JP6651408B2 - Heat treatment equipment - Google Patents
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Description
本発明は、熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment apparatus.
半導体基板など被処理物に熱処理を行うための、熱処理装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。熱処理装置の一例として、特許文献1に記載の熱処理装置は、断熱材に囲まれたヒータと、ヒータに取り囲まれた石英管と、を有している。また、断熱材を貫通するパイプが接続されており、このパイプにブロワが接続されている。 2. Description of the Related Art A heat treatment apparatus for performing heat treatment on an object to be processed such as a semiconductor substrate is known (for example, see Patent Document 1). As an example of the heat treatment apparatus, the heat treatment apparatus described in Patent Literature 1 includes a heater surrounded by a heat insulating material, and a quartz tube surrounded by the heater. Further, a pipe penetrating the heat insulating material is connected, and a blower is connected to this pipe.
ヒータの加熱によって石英管内の被処理物が熱処理された後、ブロワが動作することで、冷却空気が石英管に導かれる。これにより、石英管および被処理物が冷却される。この際、ブロワを制御する制御部は、石英管の実際の温度と目標温度との偏差をゼロにするよう、ヒータの出力とブロワの風量とを制御する。このように、石英管の強制冷却にブロワを用いる構成が知られている。 After the object to be processed in the quartz tube is heat-treated by the heating of the heater, the cooling air is guided to the quartz tube by operating the blower. Thereby, the quartz tube and the object to be processed are cooled. At this time, the control unit that controls the blower controls the output of the heater and the air volume of the blower so that the deviation between the actual temperature of the quartz tube and the target temperature becomes zero. Thus, a configuration using a blower for forced cooling of a quartz tube is known.
ところで、ブロワを用いて石英管などの容器を強制冷却する構成において、複数のダンパを用いる構成を考えることができる。たとえば、この構成では、ブロワに接続された配管は、複数に分岐した分岐管を有している。そして、各分岐管に、ダンパが接続されている。複数のダンパは、たとえば、容器の長手方向に沿った複数箇所にブロワからの冷却空気を供給する。各ダンパは、たとえば、作業員による手動操作によって、開度を調整される。そして、冷却空気は、ブロワから対応するダンパを通過した後、容器に当てられることで、当該容器を冷却する。作業員は、容器の冷却速度が当該容器の各部において可及的に均等になるようにするため、各ダンパの開度を手動で調整する。 By the way, in a configuration in which a vessel such as a quartz tube is forcibly cooled using a blower, a configuration using a plurality of dampers can be considered. For example, in this configuration, the pipe connected to the blower has a plurality of branched pipes. A damper is connected to each branch pipe. The plurality of dampers supply cooling air from the blower to a plurality of locations along the longitudinal direction of the container, for example. The opening of each damper is adjusted, for example, by a manual operation by an operator. Then, the cooling air passes through the corresponding damper from the blower and is then applied to the container to cool the container. The operator manually adjusts the degree of opening of each damper so that the cooling rate of the container becomes as uniform as possible in each part of the container.
一方で、容器内で熱処理される被処理物の内容および数量は、毎回同じとは限らない。すなわち、容器内の被処理物の合計の熱容量は、毎回同じとは限らない。また、容器(被処理物)の目標冷却温度および冷却領域も、毎回同じとは限らない。さらに、ブロワを駆動するブロワモータの周波数(たとえば、ブロワモータの回転速度)も、電源の条件に応じて異なる場合がある。このように、冷却条件の違いが生じた場合に、各ダンパの開度を調整しない場合、容器の各部の冷却速度にばらつきが生じてしまう。 On the other hand, the content and quantity of the object to be heat treated in the container are not always the same. That is, the total heat capacity of the objects in the container is not always the same. Further, the target cooling temperature and the cooling area of the container (the object to be processed) are not always the same every time. Furthermore, the frequency of the blower motor that drives the blower (for example, the rotation speed of the blower motor) may also differ depending on the condition of the power supply. As described above, when the opening degree of each damper is not adjusted when the cooling condition is different, the cooling speed of each part of the container varies.
一方で、冷却条件の違いにかかわらず、容器および複数の被処理物の全体が可及的に均等に冷却されることが、均一な熱処理を行う観点から好ましい。このため、冷却条件に応じて、作業員は、各ダンパの開度を手作業で調整する。これにより、各ダンパから容器に当てられる冷却空気の流量が調整され、容器および被処理物のより均等な冷却が実現する。 On the other hand, it is preferable from the viewpoint of performing a uniform heat treatment that the entire container and the plurality of objects to be processed are cooled as uniformly as possible regardless of the difference in cooling conditions. Therefore, the operator manually adjusts the opening degree of each damper according to the cooling condition. Thereby, the flow rate of the cooling air applied to the container from each damper is adjusted, and more uniform cooling of the container and the object to be processed is realized.
このように、各ダンパの開度調整作業が手作業で行われる構成に対して、自動的な調整作業が実現されることが好ましい。 As described above, it is preferable that an automatic adjustment operation is realized for a configuration in which the opening degree adjustment operation of each damper is performed manually.
本発明は、上記事情に鑑みることにより、温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物をより均等に温度変化させることができるとともに、被処理物をより均等に温度変化させるための調整作業を自動的に行うことのできる熱処理装置を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention can more uniformly change the temperature of the processing target even when the temperature control condition changes, and can adjust the temperature of the processing target more uniformly. An object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus capable of automatically performing an operation.
(1)上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる熱処理装置は、被処理物の熱処理時に前記被処理物を収容する容器と、温度調整用の媒体を前記容器に供給するための基準弁およびサブ弁を含む媒体供給部と、前記基準弁の開度を基準として、前記サブ弁の開度を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記基準弁の開度を一定にした状態で前記サブ弁の開度を制御し、且つ、前記容器のうち前記基準弁から前記媒体が供給される箇所における温度と、前記容器のうち前記サブ弁から前記媒体が供給される箇所における温度との偏差を減少させるように、前記サブ弁の開度を制御する。 (1) In order to solve the above problem, a heat treatment apparatus according to an aspect of the present invention is configured to supply a container for accommodating the object to be processed and a medium for temperature adjustment to the container during heat treatment of the object. a medium supply portion including the reference valve and sub-valve, based on the opening degree of the reference valve, and a control unit for controlling the opening of the sub-valve, the control unit, the opening degree of the reference valve The opening degree of the sub-valve is controlled in a state where is constant, and the temperature at a location where the medium is supplied from the reference valve in the container, and the medium is supplied from the sub-valve in the container. to reduce the deviation between the temperature at the point that, that controls the degree of opening of the sub valve.
この構成によると、制御部によって、サブ弁による媒体の供給態様が制御される。これにより、被処理物の温度制御条件に変化が生じた場合に、サブ弁による媒体の供給態様を変更することができる。その結果、被処理物の温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物をより均等に冷却できる。また、基準弁による媒体の供給態様を基準として、サブ弁による媒体の供給態様が制御される結果、サブ弁の制御演算が発散することをより確実に抑制できる。よって、被処理物へのより正確な温度制御が実現される。また、制御部によってサブ弁が制御されるので、人力によるサブ弁の調整作業が不要である。以上の次第で、本発明によると、温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物をより均等に温度変化させることができるとともに、被処理物をより均等に温度変化させるための調整作業を自動的に行うことのできる熱処理装置を実現できる。 According to this configuration, the control unit controls the manner in which the sub-valve supplies the medium. Thus, when a change occurs in the temperature control condition of the workpiece, the supply mode of the medium by the sub-valve can be changed. As a result, even when the temperature control condition of the object changes, the object can be cooled more uniformly. Further, as a result of controlling the medium supply mode by the sub-valve based on the medium supply mode by the reference valve, it is possible to more reliably suppress the divergence of the sub-valve control calculation. Therefore, more accurate temperature control for the object to be processed is realized. In addition, since the sub-valve is controlled by the control unit, there is no need to manually adjust the sub-valve. As described above, according to the present invention, even when a change occurs in the temperature control condition, the temperature of the object to be processed can be changed more uniformly, and an adjusting operation for changing the temperature of the object to be processed more uniformly can be performed. Can be realized automatically.
