JP6535206B2 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

Description

本発明は露光方法及び露光装置に関する。

従来から、露光装置として、露光される基板が上方に配置される基台と、マスクを介して基板に光を照射する露光用光源と、を備えるものが知られている。このような露光装置においては、マスクに所定のパターンが形成されている。そして、当該マスクを介して基板に光を照射することにより、パターンを基板に転写する。

ここで、基板は必ずしも平坦ではなく、特に作業工程の進んだものでは歪みが発生することが多い。このように基板が平坦でない場合には、基台（例えばワークチャック）に適切に吸着させることができず、露光精度が悪化してしまう虞がある。

そこで、図１５に示すように、特許文献１の基板露光装置では、先ず、下面２０２にマスクフィルム１００Ｍが被着固定された上枠２００によって、フィルム状の基板１００Ｗを押圧する。これにより、基板１００Ｗの反りや皺を除いて、下枠１００の上面１０２上において基板１００Ｗを平坦にする。その後、真空吸着装置１２０で真空引することで、基板１００Ｗを下枠１００の上面１０２に吸着固定する。

また、図１６に示すように、特許文献２の露光装置は、基板３１１を支持する基板支持台３１２と、基板３１１の周囲を取り囲むように延びる中空のシール部材３１３と、を有する。シール部材３１３上には、フォトマスク３０６が載せられる。基板支持台３１２と基板３１１とシール部材３１３とフォトマスク３０６とで囲まれた第１の空間３２７と、シール部材３１３の中空内部である第２の空間３２８と、に圧力を供給する。そして、当該圧力の値を適宜設定することにより、フォトマスク３０６を基板３１１の表面全体にわたって均一に密着させることを図っている。また、基板支持台３１２には複数の吸引孔３２５が形成されており、吸引孔３２５に負圧を加えることにより基板３１１を吸着して保持する。

