JP6493431B2 - Polarizing element, circularly polarizing plate, and production method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、偏光素子、円偏光板及びそれらの製造方法などに関する。 The present invention relates to a polarizing element, a circularly polarizing plate, a manufacturing method thereof, and the like.
液晶表示装置に用いられる偏光素子は、一般的には、ヨウ素で染色したポリビニルアルコール(PVA)からなる膜が配向層として用いられている(非特許文献1)。 Generally, a polarizing element used in a liquid crystal display device uses a film made of polyvinyl alcohol (PVA) dyed with iodine as an alignment layer (Non-patent Document 1).
本発明は、特定の偏光層と、光配向層とが設けられた、新規な偏光素子及び該偏光素子を含む円偏光子、並びにそれらの製造方法を提供する。 The present invention provides a novel polarizing element provided with a specific polarizing layer and a photo-alignment layer, a circular polarizer including the polarizing element, and methods for producing them.
本発明は以下の〔1〕〜〔17〕の発明を含む。
〔1〕透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられた偏光子であり、
該光配向層が、光反応性基を有するポリマーから形成されたものであり、
該偏光層が、
重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されたものである偏光素子。
〔2〕前記偏光層が、X線回折測定においてブラッグピークが得られる偏光層である、前記〔1〕記載の偏光素子。
〔3〕前記組成物が、重合性スメクチック液晶化合物を2種以上含む、前記〔1〕又は〔2〕記載の偏光素子。
〔4〕前記光反応性基を有するポリマーが、式(A’)で示される基を含むポリマーである、前記〔1〕〜〔3〕のいずれか記載の偏光素子。
[式(A’)中、
nは、0又は1を表す。
X1は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−又は−CH2−を表す。
Y1は、単結合又は−O−を表す。
R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は、ポリマー主鎖に対する結合手を表す。]
〔5〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子の製造方法であり、
前記透明基材上に、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該透明基材上に第1塗布膜を形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去することにより、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1乾燥被膜から光配向層を形成して第2積層体を得る工程と、
該第2積層体にある該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を形成する工程と、
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を得る工程と、
該第2乾燥被膜中の該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第2乾燥被膜から偏光層を形成する工程と
を有する製造方法。
〔6〕形状が、フィルム状且つ長尺状である、前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子。
〔7〕前記〔6〕記載の偏光素子の製造方法であり、
透明基材が第1の巻芯に巻き取られている第1ロールを準備する工程と、
該第1ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程と、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該透明基材上に第1塗布膜を連続的に形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去することにより、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を連続的に得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1積層体の搬送方向に対して、略45°の角度に配向方向を有する光配向層を形成して、第2積層体を連続的に得る工程と、
該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を連続的に形成する工程と
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を連続的に得る工程と、
該第2乾燥被膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第3積層体の搬送方向に対して、45°の角度に吸収軸を有する偏光層を形成して、偏光素子を連続的に得る工程と、
連続的に得られた偏光素子を第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程と
を有する製造方法。
〔8〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子を備えた液晶表示装置。
〔9〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子を、液晶セル内部に配置することにより備えた液晶表示装置。
〔10〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子と、位相差フィルムとを、前記偏光層の吸収軸と前記位相差フィルムの遅相軸のなす角度が、略45°となるように積層した円偏光板であり、
波長550nmの光で測定した楕円率の値が80%以上であり、
前記位相差フィルムが、波長550nmの光で測定した正面リタデーションの値が100〜150nmの範囲のフィルムである円偏光板。
〔11〕前記位相差フィルムが、可視光に対する正面リタデーションの値が、波長が短くなるに従って小さくなる特性を有する、前記〔10〕記載の円偏光板。
〔12〕形状が、フィルム状且つ長尺状である、前記〔10〕又は〔11〕記載の円偏光板。
〔13〕前記〔12〕記載の円偏光板の製造方法であり、
位相差フィルムが第3の巻芯に巻き取られている第3ロールを準備する工程と、
前記偏光素子が第2の巻芯に巻き取られている第2ロールを準備する工程と、
該第2ロールから該偏光素子を連続的に巻き出すとともに、該第3ロールから該位相差フィルムを連続的に巻き出す工程と、
連続的に巻き出された偏光素子の偏光層と、連続的に巻き出された位相差フィルムとを張り合わせる工程と
を有する製造方法。
〔14〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の偏光素子に含まれる透明基材を、位相差性を有する位相差フィルムに置き換え、前記位相差フィルムの遅相軸と、前記偏光層の吸収軸のなす角度が、略45°に積層してなる円偏光板であり、
波長550nmの光で測定した楕円率の値が80%以上であり、
前記位相差フィルムが、波長550nmの光で測定した正面リタデーションの値が100〜150nmの範囲のフィルムである円偏光板。
〔15〕形状が、フィルム状且つ長尺状である、前記〔14〕記載の円偏光板。
〔16〕前記〔15〕記載の円偏光板の製造方法であり、
位相差フィルムが第1の巻芯に巻き取られている第1ロールを準備する工程と、
該第1ロールから、該位相差フィルムを連続的に送り出す工程と、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該位相差フィルム上に第1塗布膜を連続的に形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去して、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を連続的に得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1積層体の搬送方向に対して、略45°の角度に配向方向を有する光配向層を形成して、第2積層体を連続的に得る工程と、
該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を連続的に形成する工程と
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を連続的に得る工程と、
該第2乾燥被膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第3積層体の搬送方向に対して、45°の角度に吸収軸を有する偏光層を形成して、円偏光板を連続的に得る工程と、
連続的に得られた円偏光板を第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程と
を有する製造方法。
〔17〕前記〔10〕、〔11〕及び〔14〕のいずれか記載の円偏光板と、有機EL素子とを備えた有機EL表示装置。
The present invention includes the following inventions [1] to [17].
[1] A polarizer in which a photo-alignment layer and a polarizing layer are provided in this order on a transparent substrate,
The photo-alignment layer is formed from a polymer having a photoreactive group,
The polarizing layer is
A polarizing element which is formed from a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound and a dichroic dye.
[2] The polarizing element according to [1], wherein the polarizing layer is a polarizing layer from which a Bragg peak is obtained in X-ray diffraction measurement.
[3] The polarizing element according to [1] or [2], wherein the composition contains two or more polymerizable smectic liquid crystal compounds.
[4] The polarizing element according to any one of [1] to [3], wherein the polymer having a photoreactive group is a polymer containing a group represented by the formula (A ′).
[In the formula (A ′),
n represents 0 or 1.
X 1 represents a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —CH═CH— or —CH 2 —.
Y 1 represents a single bond or —O—.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond to the polymer main chain. ]
[5] A method for producing a polarizing element according to any one of [1] to [4],
On the transparent substrate,
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent to form a first coating film on the transparent substrate;
Forming the first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film to obtain a first laminate;
Irradiating the first dry film with polarized UV to form a photo-alignment layer from the first dry film to obtain a second laminate;
A composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye, a polymerization initiator and a solvent is applied onto the photo-alignment layer in the second laminate, and a second coating film is applied onto the photo-alignment layer. Forming a step;
The second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer to form a third laminate. And obtaining
The polymerizable smectic liquid crystal compound in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while the smectic liquid crystal state is maintained, whereby a polarizing layer is formed from the second dry film. The manufacturing method which has a process of forming.
[6] The polarizing element according to any one of [1] to [4], wherein the shape is a film and a long shape.
[7] The method for producing a polarizing element according to [6],
Preparing a first roll in which a transparent substrate is wound around a first core;
Continuously feeding the transparent substrate from the first roll;
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent, and continuously forming a first coating film on the transparent substrate;
Forming the first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film, and continuously obtaining the first laminate;
By irradiating the first dry film with polarized UV, a photo-alignment layer having an orientation direction at an angle of about 45 ° with respect to the transport direction of the first laminate is formed, and the second laminate is continuously formed. And the process of obtaining
A step of coating a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye, a polymerization initiator and a solvent on the photo-alignment layer, and continuously forming a second coating film on the photo-alignment layer. And the second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer to form a third laminate. Obtaining a body continuously;
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer having an absorption axis at an angle of 45 ° with respect to the transport direction to obtain a polarizing element continuously;
The manufacturing method which has the process of winding up the polarizing element obtained continuously on the 2nd core, and obtaining the 2nd roll.
[8] A liquid crystal display device comprising the polarizing element according to any one of [1] to [4].
[9] A liquid crystal display device comprising the polarizing element according to any one of [1] to [4] disposed in a liquid crystal cell.
[10] The polarizing element according to any one of [1] to [4], and a retardation film, wherein an angle formed by an absorption axis of the polarizing layer and a slow axis of the retardation film is approximately 45 °. Is a circularly polarizing plate laminated so that
The ellipticity value measured with light having a wavelength of 550 nm is 80% or more,
A circularly polarizing plate in which the retardation film is a film having a front retardation value of 100 to 150 nm measured with light having a wavelength of 550 nm.
[11] The circularly polarizing plate according to [10], wherein the retardation film has a property that a value of front retardation with respect to visible light decreases as the wavelength decreases.
[12] The circularly polarizing plate according to [10] or [11], wherein the shape is a film and a long shape.
[13] The method for producing a circularly polarizing plate according to [12],
Preparing a third roll in which a retardation film is wound around a third core;
Preparing a second roll in which the polarizing element is wound around a second core;
A step of continuously unwinding the polarizing element from the second roll and unwinding the retardation film from the third roll;
The manufacturing method which has the process of bonding the polarizing layer of the polarizing element unwound continuously, and the retardation film unwound continuously.
[14] The transparent substrate contained in the polarizing element according to any one of [1] to [4] is replaced with a retardation film having retardation, and the slow axis of the retardation film, and the polarizing layer The angle formed by the absorption axis is a circularly polarizing plate formed by laminating at approximately 45 °,
The ellipticity value measured with light having a wavelength of 550 nm is 80% or more,
A circularly polarizing plate in which the retardation film is a film having a front retardation value of 100 to 150 nm measured with light having a wavelength of 550 nm.
[15] The circularly polarizing plate according to [14], wherein the shape is a film and a long shape.
[16] The method for producing a circularly polarizing plate according to [15],
Preparing a first roll in which a phase difference film is wound around a first core;
A step of continuously feeding out the retardation film from the first roll;
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent, and continuously forming a first coating film on the retardation film;
A step of drying and removing the solvent from the first coating film to form a first dry film on the transparent substrate to obtain a first laminate continuously;
By irradiating the first dry film with polarized UV, a photo-alignment layer having an orientation direction at an angle of about 45 ° with respect to the transport direction of the first laminate is formed, and the second laminate is continuously formed. And the process of obtaining
A step of coating a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye, a polymerization initiator and a solvent on the photo-alignment layer, and continuously forming a second coating film on the photo-alignment layer. And the second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer to form a third laminate. Obtaining a body continuously;
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer having an absorption axis at an angle of 45 ° with respect to the transport direction to obtain a circularly polarizing plate continuously;
The manufacturing method which has the process of winding up the circularly-polarizing plate obtained continuously on the 2nd core, and obtaining the 2nd roll.
[17] An organic EL display device comprising the circularly polarizing plate according to any one of [10], [11] and [14], and an organic EL element.
本発明によれば、特定の偏光層と、光配向層とが設けられた、新規な偏光素子、及び当該偏光素子を含む新規な円偏光板を提供できる。 According to the present invention, a novel polarizing element provided with a specific polarizing layer and a photo-alignment layer, and a novel circularly polarizing plate including the polarizing element can be provided.
本発明の偏光素子(以下、場合により「本偏光素子」という。)は、透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられたものであり、
前記光配向層が、光反応性基を有するポリマーから形成され、且つ
前記偏光層が、重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されていることを特徴とする。該組成物はさらに溶剤を含有していると好ましい。本偏光素子は、液晶表示装置に好適に用いられるのみならず、後述するように本偏光素子を用いることにより、有機EL表示装置に好適に用いられる円偏光板(以下、場合により「本円偏光板」という。)を製造することもできる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、本偏光素子及びその製造方法、並びに、本円偏光板及びその製造方法を説明する。なお、本明細書に添付された図面は、見易さのために寸法は任意になっている。
The polarizing element of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “the present polarizing element”) is a transparent base material in which a photo-alignment layer and a polarizing layer are provided in this order.
The photo-alignment layer is formed from a polymer having a photoreactive group, and the polarizing layer is formed from a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound and a dichroic dye. It is preferable that the composition further contains a solvent. This polarizing element is not only suitably used for a liquid crystal display device, but also by using this polarizing element as will be described later, a circularly polarizing plate suitably used for an organic EL display device (hereinafter referred to as “this circularly polarized light” in some cases). Board ") can also be manufactured. Hereinafter, this polarizing element and its manufacturing method, and this circularly-polarizing plate and its manufacturing method are demonstrated, referring drawings as needed. Note that the dimensions of the drawings attached to the present specification are arbitrary for easy viewing.
図1は、本偏光素子の最も簡単な構成を示す断面模式図である。透明基材1上に、光配向層2及び偏光層3がこの順で積層され、本偏光素子100が形成されている。本偏光素子100は例えば、以下の工程を含む製造方法(以下、場合により「本製造方法A」という。)により製造できる。
(工程A1)透明基材上に、光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、前記透明基材上に第1塗布膜を形成する工程;
(工程A2)前記第1塗布膜から前記溶剤を乾燥除去することにより、前記透明基材上に第1乾燥被膜を形成し、第1積層体を得る工程;
(工程A3)前記第1積層体が有する前記第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1乾燥被膜から光配向層を形成して第2積層体を得る工程;
(工程A4)前記第2積層体が有する前記光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を形成する工程;
(工程A5)前記第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる前記重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、前記光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を得る工程;
(工程A6)前記第3積層体が有する前記第2乾燥被膜中の前記重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第2乾燥被膜から偏光層を形成する工程
図2は、(工程A1)〜(工程A6)からなる、本偏光素子100の製造方法(本製造方法A)の要部を示す断面模式図である。以下、この製造方法を工程ごとに説明する。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the simplest configuration of the present polarizing element. On the
(Step A1) A step of applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent on a transparent substrate to form a first coating film on the transparent substrate;
(Step A2) A step of forming a first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film to obtain a first laminate;
(Step A3) A step of obtaining a second laminate by forming a photo-alignment layer from the first dry coating by irradiating polarized UV to the first dry coating of the first laminate;
(Step A4) A composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye and a solvent is applied onto the photo-alignment layer of the second laminate, and a second coating film is formed on the photo-alignment layer. Forming a step;
(Step A5) The second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer. Obtaining a third laminate;
(Step A6) After making the polymerizable smectic liquid crystal compound in the second dry film of the third laminate into a smectic liquid crystal state, the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer from the second dry film
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the main part of the method for manufacturing the polarizing element 100 (the manufacturing method A) comprising (step A1) to (step A6). Hereinafter, this manufacturing method is demonstrated for every process.