さらに、制御部は、サブ弁の開度制御において、基準弁の開度を変更する必要がない結果、サブ弁の制御に必要な演算をより簡素にできる。また、サブ弁の開度制御において、ハンチングが生じることをより確実に抑制できる。 Furthermore , the control unit does not need to change the opening of the reference valve in the opening control of the sub-valve, so that the calculation required for controlling the sub-valve can be simplified. Further, in the opening control of the sub-valve, the occurrence of hunting can be suppressed more reliably.
(2)前記制御部は、前記容器のうち前記基準弁から前記媒体が供給される箇所における温度を基準として、前記サブ弁から前記容器へ供給される前記媒体の流量を制御するように構成されている場合がある。 ( 2 ) The control unit is configured to control a flow rate of the medium supplied from the sub-valve to the container based on a temperature at a location in the container where the medium is supplied from the reference valve. May be.
この構成によると、サブ弁から容器に供給される媒体による容器の温度変化度合いを、基準弁から容器に供給される媒体による容器の温度変化度合いとより等しくできる。 According to this configuration, the degree of temperature change of the container due to the medium supplied from the sub-valve to the container can be made more equal to the degree of temperature change of the container due to the medium supplied to the container from the reference valve.
(3)前記サブ弁は、複数設けられており、前記制御部は、一の前記サブ弁と他の前記サブ弁とが異なる動作を行うように各前記サブ弁を制御する場合がある。 ( 3 ) A plurality of the sub-valves are provided, and the control unit may control each of the sub-valves so that one sub-valve and another sub-valve perform different operations.
この構成によると、複数のサブ弁の動作によって、容器のより広い領域を均等に温度変化させることができる。また、容器の各領域を、よりきめ細かく温度制御できる。 According to this configuration, the temperature of a wider area of the container can be uniformly changed by the operation of the plurality of sub-valves. Further, the temperature of each region of the container can be controlled more finely.
(4)前記制御部は、比例制御を用いて各前記サブ弁を制御するように構成されており、一の前記サブ弁の制御ゲインと他の前記サブ弁の制御ゲインとを異なる値に設定する場合がある。 ( 4 ) The control unit is configured to control each of the sub-valves using proportional control, and sets a control gain of one of the sub-valves and a control gain of another of the sub-valves to different values. May be.
この構成によると、一の前記サブ弁は、目標とする媒体の供給態様を実現するための応答速度をより高くできる。一方、他の前記サブ弁は、目標とする媒体の供給態様を実現するための応答速度をより低くできる。このように、目標に対する応答速度の異なるサブ弁を組み合わせることで、熱の偏りが生じ易い容器に対して、より均等な温度変化を生じさせることが可能である。 According to this configuration, the one sub-valve can further increase the response speed for realizing the target medium supply mode. On the other hand, the other sub-valves can lower the response speed for realizing the target medium supply mode. In this way, by combining the sub-valves having different response speeds to the target, it is possible to cause a more uniform temperature change in the container in which the heat tends to be biased.
(5)前記媒体は、前記容器を冷却するための冷却媒体であり、一の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は、他の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置よりも高く設定されており、前記制御部は、一の前記サブ弁に関する前記制御ゲインを他の前記サブ弁に関する前記制御ゲインよりも大きく設定する場合がある。 ( 5 ) The medium is a cooling medium for cooling the container, and a position where the cooling medium is supplied from one of the sub-valves to the container is the cooling medium from another sub-valve to the container. May be set higher than the position at which the sub-valve is supplied, and the control unit may set the control gain for one of the sub-valves larger than the control gain for the other sub-valve.
この構成によると、容器の熱は、上方に向かうため、容器の上部の熱量は、容器の下部の熱量よりも大きくなる傾向にある。よって、容器の上部側を冷却する一のサブ弁の制御ゲインをより大きくすることで、容器の上部側に向けて、より迅速により多くの媒体を供給できる。これにより、熱のこもりやすい容器の上部側をより確実に冷却できる。一方、容器の下部側を冷却する他のサブ弁の制御ゲインをより小さくすることで、容器の下部側に向けて、急激に過度の媒体が供給されることを抑制できる。これにより、熱が比較的逃げ易い容器の下部側が、容器の他の部分よりも先に冷却されることを抑制できる。その結果、容器の各部は、より均等に冷却される。 According to this configuration, since the heat of the container goes upward, the amount of heat in the upper portion of the container tends to be larger than the amount of heat in the lower portion of the container. Therefore, by increasing the control gain of one sub-valve for cooling the upper side of the container, more medium can be supplied more quickly toward the upper side of the container. Thereby, the upper side of the container in which heat is easily stored can be more reliably cooled. On the other hand, by making the control gain of the other sub-valve that cools the lower part of the container smaller, it is possible to suppress the sudden supply of excessive medium toward the lower part of the container. Thus, it is possible to prevent the lower side of the container from which heat is relatively easy to escape from being cooled earlier than the other parts of the container. As a result, each part of the container is cooled more evenly.
(6)前記容器は、前記容器の外部に開放された開口部、および、前記容器の外部に対して閉じられた形状の奥部を含み、前記媒体は、前記容器を冷却するための冷却媒体であり、一の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は前記開口部および前記奥部のうちの前記奥部寄りに設定されているとともに、他の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は前記開口部および前記奥部のうちの前記開口部寄りに設定されており、前記制御部は、一の前記サブ弁に関する前記制御ゲインを他の前記サブ弁に関する前記制御ゲインよりも大きく設定する場合がある。 ( 8 ) The container includes an opening that is open to the outside of the container, and a back portion that is closed with respect to the outside of the container, wherein the medium is a cooling medium for cooling the container. Wherein the position at which the cooling medium is supplied from one of the sub-valves to the container is set closer to the innermost portion of the opening and the innermost portion, and the other is provided from the sub-valve to the container. The position at which the cooling medium is supplied is set near the opening of the opening and the back, and the control unit sets the control gain for one of the sub-valves to another of the sub-valves. May be set to be larger than the above control gain.
この構成によると、容器の熱は、奥部にこもりやすいため、容器の奥部の熱量は、容器の開口部の熱量よりも大きくなる傾向にある。よって、容器の奥部側を冷却する一のサブ弁の制御ゲインをより大きくすることで、容器の奥部側に向けて、より迅速により多くの媒体を供給できる。これにより、熱のこもりやすい容器の奥部側をより確実に冷却できる。一方、容器の開口部側を冷却する他のサブ弁の制御ゲインをより小さくすることで、容器の開口部側に向けて、急激に過度の媒体が供給されることを抑制できる。これにより、熱が比較的逃げ易い容器の開口部側が、容器の他の部分よりも先に冷却されることを抑制できる。その結果、容器の各部は、より均等に冷却される。 According to this configuration, since the heat of the container tends to stay in the back, the amount of heat in the back of the container tends to be larger than the amount of heat in the opening of the container. Therefore, by increasing the control gain of one sub-valve that cools the back side of the container, more medium can be supplied more quickly toward the back side of the container. As a result, it is possible to more reliably cool the inner side of the container in which heat is easily stored. On the other hand, by further reducing the control gain of the other sub-valve that cools the opening side of the container, it is possible to suppress the sudden supply of excessive medium toward the opening side of the container. Thereby, it can suppress that the opening part side of a container to which heat relatively easily escapes is cooled earlier than the other part of a container. As a result, each part of the container is cooled more evenly.