特開２００１−２０９１９２号公報 特開２００４−５４２５５号公報

しかし、特許文献１及び２の発明では、基板とマスクとを接触させる必要があるため、基板及びマスクの接触面に傷が発生する虞があった。

また、基板のみならず、マスクが平坦でない場合も有り得るが、このような場合には、基板の形状をマスクの形状に対応させた上で露光を行う必要がある。しかしながら、特許文献１及び２には、基板を平坦にすることについて記載されているのみであり、このような事態に対応することが困難であった。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、基板及びマスクに傷が発生することを抑制しつつ、基板に所望の曲率を持たせることが可能な露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。なお、「基板に所望の曲率を持たせる」とは、ゼロの曲率を基板に持たせて、基板を平坦にする場合も含まれる。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１） 露光される基板が上方に配置される基台を備え、
露光用光源からの光を、マスクを介して前記基板に照射して露光する工程を備える露光方法であって、
前記基台の上面には、複数の凹溝が設けられ、
前記凹溝の内部には、上端が前記基台の上面よりも上方に突出し、上下方向に伸縮自在なベローズが配置され、
前記凹溝の内部において前記ベローズの内部には、前記基台の上面と同一面上、又は該上面よりも上方に位置する支持面を有する支持部材が設けられ、前記支持面には、前記ベローズの内部を真空引きすることが可能、且つ、露光時に前記基板を押し付けることが可能な、真空装置に連通する連通溝が設けられ、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、複数の前記支持面の位置関係に対応した曲率を前記基板に持たせる工程と、
を備え、
前記露光工程は、前記基板が少なくとも前記支持部材の支持面に押し付けられた状態で行われることを特徴とする露光方法。
（２） 複数の前記支持部材の支持面は、前記基台の上面と同一面上に位置し、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状に固定する工程と、
を備えることを特徴とする（１）に記載の露光方法。
（３） 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであり、
複数の前記真空溝を真空引きすることにより、前記基板の下面を前記ワークチャックの上面に吸着固定する工程と、
を備えることを特徴とする（２）に記載の露光方法。
（４） 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする（３）に記載の露光方法。
（５） 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする（３）又は（４）に記載の露光方法。
（６） 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状にする工程と、
前記支持部材を下降させて、前記基板の下面を前記基台の上面と密着させる工程と、
を備えることを特徴とする（１）に記載の露光方法。
（７） 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであり、
複数の前記真空溝を真空引きすることにより、前記基板の下面を前記ワークチャックの上面に吸着固定する工程と、
を備えることを特徴とする（６）に記載の露光方法。
（８） 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする（７）に記載の露光方法。
（９） 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする（７）又は（８）に記載の露光方法。
（１０） 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状にする工程と、
を備えることを特徴とする（１）に記載の露光方法。
（１１） 前記基台の上面から前記基板の下面までの距離を測定するセンサを備え、
前記センサによって得られた前記基板の位置情報に基づいて、複数の前記支持部材を昇降させて、前記基板を平面状にする工程を備えることを特徴とする（１０）に記載の露光方法。
（１２） 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、それぞれの前記支持面と前記マスクの下面との上下方向距離が略同一となるように位置させる工程と、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、複数の前記支持面の位置関係に対応した曲率を前記基板に持たせて、前記基板の上面と前記マスクの下面との上下方向距離を均一にする工程と、
を備えることを特徴とする（１）に記載の露光方法。
（１３） 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
複数の前記支持部材のうち、少なくとも一つを上昇又は下降させる工程と、
前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、局部的に歪みのある前記基板に対応した位置に前記支持面の高さを変えることによって、所望の曲率を前記基板に持たせて、前記基板を局所的に歪ませる工程と、
を備えることを特徴とする（１）に記載の露光方法。
（１４） 露光される基板が上方に配置される基台と、
マスクを介して前記基板に光を照射する露光用光源と、
を備える露光装置であって、
前記基台の上面には、複数の凹溝が設けられ、
前記凹溝の内部には、上端が前記基台の上面よりも上方に突出し、上下方向に伸縮自在なベローズが配置され、
前記凹溝の内部において前記ベローズの内部には、前記基台の上面と同一面上、又は該上面よりも上方に位置する支持面を有する支持部材が設けられ、
前記支持面には、前記ベローズの内部を真空引きすることが可能、且つ、露光時に前記基板を押し付けることが可能な、真空装置に連通する連通溝が設けられることを特徴とする露光装置。
（１５） 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであることを特徴とする（１４）に記載の露光装置。
（１６） 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であることを特徴とする（１４）又は（１５）に記載の露光装置。
（１７） 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする（１５）に記載の露光装置。
（１８） 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする（１７）に記載の露光装置。

本発明の露光方法及び露光装置によれば、ベローズの内部を真空引きすることによって、ベローズの上端を基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、複数の支持面の位置関係に対応した曲率を基板に持たせることが可能である。また、従来文献のように、マスクと基板を接触させずとも、基板に所望の曲率を持たせることができるので、マスク及び基板に傷が発生することを抑制できる。

図２のＩ−Ｉ断面矢視図である。 第１実施形態に係る露光装置の断面図である。 第１実施形態に係る露光装置の断面図である。 第１実施形態に係る露光装置の断面図である。 第２実施形態に係る露光装置の断面図である。 第２実施形態に係る露光装置の断面図である。 第２実施形態に係る露光装置の断面図である。 第２実施形態に係る露光装置の断面図である。 第３実施形態に係る露光装置の断面図である。 第３実施形態に係る露光装置の断面図である。 第４実施形態に係る露光装置の断面図である。 第５実施形態に係る露光装置の断面図である。 第６実施形態に係る露光装置の平面図である。 （ａ）は第７実施形態に係る露光装置の平面図、（ｂ）は（ａ）のＸＩＶ−ＸＩＶ断面図である。 （Ａ）〜（Ｄ）は特許文献１に係る基板露光装置の露光ステップを示す図である。 特許文献２に係る露光装置を示す断面図である。