<工程A1>
工程A1は、透明基材上に第1塗布膜を形成する工程である。
<Process A1>
Step A1 is a step of forming the first coating film on the transparent substrate.
<透明基材>
工程A1においては、まずは透明基材1を準備する。ここでいう透明基材とは光、特に可視光を透過し得る程度の透明性を有する基材である。該透明性とは、波長380〜780nmに渡る光線に対しての透過率が80%以上となる特性をいう。具体的に、かかる透明基材を例示すると、ガラス基材や、プラスチック製の透光性シート及び透光性フィルムを挙げることができる。なお、この透光性シートや透光性フィルムを構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィン;環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドなどのいずれかのプラスチックから構成された基材が挙げられる。以上の透明基材の具体例の中で、好ましいプラスチック製の透光性シート及び透光性フィルムについてみれば、プラスチック製の透光性フィルム、すなわち、高分子フィルムが好ましいものである。該高分子フィルムの中では、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、とりわけ好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート又はポリメタクリル酸エステルからなる高分子フィルムが好ましい。かかる透明基材を用いて、本偏光素子を製造するに当たり、該透明基材を運搬したり、保管したりする際に破れなどの破損を起こすことなく容易に取り扱える点で、該透明基材に支持基材などを貼り付けておいてもよい。また、後述するが、本偏光素子から円偏光板を製造する際に、該透明基材に位相差性を付与することがある。この場合には、透明基材として高分子フィルムを準備し、該高分子フィルムを延伸処理などにより、当該高分子フィルムに位相差性を付与して、位相差性フィルムとした後、この位相差性フィルムを透明基材1として用いればよい。なお、透明基材(高分子フィルム)に位相差性を付与する方法は追って説明する。
<Transparent substrate>
In step A1, first, a
前記高分子フィルムの中では、位相差性を付与する場合に、その位相差値をコントロールし易い点で、セルロースエステル又は環状オレフィン系樹脂からなるフィルム(セルロースエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム)が好ましい。以下、この2種の高分子フィルムについて詳述する。
セルロースエステルフィルムを構成するセルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の少なくとも一部が、酢酸エステル化されたものである。このようなセルロースエステルからなるセルロースエステルフィルムは市場から容易に入手することができる。市販のトリアセチルセルロースフィルムとしては、例えば、“フジタックフィルム”(富士写真フイルム(株));“KC8UX2M”、“KC8UY”及び“KC4UY”(コニカミノルタオプト(株))などがある。このような市販セルロースエステルフィルム(トリアセチルセルロースフィルム)は、そのまま又は必要に応じて位相差性を付与してから透明基材として用いることができる。また、準備した透明基材の表面に、防眩処理、ハードコート処理、帯電防止処理及び反射防止処理などの表面処理を施してから、透明基材1として使用することができる。
Among the polymer films, when phase difference is imparted, films made of cellulose ester or cyclic olefin resin (cellulose ester film, cyclic olefin resin film) are easy to control the retardation value. preferable. Hereinafter, these two types of polymer films will be described in detail.
The cellulose ester constituting the cellulose ester film is one in which at least a part of hydroxyl groups contained in cellulose is converted to acetate ester. A cellulose ester film comprising such a cellulose ester can be easily obtained from the market. Examples of commercially available triacetyl cellulose films include “Fujitac Film” (Fuji Photo Film Co., Ltd.); “KC8UX2M”, “KC8UY” and “KC4UY” (Konica Minolta Opto Co., Ltd.). Such a commercially available cellulose ester film (triacetyl cellulose film) can be used as a transparent substrate as it is or after imparting phase difference as needed. Further, the surface of the prepared transparent substrate can be used as the
高分子フィルムに位相差性を付与するには、上述のとおり、当該高分子フィルムを延伸するなどの方法による。プラスチック、すなわち熱可塑性樹脂からなる高分子フィルムは、いずれも延伸処理が可能であるが、位相差性を制御し易いという点で、環状オレフィン系樹脂フィルムは好ましいものである。環状オレフィン系樹脂フィルムを構成する環状オレフィン系樹脂とは例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーなどの環状オレフィンの重合体又は共重合体(環状オレフィン系樹脂)から構成されるものであり、当該環状オレフィン系樹脂は部分的に、開環部を含んでいてもよい。また、開環部を含む環状オレフィン系樹脂を水素添加したものでもよい。さらに、当該環状オレフィン系樹脂は、透明性を著しく損なわない点や、著しく吸湿性を増大させない点で例えば、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル化芳香族化合物(スチレンなど)との共重合体であってもよい。また、該環状オレフィン系樹脂は、その分子内に極性基が導入されていてもよい。 In order to impart retardation to the polymer film, as described above, the polymer film is stretched. Any polymer film made of plastic, that is, a thermoplastic resin can be stretched, but a cyclic olefin-based resin film is preferable in that the retardation can be easily controlled. The cyclic olefin resin constituting the cyclic olefin resin film is composed of, for example, a polymer or copolymer (cyclic olefin resin) of a cyclic olefin such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer. The olefin resin may partially contain a ring opening. Moreover, what hydrogenated the cyclic olefin resin containing a ring opening part may be used. Further, the cyclic olefin resin is, for example, a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin or a vinylated aromatic compound (such as styrene) in that the transparency is not significantly impaired or the hygroscopicity is not significantly increased. It may be. The cyclic olefin resin may have a polar group introduced in its molecule.
環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、当該鎖状オレフィンとしては、エチレンやプロピレンなどであり、また、ビニル化芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン及びアルキル置換スチレンなどである。このような共重合体において、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、環状オレフィン系樹脂の全構造単位に対して、50モル%以下、例えば、15〜50モル%程度の範囲である。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル化芳香族化合物とから得られる三元共重合体である場合、例えば、鎖状オレフィン由来の構造単位の含有割合は、該環状オレフィン系樹脂の全構造単位に対して5〜80モル%程度であり、ビニル化芳香族化合物由来の構造単位の含有割合は5〜80モル%程度である。このような三元共重合体の環状オレフィン系樹脂は、該環状オレフィン系樹脂を製造する際に、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。 When the cyclic olefin resin is a copolymer of a cyclic olefin and an aromatic compound having a chain olefin or a vinyl group, the chain olefin is ethylene, propylene, or the like, and a vinylated aromatic Examples of the compound include styrene, α-methylstyrene, and alkyl-substituted styrene. In such a copolymer, the content ratio of the structural unit derived from the cyclic olefin is in the range of 50 mol% or less, for example, about 15 to 50 mol% with respect to all the structural units of the cyclic olefin resin. When the cyclic olefin-based resin is a terpolymer obtained from a cyclic olefin, a chain olefin, and a vinylated aromatic compound, for example, the content ratio of the structural unit derived from the chain olefin is the cyclic olefin. It is about 5-80 mol% with respect to all the structural units of a resin, and the content rate of the structural unit derived from a vinylated aromatic compound is about 5-80 mol%. Such a terpolymer cyclic olefin resin has the advantage that the amount of expensive cyclic olefin used can be relatively reduced when the cyclic olefin resin is produced.
環状オレフィン系樹脂フィルムを製造し得る環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Topas”[Ticona社(独)];“アートン”[JSR(株)];“ゼオノア(ZEONOR)”及び“ゼオネックス(ZEONEX)”[日本ゼオン(株)];“アペル”[三井化学(株)製]などが挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を例えば、溶剤キャスト法や溶融押出法などの公知の製膜手段により製膜して、フィルム(環状オレフィン系樹脂フィルム)とすることができる。また、すでにフィルムの形態で市販されている環状オレフィン系樹脂フィルムも用いることができる。このような市販の環状オレフィン系樹脂フィルムとしては例えば、“エスシーナ”及び“SCA40”[積水化学工業(株)];“ゼオノアフィルム”[オプテス(株)];“アートンフィルム”[JSR(株)]などが挙げられる。なお、ここで””内に記載するものはいずれも、商品名であり、以下も同様とする。 Cyclic olefin resins that can produce a cyclic olefin resin film are readily available from the market. Commercially available cyclic olefin-based resins include “Topas” [Ticona (Germany)]; “Arton” [JSR Corporation]; “ZEONOR” and “ZEONEX” [Nippon Zeon Corporation] “Apel” [Mitsui Chemicals, Inc.] and the like. Such a cyclic olefin-based resin can be formed into a film (cyclic olefin-based resin film) by, for example, known film forming means such as a solvent casting method or a melt extrusion method. Moreover, the cyclic olefin resin film already marketed with the form of a film can also be used. Examples of such commercially available cyclic olefin-based resin films include “Essina” and “SCA40” [Sekisui Chemical Co., Ltd.]; “Zeonor Film” [Optes Corporation]; “Arton Film” [JSR Corporation] ] Etc. are mentioned. In addition, what is described in “” here is a product name, and so on.
続いて、高分子フィルムに位相差性を付与する方法について簡単に説明する。高分子フィルムは、公知の延伸方法により位相差性を付与することができる。例えば、高分子フィルムがロールに巻き取られているロール(巻き取り体)を準備し、かかる巻き取り体から、フィルムを連続的に巻き出し、巻き出されたフィルムを加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、高分子フィルムのガラス転移温度近傍(℃)〜[ガラス転移温度+100](℃)の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍(℃)〜[ガラス転移温度+50](℃)の範囲とする。当該加熱炉においては、フィルムの進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常1.1〜6倍程度の範囲であり、好ましくは1.1〜3.5倍程度の範囲である。また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法は例えば、特開昭50−83482号公報や特開平2−113920号公報に記載された方法を挙げることができる。 Next, a method for imparting retardation to the polymer film will be briefly described. The polymer film can be provided with retardation by a known stretching method. For example, a roll (winding body) in which a polymer film is wound on a roll is prepared, the film is continuously unwound from the winding body, and the unwound film is conveyed to a heating furnace. The set temperature of the heating furnace is in the range of near the glass transition temperature (° C.) to [glass transition temperature +100] (° C.) of the polymer film, preferably near the glass transition temperature (° C.) to [glass transition temperature +50] (° C. ). In the heating furnace, when the film is stretched in the direction of travel or in the direction perpendicular to the direction of travel, the transport direction and tension are adjusted, and the film is uniaxially or biaxially stretched at an arbitrary angle. . The draw ratio is usually in the range of about 1.1 to 6 times, preferably in the range of about 1.1 to 3.5 times. In addition, the method of stretching in an oblique direction is not particularly limited as long as the orientation axis can be continuously inclined to a desired angle, and a known stretching method can be employed. Examples of such a stretching method include the methods described in JP-A-50-83482 and JP-A-2-113920.
透明基材1として用いるうえで、高分子フィルムの厚みは、実用的な取扱いができる程度の重量である点、及び、十分な透明性が確保できる点では、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。そこで、これらのフィルムの適当な厚みは、例えば、5〜300μm程度であり、好ましくは20〜200μmである。本偏光素子を、後述する円偏光板として使用する場合は、当該円偏光板を用いる表示装置がモバイル用途であることが想定されるため、フィルムの厚みは20〜100μm程度が特に好ましい。なお、延伸することでフィルムに位相差性を付与する場合、延伸後の厚みは、延伸前のフィルムの厚みや延伸倍率によって決定される。
When used as the
工程A1では、上述の透明基材1上に光配向層2を設けることにより、透明基材1と光配向層2とを有する第1積層体101、好ましくは透明基材1と光配向層2とが積層された第1積層体101を形成する。なお、当該透明基材1にハードコート処理などの表面処理が施されている場合には、当該表面処理された面に対し、反対側の面に光配向層を形成すればよい。
In step A1, by providing the photo-
<光配向層>
光配向層形成に当たっては、まず、光反応性基を有するポリマー及び溶剤を含む組成物(以下、場合により「光配向層形成用組成物」という。)を準備する。光反応性基とは、光を照射すること(光照射)により液晶配向能を生じる基をいう。本発明における光反応性基とは、具体的には、光を照射することで生じるポリマー分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を利用したものが、配向性に優れ、後述する偏光層形成時に重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合(C=C結合)、炭素−窒素二重結合(C=N結合)、窒素−窒素二重結合(N=N結合)、及び炭素−酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
<Photo alignment layer>
In forming the photo-alignment layer, first, a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent (hereinafter sometimes referred to as “photo-alignment layer forming composition”) is prepared. The photoreactive group refers to a group that generates liquid crystal alignment ability when irradiated with light (light irradiation). The photoreactive group in the present invention is specifically a liquid crystal alignment such as an alignment induction or isomerization reaction, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction of a polymer molecule caused by light irradiation. It causes a photoreaction that is the origin of Noh. Among the photoreactive groups, those utilizing a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferable because they are excellent in orientation and a polymerizable smectic liquid crystal compound maintains a smectic liquid crystal state when a polarizing layer described later is formed. As the photoreactive group capable of causing the above reaction, those having an unsaturated bond, particularly a double bond are preferable, and a carbon-carbon double bond (C═C bond), a carbon-nitrogen double bond (C = N bond), a group having at least one selected from the group consisting of a nitrogen-nitrogen double bond (N = N bond) and a carbon-oxygen double bond (C = O bond) is particularly preferable.
C=C結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。C=N結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。
中でも、光二量化反応を生じうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
Examples of the photoreactive group having a C═C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazole group, a stilbazolium group, a chalcone group, and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C═N bond include groups having a structure such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group and a formazan group, and those having a basic structure of azoxybenzene. Examples of the photoreactive group having a C═O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, and a maleimide group. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, and a halogenated alkyl group.
