimer acid which is a substance, dimer acid which is a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, and a reaction product of linoleic acid and linolenic acid Trimer acid that, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenation product of the dimer acid as described above, hydrogenated trimer acid, and the like are hydrogenated products of the trimer acid described above.
有機酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本実施の形態のフラックスは、有機酸を0.5質量%以上20質量%以下含むことが好ましく、3質量%以上18質量%以下含むことがより好ましい。
The organic acids may be used alone or in combination of two or more.
The flux of the present embodiment preferably contains 0.5% by mass or more and 20% by mass or less of an organic acid, more preferably 3% by mass or more and 18% by mass or less.
本実施の形態のフラックスにおいて、有機酸の含有量と、アゾール化合物の含有量との比率は、有機酸の含有量/アゾール化合物の含有量で表される質量比として、0.5以上10以下が好ましく、1以上9以下がより好ましい。この質量比が前記の好ましい範囲内であれば、接合対象物の金属表面(例えば銅板)の腐食抑制性がより高められやすくなる。 In the flux of the present embodiment, the ratio of the content of the organic acid and the content of the azole compound is 0.5 or more and 10 or less as a mass ratio represented by the content of the organic acid / the content of the azole compound. Is preferable, and 1 or more and 9 or less is more preferable. If this mass ratio is within the above-mentioned preferable range, the corrosion inhibiting property of the metal surface (for example, copper plate) of the objects to be joined can be more easily enhanced.
本実施の形態のフラックスにおいて、有機酸とアゾール化合物の合計含有量は、フラックスの全質量量に対して、好ましくは3質量%以上であり、より好ましくは5質量%以上であり、さらに好ましくは6質量%以上である。また、有機酸とアゾール化合物の合計含有量は、フラックスの全質量量に対して、好ましくは30質量%以下であり、より好ましくは20質量%以下であり、さらに好ましくは15質量%以下である。この含有量が前記の好ましい範囲内であれば、接合対象物の金属表面(例えば銅板)の腐食抑制性がより高められやすくなり、濡れ性がより向上する傾向にある。 In the flux of the present embodiment, the total content of the organic acid and the azole compound is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and further preferably, based on the total mass of the flux. It is 6% by mass or more. The total content of the organic acid and the azole compound is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less, based on the total mass of the flux. . If this content is within the above-mentioned preferred range, the corrosion inhibiting property of the metal surface (for example, a copper plate) of the object to be bonded is likely to be enhanced, and the wettability tends to be further enhanced.
(ロジン)
本実施の形態のフラックスは、ロジンを含有していてもよい。
ロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、酸変性ロジン、フェノール変性ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用することができる。
(Rosin)
The flux of this embodiment may contain rosin.
Examples of the rosin include raw rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw rosins. Examples of the derivative include purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, acid-modified rosin, phenol-modified rosin and α, β-unsaturated carboxylic acid modified products (acrylated rosin, maleated rosin, fumarized rosin. Rosin), and purified products of the polymerized rosin, hydrides and disproportionated products, and purified products of the α, β-unsaturated carboxylic acid modified products, hydrides and disproportionated products, and the like. Two or more can be used.
本実施の形態のフラックスは、ロジンを30質量%以上60質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは、ロジンを35質量%以上60質量%以下含む。 The flux of the present embodiment preferably contains 30% by mass or more and 60% by mass or less of rosin, and more preferably contains 35% by mass or more and 60% by mass or less of rosin.
(チキソ剤)
チキソ剤としては、ワックス系チキソ剤、アマイド系チキソ剤、ソルビトール系チキソ剤が挙げられる。ワックス系チキソ剤としては例えばヒマシ硬化油等が挙げられる。アマイド系チキソ剤としては例えば、モノアマイド系チキソ剤、ビスアマイド系チキソ剤、ポリアマイド系チキソ剤が挙げられる。モノアマイド系チキソ剤としては、例えば、ラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、不飽和脂肪酸アマイド、p−トルアマイド、p−トルエンメタンアマイド、芳香族アマイド等が挙げられる。ビスアマイド系チキソ剤としては、例えば、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸ビスアマイド、メチレンビスオレイン酸アマイド、不飽和脂肪酸ビスアマイド、m−キシリレンビスステアリン酸アマイド、芳香族ビスアマイド等が挙げられる。ポリアマイド系チキソ剤としては、例えば、飽和脂肪酸ポリアマイド、不飽和脂肪酸ポリアマイド、芳香族ポリアマイド、置換アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、メチロールアマイド、脂肪酸エステルアマイド等が挙げられる。ソルビトール系チキソ剤としては例えば、ジベンジリデン−D−ソルビトール、ビス(4−メチルベンジリデン)−D−ソルビトールが挙げられる。チキソ剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
(Thixotropic agent)
Examples of thixotropic agents include wax thixotropic agents, amide thixotropic agents, and sorbitol thixotropic agents. Examples of the wax-based thixotropic agent include castor hydrogenated oil and the like. Examples of the amide thixotropic agent include a monoamide thixotropic agent, a bisamide thixotropic agent, and a polyamide thixotropic agent. Examples of the monoamide thixotropic agent include lauric acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, behenic acid amide, hydroxystearic acid amide, saturated fatty acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, unsaturated fatty acid amide, and p-toluamide. , P-toluenemethane amide, aromatic amide and the like. Examples of the bisamide thixotropic agent include methylenebisstearic acid amide, ethylenebislauric acid amide, ethylenebishydroxystearic acid amide, saturated fatty acid bisamide, methylenebisoleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, and m-xylylenebisstearic acid. Amide, aromatic bisamide, etc. are mentioned. Examples of the polyamide-based thixotropic agent include saturated fatty acid polyamide, unsaturated fatty acid polyamide, aromatic polyamide, substituted amide, methylol stearic acid amide, methylol amide, and fatty acid ester amide. Examples of the sorbitol thixotropic agent include dibenzylidene-D-sorbitol and bis (4-methylbenzylidene) -D-sorbitol. The thixotropic agents may be used alone or in combination of two or more.
