JP6577215B2

JP6577215B2 - ガラス基板の製造方法

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Publication number: JP6577215B2
Application number: JP2015065356A
Authority: JP
Inventors: 小山　昭浩; 昭浩小山; 学市川
Original assignee: Avanstrate Inc; Avanstrate Asia Pte Ltd
Current assignee: Avanstrate Inc; Avanstrate Asia Pte Ltd
Priority date: 2015-03-26
Filing date: 2015-03-26
Publication date: 2019-09-18
Anticipated expiration: 2035-03-26
Also published as: JP2016183085A

Description

本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板の製造方法に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」と呼ぶ。）に用いるガラス基板には、厚さが例えば０．５〜０．７ｍｍと薄いガラス板が用いられている。このＦＰＤ用ガラス基板は、例えば第１世代では３００×４００ｍｍのサイズであるが、第１０世代では２８５０×３０５０ｍｍのサイズになっている。

このような薄板で大きなサイズのＦＰＤ用ガラス基板を製造するには、オーバーフローダウンドロー法やフロート法が好適に用いられる。例えば、オーバーフローダウンドロー法を用いるガラス基板の製造方法が特許文献１に開示されている。すなわち、特許文献１では、成形体からオーバーフローされたシートガラスを搬送ローラ（引張りローラ）で挟持し、下方に引き下げる過程で徐冷することで、ガラス基板を製造している。

国際公開第２０１２／１３２４２５号

ところで、このようなＦＰＤ用ガラス基板においては、たとえば画素のピッチズレの問題を抑制するために、ディスプレイ製造時のガラス基板の熱収縮を低減することが強く求められている。ガラス基板の熱収縮は、歪点またはガラス転移点で代表される低温粘性特性温度を高くすることで抑制できる。しかし、単にガラスの歪点等を高くすることだけに着目してガラス組成の改良を行うと、ガラスの液相温度が高くなる傾向にあり、耐失透性が悪化しやすいという問題が起こる。高歪点を有するガラス組成は、失透温度も高くなりやすい。この失透の問題は、比較的粘度が高い状態で成形を行う必要があるオーバーフローダウンドロー法を成形方法として用いた場合に顕著となる。

このようなオーバーフローダウンドロー法による成形時におけるガラスの失透を防止するためには、たとえば成形時における溶融ガラスの温度を、液相温度よりも十分に高く保てばよい。

以上の観点から、たとえば高温高粘性で、低液相粘度のガラスを製造しようとする場合、最初から高温高粘性のガラス組成から製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、特に、清澄槽等に用いられる白金装置や、成形装置の成形体へのダメージが大きくなる。

近年のＦＰＤの高精細化に伴い、ＦＰＤ用ガラス基板に対する品質要求は益々厳しくなってきており、従来にも増してガラス基板製造時の製造条件の厳密なコントロールが必要になってきている。

そこで、本発明は、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制し、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、従来の課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成の発明を想到するに至ったものである。

（構成１の発明）
ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするガラス基板の製造方法である。

（構成２の発明）
前記溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、前記成形工程の温度条件を調整することを特徴とする構成１の発明に記載のガラス基板の製造方法である。

（構成３の発明）
蛍光Ｘ線分析法により前記溶融ガラスの組成分析を行うことを特徴とする構成１又は２の発明に記載のガラス基板の製造方法である。

（構成４の発明）
オーバーフローダウンドロー法を用いて前記成形工程を行うことを特徴とする構成１乃至３のいずれかの発明に記載のガラス基板の製造方法である。

本発明によれば、上記構成により、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制でき、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能である。

本実施形態のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。本実施形態における溶解工程乃至切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。成形装置の概略の側面図である。

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（ガラス基板の製造方法の全体概要）
オーバーフローダウンドロー法が採用されるガラス基板の製造工程の概要の一例は、例えば図１に示すことができる。
図１は、本実施形態のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。

このガラス基板の製造工程では、溶融工程（ＳＴ１）と、清澄工程（ＳＴ２）と、撹拌（均質化）工程（ＳＴ３）と、供給工程（ＳＴ４）と、成形工程（ＳＴ５）と、冷却（徐冷）工程（ＳＴ６）と、切断工程（ＳＴ７）と、を包含し、その成形工程（ＳＴ５）および冷却（徐冷）工程（ＳＴ６）においてダウンドロー法が採用され、その成形工程では、たとえば、図３に示すように、楔形の成形体２１０を含む装置により成形される。