(7)前記サブ弁は、複数設けられており、各前記サブ弁からの前記媒体の出口位置間に前記基準弁からの前記媒体の出口位置が設定されている場合がある。 ( 8 ) A plurality of the sub-valves may be provided, and the outlet position of the medium from the reference valve may be set between the outlet positions of the medium from the respective sub-valves.
この構成によると、複数の弁によって、容器のより広い領域を媒体によってより均等に温度変化させることができる。また、容器のうち基準弁からの媒体が供給される箇所以外の領域について、基準弁からの媒体が供給される箇所の近くに配置される割合を、より大きくできる。その結果、容器のより広い領域について、基準弁からの媒体が供給される箇所との温度差を小さくできる。 According to this configuration, the temperature of the wider area of the container can be more uniformly changed by the medium by the plurality of valves. Further, in a region of the container other than the position where the medium is supplied from the reference valve, the ratio of the medium disposed from the position where the medium is supplied from the reference valve can be increased. As a result, the temperature difference between the area where the medium is supplied from the reference valve and the area where the medium is supplied from the reference valve can be reduced over a wider area of the container.
本発明によると、温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物をより均等に温度変化させることができるとともに、被処理物をより均等に温度変化させるための調整作業を自動的に行うことができる熱処理装置を実現できる。 According to the present invention, even when a change occurs in the temperature control condition, the temperature of the object can be more uniformly changed, and the adjustment operation for uniformly changing the temperature of the object is automatically performed. And a heat treatment apparatus that can perform the heat treatment.
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。尚、本発明は、被処理物を熱処理するための熱処理装置として広く適用することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present invention can be widely applied as a heat treatment apparatus for heat treating an object to be treated.
図1は、本発明の一実施形態に係る熱処理装置1の一部を断面で示す模式図であり、熱処理装置1を側方から見た状態を示している。図2は、図1の熱処理装置1の主要部を拡大して示す図である。図3は、熱処理装置1の媒体供給部7に設けられたダンパ30の断面図であり、ダンパ30を側方から見た状態を示している。 FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of a part of a heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, and shows a state where the heat treatment apparatus 1 is viewed from a side. FIG. 2 is an enlarged view showing a main part of the heat treatment apparatus 1 of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the damper 30 provided in the medium supply unit 7 of the heat treatment apparatus 1 and shows a state where the damper 30 is viewed from a side.
図1を参照して、熱処理装置1は、被処理物100に熱処理を施すことが可能に構成されている。より具体的には、熱処理装置1は、被処理物100に向けて加熱されたガスを供給することで、被処理物100の表面に熱処理を施すことが可能に構成されている。また、熱処理装置1は、媒体としての空気を冷却空気として用いて被処理物100を強制的に冷却することが可能に構成されている。
Referring to FIG. 1, heat treatment apparatus 1 is configured to be capable of performing a heat treatment on
被処理物100は、たとえば、ガラス基板または半導体基板などである。
The
熱処理装置1は、ベース板2と、ヒータ3と、容器としてのチャンバ4と、ボート5と、昇降機構6と、媒体供給部7と、を有している。
The heat treatment apparatus 1 includes a
ベース板2は、ヒータ3およびチャンバ4を支持する部材として設けられている。ベース板2の中央には、貫通孔2aが形成されている。この貫通孔2aを上方から塞ぐようにして、ヒータ3が配置されている。
The
ヒータ3は、たとえば電熱ヒータであり、たとえば、600℃程度まで気体を加熱することが可能に構成されている。ヒータ3は、全体として箱状に形成されている。ヒータ3は、上下方向(鉛直方向)に延びる円筒状の側壁3aと、側壁3aの上端を塞ぐ天壁3bと、を有している。側壁3aの下端部には、下向きに開放された開口部が形成されている。ヒータ3の側壁3aの下端部は、ベース板2によって受けられている。ヒータ3に取り囲まれた空間に、チャンバ4が配置されている。
The
チャンバ4は、被処理物100の熱処理時に被処理物100を収容する容器として構成されている。チャンバ4は、全体として円筒状に形成されている。チャンバ4の上端部は、塞がれている。また、チャンバ4は、下向きに開放されている。チャンバ4の下端部は、ベース板2に受けられている。チャンバ4内の空間は、ベース板2の貫通孔2aを通して、ベース板2の下方の空間に開放されている。このように、チャンバ4は、チャンバ4の外部に開放された開口部4dと、チャンバ4の外部に対して閉じられた形状の奥部4eと、を含んでいる。
The chamber 4 is configured as a container for accommodating the
熱処理装置1における熱処理動作時、チャンバ4内の空間には、被処理物100が配置される。被処理物100は、たとえば、水平に配置された状態で、ボート5に支持される。
At the time of the heat treatment operation in the heat treatment apparatus 1, the object to be processed 100 is arranged in the space inside the chamber 4. The
ボート5は、被処理物100をチャンバ4内に配置するために設けられている。ボート5は、たとえば、上下に並ぶ複数のスロットを有しており、これらのスロットに、複数の被処理物100が保持されている。ボート5は、昇降機構6によって支持されており、昇降機構6の動作によって、被処理物100とともに上下方向に変位可能である。この昇降機構6の動作によって、被処理物100およびボート5は、チャンバ4に対して出し入れされる。
The
ボート5および被処理物100がチャンバ4内に配置された状態において、チャンバ4の下端部およびベース板2の貫通孔2aは、ボート5に連結されたフランジ8によって閉じられる。これにより、被処理物100およびボート5は、チャンバ4内に密閉される。この状態で、ヒータ3の加熱による被処理物100の加熱が行われる。そして、ヒータ3による被処理物100の加熱が完了した後、被処理物100、ボート5およびチャンバ4は、媒体供給部7から供給される冷却空気によって強制的に冷却される。
In a state where the
媒体供給部7は、ヒータ3とチャンバ4との間に形成された空間10に、温度調整用の冷却媒体としての冷却空気を強制的に供給することで、チャンバ4、および、被処理物100を冷却するように構成されている。空間10は、ベース板2、当該ベース板2上に配置されたチャンバ4およびヒータ3間に形成された空間である。この空間10は、チャンバ4の外周部を全周に亘って取り囲んでいる。また、この空間10は、チャンバ4の上端部を上方から覆う空間である。なお、図1では、冷却空気の流れを矢印A1で模式的に示している。本実施形態では、媒体供給部7は、電子制御によって、空間10への冷却空気の供給態様を制御するように構成されている。
The medium supply unit 7 forcibly supplies cooling air as a cooling medium for temperature adjustment to a
媒体供給部7は、ブロワユニット11と、供給管12と、マニホールド13と、ダンパユニット14と、排気管15と、排気クーラ16と、センサユニット17と、制御部18と、を有している。
The medium supply unit 7 includes a
ブロワユニット11は、ヒータ3の外部に存在する空気を取り込んで当該空気を冷却空気として供給管12に供給するために設けられている。
The
ブロワユニット11は、ブロワ21と、このブロワ21を駆動させるためのブロワモータ22と、を有している。
The
ブロワ21は、たとえば、遠心ブロワであり、ヒータ3の外部に存在する空気を吸い込むとともに当該空気を加圧し、冷却空気として加圧状態で出力するように構成されている。このブロワ21は、羽根車(図示せず)を有している。この羽根車は、ブロワモータ22の出力軸に連結されており、このブロワモータ22の駆動によって動作する。ブロワモータ22は、本実施形態では、電動モータである。このブロワモータ22は、与えられる電力の周波数に応じた出力を発生する。
The
なお、ブロワ21に吸い込まれる空気は、常温であってもよいし、予めクーラ(図示せず)によって冷却されていてもよい。ブロワ21の吐出口に、供給管12の一端が接続されている。
The air sucked into the
供給管12は、略真っ直ぐに延びる配管である。供給管12は、剛体状の金属管であってもよいし、弾性変形可能なフレキシブル管であってもよい。供給管12の他端は、マニホールド13に接続されている。
The
マニホールド13は、ダンパユニット14の後述する複数のダンパ30のそれぞれに冷却空気を分配するために設けられている。マニホールド13は、たとえば、所定の直径を有する円筒状の金属管を用いて形成されている。本実施形態では、マニホールド13の両端部が塞がれている。また、本実施形態では、マニホールド13は、供給管12の延びる方向とは略直交する方向に延びている。
The manifold 13 is provided for distributing cooling air to each of a plurality of dampers 30 described later of the
より具体的には、本実施形態では、マニホールド13は、上下方向に延びており、チャンバ4の長手方向と平行な方向に沿って配置されている。マニホールド13は、ヒータ3の側方(換言すれば、チャンバ4の側方)に配置されている。 More specifically, in the present embodiment, the manifold 13 extends in the up-down direction and is arranged along a direction parallel to the longitudinal direction of the chamber 4. The manifold 13 is arranged on the side of the heater 3 (in other words, on the side of the chamber 4).
