JP6631209B2 - Mounting structure of semiconductor element on printed wiring board, semiconductor element, inductor setting method, and processor - Google Patents
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Description
本発明は、プリント配線板への半導体素子の実装構造、その実装構造によりインダクタを構成する半導体素子、そのインダクタのインダクタンス等の設定方法、およびインダクタを備えるプロセッサに関する。 The present invention relates to a mounting structure of a semiconductor element on a printed wiring board, a semiconductor element forming an inductor by the mounting structure, a method of setting the inductance of the inductor, and a processor including the inductor.
半導体基板に薄膜プロセスによって薄膜インダクタ等を一体的に形成するIPD(Integrated Passive Device)は、小型かつ薄型であることから、例えばモバイル端末用の複合受動部品として有用である。 An IPD (Integrated Passive Device) that integrally forms a thin-film inductor and the like on a semiconductor substrate by a thin-film process is useful as, for example, a composite passive component for a mobile terminal because it is small and thin.
半導体素子の再配線層にインダクタパターンを形成した半導体装置は例えば特許文献1に示されている。 A semiconductor device in which an inductor pattern is formed in a redistribution layer of a semiconductor element is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-163,837.
一般に、半導体素子の再配線層は、それ自体の厚みが薄いため、所定の高いインダクタンスを得難い。また、再配線層に形成するパターンは薄膜プロセスによるパターンであるため、Q値の高いインダクタを形成することも難しい。 In general, a redistribution layer of a semiconductor element has a small thickness, and thus it is difficult to obtain a predetermined high inductance. Further, since the pattern formed on the rewiring layer is a pattern formed by a thin film process, it is difficult to form an inductor having a high Q value.
また、インダクタは再配線層に薄膜プロセスによって形成されるため、インダクタの形成後は、そのインダクタの特性を変更することはできない。そのため、例えばインダクタンスの異なる複数のインダクタを有する回路を構成する必要がある場合には、所定のインダクタンスを有するインダクタを備えた複数種の半導体素子を予め用意しておく必要がある。したがって、生産性が低く、このことが製造コストの嵩む要因となる。 Further, since the inductor is formed on the redistribution layer by a thin film process, the characteristics of the inductor cannot be changed after the inductor is formed. Therefore, for example, when it is necessary to configure a circuit having a plurality of inductors having different inductances, it is necessary to prepare in advance a plurality of types of semiconductor elements having inductors having a predetermined inductance. Therefore, the productivity is low, which is a factor of increasing the manufacturing cost.
本発明の目的は、上述の問題を解消して、所定の高いインダクタンスを有するインダクタまたは、所定の高いQ値を有するインダクタを構成する、プリント配線板への半導体素子の実装構造を提供することにある。また、その半導体素子、そのインダクタの設定方法、およびそのインダクタを備えるプロセッサを提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide an inductor having a predetermined high inductance or an inductor having a predetermined high Q value, and providing a mounting structure of a semiconductor element on a printed wiring board. is there. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device, a method for setting the inductor, and a processor including the inductor.
さらに、本発明の目的は、インダクタの形成時に、またはインダクタの形成後に、そのインダクタの特性を変更可能とすることにある。 A further object of the present invention is to make it possible to change the characteristics of the inductor during or after the formation of the inductor.
(1)本発明のプリント配線板への半導体素子の実装構造は、
プリント配線板と、前記プリント配線板に実装された半導体素子とを備え、
前記半導体素子は、第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体を有し、
前記プリント配線板は、第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有し、
前記プリント配線板のパッドと前記半導体素子の端子とが接続材で接続されて、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によってミアンダ状に形成された導体パターンを含むことを特徴とする。
(1) The mounting structure of the semiconductor element on the printed wiring board of the present invention is as follows.
A printed wiring board, comprising a semiconductor element mounted on the printed wiring board,
The semiconductor element has a plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the first layer conductor and the plurality of terminals. And
The printed wiring board includes a plurality of second layer conductors formed on a second layer, and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the semiconductor element are connected by a connecting material, and a meander is provided by the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials. It is characterized by including a conductor pattern formed in a shape.
上記構成により、ミアンダ状に形成された導体パターンでインダクタが構成されるが、この導体パターンの一部はプリント配線板に形成された第2層導体であるので、所定の高いインダクタンスを有するインダクタまたは、所定の高いQ値を有するインダクタが得られる。すなわち、プリント配線板に形成される導体パターンは半導体素子に形成される導体パターンより低抵抗であるので、Q値の高いインダクタが得られる。また、プリント配線板に形成される導体パターンを含んでミアンダ状の導体パターンが形成されるので、所定の高いインダクタンスが得られる。 According to the above configuration, the inductor is configured by a conductor pattern formed in a meandering shape. Since a part of the conductor pattern is the second layer conductor formed on the printed wiring board, the inductor or the inductor having a predetermined high inductance is provided. , An inductor having a predetermined high Q value is obtained. That is, since the conductor pattern formed on the printed wiring board has lower resistance than the conductor pattern formed on the semiconductor element, an inductor having a high Q value can be obtained. Further, since a meandering conductor pattern is formed including the conductor pattern formed on the printed wiring board, a predetermined high inductance can be obtained.