本実施の形態のフラックスは、好ましくは、チキソ剤を0.1質量%以上15.0質量%以下、より好ましくは、チキソ剤を1.0質量%以上10.0質量%以下、さらに好ましくは、チキソ剤を2.0質量%以上8.3質量%以下含む。 The flux of the present embodiment is preferably 0.1 mass% or more and 15.0 mass% or less of the thixotropic agent, more preferably 1.0 mass% or more and 10.0 mass% or less of the thixotropic agent, and further preferably , Containing a thixotropic agent in an amount of 2.0% by mass to 8.3% by mass.
また、本実施の形態のフラックスは、チキソ剤としてエステル化合物を含むことが好ましく、エステル化合物を0質量%以上8.0質量%以下、より好ましくは、エステル化合物を0質量%以上4.0質量%以下含む。
エステル化合物としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。
In addition, the flux of the present embodiment preferably contains an ester compound as a thixotropic agent, and the ester compound is contained in an amount of 0% by mass or more and 8.0% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 4.0% by mass. % Or less included.
Examples of the ester compound include castor hydrogenated oil and the like.
(その他の添加剤)
本実施の形態のフラックスは、さらに、アミン(アゾール化合物を除く)、ハロゲン(有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩)を含んでもよい。本実施の形態のフラックスは、アミン(アゾール化合物を除く)を0質量%以上20質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは、アミンを0質量%以上5質量%以下含む。本実施の形態のフラックスは、ハロゲンとして有機ハロゲン化合物を0質量%以上5質量%以下含むことが好ましく、アミンハロゲン化水素酸塩を0質量%以上2質量%以下含むことが好ましい。
(Other additives)
The flux of the present embodiment may further contain amine (excluding azole compound) and halogen (organic halogen compound, amine hydrohalide). The flux of the present embodiment preferably contains 0% by mass or more and 20% by mass or less of amine (excluding azole compound), and more preferably contains 0% by mass or more and 5% by mass or less of amine. The flux of the present embodiment preferably contains an organic halogen compound as halogen in an amount of 0% by mass or more and 5% by mass or less, and preferably contains an amine hydrohalide salt in an amount of 0% by mass or more and 2% by mass or less.
アミンとしては、モノエタノールアミン、エチルアミン、トリエチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン等が挙げられる。 Examples of the amine include monoethanolamine, ethylamine, triethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid. Examples include adducts and 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine.
有機ハロゲン化合物としては、trans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、イソシアヌル酸トリス(2,3−ジブロモプロピル)、無水クロレンド酸等が挙げられる。 Examples of the organic halogen compound include trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol and 3-bromo. -1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3- Dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, tris (2,3-dibromopropyl) isocyanurate, Examples thereof include chlorendic anhydride.
アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物である。
アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられる。ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでもよく、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。
アミンハロゲン化水素酸塩としては、アニリン塩化水素、シクロヘキシルアミン塩化水素、アニリン臭化水素、ジフェニルグアニジン臭化水素、ジトリルグアニジン臭化水素、エチルアミン臭化水素等が挙げられる。
The amine hydrohalide is a compound obtained by reacting an amine with hydrogen halide.
As the amine of the amine hydrohalide, the above-mentioned amines can be used, and examples thereof include ethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylamine, diphenylguanidine, ditolylguanidine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like. To be Examples of hydrogen halides include hydrides of chlorine, bromine, iodine and fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Further, instead of the amine hydrohalide or in combination with the amine hydrohalide, borofluoride may be contained, and examples of the borofluoride include borofluoric acid.
Examples of the amine hydrohalide include aniline hydrogen chloride, cyclohexylamine hydrogen chloride, aniline hydrogen bromide, diphenylguanidine hydrogen bromide, ditolylguanidine hydrogen bromide, ethylamine hydrogen bromide and the like.
本実施の形態のフラックスは、更に、酸化防止剤を含んでもよく、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、酸化防止剤を0質量%以上5質量%以下含むことが好ましい。 The flux of the present embodiment may further contain an antioxidant, and examples of the antioxidant include a hindered phenol-based antioxidant and the like, and the antioxidant should be contained in an amount of 0% by mass or more and 5% by mass or less. Is preferred.
(溶剤)
本実施形態のフラックスは、溶剤を含有する。
溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。アルコール系溶剤としてはイソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2’−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、ヘキシルジグリコール、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
(solvent)
The flux of this embodiment contains a solvent.
Examples of the solvent include water, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols and the like. Examples of alcohol solvents include isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, and 2,5. -Dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) Ethane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2'-oxybis (methylene) bis (2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] ether , 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, erythritol, threitol, guaiacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol and the like can be mentioned. Examples of the glycol ether solvent include hexyl diglycol, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether. , Tetraethylene glycol monomethyl ether and the like.
本実施の形態のフラックスは、残部が溶剤であり、好ましくは、溶剤を10.0質量%以上90.0質量%以下、より好ましくは、溶剤を20.0質量%以上80.0質量%以下、さらに好ましくは、溶剤を30.0%以上70.0質量%以下含む。 The balance of the flux of the present embodiment is a solvent, preferably 10.0% by mass or more and 90.0% by mass or less of the solvent, more preferably 20.0% by mass or more and 80.0% by mass or less of the solvent. More preferably, the solvent content is 30.0% or more and 70.0% by mass or less.