Among them, a photoreactive group capable of causing a photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group and a chalcone group have a relatively small amount of polarized light irradiation necessary for photoalignment, and a photoalignment layer having excellent thermal stability and temporal stability. It is preferable because it is easily obtained. Further, as the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group in which the terminal portion of the polymer side chain has a cinnamic acid structure is particularly preferable.
前記光配向層形成用組成物の取り扱いの容易さと、高耐久性の配向性を実現した配向層が得られやすいこととから、特に好ましい光反応性基を有するポリマーは例えば、式(A’)で表される基を側鎖に有するポリマー(以下、場合により「ポリマー(A’)」という。)である。
[式(A’)中、
nは、0又は1を表す。
X1は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−又は−CH2−を表す。
Y1は、単結合又は−O−を表す。
R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は、ポリマー主鎖に対する結合手を表す。]
A polymer having a particularly preferable photoreactive group is, for example, the formula (A ′) because the composition for forming a photo-alignment layer is easy to handle and an alignment layer realizing a highly durable alignment is easily obtained. In the side chain (hereinafter sometimes referred to as “polymer (A ′)”).
[In the formula (A ′),
n represents 0 or 1.
X 1 represents a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —CH═CH— or —CH 2 —.
Y 1 represents a single bond or —O—.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond to the polymer main chain. ]
式(A’)において、X1は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−N=N−、−C=C−及び−CH2−のいずれかであると、ポリマー(A’)自体の製造が容易となるため、特に好ましい。 In formula (A ′), when X 1 is any one of a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —C═C—, and —CH 2 —, a polymer (A ′) It is particularly preferable because it can be easily produced.
式(A’)において、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基又はヒドロキシ基を表し、該カルボキシル基及び該スルホン酸基はアルカリ金属イオンと塩を形成していてもよい。これらの中でも、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基であるとさらに好ましい。該アルキル基としては、メチル基、エチル基及びブチル基などが挙げられ、該アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基及びブトキシ基などが挙げられる。 In the formula (A ′), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a halogenated alkoxy group, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an allyloxy group. Represents an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amino group or a hydroxy group, and the carboxyl group and the sulfonic acid group may form a salt with an alkali metal ion. Among these, R 1 and R 2 are more preferably each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group, and examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group.
ポリマー(A’)の主鎖は特に限定されないが、式(M−1)又は式(M−2)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位;式(M−3)又は式(M−4)で表される(メタ)アクリルアミド単位;式(M−5)又は式(M−6)で表されるビニルエーテル単位;式(M−7)又は式(M−8)で表される(メチル)スチレン単位、及び式(M−9)又は式(M−10)で表されるビニルエステル単位からなる群より選ばれるものから構成される主鎖をポリマー(A)は有していると好ましく、中でも、(メタ)アクリル酸エステル単位及び(メタ)アクリルアミド単位からなる群より選ばれる単位から構成される主鎖をポリマー(A’)が有しているとさらに好ましい。なお、ここでいう「ポリマー(A’)の主鎖」とは、ポリマー(A’)が有する分子鎖のうち、最も長い分子鎖をいう。
The main chain of the polymer (A ′) is not particularly limited, but a (meth) acrylic acid ester unit represented by the formula (M-1) or the formula (M-2); the formula (M-3) or the formula (M− (Meth) acrylamide unit represented by 4); vinyl ether unit represented by formula (M-5) or formula (M-6); represented by formula (M-7) or formula (M-8) ( When the polymer (A) has a main chain composed of one selected from the group consisting of (methyl) styrene units and vinyl ester units represented by formula (M-9) or formula (M-10). Among them, it is more preferable that the polymer (A ′) has a main chain composed of units selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester units and (meth) acrylamide units. The “main chain of the polymer (A ′)” herein refers to the longest molecular chain among the molecular chains of the polymer (A ′).
式(M−1)〜式(M−10)のいずれかで表される単位と、式(A’)で表される基は、直接結合していても、適当な連結基を介して結合していてもよい。この連結基としては、カルボニルオキシ基(エステル結合)、酸素原子(エ−テル結合)、イミド基、カルボニルイミノ基(アミド結合)、イミノカルボニルイミノ基(ウレタン結合)、置換基を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基及び置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基、並びにこれらを組み合わせてなる2価の基、を挙げることができる。置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基の具体例は、フェニレン基、2−メトキシ−1,4−フェニレン基、3−メトキシ−1,4−フェニレン基、2−エトキシ−1,4−フェニレン基、3−エトキシ−1,4−フェニレン基、2,3,5−トリメトキシ−1,4−フェニレン基などが挙げられる。これらの中でも、該連結基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数1〜11のアルカンジイル基がさらに好ましい。なお、かかるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基及びウンデカメチレン基などが挙げられ、これらは直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。また、かかるアルカンジイル基は置換基を有していてもよい。この置換基は例えば、炭素数1〜4のアルコキシ基などである。 The unit represented by any one of the formulas (M-1) to (M-10) and the group represented by the formula (A ′) may be bonded via an appropriate linking group even if they are directly bonded. You may do it. This linking group has a carbonyloxy group (ester bond), an oxygen atom (ether bond), an imide group, a carbonylimino group (amide bond), an iminocarbonylimino group (urethane bond), and a substituent. And a divalent aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent group formed by combining these. Specific examples of the divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include a phenylene group, a 2-methoxy-1,4-phenylene group, a 3-methoxy-1,4-phenylene group, and 2-ethoxy. Examples include -1,4-phenylene group, 3-ethoxy-1,4-phenylene group, 2,3,5-trimethoxy-1,4-phenylene group, and the like. Among these, the linking group is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and more preferably an alkanediyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent. Examples of such alkanediyl groups include methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group, octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group and undecamethylene group. These may be linear or branched. Moreover, this alkanediyl group may have a substituent. This substituent is, for example, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
換言すると、式(A’)で表される基を有する構造単位としては、式(A)で表されるもの(以下、場合により「構造単位(A)」といい、当該構造単位(A)を含むポリマーを「ポリマー(A)」という。)が好ましい。
[式(A)中、
X1、Y1、R1、R2及びnは式(A’)と同義であり、
S1は、炭素数1〜11のアルカンジイル基であり、
で表される構造は、式(M−1)〜式(M−10)のいずれかで表される構造である。]
In other words, as the structural unit having a group represented by the formula (A ′), a structural unit represented by the formula (A) (hereinafter referred to as “structural unit (A)” in some cases, the structural unit (A) Is preferably referred to as “polymer (A)”.
[In the formula (A),
X 1 , Y 1 , R 1 , R 2 and n are as defined in formula (A ′),
S 1 is an alkanediyl group having 1 to 11 carbon atoms,
Is a structure represented by any one of formulas (M-1) to (M-10). ]
ポリマー(A’)又はポリマー(A)の分子量は、例えばゲルパーミエイション法(GPC法)で求められるポリスチレン換算の重量平均分子量で表して、1×103〜1×107の範囲が好ましい。ただし、あまり分子量が高くなると、溶媒への溶解性が低下して配向膜形成要組成物の調製が困難になることや、光照射に対する感度が下がる傾向があるので、1×104〜1×106の範囲が好ましい。 The molecular weight of the polymer (A ′) or the polymer (A) is represented by, for example, a weight average molecular weight in terms of polystyrene determined by a gel permeation method (GPC method), and a range of 1 × 10 3 to 1 × 10 7 is preferable. . However, if the molecular weight is too high, the solubility in a solvent is lowered, making it difficult to prepare the composition for forming an alignment film, and the sensitivity to light irradiation tends to decrease, so 1 × 10 4 to 1 × range of 10 6 is preferred.
ポリマー(A)は、構造単位(A)に加え、式(B)で表される構造単位(以下、場合により「構造単位(B)」という。)を有していてもよい。
[式(B)中、
mは、0又は1を表す。
S2は、炭素数1〜11のアルカンジイル基を表す。
で表される構造は、式(M−1)〜式(M−10)のいずれかで表される構造である。] X2は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−又は−CH2−を表す。
Y1は、単結合又は−O−を表す。
R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。]
In addition to the structural unit (A), the polymer (A) may have a structural unit represented by the formula (B) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (B)”).
[In the formula (B)
m represents 0 or 1.
S 2 represents an alkanediyl group having 1 to 11 carbon atoms.
Is a structure represented by any one of formulas (M-1) to (M-10). X 2 represents a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —CH═CH— or —CH 2 —.
Y 1 represents a single bond or —O—.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. ]
式(B)において、S2の具体例は、式(A)のS1の具体例と同じであり、R3及びR4のアルキル基及びアルコキシ基の具体例についてはそれぞれ、式(A)のR1及びR2の具体例と同じである。 In Formula (B), specific examples of S 2 are the same as the specific examples of S 1 in Formula (A), and specific examples of the alkyl group and alkoxy group of R 3 and R 4 are the same as those in Formula (A). The same as the specific examples of R 1 and R 2 of
ポリマー(A)の全構造単位に対する構造単位(A)及び構造単位(B)のモル分率をそれぞれ、p及びqとした(p+qは1である。)場合、0.25<p≦1及び0≦q<0.75の関係を満たすことが好ましい〔ここで、ポリマー(A)が構造単位(A)を有し、pが1である場合とは、ポリマー(A)が構造単位(A)からなるポリマーであることを意味する。構造単位(A)からなるポリマーには、該構造単位(A)が1種であっても、2種以上であってもよい。〕。ただし、ポリマー(A)は光照射による配向能を著しく損なわない限り、構造単位(A)及び構造単位(B)以外の構造単位(以下、場合により「他の構造単位」という。)を有していてもよい。 When the molar fractions of the structural unit (A) and the structural unit (B) with respect to all the structural units of the polymer (A) are p and q (p + q is 1), 0.25 <p ≦ 1 and It is preferable to satisfy the relationship of 0 ≦ q <0.75 [where the polymer (A) has the structural unit (A) and p is 1 when the polymer (A) is the structural unit (A ). The polymer composed of the structural unit (A) may be one type or two or more types of the structural unit (A). ]. However, the polymer (A) has structural units other than the structural unit (A) and the structural unit (B) (hereinafter sometimes referred to as “other structural units”) as long as the alignment ability by light irradiation is not significantly impaired. It may be.
ポリマー(A)は、構造単位(A)を誘導するモノマーと、必要に応じて構造単位(B)や他の構造単位を誘導するモノマーとを(共)重合することで製造できる。当該(共)重合には通常、付加重合法が採用され、かかる付加重合としては、ラジカル重合、アニオン重合及びカチオン重合などの連鎖重合、並びに配位重合などが挙げられる。重合条件は使用するモノマーの種類及びその量に応じて、上述の好ましいポリマー(A)の分子量が満たされるようにして設定される。 The polymer (A) can be produced by (co) polymerizing a monomer that derives the structural unit (A) and, if necessary, a monomer that induces the structural unit (B) or another structural unit. The (co) polymerization usually employs an addition polymerization method, and examples of the addition polymerization include radical polymerization, chain polymerization such as anionic polymerization and cationic polymerization, and coordination polymerization. The polymerization conditions are set so that the molecular weight of the preferred polymer (A) described above is satisfied according to the type and amount of the monomer used.
以上、光反応性基を有するポリマーの中で好ましいものとして、ポリマー(A)について詳述したが、配向層形成用組成物は、当該光反応性基を有するポリマー(好ましくは、ポリマー(A))を適当な溶剤に溶解することで調製される。かかる溶剤は、当該光反応性基を有するポリマーが溶解することができ、適正な粘度の配向層形成用組成物が得られる範囲で適宜選択できるが、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチルなどのエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤;トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル溶剤;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタンなどのエーテル溶剤;クロロホルム及びクロロベンゼンなどの塩素含有溶剤;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン及びジメチルアセトアミドなどのアミド系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独種で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。 The polymer (A) has been described in detail as a preferred polymer having a photoreactive group. The composition for forming an alignment layer is a polymer having a photoreactive group (preferably, the polymer (A) ) In a suitable solvent. Such a solvent can be appropriately selected as long as the polymer having the photoreactive group can be dissolved and an alignment layer-forming composition having an appropriate viscosity can be obtained. For example, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol , Alcohol solvents such as propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone or propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate Ketone ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone and methyl isobutyl ketone; pentane, hexa And aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; N-methylpyrrolidone; Examples thereof include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactone and dimethylacetamide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
光配向層形成用組成物に対する、光反応性基を有するポリマーの濃度は、当該ポリマーの種類や製造しようとする本偏光素子100の光配向層2の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、少なくとも0.2質量%とすることが好ましく、0.3〜10質量%の範囲が特に好ましい。また、本偏光素子100の光配向層2の特性が著しく損なわれない範囲で、該配向層形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤が含まれていてもよい。
The concentration of the polymer having a photoreactive group with respect to the composition for forming a photo-alignment layer can be adjusted as appropriate depending on the type of the polymer and the thickness of the photo-
光配向膜形成用組成物を透明基材1上に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。なお、本偏光素子製造を、後述するRoll to Roll形式の連続的製造方法により実施する場合、当該塗布方法は通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。
As a method of applying the composition for forming a photo-alignment film on the
<工程A2>
再び、図2を参照して、本製造方法Aの工程A2を説明する。
該工程A2は、前記工程A1によって前記透明基材1上に形成された第1塗布膜を乾燥させることにより、該第1塗布膜に含まれる溶媒(光配向層形成用組成物に用いた溶媒)を乾燥除去することで、前記透明基材1上に第1乾燥被膜2Aを形成し、第1積層体101を得る工程である。この溶媒の乾燥除去には、該第1積層体を、適当な温度で加熱することにより溶媒を乾燥除去する方法(加熱方法)や、該第1積層体101を、適当な耐圧容器に封入した後、該容器内の圧力を減圧状態とすることにより溶媒を乾燥除去する方法(減圧方法)、通風乾燥(通風方法)、自然乾燥、或いはこれらの方法を組み合わせることで、実施できる。なお、本偏光素子の製造を、後述するRoll to Roll形式の連続形式で行う場合は通常、加熱方法が採用される。溶剤を乾燥除去することにより、該第1塗布膜は該第1乾燥被膜2Aへと転化して第1積層体101が得られる。
<Process A2>
Again, with reference to FIG. 2, process A2 of this manufacturing method A is demonstrated.