図２は、上記溶融工程（ＳＴ１）乃至切断工程（ＳＴ７）を行う装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、図２に示すように、溶解装置１００と、成形装置２００と、切断装置３００とを主に有する。溶解装置１００は、溶解槽１０１と、清澄槽１０２と、撹拌槽１０３と、第１配管１０４と、第２配管１０５と、第３配管１０６とを有する。成形装置２００について詳細は後述する。

上記溶融工程（ＳＴ１）では、溶解槽１０１内に供給されたガラス原料を火焔および／又は電極を用いた通電加熱により溶解することで溶融ガラスＭＧを得る。溶融ガラスＭＧは、溶解槽１０１から第１配管１０４を通って清澄槽１０２に供給される。

上記清澄工程（ＳＴ２）では、清澄槽１０２に供給された溶融ガラスＭＧが昇温されることにより、溶融ガラスＭＧ中に含まれるＯ₂、ＣＯ₂あるいはＳＯ₂等のガス成分を含んだ泡が、ＳｎＯ₂などの清澄剤の還元反応により生じたＯ₂を吸収して成長し、溶融ガラスＭＧの液面に浮上して清澄槽１０２上方の空気中、窒素ガス等を含有する雰囲気中に放出されて除去される。次いで、溶融ガラスＭＧの温度の低下による泡中のガス成分の内圧が低下することと、還元された清澄剤（例えばＳｎＯ）が溶融ガラスＭＧの温度の低下によって酸化反応をすることにより、溶融ガラスＭＧに残存する泡中のＯ₂等のガス成分を再吸収して、泡を消滅させる。
上記清澄工程で脱泡された溶融ガラスＭＧは、清澄槽１０２から第２配管１０５を通って撹拌槽１０３に供給される。

上記撹拌（均質化）工程（ＳＴ３）では、上記清澄工程で脱泡された溶融ガラスＭＧが供給されて、撹拌槽１０３内の溶融ガラスＭＧを、撹拌手段（例えば図示するスターラ１０３ａ）を用いて撹拌することにより、ガラス成分の均質化が行われる。

上記供給工程（ＳＴ４）では、均質化された溶融ガラスＭＧが、撹拌槽１０３から第３配管１０６を通って成形装置２００に供給される。その成形装置２００の一例は、図３に示されている。図３は成形装置の概略の側面図である。

その図３において、成形装置２００は、成形炉２４０と徐冷炉２５０を含む。その成形装置２００では、上記成形工程（ＳＴ５）及び冷却（徐冷）工程（ＳＴ６）が順次行われる。

上記成形工程（ＳＴ５）では、溶融ガラスＭＧをシートガラスＳＧに成形し、シートガラスＳＧの流れを作る。本実施形態では、成形体２１０を用いたオーバーフローダウンドロー法を用いている。この場合、シートガラスＳＧの流れ方向は、鉛直下方となる。

さらに詳しく説明すると、上記成形体２１０は、図２及び図３に示すように、第３配管１０６を通して溶解装置１００から流れてくる溶融ガラスＭＧを、シートガラスＳＧに成形する。これにより、成形装置２００内で、鉛直下方のシートガラスＳＧの流れが作られる。成形体２１０は、耐火レンガ等によって構成された細長い構造体であり、図３に示すように断面が楔形状を成している。成形体２１０の上部には、溶融ガラスＭＧを導く流路となる供給溝２１２が設けられている。供給溝２１２は、成形体２１０に設けられた供給口において第３配管１０６と接続され、第３配管１０６を通して流れてくる溶融ガラスＭＧは、供給溝２１２を伝って流れる。供給溝２１２の深さは、溶融ガラスＭＧの流れの下流ほど浅くなっており、供給溝２１２から溶融ガラスＭＧが鉛直下方に向かって溢れ出るようになっている。

また、成形体２１０の両側壁部及び／又は下方端部には、図示しない白金ガイド部材が設けられる。この白金ガイド部材は、ガラス幅の管理のために設けられるが、ガラスに対しては放熱部材として機能する。そのため、成形体２１０の両側壁部や下方端部に対して、内部ヒータなどにより熱量を加える構成を備えておくことで、上記白金ガイド部材に結晶物の付着を抑制する。

供給溝２１２から溢れ出た溶融ガラスＭＧは、成形体２１０の両側の側壁を伝わって流下する。側壁を流れた溶融ガラスＭＧは、成形体２１０の下方端部２１３（図３に示す）で合流し、１つのシートガラスＳＧが成形される。シートガラスＳＧは、図３に示すシートガラスＳＧの流下方向である鉛直下方に流れる。なお、成形体２１０の下方端部２１３の直下におけるシートガラスＳＧの温度は、例えば１０^4.3〜１０⁶ｐｏｉｓｅの粘度に相当する温度（例えば１０００〜１２５０℃）である。また、１１５０℃〜１２５０℃であってもよい。