(2)前記第2層導体または前記パッドは、前記層間導体への前記第2層導体の接続位置を定めて、前記導体パターンによるインダクタの特性を定めるように構成してもよい。これにより、層間導体への前記第2層導体の接続位置で定まる複数とおりのインダクタンスやQ値のうち、所定のインダクタンスやQ値を得ることができる。すなわち、インダクタの形成時に、そのインダクタの特性を設定できる。 (2) The second-layer conductor or the pad may be configured to determine a connection position of the second-layer conductor to the interlayer conductor and determine a characteristic of the inductor by the conductor pattern. This makes it possible to obtain a predetermined inductance or Q value among a plurality of types of inductances or Q values determined by the connection position of the second layer conductor to the interlayer conductor. That is, when the inductor is formed, the characteristics of the inductor can be set.
(3)上記(1)または(2)において、前記導体パターンの少なくとも一部は、前記第1層および前記第2層に対する垂直方向からの平面視でスパイラル状であってもよい。これにより、自己インダクタンスが有効に作用し、所定のインダクタンスのインダクタを限られた占有面積に形成できる。 (3) In the above (1) or (2), at least a part of the conductor pattern may be spiral in a plan view from a direction perpendicular to the first layer and the second layer. Thereby, the self-inductance works effectively, and an inductor having a predetermined inductance can be formed in a limited occupied area.
(4)上記(1)から(3)のいずれかにおいて、前記半導体素子は、半導体基板と、当該半導体基板に形成された再配線層とを備え、前記第1層導体および前記層間導体は前記再配線層に形成され、前記再配線層の内部に、前記層間導体を含む、または前記層間導体に導通する、コイル状の導体パターンが形成されていてもよい。これにより、ミアンダ状の導体パターンを形成するための端子やパッドの数が少なくても、所定の大きなインダクタンスが得られる。 (4) In any one of the above items (1) to (3), the semiconductor element includes a semiconductor substrate and a redistribution layer formed on the semiconductor substrate, wherein the first layer conductor and the interlayer conductor are the same. A coil-shaped conductor pattern may be formed in the redistribution layer and including the interlayer conductor or conducting to the interlayer conductor inside the redistribution layer. Thereby, a predetermined large inductance can be obtained even if the number of terminals and pads for forming the meandering conductor pattern is small.
(5)本発明の半導体素子は、
第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記複数の第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体とを備え、前記複数の端子のうち所定の端子を、プリント配線板に形成されている、接続材、パッドおよび複数の第2層導体で接続することで、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によるミアンダ状の導体パターンを構成する素子であり、
前記第1層導体は、半導体基板の表面に形成された再配線層の下層に設けられ、前記層間導体は前記再配線層の内部に形成され、前記端子は前記再配線層の表面に形成されたことを特徴とする。
(5) The semiconductor device of the present invention comprises:
A plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the plurality of first layer conductors and the plurality of terminals; By connecting a predetermined terminal of the plurality of terminals with a connecting material, a pad, and a plurality of second layer conductors formed on a printed wiring board, the plurality of first layer conductors and the plurality of second layer conductors are connected. A conductor, an element constituting a meandering conductor pattern by the plurality of interlayer conductors and the plurality of connecting members,
The first layer conductor is provided below a redistribution layer formed on a surface of a semiconductor substrate, the interlayer conductor is formed inside the redistribution layer, and the terminal is formed on a surface of the redistribution layer. It is characterized by having.
上記半導体素子を、接続材、パッドおよび複数の第2層導体が形成されたプリント配線板に実装することで、ミアンダ状に形成された導体パターンによるインダクタが構成され、且つ、所定の高いインダクタンスを有するインダクタまたは、所定の高いQ値を有するインダクタが得られる。 By mounting the semiconductor element on a printed wiring board on which a connecting material, pads and a plurality of second-layer conductors are formed, an inductor with a conductor pattern formed in a meander shape is formed, and a predetermined high inductance is obtained. Or an inductor having a predetermined high Q value.
(6)上記(5)において、前記再配線層の表面に、前記プリント配線板に形成された、前記導体パターンとは別の(独立した)パッドに接続される端子が形成されていてもよい。このことにより、プリント配線板に実装するだけで、インダクタを含む半導体回路を備えた半導体素子として用いることができる。 (6) In the above (5), a terminal connected to a pad (independent from the conductor pattern ) formed on the printed wiring board and different from the conductor pattern may be formed on the surface of the rewiring layer. . Thus, it can be used as a semiconductor element having a semiconductor circuit including an inductor simply by mounting it on a printed wiring board.
(7)本発明のインダクタ設定方法は、
第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体を有する半導体素子と、
第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有するプリント配線板とをそれぞれ準備し、
前記プリント配線板のパッドと前記半導体素子の端子とを接続材で接続して、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によってミアンダ状の導体パターンを構成するとともに、前記第2層導体のパターンまたは前記パッドの位置によって、前記導体パターンの形状を定めることを特徴とする。
(7) The inductor setting method of the present invention includes:
A semiconductor element having a plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the first layer conductor and the plurality of terminals;
Preparing a printed wiring board having a plurality of second layer conductors formed on a second layer and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the semiconductor element are connected by a connecting material, and a meander is provided by the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials. And a shape of the conductor pattern is determined by a pattern of the second layer conductor or a position of the pad.
上記構成により、層間導体への第2層導体のパターンまたはパッドの位置によって定まる複数とおりのインダクタンスやQ値のうち、所定のインダクタンスやQ値を得ることができる。すなわち、インダクタの形成時に、そのインダクタの特性を設定できる。 With the above configuration, a predetermined inductance or Q value can be obtained from a plurality of types of inductances or Q values determined by the position of the pattern or pad of the second layer conductor on the interlayer conductor. That is, when the inductor is formed, the characteristics of the inductor can be set.