<はんだ合金>
はんだ合金は、As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]を満たす。
本実施形態のはんだペーストは、上記のはんだ合金を含むことにより、増粘抑制効果を向上できる。また、当該はんだ合金は、上記の構成を備えることにより、液相線温度(TL)と固相線温度(TS)との差(ΔT=TL−TS)を小さくできる。このため、例えば、上記はんだ合金を含有するはんだペーストを電子機器の基板に塗布し、凝固させても、はんだペーストは、はんだ合金の組織の均一性を保つことができる。その結果、はんだペーストは、サイクル特性等の信頼性に優れる。更に、本実施形態のはんだペーストを構成するはんだ合金は、上記の構成を備えることにより、濡れ性に優れるため、はんだ付け不良の発生を抑制できる。このように、はんだペーストは、上記構成を備えることにより、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さくなる。
<Solder alloy>
The solder alloy has an alloy composition of As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25000 mass ppm, Pb: 0 mass ppm to 8000 mass ppm, and the balance being Sn, and the following (1) Formula and Formula (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
The solder paste of the present embodiment can improve the thickening suppression effect by including the above solder alloy. Also, the solder alloy is provided with the configuration described above, it is possible to reduce the difference (ΔT = T L -T S) and the liquidus temperature (T L) and the solidus temperature (T S). Therefore, for example, even if the solder paste containing the solder alloy is applied to the substrate of the electronic device and solidified, the solder paste can maintain the uniformity of the structure of the solder alloy. As a result, the solder paste has excellent reliability such as cycle characteristics. Further, since the solder alloy constituting the solder paste of the present embodiment is excellent in wettability by having the above-mentioned constitution, it is possible to suppress the occurrence of defective soldering. As described above, the solder paste having the above-described configuration has a thickening suppressing effect, is excellent in wettability, and has a small temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature.
Asは、はんだペーストの粘度の経時変化を抑制することができる元素である。Asはフラックスとの反応性が低く、またSnに対して貴な元素であるために増粘抑制効果を発揮することができると推察される。Asが25質量ppm未満であると、増粘抑制効果を十分に発揮することができない。As含有量の下限は25質量ppm以上であり、好ましくは50質量ppm以上であり、より好ましくは100質量ppm以上である。一方、Asが多すぎるとはんだ合金の濡れ性が劣化する。As含有量の上限は300質量ppm以下であり、このましくは250質量ppm以下であり、より好ましくは200質量ppm以下である。 As is an element that can suppress the change in viscosity of the solder paste with time. Since As has a low reactivity with flux and is a noble element with respect to Sn, it is presumed that it can exert a thickening suppressing effect. If As is less than 25 mass ppm, the thickening suppressing effect cannot be sufficiently exhibited. The lower limit of the As content is 25 mass ppm or more, preferably 50 mass ppm or more, and more preferably 100 mass ppm or more. On the other hand, if As is too large, the wettability of the solder alloy deteriorates. The upper limit of the As content is 300 mass ppm or less, preferably 250 mass ppm or less, and more preferably 200 mass ppm or less.
Bi及びPbはフラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。また、これらの元素は、はんだ合金の液相線温度を下げるとともに溶融はんだの粘性を低減させるため、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる元素である。 Bi and Pb are elements having low reactivity with flux and exhibiting a thickening suppressing effect. Further, these elements are elements that can suppress the deterioration of the wettability due to As, since they lower the liquidus temperature of the solder alloy and the viscosity of the molten solder.
Bi及びPbの少なくとも1元素が存在すれば、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる。本実施形態に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。本実施形態に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。 If at least one element of Bi and Pb is present, deterioration of wettability due to As can be suppressed. When the solder alloy according to the present embodiment contains Bi, the lower limit of Bi content is more than 0 mass ppm, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 75 mass ppm or more. It is at least ppm by mass, particularly preferably at least 100 ppm by mass, and most preferably at least 250 ppm by mass. When the solder alloy according to the present embodiment contains Pb, the lower limit of the Pb content is more than 0 mass ppm, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 75 mass ppm or more. It is at least ppm by mass, particularly preferably at least 100 ppm by mass, and most preferably at least 250 ppm by mass.
一方、これらの元素の含有量が多すぎると、固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広すぎると、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が析出するために液相のBiやPbが濃縮される。その後、さらに溶融はんだの温度が低下すると、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析してしまう。このため、はんだ合金の機械的強度等が劣化することになる。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ合金中で偏析すると機械的強度等が著しく低下する。 On the other hand, if the contents of these elements are too large, the solidus temperature is significantly lowered, so that the temperature difference ΔT between the liquidus temperature and the solidus temperature becomes too wide. If ΔT is too wide, a high melting point crystal phase having a low Bi or Pb content is precipitated during the solidification process of the molten solder, and the liquid phase Bi or Pb is concentrated. After that, when the temperature of the molten solder further decreases, the low melting point crystal phase having a high Bi or Pb concentration segregates. Therefore, the mechanical strength of the solder alloy is deteriorated. In particular, since the crystal phase having a high Bi concentration is hard and brittle, if segregated in the solder alloy, the mechanical strength and the like will be significantly reduced.
このような観点から、本実施形態に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は25000質量ppm以下であり、好ましくは10000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは600質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。本実施形態に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の上限値は8000質量ppm以下であり、好ましくは5100質量ppm以下であり、より好ましくは5000質量ppm以下であり、さらに好ましくは1000質量ppm以下であり、特に好ましくは850質量ppm以下であり、最も好ましくは500質量ppm以下である。 From such a viewpoint, when the solder alloy according to the present embodiment contains Bi, the upper limit of the Bi content is 25,000 mass ppm or less, preferably 10,000 mass ppm or less, and more preferably 1,000 mass ppm or less. Yes, more preferably 600 mass ppm or less, and particularly preferably 500 mass ppm or less. If the solder alloy according to the present embodiment contains Pb, Kirichi on the Pb content is not more than 8000 mass ppm, preferably not more than 5100 mass ppm, more preferably not more than 5000 mass ppm, more preferably Is 1000 mass ppm or less, particularly preferably 850 mass ppm or less, and most preferably 500 mass ppm or less.