以下、本発明の実施形態に係る露光装置及び露光方法について、図面を用いて説明する。

（第１実施形態）
図１及び図２に示すように、本実施形態に係る露光装置１は、露光される基板３が上方に配置されるワークチャック１０（基台）と、マスク（不図示）を介して基板３に光を照射する露光用光源（不図示）と、を備える。なお、図２には、中心部が下方に向かって凸となるように歪んだ基板３が示されているが、本実施形態の露光装置１は、任意の形状の基板３に適用可能であり、例えば、基板３は中心部が上方に向かって凸となるように歪んだ形状であってもよい。

ワークチャック１０の上面１１は、上方から見た断面が略正方形状である。上面１１の四方の角部及び中心部の五箇所には、上方から見た断面が略正方形状である凹溝１５が形成されている。なお、ワークチャック１０の上面１１や凹溝１５の断面形状は、図１に示されたような略正方形状に限定されず、任意の形状とすることが可能であり、例えば、円形や矩形としても構わない。

凹溝１５の内部の略中心には、上下方向に伸縮自在な中空のベローズ１７が配置されている。自由長においてベローズ１７の上端１７ａは、ワークチャック１０の上面１１よりも上方に突出する。また、凹溝１５の内部においてベローズ１７の内部には、上方に基板３を支持可能な支持面１９ａを有する支持部材１９が設けられる。本実施形態の支持部材１９は、凹溝１５の底面から上方に延びる棒状部材であり、ワークチャック１０と一体に形成されている。支持部材１９の支持面１９ａは、ワークチャック１０の上面１１と同一面上に位置する。また、支持部材１９の支持面１９ａには、図示せぬ真空装置に連通する連通溝２０が設けられており、ベローズ１７の内部を真空引き可能である。

ワークチャック１０の上面１１には、図示せぬ真空装置に連通し、真空引き可能な複数の真空溝１３が形成される。複数の真空溝１３は、上面１１の周縁部、及び凹溝１５同士の間に、網目状に配置されている。また、真空溝１３は、ワークチャック１０の内部において凹溝１５に連通する凹溝真空溝１４を有する。なお、凹溝真空溝１４は必ずしも設ける必要はなく、凹溝真空溝１４を設けない場合には、凹溝１５を独立して真空引き可能な構成とすればよい。

このように構成された露光装置１では、以下のような露光方法が用いられる。先ず、図３に示すように、基板３を複数のベローズ１７上に配置する。このとき、ベローズ１７は基板３の形状に合わせて伸縮し、全てのベローズ１７の上端１７ａが基板３の下面３ａに密着する。

次に、ベローズ１７の内部を、連通溝２０を介して真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着固定させる。さらにベローズ１７の内部を真空引きすると、図４に示すように、ベローズ１７が収縮（下降）して、当該ベローズ１７が吸着固定した基板３も下降する。下降した基板３は、複数の支持部材１９の支持面１９ａ及びワークチャック１０の上面１１に押し付けられるので、これら複数の支持面１９ａ及び上面１１の位置関係に対応した曲率を、基板３に持たせることができる。本実施形態では、複数の支持面１９ａ及び上面１１が同一平面上に位置するので、基板３の曲率がゼロとなり、基板３を平面状に固定することができる。

そして、複数の支持面１９ａ及び上面１１に密着した基板３の下面３ａは、複数の真空溝１３（凹溝真空溝１４）を真空引きすることによって、ワークチャック１０の上面１１に吸着固定される。このように、基板３を平面状にして、ワークチャック１０の上面１１に確実に吸着固定した上で、露光用光源からの光を、マスクを介して基板３に照射することにより露光を行う。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１によれば、ベローズ１７の内部を真空引きすることによってベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着させるとともに収縮させて、支持部材１９の支持面１９ａに基板３を押し付けることにより、複数の支持面１９ａの位置関係に対応した曲率を基板に持たせることが可能である。また、従来文献のように、マスクと基板３を接触させずとも、基板３に所望の曲率を持たせることができるので、マスク及び基板３に傷が発生することを抑制できる。

特に、支持部材１９の支持面１９ａは、ベローズ１７の内部を真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着させるとともに収縮させて、支持部材１９の支持面１９ａに基板３を押し付けることにより、基板３を平面状に固定することができる。

