JP6560116B2 - 測温体 - Google Patents
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- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 17
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052916 barium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ba+2].[O-][Si]([O-])=O HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
ス材料からなる第1の被覆部材とを備えており、該第1の被覆部材は、その熱膨張係数が、前記リードの熱膨張係数よりも大きい。
を主成分とする金属材料において、白金と他の成分とは合金を形成していていもよく、互いに独立した結晶粒子として存在していてもよい。内部抵抗配線5の場合は、金属成分以外の添加材を含有していてもよく、添加材としては、例えば酸化アルミニウム等の、絶縁層1a,1bに含まれているのと同様の無機物の粒子等が挙げられる。添加材は、内部抵抗配線5と絶縁層1a,1bとの焼成収縮率の整合等のために添加される。
は(a)の分解斜視図である。図2において、図1に記載の第1の実施形態と同様の機能を有する構成部材には、同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
2と前記リード3との接続固定の補強を、最適な状態で、長期にわたり安定して維持することができる。
1a・・絶縁層
1b・・絶縁層
1c・・角部
1d・・表面領域
1e・・抵抗調整用配線
2・・・電極
3・・・リード
4・・・第1の被覆部材
5・・・内部抵抗配線
6・・・ビア導体
6a・・頂部
7・・・第2の被覆部材
7a・・端部
10・・測温体
20・・測温装置
Claims (4)
- 複数の絶縁層が積層された絶縁基体と、該絶縁基体の内部に設けられた内部抵抗配線と、前記絶縁基体の主面に設けられた電極と、前記絶縁基体を厚み方向に貫通して前記内部抵抗配線と前記電極とを導通させるビア導体と、前記電極に接続されたリードと、前記電極と前記リードの電極側端部とを覆う、ガラス材料からなる第1の被覆部材とを備えており、
該第1の被覆部材は、その熱膨張係数が、前記リードの熱膨張係数よりも大きいことを特徴とする測温体。 - 前記絶縁基体の主面における電極が設けられた領域以外の領域に配置された抵抗調整手段と、該抵抗調整手段を覆う、ガラス材料からなる第2の被覆部材とを備えており、
前記第1の被覆部材が、該第2の被覆部材の端部と、前記電極と、前記リードの電極側端部とを覆うように配設されていることを特徴とする請求項1記載の測温体。 - 前記第2の被覆部材の熱膨張係数が、前記第1の被覆部材の熱膨張係数より小さく、かつ、前記絶縁基体の熱膨張係数より大きいことを特徴とする請求項1または請求項2記載の測温体。
- 前記リードが、白金または白金を主成分とする金属材料からなることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の測温体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015251760A JP6560116B2 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 測温体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015251760A JP6560116B2 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 測温体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017116394A JP2017116394A (ja) | 2017-06-29 |
JP6560116B2 true JP6560116B2 (ja) | 2019-08-14 |
Family
ID=59231952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015251760A Active JP6560116B2 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 測温体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6560116B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109782828B (zh) * | 2018-12-21 | 2021-09-24 | 中国船舶重工集团公司第七0七研究所 | 一种高可靠性液浮惯性仪表温控装置 |
JP2020120085A (ja) * | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板の製造方法及び配線基板の製造装置 |
CN114739529B (zh) * | 2022-05-11 | 2022-11-25 | 山东信隆机电有限公司 | 一种通过电阻反映温度的机械式高低压电机测温装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0833327B2 (ja) * | 1990-06-11 | 1996-03-29 | 株式会社村田製作所 | 温度センサ |
US6447888B2 (en) * | 2000-01-31 | 2002-09-10 | Kyocera Corporation | Ceramic wiring board |
DE102009017676B3 (de) * | 2009-04-16 | 2010-08-05 | Heraeus Sensor Technology Gmbh | Hochtemperatursensor mit Chipdrähten aus Chromoxid bildender Eisenlegierung |
JP5736348B2 (ja) * | 2012-06-21 | 2015-06-17 | 立山科学工業株式会社 | 薄膜抵抗体温度センサとその製造方法 |
JP6404726B2 (ja) * | 2014-03-07 | 2018-10-17 | 日本特殊陶業株式会社 | 感温素子及び温度センサ |
US10247620B2 (en) * | 2014-04-21 | 2019-04-02 | Kyocera Corporation | Wiring board and temperature sensing element |
-
2015
- 2015-12-24 JP JP2015251760A patent/JP6560116B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017116394A (ja) | 2017-06-29 |
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A621 | Written request for application examination |
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