本実施形態に係るはんだ合金は、下記(1)式を満たす。 The solder alloy according to this embodiment satisfies the following formula (1).
275≦2As+Bi+Pb (1)
上記(1)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
In the above formula (1), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
As、Bi及びPbは、いずれも増粘抑制効果を示す元素である。これらの合計が230質量ppm以上である。(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。 Each of As, Bi and Pb is an element having a thickening suppressing effect. The total of these is 230 mass ppm or more. In the formula (1), the reason why the As content is doubled is that As has a higher effect of suppressing thickening than Bi or Pb.
(1)式が275未満であると、増粘抑制効果が十分に発揮されない。(1)式の下限は275以上であり、好ましくは300以上であり、より好ましくは700以上であり、さらに好ましくは900以上である。一方、(1)の上限は、増粘抑制効果の観点では特に限定されることはないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200以下であり、より好ましくは15200以下であり、さらに好ましくは10200以下であり、特に好ましくは8200以下であり、最も好ましくは5300以下である。 When the formula (1) is less than 275, the thickening suppressing effect is not sufficiently exhibited. The lower limit of the formula (1) is 275 or more, preferably 300 or more, more preferably 700 or more, and further preferably 900 or more. On the other hand, the upper limit of (1) is not particularly limited from the viewpoint of the effect of suppressing thickening, but is preferably 25200 or less, and more preferably 15200 or less from the viewpoint of setting ΔT in a suitable range. It is more preferably 10200 or less, particularly preferably 8200 or less, and most preferably 5300 or less.
上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(1a)式及び(1b)式である。 The following formulas (1a) and (1b) are obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above-described preferred embodiments.
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1a)及び(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
本実施形態に係るはんだ合金は、下記(2)式を満たす。 The solder alloy according to this embodiment satisfies the following formula (2).
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
上記(2)式中、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
In the above formula (2), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが上昇してしまうため、厳密な管理が必要である。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが上昇しやすい。本実施形態では、BiとPbの含有量に所定の係数を乗じた値の合計を規定することにより、ΔTの上昇を抑制することができる。(2)式ではPbの係数がBiの係数より大きい。PbはBiと比較してΔTへの寄与度が大きく、含有量が少し増加しただけでΔTが大幅に上昇してしまうためである。 Bi and Pb suppress deterioration of wettability due to the inclusion of As, but if the contents are too large, ΔT increases, so strict control is required. Particularly, in the alloy composition containing Bi and Pb at the same time, ΔT tends to increase. In the present embodiment, the increase in ΔT can be suppressed by defining the total of the values obtained by multiplying the contents of Bi and Pb by a predetermined coefficient. In the equation (2), the coefficient of Pb is larger than the coefficient of Bi. This is because Pb has a larger contribution to ΔT than Bi, and ΔT significantly increases even if the content is slightly increased.
(2)式が0であるはんだ合金は、Bi及びPbの両元素を含有しないことになり、Asを含有したことによる濡れ性の劣化を抑制することができない。(2)式の下限は0超えであり、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.03以上であり、さらに好ましくは0.05以上であり、特に好ましくは0.06以上であり、最も好ましくは0.11以上である。一方、(2)式が7を超えるとΔTの温度域が広くなりすぎるため、溶融はんだの凝固時にBiやPbの濃度が高い結晶相が偏析して機械的強度等が劣化する。(2)の上限は7以下であり、好ましくは6.56以下であり、より好ましくは6.40以下であり、さらに好ましくは5.75以下であり、さらにより好ましくは4.18以下であり、特に好ましくは2.30以下であり、最も好ましくは0.90以下である。 The solder alloy in which the formula (2) is 0 does not contain both elements of Bi and Pb, and thus the deterioration of the wettability due to the inclusion of As cannot be suppressed. The lower limit of the formula (2) is more than 0, preferably 0.02 or more, more preferably 0.03 or more, still more preferably 0.05 or more, and particularly preferably 0.06 or more. , And most preferably 0.11 or more. On the other hand, when the expression (2) exceeds 7, the temperature range of ΔT becomes too wide, so that the crystal phase having a high concentration of Bi and Pb is segregated during solidification of the molten solder to deteriorate mechanical strength and the like. The upper limit of (2) is 7 or less, preferably 6.56 or less, more preferably 6.40 or less, further preferably 5.75 or less, and still more preferably 4.18 or less. , Particularly preferably 2.30 or less, and most preferably 0.90 or less.
上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(2a)式である。 The formula (2a) below is obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above-mentioned preferred embodiments.
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
上記(2a)式中、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
Agは、結晶界面にAg3Snを形成してはんだ合金の機械的強度等を向上させることができる任意元素である。また、Agはイオン化傾向がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Ag含有量は好ましくは0〜4%であり、より好ましくは0.5〜3.5%であり、さらに好ましくは1.0〜3.0%である。 Ag is an optional element that can form Ag 3 Sn at the crystal interface to improve the mechanical strength and the like of the solder alloy. Further, Ag is an element having an ionization tendency that is noble with respect to Sn, and coexists with As, Pb, and Bi to promote these thickening suppressing effects. The Ag content is preferably 0 to 4%, more preferably 0.5 to 3.5%, still more preferably 1.0 to 3.0%.
Cuは、はんだ継手の接合強度を向上させることができる任意元素である。また、Cuはイオン化傾向がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Cu含有量は好ましくは0〜0.9%であり、より好ましくは0.1〜0.8%であり、さらに好ましくは0.2〜0.7%である。 Cu is an arbitrary element that can improve the bonding strength of the solder joint. Further, Cu is an element having an ionization tendency that is noble with respect to Sn, and coexists with As, Pb, and Bi to promote these thickening suppressing effects. The Cu content is preferably 0 to 0.9%, more preferably 0.1 to 0.8%, and further preferably 0.2 to 0.7%.