成形体２１０の下方端部２１３の下方近傍には、雰囲気仕切り部材２２０が設けられている。雰囲気仕切り部材２２０は、シートガラスＳＧを厚さ方向の両側から挟むように設けられた一対の板状の断熱部材である。
この断熱部材からなる雰囲気仕切り部材２２０は、成形体２１０が収容された上部空間である成形炉２４０と、下方空間とを仕切るために設けられる。この断熱部材からなる雰囲気仕切り部材２２０の上部空間と下方空間との間の熱抵抗は、上部空間の雰囲気温度において、０．２ｍ²・Ｋ／Ｗ以上であることが望ましい。溶融ガラスが上記成形体２１０の最下端部を通過するときの溶融ガラスの両端部の粘度は、例えば、１０^4.3〜１０⁶ｐｏｉｓｅである。なおシートガラスの端部とは、シートガラスの幅方向の縁から１５０ｍｍ以内の範囲をいう。

上記の熱抵抗を大きくするためには、例えば上記雰囲気仕切り部材２２０の厚さを厚くする必要があるが、必要以上の厚さは、ガラス成形品質に影響を与えるため好ましくない。そのため、上記雰囲気仕切り部材２２０の熱抵抗は、０．４〜２ｍ²・Ｋ／Ｗであることが好ましい。
断熱部材としては、例えば、アルミナの含有率が高いセラミックファイバボードが使用される。

雰囲気仕切り部材２２０の下方には冷却ローラ（冷却ローラとしての機能を備える搬送ローラ）２３０が設けられている。冷却ローラ２３０は、図３に示すように、シートガラスＳＧを厚さ方向の両側から挟むように、シートガラスＳＧの厚さ方向の両側に設けられている。なお、冷却ローラ２３０は、シートガラスＳＧの幅方向両端部の温度が約１０^9・0ｐｏｉｓｅ以上の粘度に相当する温度（例えば９００℃以下）に低下するまで、冷却することが好ましい。

また、上記冷却ローラ２３０の下方の領域には、シートガラスＳＧの流れ方向に沿って、さらに別の搬送ローラ２５０ａ〜２５０ｄを含む複数の搬送ローラと、図示しない温度調整装置が設けられている。個々の搬送ローラはシートガラスＳＧの厚さ方向の両側のそれぞれに設けられており、シートガラスＳＧの両端を対となって夫々挟持している。つまり、ローラ搬送手段対を構成している。

この領域には、上記温度調整装置として、熱源であるヒータユニット（図示せず）がシートガラスＳＧの厚さ方向の両側のそれぞれに設けられている。このヒータユニットは、シートガラスＳＧの幅方向の温度プロファイルを適切に制御できるように、シートガラスの幅方向に沿って設けられている。

以上説明したように、上記冷却（徐冷）工程（ＳＴ６）では、上記冷却ローラ２３０及び搬送ローラ２５０ａ〜２５０ｄによって挟持搬送される過程において、成形されて流れるシートガラスＳＧが所望の厚さになり、冷却に起因する反り、内部歪が生じないように冷却（徐冷）される。

上記切断工程（ＳＴ７）では、切断装置３００において、成形装置２００から供給されたシートガラスＳＧが所定の長さに切断されることで、板状のガラス板を得る。
板状に切断されたガラス板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作製される。この後、ガラス基板の端面の研削、研磨、およびガラス基板の洗浄が行われ、さらに、泡や脈理等の欠点の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。

本実施形態において製造されるガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板等に好適に用いられる。また、このガラス基板は、その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。その中でも特に熱収縮率の小さいことが要求される、ＬＴＰＳ（低温ポリシリコン）・ＴＦＴや、酸化物半導体・ＴＦＴなど、パネル製造工程において高温処理を必要とする製品に好適に用いることができる。

また、本実施形態において製造されるガラス基板の幅方向及び縦方向の長さは、例えば５００ｍｍ〜３５００ｍｍであり、１０００ｍｍ〜３５００ｍｍであることが好ましく、２０００ｍｍ〜３５００ｍｍであることがより好ましい。
また、本実施形態において製造されるガラス基板の厚さは、例えば０．０１ｍｍ〜１．０ｍｍである。好ましくは、０．１ｍｍ〜０．７ｍｍである。