さらに、ワークチャック１０に設けられた複数の真空溝１３を真空引きすることにより、基板３の下面３ａをワークチャック１０の上面１１に確実に吸着固定して、基板３とマスクとの距離を均一にした上で、精度よく露光を行うことができる。

なお、連通溝２０を介したベローズ１７の内部の真空引き、及び真空溝１３（凹溝真空溝１４）の真空引きは、必ずしもこの順番で行う必要はなく、同時に行っても構わない。また、凹溝１５、ベローズ１７、及び支持部材１９等の位置及び数は限定されず、基板３の剛性等を考慮して適宜設定すればよい。また、支持部材１９が配置される位置は、凹溝１５の内部であれば、必ずしもベローズ１７の内部に限られず、ベローズ１７の外部であっても構わない。

また、上述の実施形態では、ワークチャック１０に複数の真空溝１３が形成される構成であったが、本発明は当該構成に限定されるものではなく、真空溝１３を設けなくてもよい。この場合であっても、ベローズ１７の内部を真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着させるとともに収縮させて、支持部材１９の支持面１９ａ及びワークチャック１０の上面１１に基板３を押し付けることが可能である。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る露光装置１について説明する。なお、本実施形態の露光装置１は、第１実施形態と基本的構成を同一とするので、相違部分について詳述し、同一部分については同一符号を付すことにより説明を省略する。

図５に示すように、本実施形態における複数の支持部材１９は、ワークチャック１０とは別体とされ、それぞれベローズ１７を支持しながら、上下方向に昇降可能とされている。それぞれの支持部材１９の下部には駆動機構２１が連結されており、当該駆動機構２１により支持部材１９を上下方向に駆動する。駆動機構２１としては、例えばボールねじ、リニアモータ、エアーシリンダー等が例示される。

このように構成された露光装置１では、以下のような露光方法が用いられる。先ず、図５に示すように、複数の駆動機構２１により複数の支持部材１９を上昇させることにより、支持面１９ａを、ワークチャック１０の上面１１よりも上方において、互いに概ね同一平面上に位置させる。

そして、図６に示すように、基板３を複数のベローズ１７上に配置する。このとき、ベローズ１７は基板３の形状に合わせて伸縮し、ベローズ１７の上端１７ａが基板３の下面３ａに密着する。

次に、ベローズ１７の内部を、連通溝２０を介して真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着固定させる。さらに、ベローズ１７の内部を真空引きすると、図７に示すように、ベローズ１７が収縮して、当該ベローズ１７が吸着固定した基板３も下降する。下降した基板３は、複数の支持部材１９の支持面１９ａに押し付けられるので、これら複数の支持面１９ａの位置関係に対応した曲率を、基板３に持たせることができる。本実施形態では、複数の支持面１９ａが同一平面上に位置するので、基板３の曲率がゼロとなり、基板３を平面状とすることができる。

続いて、図８に示すように、支持面１９ａがワークチャック１０の上面１１と同一平面上に位置するように、駆動機構２１によって支持部材１９を下降させて、基板３の下面３ａをワークチャック１０の上面１１と密着させる。

そして、複数の支持面１９ａ及び上面１１に密着した基板３の下面３ａは、複数の真空溝１３（凹溝真空溝１４）を真空引きすることによって、ワークチャック１０の上面１１に吸着固定される。このように、基板３を平面状にして、ワークチャック１０の上面１１に確実に吸着固定した上で、露光用光源からの光を、マスクを介して基板３に照射することにより露光を行う。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１によっても、第１実施形態と同様の効果を奏することが可能である。

また、本実施形態では、複数の支持部材１９はそれぞれベローズ１７を支持しながら上下方向に昇降可能であるので、歪みの大きい基板３に対応することが可能である。すなわち、基板３を複数のベローズ１７上に載置する際に、予めそれぞれの支持部材１９の支持面１９ａの高さを、基板３の歪みに対応した高さに変更しておくことで、歪みの大きい基板３に対応することができる。

また、第１実施形態と同様、本実施形態においても真空溝１３は必ずしも設けなくてよく、この場合であっても、ベローズ１７の内部を真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着させるとともに収縮させて、支持部材１９の支持面１９ａ及びワークチャック１０の上面１１に基板３を押し付けることが可能である。