本実施形態に係るはんだ合金の残部はSnである。前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。また、後述するように、本実施形態では含有しない元素が不可避的不純物として含有されても前述の効果に影響することはない。Inは、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、1000質量ppm以下であれば前述の効果に影響することはない。 The balance of the solder alloy according to this embodiment is Sn. In addition to the above-mentioned elements, unavoidable impurities may be contained. Even if it contains inevitable impurities, it does not affect the above-mentioned effects. Further, as will be described later, even if an element which is not contained in the present embodiment is contained as an unavoidable impurity, the above-mentioned effect is not affected. If the content of In is too large, ΔT spreads, so if it is 1000 mass ppm or less, it does not affect the above-mentioned effect.
<各成分の含有量>
ソルダスペースト中のはんだ合金及びフラックスの含有量に限定はなく、例えば、はんだ合金を5〜95質量%、フラックスを5〜95質量%とすることができる。
<Content of each component>
The contents of the solder alloy and the flux in the solder paste are not limited, and for example, the solder alloy can be 5 to 95 mass% and the flux can be 5 to 95 mass%.
本実施形態に係るはんだペーストは、酸化ジルコニウム粉末を含有することが好ましい。酸化ジルコニウムは、経時変化に伴うペーストの粘度上昇を抑制することができる。これは、酸化ジルコニウムを含有することにより、はんだ粉末表面の酸化膜厚がフラックス中に投入する前の状態を維持するためと推測される。詳細は不明であるが、以下のように推察される。通常、フラックスの活性成分は常温でもわずかに活性を持っているため、はんだ粉末の表面酸化膜が還元により薄くなり、粉末同士が凝集する原因になっている。そこで、はんだペーストに酸化ジルコニウム粉末を添加することで、フラックスの活性成分が酸化ジルコニウム粉末と優先的に反応し、はんだ粉末表面の酸化膜が凝集しない程度に維持されると推察される。 The solder paste according to this embodiment preferably contains zirconium oxide powder. Zirconium oxide can suppress an increase in the viscosity of the paste with the lapse of time. It is presumed that this is because the inclusion of zirconium oxide maintains the oxide film thickness on the surface of the solder powder in the state before being put into the flux. The details are unknown, but it is presumed to be as follows. Usually, the active component of the flux is slightly active even at room temperature, so that the surface oxide film of the solder powder becomes thin due to reduction, which causes the powder particles to aggregate. Therefore, it is presumed that by adding zirconium oxide powder to the solder paste, the active component of the flux preferentially reacts with the zirconium oxide powder, and the oxide film on the surface of the solder powder is maintained so as not to aggregate.
このような作用効果を十分に発揮するためには、はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の含有量ははんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%であることが好ましい。0.05質量%以上であると上記作用効果を発揮することができ、20.0質量%以下であると金属粉末の含有量を確保することができ、増粘防止効果を発揮することができる。酸化ジルコニウムの含有量は好ましくは0.05〜10.0質量%であり、より好ましい含有量は0.1〜3質量%である。 In order to sufficiently exert such effects, the content of zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 0.05 to 20.0 mass% with respect to the total mass of the solder paste. When the amount is 0.05% by mass or more, the above-mentioned effects can be exhibited, and when the amount is 20.0% by mass or less, the content of the metal powder can be secured and the thickening preventing effect can be exhibited. . The content of zirconium oxide is preferably 0.05 to 10.0 mass%, more preferably 0.1 to 3 mass%.
はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の粒径は5μm以下であることが好ましい。粒径が5μm以下であるとペーストの印刷性を維持することができる。下限は特に限定されることはないが0.5μm以上であればよい。上記粒径は、酸化ジルコニウム粉末のSEM写真を撮影し、0.1μm以上の各粉末について画像解析により投影円相当径を求め、その平均値とした。 The particle size of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 5 μm or less. When the particle size is 5 μm or less, the printability of the paste can be maintained. The lower limit is not particularly limited, but may be 0.5 μm or more. The particle size was determined by taking an SEM photograph of zirconium oxide powder, determining the projected circle equivalent diameter by image analysis for each powder of 0.1 μm or more, and taking the average value.
酸化ジルコニウムの形状は特に限定されないが、異形状であればフラックスとの接触面積が大きく増粘抑制効果がある。球形であると良好な流動性が得られるためにペーストとしての優れた印刷性が得られる。所望の特性に応じて適宜形状を選択すればよい。 The shape of zirconium oxide is not particularly limited, but if it has a different shape, the contact area with the flux is large and the effect of suppressing viscosity increase is obtained. When it is spherical, good flowability is obtained, and thus excellent printability as a paste is obtained. The shape may be appropriately selected according to desired characteristics.
本実施形態のはんだペーストの製造方法に限定はなく、原料を同時に又は順次、任意の方法で混合することにより製造することができる。
フラックスの製造にあたっては、最終的にフラックスの全成分が混合されればよく、各種は予め混合して混合溶剤としておいてもよいし、別々のタイミングで各種の成分と混合してもよい。
また、はんだペーストの製造にあたっても、必ずしも、フラックスを予め調製して、これをはんだ合金とを混合する必要はなく、最終的にフラックスの全成分、はんだ合金及び必要に応じてはんだペーストに添加される添加剤とが混合されるのであれば混合の順番は問わず、フラックスの成分の一部とはんだ合金とを混合した後、フラックスの残りの成分を添加するなどしてもよい。
The method for manufacturing the solder paste of the present embodiment is not limited, and the solder paste can be manufactured by mixing the raw materials simultaneously or sequentially by an arbitrary method.
In manufacturing the flux, all the components of the flux may be finally mixed, and various kinds may be mixed in advance as a mixed solvent, or may be mixed with various components at different timings.