In the step A2, the first coating film formed on the
かくして得られる第1積層体101の第1乾燥被膜2Aの厚みは、後述する工程A3により得られる配向層2が所望の厚みとなるようにして定められる。当該配向層2の厚みは、例えば10nm〜10000nmであり、好ましくは10nm〜1000nmである。
所定の配向層2の厚みは、前記工程A1において、光配向層形成用組成物の固形分濃度、光配向層形成用組成物の透明基材1に対する塗布条件を調整することでコントロールできる。
The thickness of the first
The thickness of the
<工程A3>
続いて、前記第1積層体101の第1乾燥被膜2Aに偏光UV(偏光紫外線)を照射することで、該第1乾燥被膜2Aに含まれる、光反応性基を有するポリマーを配向させ、液晶配向能を付与(以下、場合により「光配向操作」という。)して第2積層体102を形成する。光配向操作において、偏光UVを前記第1乾燥被膜2Aに照射するには、該第1積層体の前記第1乾燥被膜2A側から直接、偏光UVを照射する形式(図3(A)に示す形式(A))でも、該第1積層体の前記透明基材1側に偏光UVを照射し、該透明基材1中に偏光UVを透過させることで、偏光UVを第1乾燥被膜2Aに照射する形式(図3(B)に示す形式(B))でもよい。これらの形式のいずれにおいても、照射する偏光UVは、直線偏光UV及び楕円偏光UVのいずれでもよいが、効率よく光配向操作を行うためには、直線偏光に近い楕円偏光UV、又は消光比の高い直線偏光UVを用いることが好ましい。また、当該偏光UVは、ほぼ平行光であることが特に好ましい。ただし、形式(B)により光配向操作を行う場合、用いる第1積層体101にある透明基材1は、その透明性が高ければ高いほど好ましい。
<Process A3>
Subsequently, the first
照射する偏光UVは、前記第1乾燥被膜に含まれる、光反応性基を有するポリマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。例えば、ポリマー(A’)のように、光反応性基がシンナモイル基である場合は、波長250〜400nmの範囲のUV(紫外線)が特に好ましい。光配向操作に用いる光源としては、キセノンランプ;高圧水銀ランプ;超高圧水銀ランプ;メタルハライドランプ;KrF、ArFなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられる。シンナモイル基を光反応性基として有するポリマー(A’)を用いた場合、光配向操作の用いる光源は、高圧水銀ランプ及び超高圧水銀ランプメタルハライドランプが好ましい。その理由は、これらのランプは、波長313nmの紫外線の発光強度が大きいためである。前記光源からの光を、適当な偏光子200を通過してから前記第1積層体に照射すれば、該第1積層体に偏光UVが照射されることになる。かかる偏光子200としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
The polarized UV to be irradiated preferably has a wavelength region in which the photoreactive group of the polymer having a photoreactive group contained in the first dry film can absorb light energy. For example, when the photoreactive group is a cinnamoyl group as in the polymer (A ′), UV (ultraviolet light) having a wavelength in the range of 250 to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source used for the photo-alignment operation include xenon lamps; high-pressure mercury lamps; ultrahigh-pressure mercury lamps; metal halide lamps; ultraviolet lasers such as KrF and ArF. When the polymer (A ′) having a cinnamoyl group as a photoreactive group is used, the light source used for the photo-alignment operation is preferably a high-pressure mercury lamp or an ultrahigh-pressure mercury lamp metal halide lamp. The reason is that these lamps have high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. If the light from the light source passes through a
以上、前記光配向操作を、図3を参照して説明したが、前記第1積層体101に偏光UVを照射するには、図3に示すように、該第1積層体101の面方向に対して、偏光UVの照射方向が略垂直であることは必ずしも必要ではなく、該第1積層体101の面方向に対して、偏光UVの照射方向が斜めになっていてもよい。該第1積層体101の面方向に対する、偏光UVの照射方向は、光配向操作に用いる光源及び偏光子の種類などに応じて、得られる光配向層2が所望の吸収軸を有するように定められる。
As described above, the optical alignment operation has been described with reference to FIG. 3. In order to irradiate the first
<工程A4>
本製造方法Aの工程A4〜工程A6は、前記工程A3を経て得られた前記第2積層体102の前記光配向層2上に、偏光層3を設けるものである。
本偏光素子が有する偏光層は、上述のとおりの方法で形成される。繰り返しになるが、この方法について説明する。まず、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素及び溶剤を含有した組成物(以下、場合により「偏光層形成用組成物」という。)を調製する。工程A4においては、該偏光層形成用組成物を前記配向層2上に塗布して第2塗布膜を形成する。
<Process A4>
In Step A4 to Step A6 of the manufacturing method A, the
The polarizing layer of the polarizing element is formed by the method as described above. Again, this method will be described. First, a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye and a solvent (hereinafter, sometimes referred to as “polarizing layer forming composition”) is prepared. In step A4, the polarizing layer forming composition is applied onto the
まず、前記偏光層形成用組成物の構成成分について説明する。
前記偏光層形成用組成物に含有される重合性スメクチック液晶化合物とは、重合性基を有し、かつスメクチック相の液晶状態を示す化合物である。重合性基とは、該重合性スメクチック液晶化合物の重合反応に関与する基を意味する。
First, the components of the polarizing layer forming composition will be described.
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer is a compound having a polymerizable group and exhibiting a smectic phase liquid crystal state. The polymerizable group means a group involved in the polymerization reaction of the polymerizable smectic liquid crystal compound.
前記重合性スメクチック液晶化合物が示す液晶状態は、高次のスメクチック相であることが好ましい。ここでいう高次のスメクチック相とは、スメクチックB相、スメクチックD相、スメクチックE相、スメクチックF相、スメクチックG相、スメクチックH相、スメクチックI相、スメクチックJ相、スメクチックK相及びスメクチックL相であり、中でも、スメクチックB相、スメクチックF相、スメクチックI相、傾斜したスメクチックF相及び傾斜したスメクチックI相が好ましく、スメクチックB相がより好ましい。重合性スメクチック液晶化合物が示す液晶状態により、配向秩序度の高い偏光層を有する本偏光素子が製造される。 The liquid crystal state exhibited by the polymerizable smectic liquid crystal compound is preferably a higher order smectic phase. The high-order smectic phase here means a smectic B phase, a smectic D phase, a smectic E phase, a smectic F phase, a smectic G phase, a smectic H phase, a smectic I phase, a smectic J phase, a smectic K phase, and a smectic L phase. Among them, a smectic B phase, a smectic F phase, a smectic I phase, a tilted smectic F phase and a tilted smectic I phase are preferable, and a smectic B phase is more preferable. Depending on the liquid crystal state exhibited by the polymerizable smectic liquid crystal compound, the present polarizing element having a polarizing layer having a high degree of alignment order is produced.
好ましい重合性スメクチック液晶組成物としては、例えば、式(1)で表される化合物(以下、場合により「化合物(1)」という。)が挙げられる。
U1−V1−W1−X10−Y10−X20−Y20−X30−W2−V2−U2(1)[式(1)中、
X10、X20及びX30は、互いに独立に、置換基を有していてもよいp−フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表す。ただし、X1、X2及びX3のうち少なくとも1つは、置換基を有していてもよいp−フェニレン基である。
Y10及びY20は、互いに独立に、−CH2CH2−、−CH2O−、−COO−、−OCOO−、単結合、−N=N−、−CRa=CRb−、−C≡C−又は−CRa=N−を表す。Ra及びRbは、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。
U1は、水素原子又は重合性基を表す。
U2は、重合性基を表す。
W1及びW2は、互いに独立に、単結合、−O−、−S−、−COO−又は−OCOO−を表す。
V1及びV2は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−又は−NH−に置き換わっていてもよい。]
Preferable polymerizable smectic liquid crystal compositions include, for example, a compound represented by the formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “compound (1)”).
U 1 -V 1 -W 1 -X 10 -Y 10 -X 20 -Y 20 -X 30 -W 2 -V 2 -U 2 (1) [ in the formula (1),
X 10 , X 20 and X 30 each independently represent a p-phenylene group which may have a substituent or a cyclohexane-1,4-diyl group which may have a substituent. However, at least one of X 1 , X 2 and X 3 is a p-phenylene group which may have a substituent.
Y 10 and Y 20, independently of one another, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 O -, - COO -, - OCOO-, a single bond, -N = N -, - CR a = CR b -, - C≡C— or —CR a ═N— is represented. R a and R b each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
U 1 represents a hydrogen atom or a polymerizable group.
U 2 represents a polymerizable group.
W 1 and W 2 each independently represent a single bond, —O—, —S—, —COO— or —OCOO—.
V 1 and V 2 each independently represent an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — constituting the alkanediyl group is —O—, — S- or -NH- may be substituted. ]
化合物(1)において、上述のように、X10、X20及びX30のうち少なくとも1つは、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基であるが、これらのうち、少なくも2つが、置換基を有していてもよいp−フェニレン基であることが好ましい。
前記p−フェニレン基は、無置換であることが好ましい。前記シクロへキサン−1,4−ジイル基は、トランス−シクロへキサン−1,4−ジイル基であることが好ましく、このトランス−シクロへキサン−1,4−ジイル基も無置換であることがより好ましい。
In the compound (1), as described above, at least one of X 10 , X 20 and X 30 is a 1,4-phenylene group which may have a substituent. Are preferably a p-phenylene group which may have a substituent.
The p-phenylene group is preferably unsubstituted. The cyclohexane-1,4-diyl group is preferably a trans-cyclohexane-1,4-diyl group, and the trans-cyclohexane-1,4-diyl group is also unsubstituted. Is more preferable.
前記p−フェニレン基又は前記シクロへキサン−1,4−ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基及びブチル基などの炭素数1〜4のアルキル基;シアノ基;ハロゲン原子などが挙げられる。なお、シクロへキサン−1,4−ジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−又は−NR−に置き換わっていてもよい。Rは、炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基である。 Examples of the substituent that the p-phenylene group or the cyclohexane-1,4-diyl group optionally has include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a butyl group; a cyano group; a halogen atom Etc. In addition, —CH 2 — constituting the cyclohexane-1,4-diyl group may be replaced by —O—, —S— or —NR—. R is a C1-C6 alkyl group or a phenyl group.
化合物(1)のY10は、−CH2CH2−、−COO−又は単結合であると好ましく、Y20は、−CH2CH2−又は−CH2O−であると好ましい。 Y 10 of the compound (1) is preferably —CH 2 CH 2 —, —COO— or a single bond, and Y 20 is preferably —CH 2 CH 2 — or —CH 2 O—.
U2は、重合性基である。U1は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。すなわち、U1及びU2は、ともに重合性基であると好ましく、ともに光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基を有する重合性スメクチック液晶化合物を用いると、より低温条件下で該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることができる点でも有利である。 U 2 is a polymerizable group. U 1 is a hydrogen atom or a polymerizable group, and preferably a polymerizable group. That is, both U 1 and U 2 are preferably a polymerizable group, and both are preferably a photopolymerizable group. Here, the photopolymerizable group refers to a group that can participate in a polymerization reaction by an active radical or an acid generated from a photopolymerization initiator described later. The use of a polymerizable smectic liquid crystal compound having a photopolymerizable group is also advantageous in that the polymerizable smectic liquid crystal compound can be polymerized under a lower temperature condition.
化合物(1)において、U1及びU2の光重合性基は互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。光重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1−クロロビニル基、イソプロペニル基、4−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。 In the compound (1), the photopolymerizable groups of U 1 and U 2 may be different from each other, but are preferably the same type. Examples of the photopolymerizable group include a vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, and oxetanyl group. Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable.
V1及びV2のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基及びイコサン−1,20−ジイル基などが挙げられる。V1及びV2は、好ましくは炭素数2〜12のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数6〜12のアルカンジイル基である。
該アルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及びハロゲン原子などを挙げることができるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
Examples of the alkanediyl group of V 1 and V 2 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, decane-1,10-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group and icosane And a -1,20-diyl group. V 1 and V 2 are preferably alkanediyl groups having 2 to 12 carbon atoms, and more preferably alkanediyl groups having 6 to 12 carbon atoms.
Examples of the substituent that the alkanediyl group optionally has include a cyano group and a halogen atom. The alkanediyl group is preferably unsubstituted, and is an unsubstituted and linear alkanediyl group. It is more preferable that
W1及びW2は、互いに独立に、好ましくは単結合又は−O−である。 W 1 and W 2 are independently of each other, preferably a single bond or —O—.
化合物(1)としては、式(1−1)〜式(1−23)のいずれかで表される化合物などが挙げられる。かかる化合物(1)の具体例が、シクロヘキサン−1,4−ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン−1,4−ジイル基は、トランス体であることが好ましい。 Examples of compound (1) include compounds represented by any one of formulas (1-1) to (1-23). When a specific example of the compound (1) has a cyclohexane-1,4-diyl group, the cyclohexane-1,4-diyl group is preferably a trans isomer.
例示した化合物(1)は、単独又は2種以上を混合して、偏光層形成用組成物に用いることができる。また、2種以上の重合性スメクチック化合物を用い、この2種以上の重合性スメクチック化合物のうち、少なくとも1種が化合物(1)であるという形式でもよい。以下の説明では、単独種の重合性スメクチック液晶化合物を用いる場合と、2種以上の重合性スメクチック液晶化合物を用いる場合とを総じて、「重合性スメクチック液晶化合物」と称することがある。
化合物(1)を偏光層形成用組成物に用いる場合、予め化合物(1)の相転移温度を求め、その相転移温度を下回る温度条件下で、該化合物(1)が重合できるように、偏光層形成用組成物の化合物(1)[重合性スメクチック液晶化合物]以外の成分を調整する。
このような重合温度をコントロールし得る成分としては、後述する光重合開始剤、光増感剤及び重合禁止剤などが挙げられる。これらの種類及び量を適宜調節することで化合物(1)の重合温度をコントロールできる。なお、偏光層形成用組成物に、2種以上の化合物(1)[重合性スメクチック液晶組成物]の混合物、を用いる場合にも、当該2種以上の化合物(1)の混合物の相転移温度を求めた後、重合性スメクチック液晶化合物の場合と同様にして、重合温度をコントロールする。
The exemplified compound (1) can be used alone or in admixture of two or more for the composition for forming a polarizing layer. Further, two or more polymerizable smectic compounds may be used, and at least one of the two or more polymerizable smectic compounds may be the compound (1). In the following description, the case where a single type of polymerizable smectic liquid crystal compound is used and the case where two or more types of polymerizable smectic liquid crystal compounds are used may be collectively referred to as “polymerizable smectic liquid crystal compound”.