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る露光装置１について説明する。図９に示すように、本実施形態の露光装置１はワークチャック１０に真空溝１３（凹溝真空溝１４）が形成されない点で、第２実施形態の露光装置１（図５参照。）と異なる。また、図９には、中心部が上方に向かって凸となるように歪んだ基板３が示されている。

このように構成された露光装置１では、以下のような露光方法が用いられる。先ず、図９に示すように、複数の駆動機構２１によって複数の支持部材１９を上昇させることにより、支持面１９ａを、ワークチャック１０の上面１１よりも上方において、互いに概ね同一平面上に位置させる。

そして、基板３を複数のベローズ１７上に配置する。このとき、ベローズ１７は基板３の形状に合わせて伸縮し、ベローズ１７の上端１７ａが基板３の下面３ａに密着する。

次に、ベローズ１７の内部を、連通溝２０を介して真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着固定させる。さらに、ベローズ１７の内部を真空引きすると、図１０に示すように、ベローズ１７が収縮して、当該ベローズ１７が吸着固定した基板３も下降する。下降した基板３は、複数の支持部材１９の支持面１９ａに押し付けられるので、これら複数の支持面１９ａの位置関係に対応した曲率を、基板３に持たせることができる。本実施形態では、複数の支持面１９ａが同一平面上に位置するので、基板３の曲率がゼロとなり、基板３を平面状とすることができる。

ここで、ワークチャック１０の上面１１から基板３の下面３ａまでの距離を測定するセンサ（不図示）を設けても良い。この場合、当該センサによって得られた基板３の位置情報に基づいて、複数の駆動機構２１によって複数の支持部材１９を昇降させて、基板３を平面状としてもよい。このように複数の支持部材１９の位置を補正する工程を備えることで、基板３を確実に平面状とすることができる。

このように、基板３を平面状にして、基板３の上面とマスク５の下面との間の上下方向距離Ｌを均一にした上で、露光用光源からの光を、マスクを介して基板３に照射することにより露光を行う。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１によれば、ワークチャック１０に真空溝１３（凹溝真空溝１４）を形成せずとも、精度良く露光を行うことができ、装置の製作コストを減少させることが可能である。また、ワークチャック１０の上面１１の平面度の精度が良くない場合にも、対応することが可能である。その他の構成及び効果は、上述の実施形態と同様である。

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る露光装置１について説明する。図１１に示すように、本実施形態の露光装置１の基本的構成は第３実施形態と同一である。このような露光装置１において、平坦ではなく歪んだマスク５に対応するための露光方法を以下に説明する。図１１には、中心部が下方に向かって凸となるように歪んだマスク５が示されている。

先ず、複数の駆動機構２１によって複数の支持部材１９を上昇させることにより、支持面１９ａを、ワークチャック１０の上面１１よりも上方において、マスク５の形状に合わせて、それぞれの支持面１９ａとマスク５の下面との上下方向距離Ｍが略同一となるように位置させる。すなわち、中心に位置する支持面１９ａよりも、四隅に位置する支持面１９ａを上方に位置させる。

そして、基板３を複数のベローズ１７上に配置する。このとき、ベローズ１７は基板３の形状に合わせて伸縮し、全てのベローズ１７の上端１７ａが基板３の下面３ａに密着する。

次に、ベローズ１７の内部を、連通溝２０を介して真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面に吸着固定させる。さらに、ベローズ１７の内部を真空引きすると、図１１に示すように、ベローズ１７が収縮して、当該ベローズ１７が吸着固定した基板３も下降する。下降した基板３は、複数の支持部材１９の支持面１９ａに押し付けられるので、これら複数の支持面１９ａの位置関係に対応した曲率を、基板３に持たせることができる。すなわち、基板３を、中心部が下方に向かって凸となるように歪んだ形状とすることができる。