(8)上記(7)において、前記第2層導体のパターンまたは前記パッドの位置によって、前記複数の層間導体のうち、電流が流れる層間導体の間隔を定めるように構成してもよい。これにより、電流が流れる層間導体同士の近接位置に生じる自己インダクタンスまたは相互インダクタンスを選択可能となる。 (8) In the above (7), the interval between the interlayer conductors through which a current flows among the plurality of interlayer conductors may be determined by the pattern of the second layer conductor or the position of the pad. This makes it possible to select a self-inductance or a mutual inductance generated at a position close to the interlayer conductors through which a current flows.
(9)上記(7)または(8)において、前記第2層導体のパターンまたは前記パッドの位置によって、前記複数の層間導体のうち、隣接する層間導体に同方向の電流が流れる電流経路とするか、隣接する層間導体に逆方向の電流が流れる電流経路とするかによって、前記隣接する層間導体同士の結合の極性を定めるように構成してもよい。これにより、電流が流れる層間導体同士の近接位置に生じる自己インダクタンスまたは相互インダクタンスの調整が可能となる。 (9) In the above (7) or (8), a current path in which a current in the same direction flows to an adjacent interlayer conductor among the plurality of interlayer conductors depending on the pattern of the second layer conductor or the position of the pad. The configuration may be such that the polarity of the coupling between the adjacent interlayer conductors is determined depending on whether a current path in which a current flows in the opposite direction through the adjacent interlayer conductors. As a result, it is possible to adjust the self-inductance or the mutual inductance generated at a position close to the interlayer conductors through which current flows.
(10)上記(7)から(9)において、前記複数の第2層導体の一部をトリミングすることによって、前記導体パターンの形状を変更するように構成してもよい。これにより、半導体素子およびプリント配線板の形成後に、さらには例えばプリント配線板への半導体素子の実装後に、インダクタの特性(インダクタンスまたはQ値)を変更可能となる。 (10) In the above (7) to (9), the shape of the conductor pattern may be changed by trimming a part of the plurality of second layer conductors. This makes it possible to change the characteristics (inductance or Q value) of the inductor after forming the semiconductor element and the printed wiring board, and further after mounting the semiconductor element on the printed wiring board, for example.
(11)本発明のプロセッサは、スイッチング電源回路のスイッチング回路を含むプロセッサ集積回路と、当該プロセッサ集積回路が実装されるプリント配線板とを備え、
前記プロセッサ集積回路は、第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記複数の第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体とを有し、
前記プリント配線板は、第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有し、
前記プリント配線板のパッドと前記プロセッサ集積回路の端子とが接続材で接続されて、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によって、前記スイッチング回路に接続された、ミアンダ状の導体パターンが構成されたことを特徴とする。
(11) A processor of the present invention includes a processor integrated circuit including a switching circuit of a switching power supply circuit, and a printed wiring board on which the processor integrated circuit is mounted.
The processor integrated circuit includes a plurality of first-layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of layers connecting the plurality of first-layer conductors and the plurality of terminals. And a conductor,
The printed wiring board includes a plurality of second layer conductors formed on a second layer, and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the processor integrated circuit are connected by a connecting material, and the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials are provided. And a meandering conductor pattern connected to the switching circuit.
上記構成により、プリント配線板にプロセッサ集積回路を実装することで、スイッチング電源回路およびそれに接続されたインダクタを備える小型化されたプロセッサが得られる。 With the above configuration, by mounting the processor integrated circuit on the printed wiring board, a miniaturized processor including the switching power supply circuit and the inductor connected thereto is obtained.
本発明によれば、所定の高いインダクタンスを有するインダクタまたは、所定の高いQ値を有するインダクタが構成される、プリント配線板への半導体素子の実装構造が得られる。また、その実装構造に適用される半導体素子、そのインダクタの設定方法、およびそのインダクタを備えるプロセッサが得られる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the mounting structure of the semiconductor element to a printed wiring board in which the inductor which has predetermined high inductance or the inductor which has predetermined high Q value is obtained. Further, a semiconductor device applied to the mounting structure, a method for setting the inductor, and a processor including the inductor can be obtained.
さらに、インダクタの形成時に、またはインダクタの形成後に、そのインダクタの特性が変更可能となる。 Further, the characteristics of the inductor can be changed during or after the formation of the inductor.
《第1の実施形態》
図1は第1の実施形態に係る、半導体素子の実装構造を示す断面図である。
<< 1st Embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a mounting structure of a semiconductor device according to the first embodiment.