Further, also in the production of the solder paste, it is not always necessary to prepare the flux in advance and mix it with the solder alloy, and finally all the components of the flux, the solder alloy and, if necessary, added to the solder paste. If the additives are mixed with each other, the order of mixing is not limited, and after mixing a part of the components of the flux and the solder alloy, the remaining components of the flux may be added.
本実施形態のはんだペーストは、接合対象物の金属表面(例えば銅板)に対し、高い腐食抑制性を発現することができる。 The solder paste according to the present embodiment can exhibit a high corrosion inhibition property with respect to the metal surface (for example, a copper plate) of the object to be joined.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
[フラックスの検討]
表1に示す原料を表1に示す配合で混合し、実施例A1〜A61及び比較例A1のフラックスを調製した。なお、各原料は相溶し、容易に混合することができた。
[Examination of flux]
The raw materials shown in Table 1 were mixed in the composition shown in Table 1 to prepare the fluxes of Examples A1 to A61 and Comparative Example A1. The raw materials were compatible with each other and could be easily mixed.
実施例、比較例のフラックスについて、銅板腐食抑制能を以下の手順で評価した。 With respect to the fluxes of Examples and Comparative Examples, the copper plate corrosion inhibition ability was evaluated by the following procedure.
<腐食抑制能の評価>
(1)検証方法
腐食抑制能の評価は、JIS Z 3197:2012 8.4.1に準拠し、下記の銅板腐食試験により行った。
<Evaluation of corrosion inhibition ability>
(1) Verification method The corrosion inhibition ability was evaluated by the following copper plate corrosion test according to JIS Z 3197: 2012 8.4.1.
試験銅板の作製:寸法50mm×50mm×0.5mmのりん脱酸銅板の中央に直径20mmの鋼球で深さ3mmのくぼみを作って試験片とした。試験片は、アセトンで脱脂後、65℃の硫酸に1分間浸漬して表面の酸化被膜等を除去した。次に、20℃の過硫酸アンモニウム溶液に1分間浸漬した後、精製水で洗浄し、乾燥させて試験銅板とした。 Preparation of test copper plate: A test piece was prepared by making a recess having a depth of 3 mm with a steel ball having a diameter of 20 mm at the center of a phosphor deoxidized copper plate having dimensions of 50 mm x 50 mm x 0.5 mm. The test piece was degreased with acetone and then immersed in sulfuric acid at 65 ° C. for 1 minute to remove the oxide film on the surface. Next, after being immersed in an ammonium persulfate solution at 20 ° C. for 1 minute, it was washed with purified water and dried to obtain a test copper plate.
各例のフラックスの固形分含有量を、JIS Z 3197:2012 8.1.3に規定する方法を用いて測定し、その固形分として0.035〜0.040gを含有する適量のフラックスを、前記試験銅板中央のくぼみに加えた。
次に、温度40℃、相対湿度90%の加湿条件に設定した恒温恒湿槽中に試験銅板を投入し、槽内に72時間放置した。各例のフラックスごとに、試験銅板を2個とし、1個のブランクを加えた。
槽内に96時間放置した後、恒温恒湿槽から取り出し、30倍の顕微鏡で腐食の跡をブランクと比較した。以下に示す判定基準に基づき、腐食抑制能を評価した。
The solid content of the flux of each example was measured by the method specified in JIS Z 3197: 2012 8.1.3, and an appropriate amount of flux containing 0.035 to 0.040 g as the solid content was measured. The test copper plate was added to the hollow in the center.
Next, the test copper plate was put into a constant temperature and constant humidity chamber set to a humidity condition of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%, and left in the chamber for 72 hours. There were two test copper plates for each flux of each example, and one blank was added.
After leaving it in the bath for 96 hours, it was taken out from the thermo-hygrostat and the trace of corrosion was compared with that of the blank under a microscope of 30 times. The corrosion inhibition ability was evaluated based on the criteria shown below.
(2)判定基準
○:変色なし
×:変色がある
(2) Criteria ○: No discoloration ×: Discoloration
結果を表1に示す。フラックスがアゾール化合物及び有機酸を含む実施例A1〜A61のフラックスは、比較例A1と比べて良好な耐腐食性を示す。 Table 1 shows the results. The fluxes of Examples A1 to A61 in which the flux contains an azole compound and an organic acid show better corrosion resistance than Comparative Example A1.
[はんだ合金の検討]
表1で調整したフラックスA1と、表2〜表7に示す合金組成からなりJIS Z 3284−1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のはんだ合金とを混合してはんだペーストを作製した。フラックスとはんだ合金との質量比は、フラックス:はんだ合金=11:89である。各はんだペーストについて、粘度の経時変化を測定した。また、はんだ合金の液相線温度及び固相線温度を測定した。さらに、作製直後のはんだペーストを用いて濡れ性の評価を行った。詳細は以下のとおりである。
[Consideration of solder alloy]
A flux (A1) prepared in Table 1 and a solder alloy having a size (particle size distribution) satisfying the symbol 4 in the powder size classification (Table 2) according to JIS Z 3284-1: 2014, which is composed of the alloy compositions shown in Tables 2 to 7. Were mixed to prepare a solder paste. The mass ratio of the flux to the solder alloy is flux: solder alloy = 11: 89. For each solder paste, the change in viscosity with time was measured. Further, the liquidus temperature and solidus temperature of the solder alloy were measured. Furthermore, the wettability was evaluated using the solder paste immediately after production. Details are as follows.