When the compound (1) is used in the composition for forming a polarizing layer, the phase transition temperature of the compound (1) is obtained in advance, and the polarization is performed so that the compound (1) can be polymerized under a temperature condition lower than the phase transition temperature. Components other than the compound (1) [polymerizable smectic liquid crystal compound] of the layer forming composition are adjusted.
Examples of the component capable of controlling the polymerization temperature include a photopolymerization initiator, a photosensitizer, and a polymerization inhibitor described later. The polymerization temperature of compound (1) can be controlled by adjusting these types and amounts as appropriate. In addition, also when using the mixture of 2 or more types of compounds (1) [polymerizable smectic liquid crystal composition] for the polarizing layer formation composition, the phase transition temperature of the mixture of the 2 or more types of compounds (1) Then, the polymerization temperature is controlled in the same manner as in the case of the polymerizable smectic liquid crystal compound.
例示した化合物(1)の中でも、それぞれ、式(1−2)、式(1−3)、式(1−4)、式(1−6)、式(1−7)、式(1−8)、式(1−13)、式(1−14)及び式(1−15)で表されるものからなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。これらの化合物(1)は、混合することで、あるいは、ともに用いられる光重合開始剤との相互作用により、容易に相転移温度を下回る温度条件下で、すなわち高次のスメクチック相の液晶状態を十分に保持したままで過冷却状態が得られるため、該化合物(1)を重合させることができる。より具体的には、光重合開始剤との相互作用により、これらの化合物(1)は、70℃以下、好ましくは60℃以下の温度条件下で、高次のスメクチック相の液晶状態を十分に保持したまま重合させることができる。 Among the exemplified compounds (1), formula (1-2), formula (1-3), formula (1-4), formula (1-6), formula (1-7), formula (1- 8) At least one selected from the group consisting of those represented by formula (1-13), formula (1-14) and formula (1-15) is preferred. These compounds (1) can easily change the liquid crystal state of a higher-order smectic phase under temperature conditions lower than the phase transition temperature by mixing or by interaction with the photopolymerization initiator used together. Since a supercooled state can be obtained with sufficient retention, the compound (1) can be polymerized. More specifically, due to the interaction with the photopolymerization initiator, these compounds (1) sufficiently exhibit a liquid crystal state of a high-order smectic phase under a temperature condition of 70 ° C. or less, preferably 60 ° C. or less. It can be polymerized while being held.
前記偏光層形成用組成物中に含有される化合物(1)は上述のとおり、単独種であっても、複数種であってもよいが、複数種であることが好ましい。 As described above, the compound (1) contained in the polarizing layer forming composition may be a single species or a plurality of species, but is preferably a plurality of species.
前記偏光層形成用組成物における化合物(1)の含有割合は、当該偏光層形成用組成物の固形分に対して、70〜99.9質量%が好ましく、90〜99.9質量%がより好ましい。化合物(1)の含有割合が前記の範囲内であれば、化合物(1)の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、該偏光層形成用組成物から溶剤などの揮発性成分を除いた成分の合計量のことをいう。なお、複数種の化合物(1)が該偏光層形成用組成物に含有される場合、その合計含有割合が前記の範囲であればよい。 70-99.9 mass% is preferable with respect to solid content of the said composition for polarizing layer formation, and, as for the content rate of the compound (1) in the said composition for polarizing layer formation, 90-99.9 mass% is more. preferable. If the content rate of a compound (1) exists in the said range, there exists a tendency for the orientation of a compound (1) to become high. Here, solid content means the total amount of the component remove | excluding volatile components, such as a solvent, from this polarizing layer formation composition. In addition, when multiple types of compound (1) is contained in this composition for polarizing layer formation, the total content rate should just be said range.
前記偏光層形成用組成物は、レベリング剤を含有すると好ましい。該レベリング剤とは、重合性スメクチック液晶化合物の流動性を調整し、偏光層形成用組成物を塗布して得られる前記第1塗布膜をより平坦にする機能を有するものであり、界面活性剤などを挙げることができる。該レベリング剤は、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤及びフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも1種がさらに好ましい。 The composition for forming a polarizing layer preferably contains a leveling agent. The leveling agent has a function of adjusting the fluidity of the polymerizable smectic liquid crystal compound and flattening the first coating film obtained by coating the composition for forming a polarizing layer. And so on. The leveling agent is more preferably at least one selected from the group consisting of a leveling agent having a polyacrylate compound as a main component and a leveling agent having a fluorine atom-containing compound as a main component.
ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”BYK−350”、”BYK−352”、”BYK−353”、”BYK−354”、”BYK−355”、”BYK−358N”、”BYK−361N”、”BYK−380”、”BYK−381”及び”BYK−392”[BYK Chemie社]などが挙げられる。 Leveling agents mainly composed of polyacrylate compounds include “BYK-350”, “BYK-352”, “BYK-353”, “BYK-354”, “BYK-355”, “BYK-358N”, “ BYK-361N ”,“ BYK-380 ”,“ BYK-381 ”,“ BYK-392 ”[BYK Chemie], and the like.
フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファックR−08”、同”R−30”、同”R−90”、同”F−410”、同”F−411”、同”F−443”、同”F−445”、同”F−470”、同”F−471”、同”F−477”、同”F−479”、同”F−482”及び同”F−483”[DIC(株)];”サーフロンS−381”、同”S−382”、同”S−383”、同”S−393”、同”SC−101”、同”SC−105”、”KH−40”及び”SA−100”[AGCセイミケミカル(株)];”E1830”、”E5844”[(株)ダイキンファインケミカル研究所];”エフトップEF301”、同”EF303”、同”EF351”及び同”EF352”[三菱マテリアル電子化成(株)]などが挙げられる。 Leveling agents mainly composed of fluorine atom-containing compounds include "Megafac R-08", "R-30", "R-90", "F-410", "F-411", "F-443", "F-445", "F-470", "F-471", "F-477", "F-479", "F-482" and the same "F-483" [DIC Corporation]; "Surflon S-381", "S-382", "S-383", "S-393", "SC-101", "SC" -105 "," KH-40 "and" SA-100 "[AGC Seimi Chemical Co., Ltd.];" E1830 "," E5844 "[Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.];" F-top EF301 "," EF303 " ", EF351" and "EF352" [Mitsubishi Materials Child Kasei Co., Ltd.] and the like.
前記偏光層形成用組成物にレベリング剤を含有させる場合、その含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、0.3質量部以上5質量部以下が好ましく、0.5質量部以上3質量部以下がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性スメクチック液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる偏光層がより平滑となる傾向がある。重合性スメクチック液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲を超えると、得られる偏光層にムラが生じやすい傾向がある。なお、該偏光層形成用組成物は、レベリング剤を2種類以上含有していてもよい。 When the leveling agent is contained in the polarizing layer forming composition, the content is preferably 0.3 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, and 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. 3 parts by mass or less is more preferable. When the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to horizontally align the polymerizable smectic liquid crystal compound, and the obtained polarizing layer tends to be smoother. If the content of the leveling agent with respect to the polymerizable smectic liquid crystal compound exceeds the above range, unevenness tends to occur in the obtained polarizing layer. In addition, this polarizing layer formation composition may contain 2 or more types of leveling agents.
前記偏光層形成用組成物は、二色性色素を含有する。ここでいう二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。このような性質を有するものであれば、二色性色素は特に制限されず、染料であっても顔料であってもよい。この染料は複数種用いてもよく、顔料も複数種用いてもよく、染料と顔料とを組み合わせてもよい。 The polarizing layer forming composition contains a dichroic dye. The dichroic dye as used herein refers to a dye having a property that the absorbance in the major axis direction of the molecule is different from the absorbance in the minor axis direction. The dichroic dye is not particularly limited as long as it has such properties, and may be a dye or a pigment. A plurality of these dyes may be used, a plurality of pigments may be used, or a dye and a pigment may be combined.
前記二色性色素は、300〜700nmの範囲に極大吸収波長(λMAX)を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。 The dichroic dye preferably has a maximum absorption wavelength (λMAX) in the range of 300 to 700 nm. Examples of such dichroic dyes include acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes and anthraquinone dyes, and among them, azo dyes are preferable. Examples of the azo dyes include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakisazo dyes, and stilbene azo dyes, with bisazo dyes and trisazo dyes being preferred.
アゾ色素は、例えば、式(2)で表される化合物(以下、場合により「化合物(2)」という。)が挙げられる。
A1(−N=N−A2)p−N=N−A3 (2)
[式(2)中、
A1及びA3は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。A2は、置換基を有していてもよいp−フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン−1,4−ジイル基又は置換基を有していてもよい2価の複素環基を表す。pは1〜4の整数を表す。pが2以上の整数である場合、複数のA2は互いに同一でも異なっていてもよい。]
Examples of the azo dye include a compound represented by the formula (2) (hereinafter sometimes referred to as “compound (2)”).
A 1 (-N = N-A 2) p -N = N-A 3 (2)
[In Formula (2),
A 1 and A 3 are each independently a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or a monovalent heterocyclic group which may have a substituent. Represents. A 2 represents a p-phenylene group which may have a substituent, a naphthalene-1,4-diyl group which may have a substituent, or a divalent heterocyclic ring which may have a substituent. Represents a group. p represents an integer of 1 to 4. When p is an integer greater than or equal to 2 , several A2 may mutually be same or different. ]
1価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール及びベンゾオキサゾールなどの複素環化合物から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。複素環化合物から2個の水素原子を除いた基が、2価の複素環基に該当し、かかる複素環化合物の具体例は、上述のとおりである。 Examples of the monovalent heterocyclic group include groups in which one hydrogen atom has been removed from a heterocyclic compound such as quinoline, thiazole, benzothiazole, thienothiazole, imidazole, benzimidazole, oxazole and benzoxazole. A group obtained by removing two hydrogen atoms from a heterocyclic compound corresponds to a divalent heterocyclic group, and specific examples of the heterocyclic compound are as described above.
A1及びA3におけるフェニル基、ナフチル基及び1価の複素環基、並びにA2におけるp−フェニレン基、ナフタレン−1,4−ジイル基及び2価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数1〜4のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基及びブトキシ基などの炭素数1〜4のアルコキシ基;トリフルオロメチル基などの炭素数1〜4のフッ化アルキル基;シアノ基;ニトロ基;ハロゲン原子;アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基などの置換又は無置換アミノ基(置換アミノ基とは、炭素数1〜6のアルキル基を1つ又は2つ有するアミノ基、あるいは2つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数2〜8のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−NH2である。)が挙げられる。なお、炭素数1〜6のアルキル基の具体例は、化合物(1)のフェニレン基などが任意に有する置換基で例示したものと同じである。 As a substituent which the phenyl group, naphthyl group and monovalent heterocyclic group in A 1 and A 3 and the p-phenylene group, naphthalene-1,4-diyl group and divalent heterocyclic group in A 2 optionally have Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group and a butoxy group; a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; a cyano group; Nitro group; halogen atom; substituted or unsubstituted amino group such as amino group, diethylamino group and pyrrolidino group (substituted amino group is an amino group having one or two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or two This means an amino group in which substituted alkyl groups are bonded to each other to form an alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms, and the unsubstituted amino group is —NH 2 . In addition, the specific example of a C1-C6 alkyl group is the same as what was illustrated with the substituent which the phenylene group etc. of a compound (1) have arbitrarily.
化合物(2)のなかでも、以下の式(2−1)〜式(2−6)のいずれかで表される化合物が好ましい。 Among the compounds (2), compounds represented by any one of the following formulas (2-1) to (2-6) are preferable.
[式(2−1)〜(2−6)中、
B1〜B20は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基(置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり)、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。
n1、n2、n3及びn4は、互いに独立に0〜3の整数を表す。
n1が2以上である場合、複数のB2は互いに同一でも異なっていてもよく、
n2が2以上である場合、複数のB6は互いに同一でも異なっていてもよく、
n3が2以上である場合、複数のB9は互いに同一でも異なっていてもよく、
n4が2以上である場合、複数のB14は互いに同一でも異なっていてもよい。]
[In the formulas (2-1) to (2-6),
B 1 to B 20 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a substituted or unsubstituted amino group (a substituted amino group and As defined above, the unsubstituted amino group represents a chlorine atom or a trifluoromethyl group.
n1, n2, n3 and n4 each independently represents an integer of 0 to 3.
when n1 is 2 or more, the plurality of B 2 may be the same as or different from each other;
when n2 is 2 or more, the plurality of B 6 may be the same as or different from each other;
when n3 is 2 or more, the plurality of B 9 may be the same as or different from each other;
When n4 is 2 or more, the plurality of B 14 may be the same as or different from each other. ]
前記アントラキノン色素としては、式(2−7)で表される化合物が好ましい。
[式(2−7)中、
R1〜R8は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRx又はハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。]
As said anthraquinone pigment | dye, the compound represented by Formula (2-7) is preferable.
[In the formula (2-7),
R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x, or a halogen atom.
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
前記アクリジン色素としては、式(2−8)で表される化合物が好ましい。
[式(2−8)中、
R9〜R15は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRx又はハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。]
As the acridine dye, a compound represented by the formula (2-8) is preferable.
[In the formula (2-8),
R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x, or a halogen atom.
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
前記オキサゾン色素としては、式(2−9)で表される化合物が好ましい。
[式(2−9)中、
R16〜R23は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRx又はハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。]
As the oxazone dye, a compound represented by the formula (2-9) is preferable.