この半導体素子の実装構造101は、プリント配線板2と、このプリント配線板2に実装された半導体素子10とを備える。半導体素子10は、半導体基板1と、この半導体基板1に形成された再配線層3を備える。
The semiconductor
上記再配線層3の内部の層に複数の第1層導体11が形成されている。再配線層3の表面(半導体素子10の実装面)に複数の端子13,14が形成されている。また、再配線層の内部に、第1層導体11と複数の端子13とを接続する複数の層間導体12が形成されている。複数の第1層導体11が形成されている上記再配線層3の内部の層は本発明に係る「第1層La1」の一例である。
A plurality of
プリント配線板2は、実装面に形成された複数の第2層導体21と、実装面に形成され、複数の第2層導体21に導通する複数のパッド23とを有する。複数の第2層導体21が形成されている上記実装面は本発明に係る「第2層La2」の一例である。
The printed
半導体素子10の端子13,14はプリント配線板2のパッド23,24に、はんだ31を介して電気的に接続され、このことにより、半導体素子20はプリント配線板に表面実装される。上記はんだ31は本発明に係る「接続材」の一例である。
The
プリント配線板2に半導体素子10が実装されている状態で、複数の第1層導体11、複数の第2層導体21、複数の層間導体12および複数のはんだ31によってミアンダ状に形成された導体パターンMPが形成される。このミアンダ状に形成された導体パターンMPがインダクタである。
In a state where the
図2は半導体素子10の斜視図である。図2では、実装面を上にして図示している。但し、再配線層3は導体部および電極部を透視して図示している。また、図2には、プリント配線板に形成される第2層導体21も仮想線で表している。プリント配線板のパッド23,24やはんだ31については図示していない。図1は図2における2つのパッド24−24間を通る面での断面図である。
FIG. 2 is a perspective view of the
半導体素子10の表面には、複数の第1層導体11が形成されている。これら第1層導体11に複数の層間導体12の第1端が導通している。これら層間導体12の第2端は図1に示したとおり、パッド23,24やはんだ31を介して第2層導体21に導通する。
A plurality of
図2に示した例では、プリント配線板のパッド23aが、上記導体パターンMPによるインダクタの第1端であり、パッド23bがインダクタの第2端である。導体パターンMPは、Z軸方向から視て(平面視で)矩形スパイラル状である。また、導体パターンMPは、X軸方向およびY軸方向から視てミアンダ状である。
In the example shown in FIG. 2, the
半導体素子10の半導体基板1には集積回路が形成されている。図1に表れている端子14はその集積回路に接続されている入出力端子である。
An integrated circuit is formed on the
このように、プリント配線板2に半導体素子10を実装することで、複数の第1層導体11、複数の第2層導体21、複数の層間導体12および複数のはんだ31によるミアンダ状の導体パターンMPでインダクタが構成される。また、半導体素子10に構成されている集積回路がプリント配線板2に接続される。
By mounting the
一般的な半導体素子のサイズであれば、上記ミアンダ状の導体パターンによるインダクタは、インダクタンスが1nH以上50nH以下のインダクタである。したがって、特にnHオーダーのインダクタを要する用途に適する。 If the size of a general semiconductor element is used, the inductor having the meandering conductor pattern is an inductor having an inductance of 1 nH or more and 50 nH or less. Therefore, it is particularly suitable for applications requiring inductors on the order of nH.
《第2の実施形態》
第2の実施形態では、プリント配線板に形成する導体パターンによって、特性の異なるインダクタを構成する例を示す。
<< 2nd Embodiment >>
In the second embodiment, an example will be described in which inductors having different characteristics are formed by conductor patterns formed on a printed wiring board.
図3(A)(B)(C)は、それぞれ第2の実施形態に係る半導体素子の実装構造を示す断面図である。 3A, 3B, and 3C are cross-sectional views each showing a mounting structure of a semiconductor device according to the second embodiment.
図3(A)に示す実装構造101Aの基本的な構成は第1の実施形態で示した実装構造101と同じである。図3(B)(C)に示す例では、プリント配線板2の内部に、第2層導体21Mと、この第2層導体21Mとパッド23との間を接続する層間導体22とが形成されている。また、この例では、プリント配線板2の上面(実装面)にも第2層導体21が形成されている。図3(A)(B)(C)のいずれにおいても、半導体素子10の構成は同じである。
The basic configuration of the mounting
本実施形態によれば、プリント配線板2の内層に第2層導体21Mおよび層間導体22が形成されることにより、ミアンダ状導体パターンの電流経路が長くなる。そのため、限られた占有面積に、より大きなインダクタンスを有するインダクタを構成できる。または、所定インダクタンスを有するインダクタの形成範囲を小さくできる。
According to the present embodiment, since the
また、本実施形態によれば、同じ半導体素子10を用いながらも、プリント配線板2に形成する第2層導体21,21Mおよび層間導体22の形状や有無によって、得られるインダクタンスが異なる。したがって、プリント配線板2に形成する第2層導体21,21Mおよび層間導体22の形状や有無を定めることによって、半導体素子を変更することなく所定のインダクタンスのインダクタを構成できる。
Further, according to the present embodiment, the obtained inductance differs depending on the shape and presence or absence of the second-
《第3の実施形態》
第3の実施形態では、プリント配線板の第2層導体のパターンまたはパッドの位置によって、半導体素子の複数の層間導体のうち、隣接する層間導体に同方向の電流が流れる電流経路とするか、隣接する層間導体に逆方向の電流が流れる電流経路とするかによって、隣接する層間導体同士の結合の極性を定めるように構成された例を示す。
<< 3rd Embodiment >>
In the third embodiment, depending on the position of the pattern or pad of the second layer conductor of the printed wiring board, a current path in which current flows in the same direction to an adjacent interlayer conductor among a plurality of interlayer conductors of the semiconductor element, An example is shown in which the polarity of the coupling between adjacent interlayer conductors is determined depending on whether a current path in which a current flows in the opposite direction flows between adjacent interlayer conductors.