本実施形態では、マニホールド13の上端部の外周部に、供給管12が接続されている。上記の構成により、供給管12を通過した冷却空気は、マニホールド13に入った後、マニホールド13内を下方に向けて進行する。そして、この冷却空気は、ダンパユニット14のダンパ30に送られる。
In the present embodiment, the
ダンパユニット14は、マニホールド13に送られた冷却空気を、チャンバ4の上部4a、中間部4b、および、下部4cのそれぞれに向けて供給するために設けられている。ダンパユニット14は、本実施形態では、マニホールド13とヒータ3との間に配置されている。
The
ダンパユニット14は、複数のダンパ30を有している。本実施形態では、複数のダンパ30として、基準ダンパ32と、複数のサブダンパとしての第1サブダンパ31および第2サブダンパ33と、を有している。なお、ダンパ31,32,33を総称していう場合、ダンパ30という。
The
基準ダンパ32は、冷却空気をチャンバ4に向けて供給するための基準弁として設けられている。また、サブダンパ31,33は、冷却空気をチャンバ4に向けて供給するためのサブ弁として設けられている。第1サブダンパ31は、本発明の「一のサブ弁」の一例である。第2サブダンパ33は、本発明の「他のサブ弁」の一例である。各ダンパ30は、開度を調整可能に構成されている。すなわち、各ダンパ30を通過する冷却空気の流量を調整可能に構成されている。 The reference damper 32 is provided as a reference valve for supplying cooling air to the chamber 4. The sub dampers 31 and 33 are provided as sub valves for supplying the cooling air to the chamber 4. The first sub damper 31 is an example of the “one sub valve” of the present invention. The second sub damper 33 is an example of the “other sub valve” of the present invention. Each damper 30 is configured such that the opening can be adjusted. That is, the flow rate of the cooling air passing through each damper 30 can be adjusted.
第1サブダンパ31は、チャンバ4の上部4aに向けて冷却空気を供給するように構成されている。基準ダンパ32は、チャンバ4の中間部4bに向けて冷却空気を供給するように構成されている。第2サブダンパ33は、チャンバ4の下部4cに向けて冷却空気を供給するように構成されている。
The first sub damper 31 is configured to supply cooling air toward the
第1サブダンパ31、基準ダンパ32、および、第2サブダンパ33は、この順に、チャンバ4の長手方向である上下方向に沿って配列されている。すなわち、第1サブダンパ31の下方に基準ダンパ32が配置されている。また、基準ダンパ32の下方に第2サブダンパ33が配置されている。 The first sub-damper 31, the reference damper 32, and the second sub-damper 33 are arranged in this order along a vertical direction which is a longitudinal direction of the chamber 4. That is, the reference damper 32 is disposed below the first sub damper 31. Further, a second sub-damper 33 is arranged below the reference damper 32.
図1〜図3を参照して、ダンパ30(すなわち、基準ダンパ32、サブダンパ31,33のそれぞれ)は、入口管41と、弁箱42と、支軸43と、弁体44と、ダンパモータ45と、出口管46,47と、を有している。
With reference to FIGS. 1 to 3, the damper 30 (that is, each of the reference damper 32 and the sub dampers 31 and 33) includes an
なお、本実施形態では、基準ダンパ32がダンパモータ45を含む電動式のダンパである形態を例に説明するけれども、この通りでなくてもよい。たとえば、基準ダンパ32は、ダンパモータ45が設けられていない、人力による手動開度調整式で且つ弁体44の開度を固定可能なダンパであってもよい。
In the present embodiment, an example in which the reference damper 32 is an electric damper including the
入口管41は、マニホールド13と弁箱42に接続されており、マニホールド13からの冷却空気を弁箱42内に導入するように構成されている。入口管41の内径は、マニホールド13の内径よりも小さく設定されている。入口管41の一端は、マニホールド13の外周部に接続されている。
The
第1サブダンパ31の入口管41は、マニホールド13の上部に接続されている。基準ダンパ32の入口管41は、マニホールド13の中間部に接続されている。第2サブダンパ33の入口管41は、マニホールド13の下部に接続されている。入口管41は、マニホールド13から対応する弁箱42に向けて水平に延びている。
The
弁箱42は、たとえば、中空の四角柱状に形成されている。弁箱42の一側壁に、入口管41の他端が接続されている。入口管41を通過した冷却空気は、弁箱42内に導かれる。弁箱42は、支軸43および弁体44を収容している。
The
支軸43は、弁箱42に支持されているとともに、弁体44を当該支軸43回りに揺動可能に支持している。本実施形態では、支軸43は、弁体44と一体回転可能に連結されている。支軸43は、たとえば、水平方向に延びており、入口管41に隣接して配置されている。支軸43の一部は、弁箱42を貫通しており、ダンパモータ45の出力軸49に連結されている。
The
ダンパモータ45は、弁体44を支軸43回りに揺動させることで、ダンパ30における弁開度を設定するために設けられている。
The
ダンパモータ45は、モータハウジング48と、このモータハウジング48に支持された出力軸49と、を有している。
The
ダンパモータ45は、サーボモータなどの、回転位置制御を可能に構成された電動モータである。ダンパモータ45は、制御部18からの制御信号を受けて、当該ダンパモータ45の出力軸49の回転位置を変更可能に構成されている。
The
モータハウジング48は、たとえば、弁箱42に固定されている。ダンパモータ45の出力軸49は、支軸43と連動回転可能に連結されている。この出力軸49は、支軸43と一体回転可能に連結されていてもよいし、図示しない減速機構を介して支軸43と連動回転可能に連結されていてもよい。上記の構成により、ダンパモータ45の駆動によって出力軸49の回転位置が設定され、これに伴い、支軸43回りにおける弁体44の回転位置(すなわち、ダンパ30の開度)が設定される。
The
弁体44は、入口管41の他端を開閉するように構成されている。弁体44は、たとえば、矩形の平板状部材を用いて形成されている。弁体44の一縁部が、支軸43に連結されている。弁体44は、たとえば、垂直に起立した姿勢において、入口管41を塞ぐように配置されている。
The
弁体44は、垂直に起立した姿勢から支軸43回りにたとえば数十度回転することで、全開位置P2に配置される。すなわち、弁体44が垂直位置である全閉位置P1にあるときには、ダンパ30の開度がゼロである。また、弁体44が垂直位置から数十度回転した所定の全開位置P2にあるときには、ダンパ30の開度が100%となる。
The
なお、弁体44の回転位置とダンパ30の開度との関係は、ダンパ30の構造に応じて決まる。よって、弁体44の回転位置とダンパ30の開度との関係は、線形的である場合と、非線形である場合とが存在する。本実施形態では、弁体44の回転位置とダンパ30の回転位置との関係は、制御部18に予め記憶されている。
The relationship between the rotational position of the
弁体44が入口管41の他端を開いているとき、入口管41からの冷却空気は、弁体44内に導入され、さらに、出口管46,47へ導かれる。
When the
本実施形態では、各ダンパ31,32,33に2つの出口管(すなわち、出口管46,47)が設けられている。各出口管46,47は、対応する弁箱42内の空間と、ヒータ3内に形成された空間10とを接続するために設けられている。各出口管46,47の一端は、対応する弁箱42の一側壁に接続されている。
In the present embodiment, each of the dampers 31, 32, 33 is provided with two outlet pipes (ie,