<増粘抑制>
作製直後の各はんだペーストについて、株式会社マルコム社製:PCU−205を用い、回転数:10rpm、25℃、大気中で12時間粘度を測定した。12時間後の粘度がはんだペーストを作製後30分経過した時の粘度と比較して1.2倍以下であれば、十分な増粘抑制効果が得られたものとして「○」と評価し、1.2倍を超える場合には「×」と評価した。
<Suppression of thickening>
For each solder paste immediately after production, the viscosity was measured for 12 hours in the atmosphere at 25 rpm and 25 rpm using Malcolm's PCU-205. If the viscosity after 12 hours is 1.2 times or less as compared with the viscosity after 30 minutes have passed after making the solder paste, it was evaluated as "○" as having a sufficient thickening suppressing effect, When it exceeded 1.2 times, it was evaluated as "x".
<液相線温度と固相線温度との温度差(ΔT)>
フラックスと混合する前のはんだ合金について、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型番:EXSTAR DSC7020を用い、サンプル量:約30mg、昇温速度:15℃/minにてDSC測定を行い、固相線温度及び液相線温度を得た。得られた液相線温度から固相線温度を引いてΔTを求めた。ΔTが10℃以下の場合に「○」と評価し、10℃を超える場合に「×」と評価した。
<Temperature difference between liquidus temperature and solidus temperature (ΔT)>
As for the solder alloy before mixing with the flux, DSC measurement was performed using SII Nano Technology Co., Ltd., model number: EXSTAR DSC7020, sample amount: about 30 mg, heating rate: 15 ° C./min, and solidus line The temperature and liquidus temperature were obtained. ΔT was calculated by subtracting the solidus temperature from the obtained liquidus temperature. When ΔT was 10 ° C. or less, it was evaluated as “◯”, and when it exceeded 10 ° C., it was evaluated as “x”.
<濡れ性>
作製直後の各はんだペーストをCu板上に印刷し、リフロー炉でN2雰囲気中、1℃/sの昇温速度で25℃から260℃まで加熱した後、室温まで冷却した。冷却後のはんだバンプの外観を光学顕微鏡で観察することで濡れ性を評価した。溶融しきれていないはんだ粉末が観察されない場合に「○」と評価し、溶融しきれていないはんだ粉末が観察された場合に「×」と評価した。
<Wettability>
Immediately after production, each solder paste was printed on a Cu plate, heated from 25 ° C. to 260 ° C. at a temperature rising rate of 1 ° C./s in a N 2 atmosphere in a reflow furnace, and then cooled to room temperature. The wettability was evaluated by observing the appearance of the solder bump after cooling with an optical microscope. When the unmelted solder powder was not observed, it was evaluated as “◯”, and when the unmelted solder powder was observed, it was evaluated as “x”.
<総合評価>
〇:上記の各評価が全て〇
×:上記の各評価において×あり
<Comprehensive evaluation>
◯: All of the above evaluations are ◯ ×: There is × in each of the above evaluations
表1に示す各実施例のフラックスと、所定のはんだ合金とを使用したはんだペーストでは、はんだペーストの腐食抑制能に対して優れた効果が得られた。
表2に示す所定のフラックスと、各種実施例のはんだ合金とを使用したはんだペーストでは、増粘抑制効果を有し、液相線温度と固相線温度との温度差(ΔT)が小さく、濡れ性に優れる。
With the solder paste using the flux of each of the examples shown in Table 1 and a predetermined solder alloy, an excellent effect on the corrosion inhibition ability of the solder paste was obtained.
The solder pastes using the predetermined flux shown in Table 2 and the solder alloys of various examples have a thickening suppressing effect, and have a small temperature difference (ΔT) between the liquidus temperature and the solidus temperature, Excellent wettability.
表2〜7に示すように、全ての実施例Bでは、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び優れた濡れ性を示すことがわかった。 As shown in Tables 2 to 7, it was found that all of Example B exhibited a thickening suppressing effect, a ΔT constriction, and excellent wettability.
これに対して、比較例B1、B10、B19、B28、B37、及びB46は、Asを含有しないため、増粘抑制効果が発揮されなかった。 On the other hand, Comparative Examples B1, B10, B19, B28, B37, and B46 did not contain As, and therefore the thickening suppressing effect was not exhibited.
比較例B2、B11、B20、B29、B38、及びB47は、(1)式が下限未満であるため、増粘抑制効果が発揮されなかった。 In Comparative Examples B2, B11, B20, B29, B38, and B47, since the formula (1) was less than the lower limit, the thickening suppressing effect was not exhibited.
比較例B3、B4、B12、B13、B21、B22、B30、B31、B39、B40、B48、及びB49は、As含有量が上限値を超えているため、濡れ性が劣る結果を示した。 Comparative Examples B3, B4, B12, B13, B21, B22, B30, B31, B39, B40, B48, and B49 exhibited poor wettability because the As content exceeded the upper limit.
比較例B5、B7、B9、B14、B16、B18、B23、B25、B27、B32、B34、B36、B41、B43、B45、B50、B52、及びB54は、Pb含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 In Comparative Examples B5, B7, B9, B14, B16, B18, B23, B25, B27, B32, B34, B36, B41, B43, B45, B50, B52, and B54, the Pb content and the formula (2) are the upper limits. Since the value exceeds the value, the result shows that ΔT exceeds 10 ° C.
比較例B6、B15、B24、B33、B42、及びB51は、(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 Comparative Examples B6, B15, B24, B33, B42, and B51 showed the result that ΔT exceeded 10 ° C. because the formula (2) exceeded the upper limit.
比較例B8、B17、B26、B35、B44、及びB53は、Bi含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 Comparative Examples B8, B17, B26, B35, B44, and B53 showed results in which ΔT exceeded 10 ° C. because the Bi content and the formula (2) exceeded the upper limits.
<フラックスとはんだ合金の組み合わせ>
実施例A1のフラックスに代えて、実施例A2〜A61の各種フラックスをそれぞれ、実施例B1に示したはんだ合金を組み合わせた場合も、腐食抑制性、増粘抑制効果、ΔT、濡れ性においても良好な結果が得られた。
<Combination of flux and solder alloy>
Also in the case of combining the fluxes of Examples A2 to A61 instead of the flux of Example A1 with the solder alloys shown in Example B1, good corrosion inhibition, thickening inhibition effect, ΔT, and wettability were obtained. The results were obtained.