このように、基板３の上面とマスク５の下面との間の上下方向距離Ｌを均一にした上で、露光用光源からの光を、マスクを介して基板３に照射することにより露光を行う。

なお、第３実施形態と同様に、ワークチャック１０の上面１１から基板３の下面３ａまでの上下方向距離を測定するセンサ（不図示）を設けても良い。この場合、当該センサによって得られた基板３の位置情報に基づいて、複数の支持部材１９を昇降させて、基板３の上面とマスク５の下面との間の上下方向距離Ｌが均一となるようにしてもよい。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１によれば、平坦ではなく歪んだマスク５を用いた場合であっても、精度良く露光を行うことが可能である。その他の構成及び効果は、上述の実施形態と同様である。

（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態に係る露光装置１について説明する。図１２に示すように、本実施形態の露光装置１の基本的構成は第３及び第４実施形態と同一である。このような露光装置１において、基板３を局所的に歪ませる方法について説明する。本実施形態の露光装置１は、露光前に局部的に歪みのある基板３に対して好適であり、当該基板３の歪みを補正した上で露光することが可能である。

先ず、複数の駆動機構２１によって複数の支持部材１９を上昇させることにより、支持面１９ａを、ワークチャック１０の上面１１よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる。さらに、複数の支持部材１９のうち、少なくとも一つ（図１２では、右側の支持部材１９）を上昇させる。

そして、基板３を複数のベローズ１７上に配置する。このとき、ベローズ１７は基板３の形状に合わせて伸縮し、全てのベローズ１７の上端１７ａが基板３の下面３ａに密着する。

次に、ベローズ１７の内部を、連通溝２０を介して真空引きすることによって、ベローズ１７の上端１７ａを基板３の下面３ａに吸着固定させる。さらに、ベローズ１７の内部を真空引きすると、図１２に示すように、ベローズ１７が収縮して、当該ベローズ１７が吸着固定した基板３も下降する。下降した基板３は、複数の支持部材１９の支持面１９ａに押し付けられる。このとき、局部的に歪みのある基板３に対応した位置に、支持部材１９の支持面１９ａの高さを変えることによって、所望の曲率を基板３に持たせることができる。すなわち、基板３を局所的に歪ませて、図１２中の右側端部が上方に屈曲した形状とすることができる。

このように、基板３の局所的に歪ませた上で、露光用光源からの光を、マスクを介して基板３に照射することにより露光を行う。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１によれば、基板３の局部的な歪みを補正することが可能である。その他の構成及び効果は、上述の実施形態と同様である。

なお、本実施形態では、複数の支持部材１９のうち、少なくとも一つを上昇させて、基板３を局所的に歪ませていたが、少なくとも一つを下降させてもよいことは言うまでもない。

（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態に係る露光装置１について説明する。なお、本実施形態の露光装置は、上述の実施形態と基本的構成を同一とするので、相違部分について詳述し、同一部分については、同一符号を付すことにより説明を省略する。

図１３に示すように、本実施形態における露光装置１のワークチャック１０は、上方から見て略正方形状である。ワークチャック１０の四方の角部、中心、及び各辺の中点の９箇所には、上方から見て略円形状である凹溝１５が形成されている。凹溝１５の形状及び個数や後述の壁部３０及び真空溝１３を除き、本実施形態の構成は上述の実施形態における構成と同様である。なお、上方から見たワークチャック１０の形状は図１３に示されたような略正方形状に限定されず、任意の形状とすることが可能である。また、上方から見た凹溝１５の形状は図１３に示されたような略円形状に限定されず、任意の形状とすることが可能である。

本実施形態では、ワークチャック１０の上部が、第１〜第５壁部３１〜３５からなる壁部３０によって構成される。第１壁部３１は、上方から見て略円形状であり、その内部に凹溝１５を形成する。したがって、第１壁部３１は凹溝１５と同数の９個である。第２壁部３２は、隣り合う第１壁部３１同士を連結し、１２個設けられる。そして、４個の第１壁部３１と、これら４個の第１壁部３１同士を連結する４個の第２壁部３２と、によって略正方形状の４個の領域Ｓ１〜Ｓ４が形成される。