図4(A)は、第3の実施形態に係る半導体素子の再配線層に形成された導体パターンの部分平面図であり、図4(B)は各層間導体に流れる電流の向きの例を示す図である。また、図5(A)は第3の実施形態に係る別の半導体素子の再配線層に形成された導体パターンの部分平面図であり、図5(B)は各層間導体に流れる電流の向きの例を示す図である。 FIG. 4A is a partial plan view of a conductor pattern formed on a rewiring layer of the semiconductor device according to the third embodiment, and FIG. 4B shows an example of a direction of a current flowing in each interlayer conductor. FIG. FIG. 5A is a partial plan view of a conductor pattern formed on a redistribution layer of another semiconductor device according to the third embodiment, and FIG. 5B is a diagram showing a direction of a current flowing in each interlayer conductor. It is a figure showing the example of.
図4(A)(B)に示す例では、層間導体12a,12b,12c,12dを含む電流経路と、層間導体12e,12f,12g,12hを含む電流経路とが平行に配置されている。図4(B)から明らかなように、互いに隣接する層間導体の対、12a−12e,12b−12f,12c−12g,12d−12hそれぞれについて、電流の方向が同方向であるので、正の自己インダクタンスが生じる。
In the example shown in FIGS. 4A and 4B, a current path including the
一方、図5(A)(B)に示す例では、層間導体12a,12b,12c,12dを含む電流経路と、層間導体12m,12n,12o,12pを含む電流経路とが平行に配置されている。図5(B)から明らかなように、互いに隣接する層間導体12a−12m,12b−12n,12c−12o,12d−12pそれぞれについて、電流の方向が逆方向であるので、負の自己インダクタンスが生じる。
On the other hand, in the example shown in FIGS. 5A and 5B, the current path including the
したがって、図4(A)(B)に示した経路部分に生じるインダクタンスは、図5(A)(B)に示した経路部分に生じるインダクタンスより大きい。このようにして、プリント配線板に形成するパッド23および第2層導体21のパターンによって、図4(A)(B)に示した経路または図5(A)(B)に示した経路を選択することで、インダクタのインダクタンスを適宜定めるようにしてもよい。
Accordingly, the inductance generated in the path shown in FIGS. 4A and 4B is larger than the inductance generated in the path shown in FIGS. 5A and 5B. In this way, the path shown in FIGS. 4A and 4B or the path shown in FIGS. 5A and 5B is selected according to the pattern of the
なお、図4(A)(B)、図5(A)(B)に示した例では、隣接する層間導体に流れる電流の方向を定める(選択する)ことで、所定のインダクタンスを得るようにしたが、隣接する層間導体の間隔を定める(選択する)ことで、所定のインダクタンスを定めるようにしてもよい。 In the examples shown in FIGS. 4A and 4B and FIGS. 5A and 5B, a predetermined inductance is obtained by determining (selecting) the direction of the current flowing in the adjacent interlayer conductor. However, the predetermined inductance may be determined by determining (selecting) the interval between adjacent interlayer conductors.
また、図4(A)(B)、図5(A)(B)に示した例では、隣接する層間導体の配置ピッチが同位相で並置される例を示したが。このピッチは異なっていてもよいし、ピッチの位相が異なっていてもよい。そして、このピッチの位相によって自己インダクタンスを定めるようにしてもよい。 Also, in the examples shown in FIGS. 4A and 4B and FIGS. 5A and 5B, an example is shown in which the arrangement pitches of adjacent interlayer conductors are juxtaposed in the same phase. The pitch may be different, or the phase of the pitch may be different. The self-inductance may be determined by the phase of the pitch.
《第4の実施形態》
第4の実施形態では、ミアンダ状導体パターンの一部に並列接続部を備える、プリント配線板への半導体素子の実装構造の例を示す。また、第4の実施形態では、プリント配線板の下面に第2層導体が形成された実装構造の例を示す。さらに、第4の実施形態では、プリント配線板の下面で第2層導体をトリミングする例を示す。
<< 4th Embodiment >>
In the fourth embodiment, an example of a mounting structure of a semiconductor element on a printed wiring board having a parallel connection part in a part of a meandering conductor pattern will be described. In the fourth embodiment, an example of a mounting structure in which a second-layer conductor is formed on the lower surface of a printed wiring board will be described. Further, in the fourth embodiment, an example in which the second-layer conductor is trimmed on the lower surface of the printed wiring board will be described.
図6(A)(B)(C)は、それぞれ第4の実施形態に係る半導体素子の実装構造を示す断面図である。 FIGS. 6A, 6B, and 6C are cross-sectional views each showing a mounting structure of a semiconductor device according to the fourth embodiment.