（ガラス基板の組成）
上述の用途のガラス基板のガラス組成としては、アルミノシリケートガラス、ボロアルミノシリケートガラスであり、さらに無アルカリガラス、微アルカリガラスであり、例えば以下のものを好ましく挙げることができる。なお、以下に示す組成の含有率表示は、モル％である。
ＳｉＯ₂ ５５〜７５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ５〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１５％、ＲＯ５〜２０％（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａのうち、ガラス基板に含まれる全元素)、Ｒ'₂Ｏ０〜０．４％ (ただし、Ｒ'はＬｉ、Ｎａ及びＫのうち、ガラス基板に含まれる全元素)。
本発明で用いる溶融ガラスの歪点は、６５０℃以上であってもよく、６８０℃以上であることがより好ましい。
また、例えば、ガラス基板の液相粘度は、１０^4.3ｐｏｉｓｅ〜１０^6.7ｐｏｉｓｅである。
もちろん、本発明においては、ガラス基板のガラス組成を限定するものではない。

次に、本発明に係るガラス基板の製造方法の構成の特徴について説明する。
本発明に係るガラス基板の製造方法は、上記構成１の発明にあるとおり、ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするものである。

従来、例えばオーバーフローダウンドロー法を用いて目的とする組成のガラス基板を製造する場合、その目的の組成に応じたガラス原料を調製し、製造装置に投入してシート状のガラスを製造する。そして、途中のいずれかの段階でガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて、投入するガラス原料の組成の調整等を行い、目的の組成に近づけていく方法が通常実施されている。

ところが、前述したように、たとえば高温高粘性のガラス基板を製造しようとする場合、従来方法に則り、最初から目的とする高温高粘性のガラス組成に応じたガラス原料を調製し、製造装置に投入して製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、特に、清澄槽等に用いられる白金装置や、成形装置の成形体へのダメージが大きくなる。また、失透の発生を抑制できないことがある。したがって、長期的に安定した品質のガラス基板を製造し続けることは困難になる。

本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するべく鋭意検討した結果、次のような製造方法が最適であることを見出した。
すなわち、最初は、目標とする高温高粘性のガラス組成とは異なるが、特にガラスの失透の発生等を考慮して、溶解、成形しやすい失透粘度の高い（失透温度の低い）組成から製造を開始する。そこから投入する原料を徐々に変えていくことで経時的に失透粘度の低い（失透温度の高い）組成に変更していき、目標とする上記組成のガラス基板を製造する。これによって、失透の発生を抑制できるうえに、製造装置に対する負荷、ダメージも抑制できるので、長期的に安定した高品質のガラス基板を製造することが可能になる。

たとえば成形体２１０の両側壁部や下方端部に設けられる白金ガイド部材にガラス結晶物が付着すると、ガラスリボンの割れ、切断の原因となる。また、製造されるガラスの厚みや平坦性にも影響を与える。白金ガイド部材に付着したガラス結晶物の除去のためには、成形体２１０を流れる溶融ガラスを高温にして、ガラス結晶物の除去を行う必要があるが、成形工程において、溶融ガラスを高温にすると、成形体２１０のクリープ変形や、白金部材の揮発、その他、白金部材の変形、損耗が生じる。
そのためガラス結晶物が生じないように、組成に応じた温度管理をする必要がある。

本発明では、上記雰囲気仕切り部材２２０の熱抵抗は、例えば０．４〜２ｍ²・Ｋ／Ｗとすることにより、成形炉の上部空間から下方空間への熱の移動を抑制し、ガラス液相粘度の高いガラスの成形に対応させている。

また、ガラスの失透を懸念し、溶融ガラスの粘度をシートガラス成形条件範囲を超えて下げてしまうと、成形体２１０の構造に適したガラス粘度から外れ、シートガラス厚みや幅の管理が難しくなる。そうするとシートガラスの厚みの偏りや変動が生じたりして、雰囲気仕切り部材２２０に溶融ガラスが接触してしまい、仕切り部材に損耗が生じ、その結果、ガラス基板の表面品質に影響を与える。

本発明においては、上記のようにしてガラス基板の製造を行うが、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて成形工程の製造条件を調整することが肝要である。投入する原料の経時的な変更だけでなく、成形途中段階のガラス組成を成形工程の製造条件にフィードバックすることにより、製造装置へのダメージをより効果的に抑制することができ、また異質素地の形成を抑制することができる。