[In Formula (2-9),
R 16 to R 23 independently represent a hydrogen atom, -R x, -NH 2, -NHR x, -
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
以上の式(2−7)、式(2−8)及び式(2−9)において、Rxの炭素数1〜6のアルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基などであり、炭素数6〜12のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基及びナフチル基などである。 In the above formula (2-7), formula (2-8) and formula (2-9), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R x is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Examples thereof include a pentyl group and a hexyl group, and examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.
前記シアニン色素としては、式(2−10)で表される化合物及び式(2−11)で表される化合物が好ましい。
[式(2−10)中、
D1及びD2は、互いに独立に、式(2−10a)〜式(2−10d)のいずれかで表される基を表す。
n5は1〜3の整数を表す。]
As the cyanine dye, a compound represented by the formula (2-10) and a compound represented by the formula (2-11) are preferable.
[In the formula (2-10),
D 1 and D 2 each independently represent a group represented by any one of formulas (2-10a) to (2-10d).
n5 represents an integer of 1 to 3. ]
[式(2−11)中、
D3及びD4は、互いに独立に、式(2−11a)〜式(2−11h)のいずれかで表される基を表す。
n6は1〜3の整数を表す。]
[In the formula (2-11),
D 3 and D 4 each independently represent a group represented by any one of formulas (2-11a) to (2-11h).
n6 represents an integer of 1 to 3. ]
前記偏光層形成用組成物における二色性色素の含有量は、当該二色性色素の種類などに応じて適宜調節できるが、例えば、重合性スメクチック液晶化合物の合計100質量部に対して、0.1質量部以上50質量部以下が好ましく、0.1質量部以上20質量部以下がより好ましく、0.1質量部以上10質量部以下がさらに好ましい。二色性色素の含有量が、この範囲内であれば、重合性スメクチック液晶化合物の配向を乱すことなく、当該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることができる。二色性色素の含有量が多すぎると、重合性スメクチック液晶化合物の配向を阻害するおそれがある。そのため、重合性スメクチック液晶化合物が、高次のスメクチック相の液晶状態を保持できる範囲で、二色性色素の含有量を定めることもできる。 The content of the dichroic dye in the polarizing layer forming composition can be adjusted as appropriate according to the type of the dichroic dye, and is, for example, 0 with respect to a total of 100 parts by mass of the polymerizable smectic liquid crystal compound. .1 to 50 parts by mass is preferable, 0.1 to 20 parts by mass is more preferable, and 0.1 to 10 parts by mass is further preferable. If the content of the dichroic dye is within this range, the polymerizable smectic liquid crystal compound can be polymerized without disturbing the orientation of the polymerizable smectic liquid crystal compound. When there is too much content of a dichroic dye, there exists a possibility of inhibiting the orientation of a polymerizable smectic liquid crystal compound. Therefore, the content of the dichroic dye can be determined within a range in which the polymerizable smectic liquid crystal compound can maintain a liquid crystal state of a higher order smectic phase.
前記偏光層形成用組成物は、溶剤を含有する。当該溶剤は、用いる重合性スメクチック液晶化合物の溶解性などを考慮して適宜、好ましいものを選択できる。ただし、該重合性スメクチック液晶化合物の重合反応の進行を著しく妨げることのない不活性な溶剤であることが好ましい。このような溶剤としては、前記偏光層形成用組成物調製用の溶剤と例示したものと同じである。該偏光層形成用組成物調製用の溶剤も、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。 The polarizing layer forming composition contains a solvent. As the solvent, a preferable one can be appropriately selected in consideration of the solubility of the polymerizable smectic liquid crystal compound to be used. However, an inert solvent that does not significantly disturb the progress of the polymerization reaction of the polymerizable smectic liquid crystal compound is preferable. Examples of such a solvent are the same as those exemplified as the solvent for preparing the polarizing layer forming composition. The solvent for preparing the composition for forming a polarizing layer may be used alone or in combination of two or more.
溶剤の含有量は、前記偏光層形成用組成物の総量に対して50〜98質量%が好ましい。換言すると、偏光層形成用組成物における固形分は、2〜50質量%が好ましい。固形分が2質量%以上であると、本偏光素子が有する偏光層として必要な二色性が得られる。
一方、該固形分が50質量%以下であると、偏光層形成用組成物の粘度が低くなることから、偏光層の厚みが略均一になることで、当該偏光層にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分は、後述する偏光層の厚みを形成できるようにして定めることができる。
As for content of a solvent, 50-98 mass% is preferable with respect to the total amount of the said composition for polarizing layer formation. In other words, the solid content in the composition for forming a polarizing layer is preferably 2 to 50% by mass. When the solid content is 2% by mass or more, dichroism necessary for the polarizing layer of the polarizing element is obtained.
On the other hand, when the solid content is 50% by mass or less, since the viscosity of the composition for forming a polarizing layer is lowered, the thickness of the polarizing layer tends to be substantially uniform, so that unevenness in the polarizing layer is less likely to occur. There is. Moreover, this solid content can be determined so that the thickness of the polarizing layer mentioned later can be formed.
前記偏光層形成用組成物は、重合開始剤を含有すると好ましい。当該重合開始剤は、重合性スメクチック液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、当該重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、この温度条件下、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる化合物が光重合開始剤として用いられる。当該光重合開始剤の中でも、光の作用によりラジカルを発生するものがより好ましい。 The composition for forming a polarizing layer preferably contains a polymerization initiator. The polymerization initiator is a compound capable of initiating a polymerization reaction of a polymerizable smectic liquid crystal compound, and a photopolymerization initiator is preferable in that the polymerization reaction can be initiated under a lower temperature condition. Specifically, a compound capable of generating an active radical or an acid by the action of light under this temperature condition is used as a photopolymerization initiator. Among the photopolymerization initiators, those that generate radicals by the action of light are more preferable.
前記光重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts, and sulfonium salts.
以下、この光重合開始剤の具体例を挙げる。
ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
Hereinafter, specific examples of this photopolymerization initiator will be given.
Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.
ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン及び2,4,6−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。 Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl). ) Benzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone.
アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1,2−ジフェニル−2,2−ジメトキシエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパン−1−オンのオリゴマーなどが挙げられる。 Examples of the alkylphenone compound include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl). ) Butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxyethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1 -[4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1- ON oligomers.
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。 Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide.
トリアジン化合物としては、例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン及び2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。 Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxy Naphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 [2- (5-Methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1 , 3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloro Methyl)- - such as [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.
光重合開始剤は、市場から容易に入手できるものを用いることもできる。市販の光重合開始剤としては、”イルガキュア(Irgacure)907”、”イルガキュア184”、”イルガキュア651”、”イルガキュア819”、”イルガキュア250”、”イルガキュア369”(チバ・ジャパン(株));”セイクオールBZ”、”セイクオールZ”、”セイクオールBEE”(精工化学(株));”カヤキュアー(kayacure)BP100”(日本化薬(株));”カヤキュアーUVI−6992”(ダウ社製);”アデカオプトマーSP−152”、”アデカオプトマーSP−170”((株)ADEKA);”TAZ−A”、”TAZ−PP”(日本シイベルヘグナー社);及び”TAZ−104”(三和ケミカル社)などが挙げられる。 A photopolymerization initiator that can be easily obtained from the market can also be used. Commercially available photopolymerization initiators include “Irgacure 907”, “Irgacure 184”, “Irgacure 651”, “Irgacure 819”, “Irgacure 250”, “Irgacure 369” (Ciba Japan Co., Ltd.); “Sake All BZ”, “Sake All Z”, “Sake All BEE” (Seiko Chemical Co., Ltd.); “Kayacure BP100” (Nippon Kayaku Co., Ltd.); “Kaya Cure UVI-6992” (manufactured by Dow); “Adekaoptomer SP-152”, “Adekaoptomer SP-170” (ADEKA); “TAZ-A”, “TAZ-PP” (Nihon Shibel Hegner); and “TAZ-104” (Sanwa) Chemical Corporation).
前記偏光層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、当該偏光層形成用組成物に含有される重合性スメクチック液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、例えば、重合性スメクチック液晶化合物の合計100質量部に対する重合開始剤の含有量は、0.1〜30質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましく、0.5〜8質量部がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性スメクチック液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるため、該重合性スメクチック液晶化合物が高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合することができる。 When the polarizing layer forming composition contains a polymerization initiator, the content can be appropriately adjusted according to the type and amount of the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the polarizing layer forming composition, For example, the content of the polymerization initiator with respect to 100 parts by mass in total of the polymerizable smectic liquid crystal compound is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and 0.5 to 8 parts by mass. Further preferred. If the content of the polymerizable initiator is within this range, the polymerizable smectic liquid crystal compound can be polymerized without disturbing the orientation of the polymerizable smectic liquid crystal compound, so that the polymerizable smectic liquid crystal compound exhibits a liquid crystal state of a higher order smectic phase. Polymerization can be carried out while being held.
前記偏光層形成用組成物が光重合開始剤を含有する場合、該偏光層形成用組成物には光増感剤を含有していてもよい。該光増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントンなどのキサントン化合物(例えば、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなど);アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物;フェノチアジン及びルブレンなどが挙げられる。 When the composition for forming a polarizing layer contains a photopolymerization initiator, the composition for forming a polarizing layer may contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (for example, 2,4-diethylthioxanthone and 2-isopropylthioxanthone); anthracene and alkoxy group-containing anthracene (for example, dibutoxyanthracene) and the like. Anthracene compounds; phenothiazine, rubrene, and the like.
偏光層形成用組成物が光重合開始剤及び光増感剤を含有するものである場合、当該偏光層形成用組成物に含有される重合性スメクチック液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる光増感剤の使用量は、併用する光重合開始剤及び重合性スメクチック液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、例えば、重合性スメクチック液晶化合物の合計100質量部に対して、0.1〜30質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましく、0.5〜8質量部がさらに好ましい。 When the composition for forming a polarizing layer contains a photopolymerization initiator and a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer can be further accelerated. . The amount of the photosensitizer used can be appropriately adjusted according to the type and amount of the photopolymerization initiator and polymerizable smectic liquid crystal compound used together. For example, the total amount of the polymerizable smectic liquid crystal compound is 100 parts by mass. 0.1-30 mass parts is preferable, 0.5-10 mass parts is more preferable, 0.5-8 mass parts is further more preferable.
前記偏光層形成用組成物に光増感剤を含有させることにより、重合性スメクチック液晶化合物の重合反応を促進できることを説明したが、該重合反応を安定的に進行させるために、該偏光膜形成用組成物には重合禁止剤を適度に含有させることもできる。重合禁止剤を含有することにより、重合性スメクチック液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。 It has been explained that a polymerization reaction of a polymerizable smectic liquid crystal compound can be promoted by including a photosensitizer in the composition for forming a polarizing layer, but in order to make the polymerization reaction proceed stably, the polarizing film is formed. The composition may contain a polymerization inhibitor appropriately. By containing the polymerization inhibitor, the degree of progress of the polymerization reaction of the polymerizable smectic liquid crystal compound can be controlled.
前記重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール(例えば、ブチルカテコールなど)、ピロガロール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル補足剤;チオフェノール類;β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類などが挙げられる。 Examples of the polymerization inhibitor include radicals such as hydroquinone, alkoxy group-containing hydroquinone, alkoxy group-containing catechol (eg, butyl catechol), pyrogallol, 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radical, and the like. Supplementary agents; thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols.
前記偏光層形成用組成物に重合禁止剤を含有させる場合、その含有量は、用いる重合性スメクチック液晶化合物の種類及びその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できるが、例えば、重合性スメクチック液晶化合物の合計100質量部に対する重合禁止剤の含有量が、0.1〜30質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましく、0.5〜8質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、該偏光層形成用組成物に含有される重合性スメクチック液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるため、該重合性スメクチック液晶化合物がより一層、高次のスメクチック相の液晶状態を良好に保持したまま重合させることができる。 In the case where a polymerization inhibitor is contained in the polarizing layer forming composition, the content can be appropriately adjusted according to the type and amount of the polymerizable smectic liquid crystal compound used, the amount of photosensitizer used, and the like. For example, the content of the polymerization inhibitor is preferably from 0.1 to 30 parts by weight, more preferably from 0.5 to 10 parts by weight, and from 0.5 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the polymerizable smectic liquid crystal compounds. Further preferred. If the content of the polymerization inhibitor is within this range, the polymerizable smectic liquid crystal compound can be polymerized without disturbing the orientation of the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the polarizing layer forming composition. However, it is possible to carry out polymerization while maintaining the liquid crystal state of a higher-order smectic phase in a good condition.
以上説明した偏光層形成用組成物を、前記第2積層板の前記光配向層2上に塗布して第2塗布膜を得、該第2塗布膜中に含まれる前記重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより第2乾燥被膜3Aが形成される。その結果として、第3積層体103が得られる。
The composition for forming a polarizing layer described above is applied onto the photo-
前記第1積層板の光配向層2上に前記偏光膜形成用組成物を塗布する方法(塗布方法)としては例えば、前記工程A1において、前記光配向層形成用組成物を前記透明基材上に塗布する方法として例示したものと同じ方法が挙げられる。
As a method (coating method) for applying the composition for forming a polarizing film on the photo-
<工程A5>
続いて、工程A5では、前記第2積層板の前記第2塗布膜を乾燥することにより、該第2塗布膜から溶剤を除去して、第2乾燥被膜3Aを形成する。溶剤の除去方法は通常、前記工程A2において、第1塗布膜から第1乾燥被膜を形成する際に説明した方法と同じ方法が採用できるが、該第2塗布膜に含まれる重合性スメクチック液晶化合物が重合しないように乾燥条件を設定する。
<Process A5>
Subsequently, in step A5, by drying the second coating film of the second laminated plate, the solvent is removed from the second coating film to form a second
<工程A6>
工程A6においては、前記第2乾燥被膜3Aに含まれる重合性スメクチック液晶化合物の液晶状態をスメクチック液晶に保持したまま(積層体104)、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、偏光層3を形成する。この積層体104において、第2乾燥被膜3A中の重合性スメクチック液晶化合物を、スメクチック相の液晶状態にした層を「層3B」という。
<Process A6>
In step A6, the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the liquid crystal state of the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second
前記第2乾燥被膜3Aに含まれる重合性スメクチック液晶化合物の液晶状態をスメクチック液晶状態(以下、場合により「スメクチック相」又は「スメクチック相の液晶状態」という。)にして、層3Bを形成するためには、当該第2乾燥被膜を適切な温度に保持すればよく、換言すれば、前記第2乾燥被膜を供えた第3積層板103を、相転移温度から求めた適切な温度に保持すればよい。なお、スメクチック相の液晶状態となっている層3Bを形成するに当たり、一旦、当該第2乾燥被膜3Aに含まれる重合性スメクチック液晶組成物の液晶状態をネマチック相(ネマチック液晶状態)にした後、当該ネマチック相をスメクチック相に転移させると好ましい。このようにネマチック相を経由してスメクチック相を形成するためには例えば、第2乾燥被膜に含まれる重合性スメクチック液晶化合物がネマチック相の液晶状態に相転移する温度以上に加熱し、次いで該重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を示す温度まで冷却するといった方法が採用される。
The liquid crystal state of the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second
前記第2乾燥被膜中の重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態としたり、該重合性スメクチック液晶化合物を、ネマチック液晶状態を経由してスメクチック液晶状態としたりする場合、用いる重合性スメクチック液晶化合物の相転移温度を測定することで、液晶状態を制御する条件(加熱条件)を容易に求めることができる。この相転移温度測定の測定条件は本願の実施例で説明する。 When the polymerizable smectic liquid crystal compound in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, or the polymerizable smectic liquid crystal compound is changed to a smectic liquid crystal state via a nematic liquid crystal state, the phase of the polymerizable smectic liquid crystal compound to be used By measuring the transition temperature, the conditions for controlling the liquid crystal state (heating conditions) can be easily obtained. The measurement conditions for measuring the phase transition temperature will be described in the examples of the present application.