また、各出口管46,47の他端は、ヒータ3の側壁3aを貫通しており、空間10に臨んでいる。各ダンパ31,32,33において、出口管46の他端と,出口管47の他端とは、ヒータ3の側壁3aの周方向において、等間隔に(本実施形態では、180度間隔に)配置されている。
The other ends of the
第1サブダンパ31の出口管46,47の他端は、チャンバ4の上部4aと水平に向かい合うように配置されている。基準ダンパ32の出口管46,47の他端は、チャンバ4の中間部4bと水平に向かい合うように配置されている。第2サブダンパ33の出口管46,47の他端は、チャンバ4の下部4cと水平に向かい合うように配置されている。
The other ends of the
上記の構成により、第1サブダンパ31からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置(すなわち、第1サブダンパ31の出口管46,47の他端位置)は、第2サブダンパ33からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置(すなわち、第2サブダンパ33の出口管46,47の他端位置)よりも高く設定されている。
With the above configuration, the position where the cooling air is supplied from the first sub-damper 31 to the chamber 4 (that is, the other end position of the
また、第1サブダンパ31からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置は、開口部4dおよび奥部4eのうちの奥部4e寄りに設定されている。また、第2サブダンパ33からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置は、開口部4dおよび奥部4eのうちの開口部4d寄りに設定されている。
The position where the cooling air is supplied from the first sub damper 31 to the chamber 4 is set closer to the
また、第1サブダンパ31からの冷却空気の出口である出口管46,47の他端位置と、第2サブダンパ33からの冷却空気の出口である出口管46,47の他端位置との間に、基準ダンパ32からの冷却空気の出口である出口管46,47の他端の位置が設定されている。
Further, between the other end positions of the
また、本実施形態では、各ダンパ31,32,33の出口管46の他端は、チャンバ4の周方向における位置が揃えられている。同様に、各ダンパ31,32,33の出口管47の他端は、チャンバ4の周方向における位置が揃えられている。
In the present embodiment, the other ends of the
上記の構成により、第1サブダンパ31を通過した冷却空気は、チャンバ4の上部4aに向かうようにして空間10に供給される。また、基準ダンパ32を通過した冷却空気は、チャンバ4の中間部4bに向かうようにして空間10に供給される。さらに、第2サブダンパ33を通過した冷却空気は、チャンバ4の下部4cに向かうようにして空間10に供給される。空間10に供給された冷却空気は、チャンバ4からの熱を吸収しつつ、排気管15に向けて流れる。
With the above configuration, the cooling air that has passed through the first sub-damper 31 is supplied to the
排気管15は、ヒータ3の天壁3bを貫通している。排気管15の一端は、空間10に臨んでいる。排気管15は、空間10の上端に到達した冷却空気を排気管15の他端側に導く。排気管15は、ヒータ3の外側の空間において、排気クーラ16に接続されている。排気クーラ16は、チャンバ4からの熱を吸収した冷却空気を冷却する。排気クーラ16を通過することで冷却された冷却空気は、熱処理装置1の外部の空間へ排出される。
The
上記の構成により、冷却空気は、ブロワ21から供給管12およびマニホールド13を通って対応するダンパ31,32,33を通過することで、空間10に到達し、さらに、排気管15および排気クーラ16を通って熱処理装置1の外部に排出される。各ダンパ31,32,33の出口管46,47の他端に隣接する位置でのチャンバ4の温度は、センサユニット17によって検出される。
With the above configuration, the cooling air reaches the
より具体的には、センサユニット17は、第1サブダンパ31の出口管46の他端と向かい合う位置でのチャンバ4の温度、基準ダンパ32の出口管46の他端と向かい合う位置でのチャンバ4の温度、および、第2サブダンパ33の出口管46の他端と向かい合う位置でのチャンバ4の温度のそれぞれを検出する。
More specifically, the
センサユニット17は、温度センサ51〜53を有している。
The
温度センサ51〜53は、たとえば、熱電対などの電気式温度センサであり、検出温度を特定する電気信号を出力するように構成されている。温度センサ51〜53は、たとえば、チャンバ4に隣接した位置において、ヒータ3に支持されている。
The
温度センサ51は、チャンバ4の上部4aの外周面に隣接して配置されており、第1サブダンパ31の出口管46の他端に隣接している。温度センサ51は、第1サブダンパ31の出口管46と水平に対向しているチャンバ4の上部4aの温度を、チャンバ上部温度T1として検出する。
The
温度センサ52は、チャンバ4の中間部4bの外周面に隣接して配置されており、基準ダンパ32の出口管46の他端に隣接している。温度センサ52は、基準ダンパ32の出口管46と水平に対向しているチャンバ4の中間部4bの温度を、チャンバ中間部温度T2として検出する。
The
温度センサ53は、チャンバ4の下部4cの外周面に隣接して配置されており、第2サブダンパ33の出口管46の他端に隣接している。温度センサ53は、第2サブダンパ33の出口管46と水平に対向しているチャンバ4の下部4cの温度を、チャンバ下部温度T3として検出する。各温度センサ51〜53の温度検出結果は、制御部18に与えられる。
The
制御部18は、基準ダンパ32による冷却空気の供給態様を基準として、サブダンパ31,33による冷却空気の供給態様を制御するように構成されている。制御部18は、PLC(Programmable Logic Controller)などを用いて形成されている。なお、制御部18は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)およびRAM(Random Access Memory)を含むコンピュータを用いて形成されていてもよいし、シーケンス回路などを用いて形成されていてもよい。
The
制御部18は、各温度センサ51〜53に接続されており、これらの温度センサ51〜53の温度検出結果であるチャンバ温度T1〜T3を特定する電気信号を受信する。また、制御部18は、ブロワモータ22に接続されており、ブロワモータ22の駆動を制御することで、ブロワ21から供給される冷却空気の流量を制御する。
The
また、制御部18は、第1サブダンパ31のダンパモータ45、基準ダンパ32のダンパモータ45、および、第2サブダンパ33のダンパモータ45に接続されており、これらのモータ45の動作を個別に制御する。
The
本実施形態では、制御部18は、基準ダンパ32の開度が一定である状態を基準として、第1サブダンパ31および第2サブダンパ33のそれぞれの開度を制御する。より具体的には、媒体供給部7がチャンバ4および被処理物100を冷却する動作の開始時、制御部18は、まず、基準ダンパ32の開度を設定する。
In the present embodiment, the
この際の基準ダンパ32の開度は、たとえば、50%に設定される。このように、制御部18は、基準ダンパ32の開度を50%、たとえば、弁体44を全閉位置P1と全開位置P2との半分の位置に配置するよう、基準ダンパ32のダンパモータ45を駆動する。このように、基準ダンパ32の開度を0%と100%の中間の50%とすることで、基準ダンパ32からの冷却空気の流量に対する各サブダンパ31,33からの冷却空気の流量の調整幅をより大きくできる。
At this time, the opening degree of the reference damper 32 is set to, for example, 50%. As described above, the
なお、基準ダンパ32の開度は、被処理物100の熱容量(具体的には、被処理物100の枚数、材質、体積)、被処理物100の目標冷却温度、ブロワモータ22の動作周波数などに応じて、制御部18によって適宜設定されてもよい。
The opening degree of the reference damper 32 depends on the heat capacity of the object 100 (specifically, the number, material, and volume of the object 100), the target cooling temperature of the