図6(A)(B)(C)に示す実装構造104A,104B,104Cのいずれも、プリント配線板2と半導体素子10を備える点で、これまでに示した各実施形態と同じである。第4の実施形態では、プリント配線板2の下面(半導体素子10が実装される面とは反対側の面)に第2層導体21Bが形成されている。また、プリント配線板の内層に、第2層導体21Bと、この第2層導体21Bとパッド23との間を接続する層間導体22とが形成されている。図6(A)(B)(C)のいずれにおいても、半導体素子10の構成は同じである。
Each of the mounting
図6(A)に示す実装構造104Aでは、プリント配線板2の上面に形成された第2層導体21と下面に形成された第2層導体21Bと層間導体22とによる並列接続部を一部に有している。この構造によれば、並列接続部のインダクタンスは、その他の部分より小さい。したがって、この並列接続部の形成によってインダクタのインダクタンスを定めることができる。また、並列接続部の抵抗値は小さく、その分、Q値の大きなインダクタが構成される。
In the mounting
図6(B)に示す実装構造104Bは、図6(A)に示した状態から、第2層導体21を予め形成していない例、または、半導体素子10の実装前に除去した例である。また、図6(C)に示す実装構造104Cは、図6(A)に示した状態から、第2層導体21Bの一部を予め形成していない例、または、半導体素子10の実装前もしくは実装後に除去した例である。
6B is an example in which the second-
図6(B)に示す実装構造104Bでは、ミアンダ状導体パターンの電流経路が長くなる。そのため、限られた占有面積により大きなインダクタンスを有するインダクタを構成できる。または、所定インダクタンスを有するインダクタの形成範囲を小さくできる。
In the mounting
図6(C)に示す実装構造104Cでは、実装構造104Bに比べて、ミアンダ状導体パターンの電流経路が短いため、実装構造104Bに比べて、得られるインダクタのインダクタンスは小さい。
In the mounting
なお、本実施形態では、プリント配線板2の下面に、インダクタの所定位置に導通する電極25が形成されているので、プリント配線板に上記インダクタを利用する回路、または上記インダクタに接続される回路を設けることができる。
Note that, in the present embodiment, since the
《第5の実施形態》
第5の実施形態では、ミアンダ状導体パターンの一部に電流経路のバイパスを備える、プリント配線板への半導体素子の実装構造の例を示す。また、第5の実施形態では、プリント配線板の内部と下面に第2層導体が形成された実装構造の例を示す。
<< 5th Embodiment >>
In the fifth embodiment, an example of a mounting structure of a semiconductor element on a printed wiring board including a current path bypass in a part of a meandering conductor pattern will be described. In the fifth embodiment, an example of a mounting structure in which a second-layer conductor is formed inside and on a lower surface of a printed wiring board will be described.
図7(A)(B)は、それぞれ第5の実施形態に係る、半導体素子の実装構造を示す断面図である。 7A and 7B are cross-sectional views illustrating a mounting structure of a semiconductor device according to the fifth embodiment.
図7(A)(B)に示す実装構造105A,105Bのいずれも、プリント配線板2と半導体素子10を備える点で、これまでに示した各実施形態と同じである。実装構造105A,105Bでは、プリント配線板2の内層に第2層導体21Mが形成されていて、プリント配線板2の下面に第2層導体21Bが形成されている。また、プリント配線板の内部に、第2層導体21M,21Bとパッド23との間を接続する層間導体22がそれぞれ形成されている。実装構造105Aのプリント配線板2には、上面に第2層導体21が形成されている。図7(A)(B)のいずれにおいても、半導体素子10の構成は同じである。
Each of the mounting
図7(A)に示す実装構造105Aでは、第2層導体21Bを含む電流経路と、第2層導体21Mを含む電流経路とが存在する。第2層導体21Mを含む電流経路はバイパス経路である。図7(B)に示す実装構造105Bでは、上記第2層導体21が無いため、上記バイパス経路は無い。
In the mounting
本実施形態によれば、バイパス経路の形成有無によって、インダクタのインダクタンスを切り替えることができる。 According to the present embodiment, the inductance of the inductor can be switched depending on whether or not the bypass path is formed.
《第6の実施形態》
第6の実施形態では、半導体素子の再配線層の内部にコイル状の導体パターンが形成された例を示す。
<< Sixth Embodiment >>
The sixth embodiment shows an example in which a coil-shaped conductor pattern is formed inside a redistribution layer of a semiconductor element.
図8は第6の実施形態に係る半導体素子の再配線層の内部の構造を示す部分斜視図である。但し、再配線層の絶縁体部分を除いて導体部分のみを図示している。半導体素子の再配線層の下層には第1層導体11が形成されている。再配線層の上層には第2層導体21が形成されている。再配線層の中間層にはコイル状導体パターン15が形成されている。そして、再配線層の内部に、第1層導体11とコイル状導体パターン15との間に接続される層間導体12A、および、第2層導体21とコイル状導体パターン15との間に接続される層間導体12Bが形成されている。
FIG. 8 is a partial perspective view showing the internal structure of the redistribution layer of the semiconductor device according to the sixth embodiment. However, only the conductor portion is shown except for the insulator portion of the rewiring layer. A
本実施形態によれば、第1層導体11と第2層導体21との間に層間導体によるコイル状導体が形成されているので、ミアンダ状の導体パターンを形成するための端子やパッドの数が少なくても、所定の大きなインダクタンスが得られる。
According to the present embodiment, since the coil-shaped conductor formed of the interlayer conductor is formed between the first-
なお、同様にして、半導体素子の再配線層内に2層以上の導体パターンによるコイル状導体パターンを形成してもよい。 In the same manner, a coil-shaped conductor pattern composed of two or more conductor patterns may be formed in the rewiring layer of the semiconductor element.
《第7の実施形態》
第7の実施形態では、プリント配線板に形成された第2層導体の一部をトリミングする例を示す。
<< Seventh Embodiment >>
In the seventh embodiment, an example in which a part of the second layer conductor formed on the printed wiring board is trimmed will be described.