それぞれの領域Ｓ１〜Ｓ４には、第３〜第５壁部３３〜３５が形成される。第３壁部３３は、４個の第１及び第２壁部３１、３２の内周面に沿う中空形状である。第４壁部３４は、第３壁部３３の内部に形成され、第３壁部３３の内周面に沿う中空形状である。第５壁部３５は、第４壁部３４の内部に形成され、第４壁部３４の内周面に沿う中空形状である。このように、４個の第１及び第２壁部３１、３２と、第３壁部３３と、第４壁部３４と、第５壁部３５と、は互いに相似した形状とされる。

そして、第１及び第２壁部３１、３２と第３壁部３３との間、第３壁部３３と第４壁部３４との間、第４壁部３４と第５壁部３５との間、並びに第５壁部３５の内部には、それぞれ真空溝１３が形成される。

このようにワークチャック１０の上部（上面１１）を、複数の壁部３１〜３５によって分割して構成することで、ワークチャック１０の上面１１の面積（複数の壁部３１〜３５上面の合計面積）を減少させ、複数の真空溝１３の合計面積（上方から見た面積）を増加させる。これにより、複数の真空溝１３による基板３の吸着力を高めることができる。基板３を複数の真空溝１３によってより確実に吸着するためには、複数の真空溝１３の合計面積を、ワークチャック１０の上面１１の面積よりも大きくすることが好ましい。

また、第１及び第２壁部３１、３２と、第３壁部３３と、第４壁部３４と、第５壁部３５と、を互いに相似した形状とすることにより、第１〜第５壁部３１〜３５（ワークチャック１０の上面１１）が基板３を均等に支持できる。これにより、真空引きの際に吸着された基板３に、凹凸が生じるのを防止できる。

なお、複数の真空溝１３は、ワークチャック１０の下部で互いに連結されて同一の真空装置に連通してもよく、それぞれ独立の真空装置に連通しても構わない。また、壁部３０は、第１〜第５壁部３１〜３５からなる構成に限定されず、第５壁部３５の内部にさらに他の壁部を設けてもよい。

（第７実施形態）
次に、本発明の第７実施形態に係る露光装置１について説明する。なお、本実施形態の露光装置は、第６実施形態と基本的構成を同一とするので、相違部分について詳述し、同一部分については、同一符号を付すことにより説明を省略する。

真空溝１３の底部には、当該真空溝１３の深さと略同じ高さを有する複数の突起１１４が形成されている。突起１１４を上方から見た形状は図１４に示されたような略正方形状に限定されず、例えば円形や矩形等の任意の形状とすることができる。また、突起１１４の上面の形状は、図１４に示されたような平面形状に限定されず、例えば円筒面のように基板３と線接触するような形状や、球面のように基板３と点接触するような形状であってもよい。

このように、真空溝１１３の底部に複数の突起１１４を設けることで、上面１１と共に突起１１４が基板３を均等に支持する。したがって、真空引きの際に吸着された基板３に、凹凸が生じるのを防止できる。

また、本出願は、２０１４年５月８日出願の日本特許出願２０１４−０９６９３０、２０１４年１０月２９日出願の日本特許出願２０１４−２１９８２７、及び２０１４年１０月２９日出願の日本特許出願２０１４−２１９８４２に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜変更、改良等が可能である。

１ 露光装置
３ 基板
３ａ 下面
５ マスク
１０ ワークチャック（基台）
１１ 上面
１３ 真空溝
１４ 凹溝真空溝
１５ 凹溝
１７ ベローズ
１７ａ 上端
１９ 支持部材
１９ａ 支持面
２０ 連通溝
２１ 駆動機構
３０ 壁部
３１ 第１壁部
３２ 第２壁部
３３ 第３壁部
３４ 第４壁部
３５ 第５壁部
１１４ 突起

Claims (18)