また、制御部18は、チャンバ4のうち基準ダンパ32から冷却空気が供給される中間部4bにおけるチャンバ中間部温度T2を基準として、各サブダンパ31,33の出口管46,47からチャンバ4へ供給される冷却空気の流量を制御するように構成されている。より具体的には、制御部18は、チャンバ4のうち基準ダンパ32から冷却空気が供給される箇所における温度(チャンバ中間部温度T2)と、チャンバ4のうち各サブダンパ31,33から冷却空気が供給される上部4aおよび下部4cにおける温度(チャンバ上部温度T1,チャンバ下部温度T3)との偏差を減少させるように、各サブダンパ31,33の開度をフィードバック制御する。
Further, the
制御部18は、各ダンパ31,32,33を、個別に、比例制御を用いて制御するように構成されている。本実施形態では、制御部18は、PID制御(Proportional Integral Differential Control、比例積分微分制御)によって、各ダンパ31,32,33のダンパモータ45を個別に制御することにより、各ダンパ31,32,33の開度を制御する。なお、制御部18は、PI制御(Proportional Integral Control、比例積分制御)など、他の制御方法によって各ダンパ31,32,33を制御してもよい。
The
制御部18は、第1サブダンパ31と第2サブダンパ33とが異なる動作を行うように各サブダンパ31,33を制御する。具体的には、制御部18は、第1サブダンパ31の制御ゲインkp1と第2サブダンパ33の制御ゲインkp2とを異なる値に設定する。本実施形態では、制御部18は、チャンバ4の上部4aに冷却空気を供給する第1サブダンパ31の制御ゲインkp1を、チャンバ4の下部4cに冷却空気を供給する第2サブダンパ33の制御ゲインkp2よりも大きく設定する(kp1>kp2)。
The
次に、熱処理装置1における冷却動作の一例を説明する。なお、熱処理装置1における冷却動作は、たとえば、ヒータ3の加熱動作が停止された後に行われる。図4は、熱処理装置1における冷却動作の一例を説明するためのフローチャートである。なお、フローチャートを参照して説明する場合、フローチャート以外の図も適宜参照しながら説明する。
Next, an example of a cooling operation in the heat treatment apparatus 1 will be described. The cooling operation in the heat treatment apparatus 1 is performed, for example, after the heating operation of the
図4を参照して、冷却動作の開始時、制御部18は、まず、ブロワモータ22を動作させることにより、冷却空気を媒体供給部7に導入する(ステップS1)。
Referring to FIG. 4, at the start of the cooling operation,
次に、制御部18は、基準ダンパ32の開度を制御する(ステップS2)。すなわち、制御部18は、基準ダンパ32の目標開度を設定し、さらに、基準ダンパ32のダンパモータ45を駆動することで、当該目標開度に相当する値に、基準ダンパ32の開度を設定する。
Next, the
次に、制御部18は、チャンバ中間部温度T2を参照することで、チャンバ中間部温度T2を測定する(ステップS3)。
Next, the
次に、制御部18は、第1サブダンパ31の開度を制御する(ステップS4)。すなわち、制御部18は、第1サブダンパ31の目標開度を設定し、さらに、第1サブダンパ31のダンパモータ45を駆動することで、当該目標開度に相当する値に、第1サブダンパ31の開度を設定する。この際、制御部18は、検出したチャンバ中間部温度T2に基づいて目標温度T1tを演算する。そして、制御部18は、目標温度T1tとチャンバ上部温度T1との偏差(T1t−T1)が減少するように、第1サブダンパ31の開度を制御する。
Next, the
また、制御部18は、第2サブダンパ33の開度を制御する(ステップS5)。すなわち、制御部18は、第2サブダンパ33の目標開度を設定し、さらに、第2サブダンパ33のダンパモータ45を駆動することで、当該目標開度に相当する値に、第2サブダンパ33の開度を設定する。この際、制御部18は、検出したチャンバ中間部温度T2に基づいて目標温度T3tを演算する。そして、制御部18は、目標温度T3tとチャンバ下部温度T3との偏差(T3t−T3)が減少するように、第2サブダンパ33の開度を制御する。
Further, the
なお、第1サブダンパ31の開度制御(ステップS4)と第2サブダンパ33の開度制御(ステップS5)の順番を入れ替えてもよいし、これらのステップS4,S5が並行して行われてもよい。 In addition, the order of the opening control of the first sub-damper 31 (step S4) and the opening control of the second sub-damper 33 (step S5) may be interchanged, or these steps S4 and S5 may be performed in parallel. Good.
次に、制御部18は、チャンバ上部温度T1、チャンバ中間部温度T2、および、チャンバ下部温度T3を測定する(ステップS6)。そして、制御部18は、これらの温度T1〜T3が、冷却動作完了の目標温度Tftに到達したか否かを判定する(ステップS7)。
Next, the
温度T1〜T3が、目標温度Tftに到達した場合(ステップS8でYES)、制御部18は、ブロワモータ22の動作を停止させ(ステップS8)、チャンバ4および被処理物100の冷却動作を終了する。
When the temperatures T1 to T3 have reached the target temperature Tft (YES in step S8), the
一方、温度T1〜T3が、冷却動作完了の目標温度Tftに到達していない場合(ステップS8でNO)、制御部18は、再び、ステップS3以降の制御を行う。
On the other hand, when the temperatures T1 to T3 have not reached the target temperature Tft at which the cooling operation has been completed (NO in step S8), the
以上説明したように、本実施形態によると、制御部18は、基準ダンパ32による冷却空気の供給態様を基準として、サブダンパ31,33による冷却空気の供給態様を制御する。この構成によると、制御部18によって、サブダンパ31,33による冷却空気の供給態様が制御される。これにより、被処理物100の枚数など、被処理物100の温度制御条件に変化が生じた場合に、サブダンパ31,33による冷却空気の供給態様を変更することができる。その結果、被処理物100の温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物100をより均等に冷却できる。また、基準ダンパ32による冷却空気の供給態様を基準として、サブダンパ31,33による冷却空気の供給態様が制御される結果、サブダンパ31,33の制御演算が発散することをより確実に抑制できる。よって、被処理物100へのより正確な温度制御が実現される。また、制御部18によってサブダンパ31,33が制御されるので、人力によるサブダンパ31,33の調整作業が不要である。以上の次第で、温度制御条件に変化が生じた場合でも、被処理物100をより均等に温度変化させることができるとともに、被処理物100をより均等に温度変化させるための調整作業を自動的に行うことのできる熱処理装置1を実現できる。
As described above, according to the present embodiment, the
また、本実施形態によると、制御部18は、基準ダンパ32の開度が一定である状態を基準として、サブダンパ31,33の開度を制御する。この構成によると、制御部18は、サブダンパ30の開度制御において、基準ダンパ32の開度を変更する必要がない結果、サブダンパ31,33の制御に必要な演算をより簡素にできる。また、サブダンパ31,33の開度制御において、ハンチングが生じることをより確実に抑制できる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施形態によると、制御部18は、チャンバ4のうち基準ダンパ32から冷却空気が供給される中間部4bにおける温度(チャンバ中間部温度T2)を基準として、サブダンパ31,33からチャンバ4へ供給される冷却空気の流量を制御するように構成されている。この構成によると、サブダンパ31,33からチャンバ4に供給される冷却空気によるチャンバ4の上部4aおよび下部4cの温度変化度合いを、基準ダンパ32からチャンバ4の中間部4bに供給される冷却空気によるチャンバ4の中間部4bの温度変化度合いとより等しくできる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施形態によると、制御部18は、チャンバ中間部温度T2とチャンバ上部温度T1との偏差(T2−T1)、および、チャンバ中間部温度T2とチャンバ下部温度T3との偏差(T2−T3)のそれぞれを減少させるように、サブダンパ31,33の開度を制御する。この構成によると、チャンバ4のうち基準ダンパ32から冷却空気が供給されるチャンバ4の中間部4bでの温度(チャンバ中間部温度T3)と、チャンバ4のうちサブダンパ31,33から冷却空気が供給されるチャンバ4の上部4aおよび下部4cにおける温度(チャンバ上部温度T1とチャンバ下部温度T2)とがより等しくなるように、制御部18がサブダンパ31,33を制御できる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施形態によると、制御部18は、第1サブダンパ31と第2サブダンパ33とが異なる動作を行うように各サブダンパ31,33を制御する。この構成によると、複数のサブダンパ31,33の動作によって、チャンバ4のより広い領域を均等に温度変化させることができる。また、チャンバ4の各領域を、よりきめ細かく温度制御できる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施形態によると、制御部18は、比例積分微分制御を用いて各サブダンパ31,33を制御するように構成されており、第1サブダンパ31の制御ゲインkp1と第2サブダンパ33の制御ゲインkp2とを異なる値に設定する。この構成によると、第1サブダンパ31は、目標とする冷却空気の供給態様(すなわち、開度)を実現するための応答速度をより高くできる。一方、第2サブダンパ33は、目標とする冷却空気の供給態様(すなわち、開度)を実現するための応答速度をより低くできる。このように、目標開度に対する応答速度の異なるサブダンパ31,33を組み合わせることで、熱の偏りが生じ易いチャンバ4に対して、より均等な温度変化を生じさせることが可能である。