図9は、第7の実施形態に係る、半導体素子の実装構造を示す平面図である。プリント配線板2には半導体素子10が実装されている。プリント配線板2上の半導体素子10の実装領域に複数の第2層導体21が形成されている。また、半導体素子10の実装領域外に、第2層導体21から延出された、トリミング用の第2層導体21pが形成されている。
FIG. 9 is a plan view showing a mounting structure of a semiconductor element according to the seventh embodiment. The
第2層導体21の配置は、第1の実施形態で図2に示したものと基本的には同様である。トリミング用の第2層導体21pは電流経路の一部をバイパスする経路である。したがって、このトリミング用の第2層導体21pのトリミングの有無またはトリミング箇所の数によって、インダクタのインダクタンスを定めることができる。
The arrangement of the
《第8の実施形態》
第8の実施形態では、多数のグリッドアレイ型の端子を備える半導体素子に適用した例を示す。
<< Eighth Embodiment >>
In the eighth embodiment, an example in which the invention is applied to a semiconductor device having a large number of grid array type terminals will be described.
図10(A)(B)は、第8の実施形態に係る半導体素子の端子形成面を視た平面図である。図10(A)に示す半導体素子10A、図10(B)に示す半導体素子10Bのいずれも、半導体素子の内部に形成されている集積回路に導通する多数の端子14を備える。これら端子14はグリッドアレイ状に配列されている。
FIGS. 10A and 10B are plan views of the semiconductor device according to the eighth embodiment as viewed from the terminal formation surface. Each of the
図10(A)に示す例では、隣接する端子14と端子14との間のうち、所定の領域にインダクタ形成用の端子13が配置されている。そのため、集積回路に導通する端子14の配列領域を拡大することなく、インダクタ形成用端子13を設けることができる。
In the example shown in FIG. 10A, a terminal 13 for forming an inductor is disposed in a predetermined region between
図10(B)に示す例では、インダクタ形成用の端子13の配置領域LZにインダクタ形成用の端子13が配列されている。この例では、端子13のピッチは端子14のピッチより細かいので、比較的狭い領域にインダクタが構成される。また、端子14が配列される領域に端子13は影響を与えない。
In the example shown in FIG. 10B, the
半導体素子10A,10Bのいずれにおいても、端子13,14にはんだボールを介してプリント配線板に接続してもよいが、その他に、例えばPGA(Pin Grid Array)ピンを介してプリント配線板に電気的に接続してもよい。その場合は、PGAピンが本発明に係る「接続材」として作用する。
In any of the
《第9の実施形態》
第9の実施形態では、本発明に係るプロセッサの例を示す。
<< 9th Embodiment >>
In the ninth embodiment, an example of a processor according to the present invention will be described.
図11は第9の実施形態に係るプロセッサ201の概略構成図である。プリント配線板2に半導体素子10が実装された状態でプロセッサ201が構成される。半導体素子10の半導体基板1には、プロセッサとしての集積回路とDC/DCコンバータ19が形成されている。プロセッサとしての集積回路は、例えばI2C インターフェース用端子、クロック端子、高周波通信用端子等も備える。DC/DCコンバータ19には、スイッチング素子およびそのスイッチング制御回路が含まれる。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a
プリント配線板2には平滑用キャパシタCが実装されている。プリント配線板2に半導体素子10が実装された状態で、インダクタLが構成される。このインダクタLは、これまでに各実施形態で示したとおりの、ミアンダ状の導体パターンによるインダクタである。
A smoothing capacitor C is mounted on the printed
図12はDC/DCコンバータ19に対する平滑回路の接続関係を示す回路図である。上記インダクタLとキャパシタCによって平滑回路が構成される。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a connection relationship of the smoothing circuit to the DC /
図13は、本実施形態の別のプロセッサの電源回路部分の回路図である。この例では、複数のインダクタL1〜L5とキャパシタCとで平滑回路が構成されている。DC/DCコンバータ19には複数チャンネル分の回路が構成されていて、インダクタL1〜L5がそれぞれ接続されている。
FIG. 13 is a circuit diagram of a power supply circuit portion of another processor of the present embodiment. In this example, a plurality of inductors L1 to L5 and a capacitor C form a smoothing circuit. A circuit for a plurality of channels is configured in the DC /
このように複数のインダクタを設ける場合に、上記各実施形態で示したミアンダ状の導体パターンを必要なインダクタの分だけ設ければよい。また、各インダクタを磁界結合させて、相互インダクタンスが生じるようにしてもよい。そして、既に各実施形態で示したとおり、プリント配線板に形成する導体パターンによる電流経路の設定に応じて上記相互インダクタンスを定めるようにしてもよい。 When a plurality of inductors are provided in this manner, the meandering conductor pattern shown in each of the above-described embodiments may be provided for the required inductors. Further, the respective inductors may be magnetically coupled to generate a mutual inductance. Then, as already described in each embodiment, the mutual inductance may be determined according to the setting of the current path by the conductor pattern formed on the printed wiring board.
本実施形態では、ミアンダ状の導体パターンによるインダクタをスイッチング電源回路に適用するものであったが、本発明に係るインダクタは、電源回路以外に、フィルタ、移相器等の各種信号処理回路に適用することもできる。 In the present embodiment, the inductor having the meandering conductor pattern is applied to the switching power supply circuit. However, the inductor according to the present invention is applied to various signal processing circuits such as a filter and a phase shifter in addition to the power supply circuit. You can also.
最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形および変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。 Finally, the description of the above embodiments is illustrative in all respects and is not restrictive. Modifications and changes can be made by those skilled in the art as appropriate. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the embodiments described above. Further, the scope of the present invention includes modifications from the embodiments within the scope equivalent to the scope of the claims.