前記重合性スメクチック液晶化合物を重合させる際、スメクチック相の液晶状態を良好に保持するためにも、当該重合性スメクチック液晶化合物として、2種以上の重合性液晶スメクチック化合物を含む偏光層形成用組成物を用いることが好ましい。当該重合性スメクチック液晶組成物における各重合性スメクチック液晶化合物の含有量比を調整した偏光層形成用組成物を用いると、ネマチック相を経由してスメクチック相の液晶状態を形成した後に、一時的に過冷却状態を形成することが可能であり、高次のスメクチック相の液晶状態を容易に保持し易いという利点がある。 When polymerizing the polymerizable smectic liquid crystal compound, a composition for forming a polarizing layer comprising at least two polymerizable liquid crystal smectic compounds as the polymerizable smectic liquid crystal compound in order to maintain a liquid crystal state in a smectic phase satisfactorily. Is preferably used. When the composition for forming a polarizing layer in which the content ratio of each polymerizable smectic liquid crystal compound in the polymerizable smectic liquid crystal composition is adjusted is used, after the liquid crystal state of the smectic phase is formed via the nematic phase, It is possible to form a supercooled state, and there is an advantage that a high-order smectic phase liquid crystal state can be easily maintained.
ここでは、前記偏光層形成用組成物に光重合開始剤を含有させ、第2乾燥被膜中の重合性スメクチック液晶化合物の液晶状態をスメクチック相にした後、このスメクチック相の液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を光重合させる方法について詳述する。光重合において、第2乾燥被膜に照射する光線としては、当該第2乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、又は重合性スメクチック液晶化合物の種類(特に、該重合性スメクチック液晶化合物が有する光重合基の種類)及びその量に応じて適宜、可視光、紫外光及びレーザー光からなる群より選択される光や活性電子線によって行うことができる。これらのうち、重合反応の進行をコントロールし易い点や、光重合に係る装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましい。よって、紫外光によって、光重合できるように、前記偏光層形成用組成物に含有される重合性スメクチック液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択しておくと好ましい。また、重合させる際には、紫外光照射とともに適当な冷却手段により、第2乾燥被膜を冷却することで重合温度をコントロールすることもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性スメクチック液晶化合物の重合を実施できれば、上述の透明基材1や光配向層2が比較的、耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に偏光層3を形成できるという利点もある。なお、光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた偏光層3を得ることもできる。
Here, after the photopolymerization initiator is contained in the composition for forming a polarizing layer and the liquid crystal state of the polymerizable smectic liquid crystal compound in the second dry film is changed to a smectic phase, the liquid crystal state of the smectic phase is maintained. The method for photopolymerizing the polymerizable smectic liquid crystal compound will be described in detail. In the photopolymerization, the light applied to the second dry film includes the type of photopolymerization initiator contained in the second dry film, or the type of polymerizable smectic liquid crystal compound (in particular, the light possessed by the polymerizable smectic liquid crystal compound). Depending on the kind of the polymerization group) and the amount thereof, it can be carried out with light selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light and laser light, or an active electron beam. Among these, ultraviolet light is preferable in that it is easy to control the progress of the polymerization reaction and that apparatuses widely used in the field as photopolymerization apparatuses can be used. Therefore, it is preferable to select the type of the polymerizable smectic liquid crystal compound or photopolymerization initiator contained in the polarizing layer forming composition so that it can be photopolymerized by ultraviolet light. Moreover, when superposing | polymerizing, superposition | polymerization temperature can also be controlled by cooling a 2nd dry film with a suitable cooling means with ultraviolet light irradiation. If the polymerization of the polymerizable smectic liquid crystal compound can be carried out at a lower temperature by employing such a cooling means, even if the
以上のような光重合を行うことにより、前記重合性スメクチック液晶化合物は、スメクチック相、好ましくは、すでに例示したような高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合し、偏光層3が形成され、本偏光素子100が得られる。重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して得られる偏光層3は、従来の偏光層、すなわち、ネマチック相の液晶状態を保持したままで重合性液晶化合物などを重合させて得られる偏光層と比較してはるかに偏光性能が高いという利点がある。
By performing photopolymerization as described above, the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the liquid crystal state of the smectic phase, preferably the higher-order smectic phase as exemplified above, and the
かくして形成された偏光層3の厚みは、0.5〜10μmの範囲が好ましく、0.5〜3μmの範囲がさらに好ましい。したがって、第2塗布膜の厚みは、得られる偏光層3の厚みを考慮して定められる。なお、該偏光層3の厚みは、干渉膜厚計やレーザー顕微鏡あるいは触針式膜厚計の測定で求められるものである。
The thickness of the
また、かくして形成された偏光層3は、X線回折測定においてブラッグピークが得られるものであると特に好ましい。このようなブラッグピークが得られる偏光層3としては、例えば、ヘキサチック相又はクリスタル相に由来する回折ピークを示す偏光層3を挙げることができる。なお、かかるX線回折測定の測定条件は例えば、本願の実施例に記載した条件などが挙げられる。
In addition, the
<本偏光素子の連続的製造方法>
以上、本偏光素子の製造方法(本製造方法A)の概要を説明したが、商業的に本偏光素子を製造する際には、連続的に本偏光素子を製造できる方法が求められる。このような連続的製造方法はRoll to Roll形式によるものであり、場合により、「本製造方法B」という。
<Continuous manufacturing method of this polarizing element>
As mentioned above, although the outline | summary of the manufacturing method (this manufacturing method A) of this polarizing element was demonstrated, when manufacturing this polarizing element commercially, the method which can manufacture this polarizing element continuously is calculated | required. Such a continuous manufacturing method is based on the Roll to Roll format, and is sometimes referred to as “the present manufacturing method B”.
本製造方法Bは例えば、
透明基材が第1の巻芯に巻き取られている第1ロールを準備する工程と、
該第1ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程と、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該透明基材上に第1塗布膜を連続的に形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去することにより、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を連続的に得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1積層体の搬送方向に対して、略45°の角度に配向方向を有する光配向層を形成して、第2積層体を連続的に得る工程と、
該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を連続的に形成する工程と
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を連続的に得る工程と、
該第2乾燥被膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第3積層体の搬送方向に対して、45°の角度に吸収軸を有する偏光層を形成して、偏光素子を連続的に得る工程と、
連続的に得られた偏光素子を第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程と
を有する。ここで図4を参照して、本製造方法Bの要部を説明する。
The production method B is, for example,
Preparing a first roll in which a transparent substrate is wound around a first core;
Continuously feeding the transparent substrate from the first roll;
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent, and continuously forming a first coating film on the transparent substrate;
Forming the first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film, and continuously obtaining the first laminate;
By irradiating the first dry film with polarized UV, a photo-alignment layer having an orientation direction at an angle of about 45 ° with respect to the transport direction of the first laminate is formed, and the second laminate is continuously formed. And the process of obtaining
Applying a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye and a solvent on the photo-alignment layer, and continuously forming a second coating film on the photo-alignment layer; The coating film is dried under the condition that the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized to form a second dry film on the photo-alignment layer, thereby continuously forming the third laminate. A process of obtaining
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer having an absorption axis at an angle of 45 ° with respect to the transport direction to obtain a polarizing element continuously;
A step of winding the continuously obtained polarizing element around a second core to obtain a second roll. Here, with reference to FIG. 4, the principal part of this manufacturing method B is demonstrated.
透明基材が第1の巻芯210Aに巻き取られている第1ロール210は例えば、市場から容易に入手できる。このようなロールの形態で市場から入手できる透明基材としては、すでに例示した透明基材の中でも、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート又はポリメタクリル酸エステルからなるフィルムなどが挙げられる。また、本偏光素子を円偏光板として用いるに当たり、予め位相差性が付与された透明基材も、市場から容易に入手でき、例えば、セルロースエステル又は環状オレフィン系樹脂からなる位相差フィルムなどが挙げられる。
The
続いて、前記第1ロール210から透明基材を巻き出す。透明基材を巻き出す方法は該第1ロール210の巻芯210Aに適当な回転手段を設置し、当該回転手段により第1ロール210を回転させることにより行われる。また、第1ロール210から透明基材を搬送する方向に、適当な補助ロール300を設置し、当該補助ロール300の回転手段で透明基材を巻き出す形式でもよい。さらに、第1の巻芯210A及び補助ロール300ともに回転手段を設置することで、透明基材に適度な張力を付与しながら、透明基材を巻き出す形式でもよい。
Subsequently, the transparent substrate is unwound from the
前記第1ロール210から巻き出された透明基材は、塗布装置211Aを通過する際に、その表面上に当該塗布装置211Aにより前記配向膜形成用組成物が塗布される。このように連続的に配向膜形成用組成物を塗布するために上述のとおり、当該塗布装置211Aは、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、フレキソ法などの印刷法である。
When the transparent base material unwound from the
塗布装置211Aを経たフィルムは、上述の透明基材上と第1塗布膜との積層体に該当するものである。かくして第1塗布膜が形成(積層)された透明基材は、乾燥炉212Aへと搬送され、この乾燥炉212Aにより加熱されて、透明基材と第1乾燥被膜とからなる第1積層体へと転化する。乾燥炉212Aとしては例えば、熱風式乾燥炉などが用いられる。乾燥炉212Aの設定温度は、塗布装置211Aにより塗布された前記配向膜形成用組成物に含まれる溶剤の種類などに応じて定められる。また乾燥炉212Aは、適当なゾーンに区分し、区分された複数のゾーンごとに設定温度が異なる形式であってもよく、複数個の乾燥炉を直列に配置し、互いに異なる設定温度で各乾燥炉を運転しながら、この複数個の乾燥炉をフィルムが順次搬送されるという形式でもよい。
The film that has passed through the
加熱炉212Aを通過することにより連続的に形成された第1積層体は、続いて、偏光UV照射装置213Aにより、該積層体の第1乾燥被膜側の表面又は透明基材側の表面に偏光UVが照射され、該第1乾燥被膜は光偏光層に転化する。その際、フィルムの搬送方向D1と、形成される光配向層の配向方向D2とがなす角度が略45°となるようにする。図5は、偏光UV照射後に形成された光配向層の配向方向D2と、フィルムの搬送方向D1との関係を模式的に表す図である。すなわち、図5は偏光UV照射装置213A通過後の第1積層体の表面を、フィルムの搬送方向D1と、光配向層の配向方向D2とを見たとき、それらのなす角度が略45°を示すことを表している。
The first laminate continuously formed by passing through the
かくして連続的に形成された第1積層体は、続いて塗布装置211Bを通過することにより、該第1積層体の光配向層上に偏光層形成用組成物が塗布された後、乾燥炉212Bを通過することにより、第2積層体又は該第2積層体の第2乾燥被膜中に含まれる重合性スメクチック液晶化合物が、スメクチックの液晶状態を形成した積層体となる。乾燥炉212Bは、光配向層上に塗布された前記偏光層形成用組成物から溶剤を乾燥除去する役割とともに、前記第2乾燥被膜中に含まれる重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態となるように熱エネルギーを、該第2乾燥被膜に与える役割とを担う。また、すでに説明したように、重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック相の液晶状態とするために、一旦、該重合性スメクチック液晶化合物をネマチック相の液晶状態とするためには、前記第1積層体には異なる加熱条件により、多段階の加熱処理を前記第1積層体に対して行う必要がある。そのため、乾燥炉212Bは、乾燥炉212Aで説明したとおり、互いに異なる設定温度の複数のゾーンからなるものか、互いに異なる設定温度の乾燥炉を複数個準備し、該複数個の乾燥炉を直列に設置するという形式であると好ましい。
Thus, after the 1st laminated body formed continuously passes the
前記乾燥炉212Bを経たフィルムは、偏光層形成用組成物に含まれていた溶剤が十分除去され、第2乾燥被膜中の重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま、光照射装置213Bへと搬送される。該光照射装置213Bによる光照射により、該重合性スメクチック液晶化合物は前記液晶状態を保持したまま、光重合して、偏光層が形成され、本偏光素子が連続的に形成される。
The film that has passed through the drying
かくして連続的に形成された本偏光素子は、第2の巻芯220Aに巻き取られ、第2ロール220の形態が得られる。形成された本偏光素子を巻き取って第2ロールを得る際、適当なスペーサを用いた供巻きを行ってもよい。
The present polarizing element thus continuously formed is wound around the
このように、透明基材が、第1ロールから、塗布装置211A、乾燥炉212A、偏光UV照射装置213A、塗布装置211B、乾燥炉212A及び光照射装置213Aの順で通過することで、透明基材上に、本製造方法Aの工程A2〜工程A6と同じようにして、光配向層及び偏光膜が形成されて、本偏光素子が連続的に製造される。
In this way, the transparent substrate passes through the first roll from the first roll in the order of the
また、図4に示す本製造方法Bでは、透明基材から本偏光素子までを連続的に製造する方法を示したが、例えば、透明基材が、第1ロールから、塗布装置211A、乾燥炉212A、及び偏光UV照射装置213Aの順で通過させることで、連続的に形成された第1積層体を巻芯に巻き取って、第1積層体をロールの形態で製造し、該ロールから第1積層体を巻き出し、巻き出された第1積層体を、塗布装置211B、乾燥炉212A及び光照射装置213Aの順で通過させ、本偏光素子を製造してもよい。
Moreover, in this manufacturing method B shown in FIG. 4, although the method of manufacturing continuously from a transparent base material to this polarizing element was shown, for example, a transparent base material is a
本製造方法Bにより得られる本偏光素子は、その形状がフィルム状且つ長尺状のものである。この本偏光素子は、後述する液晶表示装置などに用いる場合には、当該液晶表示装置のスケールなどに合わせ、所望の寸法になるように裁断されてから用いられる。 The polarizing element obtained by the present manufacturing method B has a film shape and a long shape. When this polarizing element is used for a liquid crystal display device to be described later, the polarizing element is used after being cut to a desired size in accordance with the scale of the liquid crystal display device.