Further, according to the present embodiment, the
より詳細には、第1サブダンパ31からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置は、第2サブダンパ33からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置よりも高く設定されている。そして、制御部18は、第1サブダンパ31に関する制御ゲインkp1を第2サブダンパ33に関する制御ゲインkp2よりも大きく設定している。この構成によると、チャンバ4の熱は、上方に向かうため、チャンバ4の上部4aの熱量は、チャンバ4の下部4bの熱量よりも大きくなる傾向にある。よって、チャンバ4の上部4a側を冷却する第1サブダンパ31の制御ゲインkp1をより大きくすることで、チャンバ4の上部4a側に向けて、より迅速により多くの冷却空気を供給できる。これにより、熱のこもりやすいチャンバ4の上部4a側をより確実に冷却できる。一方、チャンバ4の下部4c側を冷却する第2サブダンパ33の制御ゲインkp2をより小さくすることで、チャンバ4の下部4c側に向けて、急激に過度の冷却空気が供給されることを抑制できる。これにより、熱が比較的逃げ易いチャンバ4の下部4c側が、チャンバ4の他の部分よりも先に冷却されることを抑制できる。その結果、チャンバ4の各部は、より均等に冷却される。
More specifically, the position where the cooling air is supplied from the first sub damper 31 to the chamber 4 is set higher than the position where the cooling air is supplied from the second sub damper 33 to the chamber 4. The
また、第1サブダンパ31からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置は、開口部4dおよび奥部4eのうちの奥部4e寄りに設定されている。また、第2サブダンパ33からチャンバ4へ冷却空気が供給される位置は、開口部4dおよび奥部4eのうちの開口部4d寄りに設定されている。そして、制御部18は、第1サブダンパ31に関する制御ゲインkp1を第2サブダンパ33に関する制御ゲインkp2よりも大きく設定している。この構成によると、チャンバ4の熱は、奥部4eにこもりやすいため、奥部4eの熱量は、開口部4dの熱量よりも大きくなる傾向にある。よって、奥部4e側を冷却する第1サブダンパ31に関する制御ゲインkp1をより大きくすることで、チャンバ4の奥部4e側に向けて、より迅速により多くの冷却空気を供給できる。これにより、熱のこもりやすいチャンバ4の奥部4e側をより確実に冷却できる。一方、チャンバ4の開口部4d側を冷却する第2サブダンパ33に関する制御ゲインkp2をより小さくすることで、チャンバ4の開口部4d側に向けて、急激に過度の冷却空気が供給されることを抑制できる。これにより、熱が比較的逃げ易いチャンバ4の開口部4d側が、チャンバ4の他の部分よりも先に冷却されることを抑制できる。その結果、チャンバ4の各部は、より均等に冷却される。
The position where the cooling air is supplied from the first sub damper 31 to the chamber 4 is set closer to the
また、第1サブダンパ31の出口管46,47の他端位置と、第2サブダンパ33の出口管46,47の他端位置との間に、基準ダンパ32の出口管46,47の他端位置設定されている。この構成によると、複数のダンパ31,32,33によって、チャンバ4のより広い領域を冷却空気によってより均等に温度変化させることができる。また、チャンバ4のうち基準ダンパ32からの冷却空気が供給される箇所(中間部4b)以外の領域について、基準ダンパ32からの冷却空気が供給される箇所の近くに配置される割合を、より大きくできる。その結果、チャンバ4のより広い領域について、基準ダンパ32からの冷却空気が供給される中間部4bとの温度差を小さくできる。
Further, between the other end positions of the
以上、本発明の実施形態について説明したけれども、本発明は上述の実施の形態に限られるものではない。本発明は、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments. Various changes can be made to the present invention as long as they are described in the claims.
(1)上記の実施形態では、各サブダンパ31,33の開度制御が行われている間、基準ダンパ32の開度が一定である形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、各サブダンパ31,33の開度制御が行われている間、基準ダンパ32の開度は、定期的に制御部18または人力によって変更されてもよい。
(1) In the above embodiment, an example was described in which the opening degree of the reference damper 32 was constant while the opening degree control of each of the sub dampers 31 and 33 was being performed. However, this need not be the case. For example, while the opening control of each of the sub dampers 31 and 33 is being performed, the opening of the reference damper 32 may be periodically changed by the
(2)また、上記の実施形態では、ブロワ21の風量が一定である形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、ブロワ21の風量は、チャンバ4の各部の温度T1,T2,T3などに応じて、制御部18によって変更されてもよい。
(2) In the above embodiment, an example in which the air volume of the
(3)また、上記の実施形態では、ヒータ3の加熱動作が完了した後に媒体供給部7がチャンバ4および被処理物100の冷却処理を開始する形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、媒体供給部7は、ヒータ3と協調動作されることにより、ヒータ3の停止動作の途中で媒体供給部7からチャンバ4に向けて冷却空気が供給されてもよい。
(3) In the above-described embodiment, an example has been described in which the medium supply unit 7 starts the cooling process of the chamber 4 and the
(4)また、上記の実施形態では、サブダンパが2つ設けられる形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、サブダンパは、1つでもよいし、3つ以上でもよい。 (4) In the above embodiment, an example in which two sub-dampers are provided has been described as an example. However, this need not be the case. For example, the number of sub-dampers may be one, or three or more.
