JP6566709B2 - インクジェット記録ヘッド用基板 - Google Patents
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Description
しかし、絶縁保護層そのものを用いて保護しているため、保護しきれず静電気放電により絶縁保護層が破壊されると印刷品位の低下に直結してしまうという課題があった。
本発明では、上記従来技術に鑑みてなされたもので、静電気放電が発生しても、基板上のエネルギー発生素子を覆う絶縁保護層が絶縁破壊されることを抑制し、印刷品位の低下を抑制することができる対策を提供することを目的とする。
図1は本発明の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの斜視図である。記録ヘッド1は、インクジェット記録ヘッド用基板2と、電気配線テープ(可撓性の配線基板)3、及び記録装置本体と電気的に接続する電気コンタクト部4で構成されている。インク供給ユニットを介して供給されたインクは、記録素子ユニットの各ノズルに供給され、選択的に吐出されて記録媒体に対して印字を行うことができる。
本発明の実施形態に係るインクジェット記録ヘッド用基板2には、基体5としてのシリコン基板上に、半導体製造技術を用いてインクを発泡させる為のエネルギー発生素子6とそれを駆動させる駆動回路(不図示)などが形成されている。また、基体5の両面を連通するインク供給路7がシリコンエッチングにより形成されている。基体5上には、インク吐出口9とインク流路10を形成する吐出口形成部材8が形成されている。基体5の裏面側からインク供給路7を介して供給されたインクは、インク流路10内のエネルギー発生素子6上に配置されたインク吐出口9から吐出される。このとき、各インク吐出口に対応したエネルギー発生素子6を駆動させ、インクを発泡することによりその圧力を利用してインクを吐出させ印字を行うことができる。
導電部材18は、インク流路10に露出しない構造を有するように形成する。インク流路10に露出すると、電荷がインク流路10内の絶縁保護層14に流れ、絶縁破壊抑制の効果が小さくなる。
本発明の第1の実施形態になる実施例を、図3及び図5(a)〜(e)の工程断面図を参照して説明する。
トランジスタ等の駆動素子(不図示)が設けられたシリコンからなる基体5の上に、基体の一部を熱酸化して設けた熱酸化層1μm、シリコン酸化膜1μmからなる蓄熱層11を形成した。蓄熱層11の上に、TaSiN(シート抵抗:300Ω/□)からなる発熱抵抗体層12、および発熱抵抗体層12より抵抗の低いアルミニウム合金(Al−Cu、厚さ500nm)からなる電極配線層13を形成した。電極配線層13の一部を除去して発熱抵抗体層12を露出させることにより、エネルギー発生素子6を形成した。これらの発熱抵抗体層12と電極配線層13を覆うように、ウエハ全面に、400nmのSiNからなる絶縁保護層14を形成した。エネルギー発生素子6上の絶縁保護層14を覆うように300nmのタンタル膜からなる耐キャビテーション層15を形成した。ここまでの工程で図5(a)の構造が形成される。
次に、15μmのSiO膜を堆積し、エッチングを行うことで、液室を含むインク流路10の形状を規定する犠牲層19を形成した(図5(b))。
次に、12μmの炭窒化シリコン(SiCN)膜を堆積し、化学機械研磨(CMP)を行って、SiCN膜の厚さが10μmとなるように加工した。ここまでの工程で図5(c)の構造が形成される。このSiCN膜が流路壁部材16となる。
次に、エッチングによって流路壁部材16に蓄熱層11に達する孔部を開け、孔部を埋めるようにタングステン(W)を成膜したのち、CMP加工することにより、図5(d)の構造を形成した。このタングステンが導電部材18となる。
次に、5μmのSiCN膜を堆積し、エッチングによって吐出口9を形成した(図5(e))。このSiCN膜がオリフィスプレート17となる。
次に、ウエハをバッファードフッ酸に浸漬することによって、SiOからなる犠牲層19を除去することで図3に示すインク流路10が形成される。
このように作製したインクジェット記録ヘッド用基板における、静電気放電による絶縁破壊の発生率は1.0%であった。本実施形態により、流路壁部材16内に設けた導電部材18を通じて静電気放電の電荷を除去することが可能であるため、従来技術と比較して、静電気放電による印刷品位の低下を抑制することができる。
次に本発明の第2の実施形態になる実施例を、図6を参照して説明する。実施例2においては、導電部材18の下端部を基体5に達するようにすることが実施例1と異なるのみである。その他の構成は実施例1と同様であるので説明を省略する。
流路壁部材16を形成したのち、導電部材18を埋め込むために形成する孔部を基体5まで達するように形成し、その後、タングステンを埋め込んで図6に示すインクジェット記録ヘッド用基板2を作製した。
導電部材18が基体5と接していることによって、導電部材18に放電した電荷を効率良く除去できる。このように作製したインクジェット記録ヘッド用基板における、静電気放電による絶縁破壊の発生率は0.4%であった。本実施形態により、流路壁部材内に設けた導電部材を通じて静電気放電の電荷を除去することが可能であるため、従来技術と比較して、静電気放電による印刷品位の低下を抑制することができる。
次に本発明の第3の実施形態になる実施例図7を参照して説明する。実施例3においては、導電部材18の下端部が配線20と接続されていることが異なるのみであり、その他の構成は実施例1と同様であるので説明を省略する。