本発明のより具体的な実施態様としては、撹拌工程を経た後の溶融ガラスを採取して組成分析を行い、この溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、見積もった組成の変化率に応じて成形工程の製造条件、例えば成形体の温度条件を調整することが好ましい。特に、高温高粘性のガラス組成に変更する場合、組成の変動に応じて、失透のしやすさ、失透温度が異なってくるので、成形途中段階のガラス組成を成形工程の温度条件にフィードバックすることが、製造装置へのダメージや失透の発生、異質素地の形成等を抑制する上で好適である。

なお、本発明において、撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行うことにしている理由は、撹拌工程を経る前の溶融ガラスは均質化されていないため、正確な組成分析を行えないからである。

また、撹拌工程を経た後の溶融ガラスであれば、複数箇所でサンプルを取得してもよい。ばらつきの無いより正確な組成分析結果を得ることが可能である。また、成形体でシート状に成形された直後のガラスを分析してもよい。

また、図１の製造フローでは、清澄工程の後に撹拌工程を実施しているが、清澄工程の前にも撹拌工程を実施する場合には、清澄工程でサンプルを取得してもよい。

また、本発明において上記の溶融ガラスの組成分析は、例えば蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）により行うことができる。もちろんこの分析法に限定される必要はなく、例えば誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）分析法等を適用することも可能である。

また、本発明は、上記実施の形態で説明したようなオーバーフローダウンドロー法によるガラス基板の製造に好適である。
前にも説明したように、比較的粘度が高い状態で成形を行う必要があるオーバーフローダウンドロー法を成形方法として用いた場合、失透の問題が発生しやすい。そして、このようなオーバーフローダウンドロー法による成形方法を用いて、たとえば高温高粘性のガラスを製造しようとする場合、最初から高温高粘性のガラス組成から製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、製造装置へのダメージが大きくなるという問題が生じる。

したがって、このようなオーバーダウンドロー法によるガラス基板の製造には、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制し、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能な本発明のガラス基板の製造方法の効果が顕著となる。

以上説明したように、本発明のガラス基板の製造方法においては、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて成形工程の製造条件を調整するようにしているので、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制でき、たとえば高温高粘性組成の高品質ガラス基板を長期的に安定して製造することが可能である。

以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明する。
上述した図２及び図３に示される実施形態の製造装置を用いて、ガラス基板を製造した。
ここで、目標とするガラス基板の組成は以下の組成とした。
ＳｉＯ₂ ７０．５モル％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０．９モル％、Ｂ₂Ｏ₃ ７．４モル％、ＲＯ（ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ及びＢａＯの合量）１０．９モル％。

上記の組成は、失透粘度の低い（失透温度の高い）組成であるが、まず最初は、特にガラスの失透を考慮して、溶解、成形しやすい失透粘度の高い（失透温度の低い）組成から製造を開始し、そこから投入する原料を変えていくことで経時的に目標とする上記のガラス組成に変更することによりガラス基板を製造した。なお、本実施例では、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を蛍光Ｘ線分析法により行った。そして、その溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、成形工程における温度条件を調整しながら、ガラス基板を製造した。
このとき製造したガラス基板の歪点は７００℃であった。

以上と同様にして１０００枚のガラス基板を製造した。製造したガラス基板のそれぞれについて蛍光Ｘ線分析法により組成分析を行った結果、いずれのガラス基板についても、目標とする組成が得られており、また失透の発生も無かった。さらに、ガラス基板製造後、製造装置へのダメージも特に発生しなかった。
これより、本発明によるガラス基板の製造方法の効果は明確である。

以上、本発明の実施の形態および具体的な一実施例について説明したが、本発明は上記実施形態および実施例には限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。

１００溶解装置
１０１溶解槽
１０２清澄槽
１０３撹拌槽
１０４第１配管
１０５第２配管
１０６第３配管
２００成形装置
２１０成形体
２１２供給溝
２１３下方端部
２２０雰囲気仕切り部材
２３０冷却ローラ
２４０成形炉
２５０徐冷炉
２５０ａ〜２５０ｄ搬送ローラ
３００切断装置

Claims

所定の組成からなるガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、
前記溶融ガラスの歪点が６５０℃となる組成より失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に前記溶融ガラスの歪点が６５０℃となる組成より失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、
途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするガラス基板の製造方法。
前記溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、前記成形工程の温度条件を調整することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
蛍光Ｘ線分析法により前記溶融ガラスの組成分析を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板の製造方法。
オーバーフローダウンドロー法を用いて前記成形工程を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。