(5)また、上記の実施形態では、制御部18が各ダンパ31,32,33の開度を制御する形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、制御部18は、各ダンパ31,32,33を通過する冷却空気の圧力など、他の要素を制御対象としてもよい。
(5) In the above-described embodiment, an example in which the
(6)また、上記の実施形態では、冷却空気を制御する弁部材として、ダンパを例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、冷却空気を制御する弁部材として、電磁弁など、弁体の開度を調整可能な構成を有する他の弁部材が用いられてもよい。 (6) In the above embodiment, the damper has been described as an example of the valve member for controlling the cooling air. However, this need not be the case. For example, as the valve member for controlling the cooling air, another valve member having a configuration capable of adjusting the opening degree of the valve body, such as an electromagnetic valve, may be used.
(7)また、上述の実施形態では、加熱蒸着などに用いられる炉に本発明が適用される場合を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、熱風循環炉などの他の炉を有する熱処理装置に本発明が適用されてもよい。 (7) In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to a furnace used for heating evaporation and the like has been described as an example. However, this need not be the case. For example, the present invention may be applied to a heat treatment apparatus having another furnace such as a hot air circulation furnace.
(8)また、上述の実施形態では、熱処理用媒体として空気が用いられる形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、熱処理用媒体として、空気以外のガスが用いられてもよいし、水などの液体が用いられてもよい。熱処理用媒体として液体が用いられる場合、ブロワに代えて、ポンプが用いられる。 (8) Also, in the above-described embodiment, an example in which air is used as the heat treatment medium has been described. However, this need not be the case. For example, a gas other than air may be used as the heat treatment medium, or a liquid such as water may be used. When a liquid is used as the heat treatment medium, a pump is used instead of a blower.
(9)また、上述の実施形態では、冷媒供給部7がチャンバ4および被処理物100を冷却する形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、チャンバ4などの容器、および、被処理物100を加熱する際に、本発明の構成が用いられてもよい。この場合、各ダンパ31,32,33は、加熱された空気などの熱処理用媒体をチャンバ4に向けて供給することとなる。
(9) Further, in the above-described embodiment, an example has been described in which the coolant supply unit 7 cools the chamber 4 and the
(10)また、上述の実施形態では、チャンバ4が縦型炉である形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。たとえば、横向きに配置されたチャンバを有する熱処理装置に本発明が適用されてもよい。 (10) In the above-described embodiment, an example in which the chamber 4 is a vertical furnace has been described. However, this need not be the case. For example, the present invention may be applied to a heat treatment apparatus having a horizontally arranged chamber.
本発明は、熱処理装置として、広く適用することができる。 The present invention can be widely applied as a heat treatment apparatus.
1 熱処理装置
4 チャンバ(容器)
4d 開口部
4e 奥部
7 媒体供給部
18 制御部
31 第1サブダンパ(サブ弁。一のサブ弁)
32 基準ダンパ(基準弁)
33 第2サブダンパ(サブ弁。他のサブ弁)
100 被処理物
T1 チャンバ上部温度(容器のうちサブ弁から媒体が供給される箇所における温度)
T2 チャンバ中間部温度(容器のうち基準弁から媒体が供給される箇所における温度)
T3 チャンバ下部温度(容器のうちサブ弁から媒体が供給される箇所における温度)
kp1,kp2 制御ゲイン
1 heat treatment equipment 4 chamber (container)
32 Reference damper (reference valve)
33 Second sub damper (sub valve; other sub valve)
100 Workpiece T1 Chamber upper temperature (Temperature at location where medium is supplied from sub-valve in container)
T2 Chamber middle temperature (temperature at the point where the medium is supplied from the reference valve in the container)
T3 Chamber lower temperature (Temperature at the point where the medium is supplied from the sub-valve in the container)
kp1, kp2 control gain
Claims (7)
温度調整用の媒体を前記容器に供給するための基準弁およびサブ弁を含む媒体供給部と、
前記基準弁の開度を基準として、前記サブ弁の開度を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記基準弁の開度を一定にした状態で前記サブ弁の開度を制御し、且つ、前記容器のうち前記基準弁から前記媒体が供給される箇所における温度と、前記容器のうち前記サブ弁から前記媒体が供給される箇所における温度との偏差を減少させるように、前記サブ弁の開度を制御することを特徴とする、熱処理装置。 A container for accommodating the object at the time of heat treatment of the object,
A medium supply unit including a reference valve and a sub-valve for supplying a medium for temperature adjustment to the container,
Based on the opening degree of the reference valve, and a control unit for controlling the opening of the sub-valve,
Equipped with a,
The control unit controls the opening degree of the sub-valve in a state where the opening degree of the reference valve is constant, and the temperature of a portion of the container where the medium is supplied from the reference valve, and the container the medium is to reduce the deviation of the temperature and at a location to be supplied, characterized that you control the degree of opening of the sub-valve from the sub valve of the heat treatment apparatus.
前記制御部は、前記容器のうち前記基準弁から前記媒体が供給される箇所における温度を基準として、前記サブ弁から前記容器へ供給される前記媒体の流量を制御するように構成されていることを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 1 ,
The control unit is configured to control a flow rate of the medium supplied from the sub-valve to the container based on a temperature at a location in the container where the medium is supplied from the reference valve. A heat treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
前記サブ弁は、複数設けられており、
前記制御部は、一の前記サブ弁と他の前記サブ弁とが異なる動作を行うように各前記サブ弁を制御することを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 1 or claim 2 ,
A plurality of the sub-valves are provided,
The heat treatment apparatus, wherein the control unit controls each of the sub-valves such that one sub-valve and another sub-valve perform different operations.
前記制御部は、比例制御を用いて各前記サブ弁を制御するように構成されており、一の前記サブ弁の制御ゲインと他の前記サブ弁の制御ゲインとを異なる値に設定することを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 3 , wherein
The control unit is configured to control each of the sub-valves using proportional control, and sets a control gain of one sub-valve and a control gain of another sub-valve to different values. Characteristic heat treatment equipment.
前記媒体は、前記容器を冷却するための冷却媒体であり、
一の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は、他の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置よりも高く設定されており、
前記制御部は、一の前記サブ弁に関する前記制御ゲインを他の前記サブ弁に関する前記制御ゲインよりも大きく設定することを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 4 , wherein
The medium is a cooling medium for cooling the container,
The position at which the cooling medium is supplied to the container from one of the sub-valves is set higher than the position at which the cooling medium is supplied to the container from the other sub-valve,
The heat treatment apparatus, wherein the control unit sets the control gain for one sub-valve larger than the control gain for another sub-valve.
前記容器は、前記容器の外部に開放された開口部、および、前記容器の外部に対して閉じられた形状の奥部を含み、
前記媒体は、前記容器を冷却するための冷却媒体であり、
一の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は前記開口部および前記奥部のうちの前記奥部寄りに設定されているとともに、他の前記サブ弁から前記容器へ前記冷却媒体が供給される位置は前記開口部および前記奥部のうちの前記開口部寄りに設定されており、
前記制御部は、一の前記サブ弁に関する前記制御ゲインを他の前記サブ弁に関する前記制御ゲインよりも大きく設定することを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to claim 4 or claim 5 ,
The container includes an opening that is open to the outside of the container, and a back portion having a shape closed with respect to the outside of the container,
The medium is a cooling medium for cooling the container,
The position at which the cooling medium is supplied from one of the sub-valves to the container is set closer to the inner part of the opening and the inner part, and the cooling is performed from the other sub-valve to the container. The position where the medium is supplied is set near the opening of the opening and the back,
The heat treatment apparatus, wherein the control unit sets the control gain for one of the sub-valves greater than the control gain for another of the sub-valves.
前記サブ弁は、複数設けられており、
各前記サブ弁からの前記媒体の出口位置間に前記基準弁からの前記媒体の出口位置が設定されていることを特徴とする、熱処理装置。 The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6 ,
A plurality of the sub-valves are provided,
The heat treatment apparatus, wherein an outlet position of the medium from the reference valve is set between outlet positions of the medium from each of the sub-valves.
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