同様に、実施例A1〜A61の各種フラックスに対して、その他の実施例Bの各種はんだ合金をそれぞれ組み合わせた場合も、腐食抑制性、増粘抑制効果、ΔT、濡れ性においても良好な結果が得られた。 Similarly, when various fluxes of Examples A1 to A61 are combined with various solder alloys of Example B, respectively, good results can be obtained with respect to corrosion inhibition, thickening inhibition, ΔT, and wettability. Was obtained.
<はんだペーストへの酸化ジルコニウム粉末の添加>
表1に示した各フラックスと、表2〜7に示した各はんだ合金の粉末からなるはんだペーストに対して、粒径1μmの酸化ジルコニウム粉末を、はんだペーストの全質量に対して0.5%添加したところ、増粘抑制効果についてさらに良好な結果が得られた。また、腐食抑制効果、ΔT、濡れ性も劣ることなく、良好な結果が得られた。
<Addition of zirconium oxide powder to solder paste>
0.5% of the zirconium oxide powder having a particle diameter of 1 μm was added to the solder paste composed of the flux shown in Table 1 and the powder of each solder alloy shown in Tables 2 to 7 with respect to the total mass of the solder paste. When added, a better result was obtained regarding the effect of suppressing thickening. In addition, good results were obtained without deteriorating the corrosion inhibition effect, ΔT, and wettability.
本発明によれば、金属表面の腐食抑制性に優れ、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さいはんだペースト及びフラックスを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a solder paste and a flux that have excellent corrosion inhibition of the metal surface, and also have an effect of inhibiting thickening, have excellent wettability, and have a small temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature. Can be provided.
Claims (14)
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
からなり、
前記アゾール化合物を、フラックスの全質量に対して、0.1質量%以上10質量%以下含み、
前記有機酸と前記アゾール化合物の合計含有量は、フラックスの全質量に対して、10.1質量%以上である、はんだペースト。 A flux containing an azole compound, an organic acid, and a solvent; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm to 8000 mass ppm or less, and the balance Sn. The alloy composition has the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Satisfying solder alloy;
Consists of
The azole compound is contained in an amount of 0.1% by mass or more and 10% by mass or less based on the total mass of the flux ,
The solder paste in which the total content of the organic acid and the azole compound is 10.1% by mass or more based on the total mass of the flux.
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
からなり、
前記アゾール化合物を、フラックスの全質量に対して、2質量%以上10質量%以下含み、
前記有機酸と前記アゾール化合物の合計含有量は、フラックスの全質量に対して、5質量%以上である、はんだペースト。 A flux containing an azole compound, an organic acid, and a solvent; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm to 8000 mass ppm or less, and the balance Sn. The alloy composition has the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Satisfying solder alloy;
Consists of
2 mass% or more and 10 mass% or less of the azole compound with respect to the total mass of the flux ,
Solder paste in which the total content of the organic acid and the azole compound is 5% by mass or more based on the total mass of the flux.
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜10のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder alloy has the following formula (1a):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to claim 1, which satisfies the above condition.
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜11のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder alloy has the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 11, which satisfies the above condition.
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜12のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder alloy has the following formula (2a):
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
[In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 12, which satisfies the above condition.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019098483A JP6681566B1 (en) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | Solder paste and flux |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019098483A JP6681566B1 (en) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | Solder paste and flux |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6681566B1 true JP6681566B1 (en) | 2020-04-15 |
JP2020192553A JP2020192553A (en) | 2020-12-03 |
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ID=70166527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019098483A Active JP6681566B1 (en) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | Solder paste and flux |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6681566B1 (en) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2719311B2 (en) * | 1994-12-07 | 1998-02-25 | 双葉電子工業株式会社 | No-cleaning flux for soldering |
JP2002086292A (en) * | 2000-02-08 | 2002-03-26 | Showa Denko Kk | Solder paste |
JP2002224881A (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-13 | Hitachi Metals Ltd | Solder ball |
JP5313044B2 (en) * | 2008-08-08 | 2013-10-09 | 四国化成工業株式会社 | Surface treatment agent for copper or copper alloy and use thereof |
WO2012118074A1 (en) * | 2011-03-02 | 2012-09-07 | 千住金属工業株式会社 | Flux |
JP5730354B2 (en) * | 2013-07-17 | 2015-06-10 | ハリマ化成株式会社 | Solder composition, solder paste and electronic circuit board |
JP5730353B2 (en) * | 2013-07-17 | 2015-06-10 | ハリマ化成株式会社 | Solder composition, solder paste and electronic circuit board |
JP6717559B2 (en) * | 2013-10-16 | 2020-07-01 | 三井金属鉱業株式会社 | Solder alloy and solder powder |
JP5887331B2 (en) * | 2013-12-27 | 2016-03-16 | 株式会社タムラ製作所 | Solder composition |
WO2017122341A1 (en) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | 千住金属工業株式会社 | Flux |
JP2017192987A (en) * | 2016-04-18 | 2017-10-26 | オリジン電気株式会社 | Solder composition and method of manufacturing soldered product |
JP7150232B2 (en) * | 2017-07-03 | 2022-10-11 | 株式会社弘輝 | Flux, flux cored solder and solder paste |
JP6943432B2 (en) * | 2017-12-06 | 2021-09-29 | 株式会社Mstコーポレーション | Cleaner for machine tool parts |
JP6521161B1 (en) * | 2018-07-20 | 2019-05-29 | 千住金属工業株式会社 | Solder alloy, solder powder, solder paste, and solder joint using them |
-
2019
- 2019-05-27 JP JP2019098483A patent/JP6681566B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020192553A (en) | 2020-12-03 |
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