1. 露光される基板が上方に配置される基台を備え、
   露光用光源からの光を、マスクを介して前記基板に照射して露光する工程を備える露光方法であって、
   前記基台の上面には、複数の凹溝が設けられ、
   前記凹溝の内部には、上端が前記基台の上面よりも上方に突出し、上下方向に伸縮自在なベローズが配置され、
   前記凹溝の内部において前記ベローズの内部には、前記基台の上面と同一面上、又は該上面よりも上方に位置する支持面を有する支持部材が設けられ、前記支持面には、前記ベローズの内部を真空引きすることが可能、且つ、露光時に前記基板を押し付けることが可能な、真空装置に連通する連通溝が設けられ、
   前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
   前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、複数の前記支持面の位置関係に対応した曲率を前記基板に持たせる工程と、
   を備え、
   前記露光工程は、前記基板が少なくとも前記支持部材の支持面に押し付けられた状態で行われることを特徴とする露光方法。
2. 複数の前記支持部材の支持面は、前記基台の上面と同一面上に位置し、
   前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
   前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状に固定する工程と、
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
3. 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであり、
   複数の前記真空溝を真空引きすることにより、前記基板の下面を前記ワークチャックの上面に吸着固定する工程と、
   を備えることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
4. 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
5. 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする請求項３又は４に記載の露光方法。
6. 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
   複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
   前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
   前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状にする工程と、
   前記支持部材を下降させて、前記基板の下面を前記基台の上面と密着させる工程と、
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
7. 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであり、
   複数の前記真空溝を真空引きすることにより、前記基板の下面を前記ワークチャックの上面に吸着固定する工程と、
   を備えることを特徴とする請求項６に記載の露光方法。
8. 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項７に記載の露光方法。
9. 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載の露光方法。
10. 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
    複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
    前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
    前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、前記基板を平面状にする工程と、
    を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
11. 前記基台の上面から前記基板の下面までの距離を測定するセンサを備え、
    前記センサによって得られた前記基板の位置情報に基づいて、複数の前記支持部材を昇降させて、前記基板を平面状にする工程を備えることを特徴とする請求項１０に記載の露光方法。
12. 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
    複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、それぞれの前記支持面と前記マスクの下面との上下方向距離が略同一となるように位置させる工程と、
    前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
    前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、複数の前記支持面の位置関係に対応した曲率を前記基板に持たせて、前記基板の上面と前記マスクの下面との上下方向距離を均一にする工程と、
    を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
13. 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であり、
    複数の前記支持部材を上昇させることにより、該支持部材の支持面を、前記基台の上面よりも上方において、互いに同一平面上に位置させる工程と、
    複数の前記支持部材のうち、少なくとも一つを上昇又は下降させる工程と、
    前記基板を複数の前記ベローズ上に載置する工程と、
    前記ベローズの内部を真空引きすることによって、前記ベローズの上端を前記基板の下面に吸着させるとともに収縮させて、前記支持部材の支持面に前記基板を押し付けることにより、局部的に歪みのある前記基板に対応した位置に前記支持面の高さを変えることによって、所望の曲率を前記基板に持たせて、前記基板を局所的に歪ませる工程と、
    を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
14. 露光される基板が上方に配置される基台と、
    マスクを介して前記基板に光を照射する露光用光源と、
    を備える露光装置であって、
    前記基台の上面には、複数の凹溝が設けられ、
    前記凹溝の内部には、上端が前記基台の上面よりも上方に突出し、上下方向に伸縮自在なベローズが配置され、
    前記凹溝の内部において前記ベローズの内部には、前記基台の上面と同一面上、又は該上面よりも上方に位置する支持面を有する支持部材が設けられ、
    前記支持面には、前記ベローズの内部を真空引きすることが可能、且つ、露光時に前記基板を押し付けることが可能な、真空装置に連通する連通溝が設けられることを特徴とする露光装置。
15. 前記基台は、前記上面に真空引き可能な複数の真空溝が形成されたワークチャックであることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
16. 複数の前記支持部材は、それぞれ前記ベローズを保持しながら、上下方向に昇降可能であることを特徴とする請求項１４又は１５に記載の露光装置。
17. 複数の前記真空溝の合計面積は、前記ワークチャックの上面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
18. 前記真空溝の底部に、前記真空溝の深さと略同じ高さを有する複数の突起が形成されていることを特徴とする請求項１７に記載の露光装置。

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