C…キャパシタ
L,L1〜L5…インダクタ
La1…第1層
La2…第2層
LZ…インダクタ形成用の端子の配置領域
MP…導体パターン
1…半導体基板
2…プリント配線板
3…再配線層
10,10A,10B…半導体素子
11…第1層導体
12a,12b,12c,12d…層間導体
12e,12f,12g,12h…層間導体
12m,12n,12o,12p…層間導体
12,12A,12B…層間導体
13,14…端子
15…コイル状導体パターン
19…DC/DCコンバータ
20…半導体素子
21,21p…第2層導体
21M,21B…第2層導体
22…層間導体
23,23a,23b,24…パッド
25…電極
101,101A…実装構造
104A,104B,104C…実装構造
105A,105B…実装構造
201…プロセッサ
C ... Capacitors L, L1 to L5 ... Inductor La1 ... First layer La2 ... Second layer LZ ... Placement area MP for terminals for forming inductors ...
Claims (11)
前記半導体素子は、第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体を有し、
前記プリント配線板は、第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有し、
前記プリント配線板のパッドと前記半導体素子の端子とが接続材で接続されて、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によってミアンダ状に形成された導体パターンを含むことを特徴とする、プリント配線板への半導体素子の実装構造。 A printed wiring board, comprising a semiconductor element mounted on the printed wiring board, in the mounting structure of the semiconductor element on the printed wiring board,
The semiconductor element has a plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the first layer conductor and the plurality of terminals. And
The printed wiring board includes a plurality of second layer conductors formed on a second layer, and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the semiconductor element are connected by a connecting material, and a meander is provided by the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials. A mounting structure of a semiconductor element on a printed wiring board, comprising a conductor pattern formed in a shape.
前記第1層導体および前記層間導体は前記再配線層に形成され、
前記再配線層の内部に、前記層間導体を含む、または前記層間導体に導通する、コイル状の導体パターンが形成された、請求項1から3のいずれかに記載の半導体素子の実装構造。 The semiconductor element includes a semiconductor substrate, and a redistribution layer formed on the semiconductor substrate,
The first layer conductor and the interlayer conductor are formed in the rewiring layer,
4. The semiconductor element mounting structure according to claim 1, wherein a coil-shaped conductor pattern including the interlayer conductor or conducting to the interlayer conductor is formed inside the rewiring layer. 5.
前記第1層導体は、半導体基板の表面に形成された再配線層の下層に設けられ、前記層間導体は前記再配線層の内部に形成され、前記端子は前記再配線層の表面に形成されたことを特徴とする、半導体素子。 A plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the plurality of first layer conductors and the plurality of terminals; By connecting a predetermined terminal of the plurality of terminals with a connecting material, a pad, and a plurality of second layer conductors formed on a printed wiring board, the plurality of first layer conductors and the plurality of second layer conductors are connected. A conductor, an element constituting a meandering conductor pattern by the plurality of interlayer conductors and the plurality of connecting members,
The first layer conductor is provided below a redistribution layer formed on a surface of a semiconductor substrate, the interlayer conductor is formed inside the redistribution layer, and the terminal is formed on a surface of the redistribution layer. A semiconductor device, characterized in that:
第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有するプリント配線板とをそれぞれ準備し、
前記プリント配線板のパッドと前記半導体素子の端子とを接続材で接続して、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によってミアンダ状の導体パターンを構成するとともに、前記第2層導体のパターンまたは前記パッドの位置によって、前記導体パターンの形状を定めることを特徴とする、インダクタ設定方法。 A semiconductor element having a plurality of first layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of interlayer conductors connecting the first layer conductor and the plurality of terminals;
Preparing a printed wiring board having a plurality of second layer conductors formed on a second layer and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the semiconductor element are connected by a connecting material, and a meander is provided by the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials. A method of setting an inductor, comprising: forming a conductor pattern in a shape of a circle; and determining a shape of the conductor pattern by a position of the pattern of the second layer conductor or the position of the pad.
前記プロセッサ集積回路は、第1層に形成された複数の第1層導体、実装面に形成された複数の端子、および前記複数の第1層導体と前記複数の端子とを接続する複数の層間導体とを有し、
前記プリント配線板は、第2層に形成された複数の第2層導体と、実装面に形成され前記複数の第2層導体に導通する複数のパッドとを有し、
前記プリント配線板のパッドと前記プロセッサ集積回路の端子とが接続材で接続されて、前記複数の第1層導体、前記複数の第2層導体、前記複数の層間導体および前記複数の接続材によって、前記スイッチング回路に接続された、ミアンダ状の導体パターンが構成されたことを特徴とする、プロセッサ。 A processor including a processor integrated circuit including a switching circuit of a switching power supply circuit, and a printed wiring board on which the processor integrated circuit is mounted,
The processor integrated circuit includes a plurality of first-layer conductors formed on a first layer, a plurality of terminals formed on a mounting surface, and a plurality of layers connecting the plurality of first-layer conductors and the plurality of terminals. And a conductor,
The printed wiring board includes a plurality of second layer conductors formed on a second layer, and a plurality of pads formed on a mounting surface and electrically connected to the plurality of second layer conductors,
A pad of the printed wiring board and a terminal of the processor integrated circuit are connected by a connecting material, and the plurality of first-layer conductors, the plurality of second-layer conductors, the plurality of interlayer conductors, and the plurality of connecting materials are provided. A meandering conductor pattern connected to the switching circuit.
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