電極配線層13を形成する工程において、流路壁部材16が形成される領域にも電極配線層13と同時に配線20を形成した。この配線20は基体5上を引き回し、接地した。流路壁部材16を形成したのち、導電部材18を埋め込むために形成する穴を配線20まで達するように形成し、その後、タングステンを埋め込んで図7に示すインクジェット記録ヘッド用基板2を作製した。
導電部材18が配線20と接していることによって、導電部材に放電した電荷を効率良く除去できる。このように作製したインクジェット記録ヘッド用基板における、静電気放電による絶縁破壊の発生率は0.1%であった。本実施形態により、流路壁部材内に設けた導電部材を通じて静電気放電の電荷を除去することが可能であるため、従来技術と比較して、静電気放電による印刷品位の低下を抑制することができる。
次に本発明の第4の実施形態になる実施例を、図8を参照して説明する。実施例4においては、第二の部材(オリフィスプレート)17が導電性の材料を含む部材17Cで形成されていることが異なるのみであり、その他の構成は実施例1と同様であるので説明を省略する。
実施例1と同様にインク流路10を規定するための流路壁部材16を10μmのSiCN膜で形成し、それに内包されるようにタングステンからなる導電部材18を形成した。さらに5μmのSiC膜からなるオリフィスプレート17Cを形成して、図8に示すインクジェット記録ヘッド用基板2を作製した。
SiCは半導体であり導電性を有するため、オリフィスプレート17C表面で発生した静電気電荷を効率良く導電部材18に導くことができる。このように作製したインクジェット記録ヘッド用基板における、静電気放電による絶縁破壊の発生率は0.06%であった。本実施形態により、流路壁部材内に設けた導電部材を通じて静電気放電の電荷を除去することが可能であるため、従来技術と比較して、静電気放電による印刷品位の低下を抑制することができる。
比較例では、流路壁部材16の中に導電部材18を設けない場合の例を示す。比較例のインクジェット記録ヘッド用基板の完成図を図9に示す。比較例においては、流路壁部材16の中に導電部材18を設けないことが異なるのみであり、その他の構成は第1の実施例と同様であるので説明を省略する。
このように作製したインクジェット記録ヘッド用基板における、静電気放電による絶縁破壊の発生率は5.0%であった。
2 インクジェット記録ヘッド用基板
3 電気配線テープ
4 電気コンタクト部
5 基体
6 エネルギー発生素子
7 インク供給路
8 吐出口形成部材
9 インク吐出口
10 インク流路
11 蓄熱層
12 発熱抵抗体層
13 電極配線層
14 絶縁保護層
15 耐キャビテーション層
16 第一の部材(流路壁部材)
17 板状の第二の部材(オリフィスプレート)
17C 導電性材料を含む第二の部材
18 導電部材
19 犠牲層
20 配線
Claims (10)
- 基板上に配置された、電極配線層と発熱抵抗体層からなるエネルギー発生素子と、
前記電極配線層および前記発熱抵抗体層の上層に配置された絶縁性の保護層と、
インク流路の壁部を形成する第一の部材と、吐出口を有する板状の第二の部材とからなる吐出口形成部材と、
を含むインクジェット記録ヘッド用基板において、
前記第一の部材は、絶縁性材料で構成されており、前記第一の部材内に配置した柱状の導電部材を含み、
前記柱状の導電部材は前記インク流路の壁に沿って複数設けられ、前記インク流路内に露出しない構造を有し、
前記第二の部材は、絶縁性材料又は半導体材料を含み、該第二の部材の絶縁性材料又は半導体材料と前記柱状の導電部材とが接していることを特徴とするインクジェット記録ヘッド用基板。 - 前記導電部材の下端部が基板に接している請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記導電部材の下端部が前記電極配線層とは別に設けた配線と接している請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記電極配線層と前記別に設けた配線とは同材料で形成されている請求項3に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記別に設けた配線は接地電位に接続している請求項3または4に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記第二の部材が半導体材料としてSiCを含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記導電部材はタングステンである請求項1〜6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記第二の部材の前記吐出口が設けられた面に直交する方向から見て、前記エネルギー発生素子を囲うように複数の前記導電部材が設けられている請求項1〜7のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記絶縁性の保護層は前記第一の部材と前記基板との間に延在しており、前記第一の部材の前記基板と対向する面とは反対の面から、前記第一の部材、前記絶縁性の保護層及び前記基板に連続して形成された孔部を有し、該孔部内に前記柱状の導電部材を含む請求項1〜8のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
- 前記基板が半導体基板を含み、前記孔部が該半導体基板に達している、請求項9に記載のインクジェット記録ヘッド用基板。
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