以上、透明基材/光配向層/偏光層の積層体の形態である場合を中心に、本偏光素子の構成及び製造方法を説明してきたが、本偏光素子にはこれら以外の層又は膜が積層されていてもよい。すでに述べたように、本偏光素子は位相差フィルムをさらに備えていてもよいし、反射防止層又は輝度向上フィルムをさらに備えていてもよい。また、後述するように、位相差フィルム(好ましくは、1/4λ波長板)と組み合わせて円偏光板とすることもできる。円偏光板を製造する際に用いられる1/4波長板は、可視光に対する面内位相差値が、波長が短くなるに従って小さくなる特性を有するものが好ましい。 As described above, the configuration and the manufacturing method of the polarizing element have been described mainly with respect to the case of the laminate of the transparent base material / the photo-alignment layer / the polarizing layer, but the polarizing element has layers or films other than these. It may be laminated. As already described, the polarizing element may further include a retardation film, or may further include an antireflection layer or a brightness enhancement film. Further, as will be described later, a circularly polarizing plate can be formed by combining with a retardation film (preferably a quarter-wave plate). The quarter-wave plate used when manufacturing the circularly polarizing plate preferably has a characteristic that the in-plane retardation value with respect to visible light becomes smaller as the wavelength becomes shorter.
<本偏光素子の有利な効果>
本偏光素子は、その製造方法が、光配向層形成時の光配向操作によって容易に所望の偏光方向を有する偏光層を形成できるという点で、従来の偏光素子よりも有利に製造できる。また、本製造方法Bにより、長尺状の本偏光素子を製造したとしても、該本偏光素子の長手方向に対して水平でない吸収軸を有する偏光層を備えたものを形成することができる。例えば、本偏光素子の偏光層における吸収軸を45°とすることで、後述するように、Roll to Roll貼合により、本偏光素子と1/4波長板とを張り合わせて円偏光板(本円偏光板)を製造し易くなり、本円偏光板の生産性は極めて向上する。
<Advantageous effect of this polarizing element>
This polarizing element can be manufactured more advantageously than conventional polarizing elements in that the manufacturing method can easily form a polarizing layer having a desired polarization direction by a photo-alignment operation when forming the photo-alignment layer. In addition, even if the long polarizing element is manufactured by the manufacturing method B, it is possible to form a polarizing layer having an absorption axis that is not horizontal with respect to the longitudinal direction of the polarizing element. For example, by setting the absorption axis of the polarizing layer of the polarizing element to 45 °, the polarizing element and the quarter wavelength plate are bonded to each other by roll-to-roll bonding as will be described later. The polarizing plate is easy to manufacture, and the productivity of the circular polarizing plate is greatly improved.
<本偏光素子の用途>
本偏光素子は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、電子放出表示装置(例えば電場放出表示装置(FED)、表面電界放出表示装置(SED))、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置(例えばグレーティングライトバルブ(GLV)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有する表示装置)及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、2次元画像を表示する表示装置であってもよいし、3次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。
一方、本円変更板は、特に有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置又は無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置の表示装置に有効に用いることができる。
<Application of this polarizing element>
This polarizing element can be used for various display devices. A display device is a device having a display element and includes a light-emitting element or a light-emitting device as a light-emitting source. Examples of the display device include a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, an inorganic electroluminescence (EL) display device, an electron emission display device (for example, a field emission display device (FED), a surface field emission display device (SED). )), Electronic paper (display device using electronic ink or electrophoretic element, plasma display device, projection display device (eg, display device having a grating light valve (GLV) display device, digital micromirror device (DMD)), and Examples of the liquid crystal display device include a transmissive liquid crystal display device, a transflective liquid crystal display device, a reflective liquid crystal display device, a direct view liquid crystal display device, and a projection liquid crystal display device. These display devices may be display devices that display a two-dimensional image. And it may be a stereoscopic display apparatus for displaying a three-dimensional image.
On the other hand, the present circle changing plate can be effectively used particularly for a display device of an organic electroluminescence (EL) display device or an inorganic electroluminescence (EL) display device.
図6及び図9は、本偏光素子を用いた液晶表示装置(以下、場合により「本液晶表示装置」という。)10の断面構成を模式的に表す概略図である。液晶層17は、2枚の基14a及び基板14bで挟まれている。
図12は、本偏光素子を用いたEL表示装置(以下、場合により「本EL表示装置」という。)の断面構成を模式的に表す概略図である。
図13は、本偏光素子を用いた投射型液晶表示装置の構成を模式的に表す概略図である。
6 and 9 are schematic views schematically showing a cross-sectional configuration of a liquid crystal display device (hereinafter, sometimes referred to as “the present liquid crystal display device”) 10 using the polarizing element. The
FIG. 12 is a schematic view schematically showing a cross-sectional configuration of an EL display device using the present polarizing element (hereinafter sometimes referred to as “the present EL display device”).
FIG. 13 is a schematic view schematically showing a configuration of a projection type liquid crystal display device using the present polarizing element.
まずは、図6に示す本液晶表示装置10について説明する。
基板14aの液晶層17側には、カラーフィルタ15が配置されている。カラーフィルタ15が、液晶層17をはさんで画素電極22に対向する位置に配置され、ブラックマトリクス20が画素電極間の境界に対向する位置に配置されている。透明電極16がカラーフィルタ15及びブラックマトリクス20を覆うように液晶層17側に配置されている。
なお、カラーフィルタ15と透明電極16との間にオーバーコート層(図示せず)を有していてもよい。
First, the liquid
A
An overcoat layer (not shown) may be provided between the
基板14bの液晶層17側には、薄膜トランジスタ21と画素電極22とが規則正しく配置されている。画素電極22は、液晶層17をはさんでカラーフィルタ15に対向する位置に配置されている。薄膜トランジスタ21と画素電極22との間には、接続孔(図示せず)を有する層間絶縁膜18が配置されている。
基板14a及び基板14bとしては、ガラス基板及びプラスチック基板が用いられる。
かかるガラス基板やプラスチック基板は、本偏光素子の透明基材として例示したものと同じ材質のものが採用できる。また、本偏光素子の透明基材1が基板14a及び基板14bを兼ねていてもよい。基板上に形成されるカラーフィルタ15や薄膜トランジスタ21を製造する際、高温に加熱する工程が必要である場合は、ガラス基板や石英基板が好ましい。
A glass substrate and a plastic substrate are used as the
As the glass substrate or plastic substrate, the same material as that exemplified as the transparent base material of the polarizing element can be adopted. Moreover, the
薄膜トランジスタは、基板14bの材質に応じて最適なものを採用できる。薄膜トランジスタ21としては、石英基板上に形成する高温ポリシリコントランジスタ、ガラス基板上に形成する低温ポリシリコントランジスタ、ガラス基板又はプラスチック基板上に形成するアモルファスシリコントランジスタが挙げられる。本液晶表示装置をより小型化するため、ドライバICが基板14b上に形成されていてもよい。
As the thin film transistor, an optimum one can be adopted according to the material of the
透明電極16と、画素電極22との間には、液晶層17が配置されている。液晶層17には、基板14a及び基板14b間の距離を一定に保つために、スペーサ23が配置されている。なお、図2では柱状のスペーサで図示するが、当該スペーサは柱状に限定されるものではなく、基板14a及び基板14b間の距離を一定に保つことができれば、その形状は任意である。
A
基板14a及び基板14bに形成された層のうち液晶層17と接触する面には、液晶を所望の方向へ配向させるための配向層が各々配置されていてもよい。なお、本偏光素子を液晶セル内部に配置する、すなわち、液晶層17に接する面側に本偏光素子を配置することもできる。このような形式を以下、「インセル形式」という。このインセル形式の詳細は後述する。
Of the layers formed on the
各部材は、基板14a、カラーフィルタ15及びブラックマトリクス20、透明電極16、液晶層17、画素電極22、層間絶縁膜18及び薄膜トランジスタ21、並びに基板14bの順番で積層されている。
Each member is laminated in the order of the
このような液晶層17を挟んでいる基板14a及び基板14bのうち、基板14bの外側には、偏光子12a及び12bが設けられており、これらのうち、少なくとも1つが本偏光素子である。
さらに、位相差層(例えば、1/4波長板や光学補償フィルム)13a及び13bが、積層されていると好ましい。偏光子12a及び12bのうち、本偏光素子を偏光子12bに配置することで、入射光を直線偏光に変換する機能を本液晶表示装置10に付与することができる。なお、位相差フィルム13a及び13bは、液晶表示装置の構造や、液晶層17に含まれる液晶化合物の種類によっては、配置されていなくてもよく、透明基材が位相差フィルムである本偏光素子(円偏光板)を用いた場合は、該位相差フィルムを位相差層とすることができるので、図6の位相差層13a及び/又は13bを省略することもできる。本偏光素子の光出射側(外側)にさらに偏光フィルムを設けてもよい。
また、本偏光素子の外側に(本偏光素子にさらに偏光フィルムを設けた場合は、その外側に)の外側に、外光の反射を防ぐための反射防止膜が配置されていてもよい。
Among the
Furthermore, it is preferable that retardation layers (for example, quarter-wave plates and optical compensation films) 13a and 13b are laminated. Of the
Further, an antireflection film for preventing reflection of external light may be arranged outside the present polarizing element (outside when a polarizing film is further provided on the present polarizing element).
上述のとおり、図6の本液晶表示装置10の偏光子12a又は12bに、本偏光素子を用いることができる。本偏光素子を、偏光子12a及び/又は12bに設けることにより、本液晶表示装置10の薄型化が達成できるという効果がある。
As described above, the polarizing element can be used for the
本偏光素子を偏光子12a又は12bに用いる場合、その積層順は特に限定されない。
これを図6の点線で囲まれたA及びBの部分の拡大図を参照して説明する。
When this polarizing element is used for the
This will be described with reference to an enlarged view of portions A and B surrounded by a dotted line in FIG.
図7は、図6のAの部分の拡大模式断面図である。図7の(A1)は、本偏光素子100を偏光子12aとして用いる場合、位相差層13a側から、偏光層3、光配向層2及び透明基材1がこの順に配置されるように、本偏光素子1が設けられていることを示す。また、図7の(A2)は、位相差層13a側から、透明基材1、光配向層2及び偏光層3がこの順に配置されるように、本偏光素子1が設けられていることを示す。
FIG. 7 is an enlarged schematic cross-sectional view of a portion A in FIG. (A1) in FIG. 7 shows that when the
図8は、図6のBの部分の拡大模式図である。図8の(B1)は、本偏光素子100を偏光子12bとして用いる場合、位相差フィルム13b側から、透明基材1、光配向層2及び偏光層3がこの順に配置されるように、本偏光素子100は設けられる。図8の(B2)は、本偏光素子100を偏光子12bとして用いる場合、位相差フィルム13b側から、偏光層3、光配向層2及び透明基材1がこの順に配置されるように、本偏光素子100は設けられる。
FIG. 8 is an enlarged schematic view of a portion B in FIG. (B1) in FIG. 8 shows that when the
偏光子12bの外側には、発光源であるバックライトユニットが配置されている。バックライトユニットは、光源、導光体、反射板、拡散シート及び視野角調整シートを含む。
光源としては、エレクトロルミネッセンス、冷陰極管、熱陰極管、発光ダイオード(LED)、レーザー光源及び水銀ランプなどが挙げられる。また、このような光源の特性に合わせて本偏光素子の種類を選択することができる。
A backlight unit, which is a light source, is disposed outside the
Examples of the light source include electroluminescence, a cold cathode tube, a hot cathode tube, a light emitting diode (LED), a laser light source, and a mercury lamp. In addition, the type of the polarizing element can be selected in accordance with the characteristics of such a light source.
本液晶表示装置10が透過型液晶表示装置である場合、バックライトユニット中の光源から発せられた白色光は導光体に入射し、反射板によって進路を変えられて拡散シートで拡散する。拡散光は視野角調整シートによって所望の指向性を持つように調整されたのちにバックライトユニットから偏光子12bに入射する。
When the present liquid
無偏光である入射光のうち、ある一方の直線偏光のみが液晶パネルの偏光子12bを透過する。この直線偏光は位相差層13bによって円偏光あるいは楕円偏光に変換され、基板14b、画素電極22などを順次透過して液晶層17に到る。
Of the incident light that is non-polarized light, only one linearly polarized light passes through the
ここで画素電極22と対向する透明電極16との間の電位差の有無により、液晶層17に含まれる液晶分子の配向状態が変化して、本液晶表示装置10から出射される光の輝度が制御される。液晶層17が、偏光をそのまま透過させる配向状態である場合、その偏光は液晶層17、透明電極16を透過し、ある特定の波長範囲の光がカラーフィルタ15を透過して偏光子12aに到り、液晶表示装置は、カラーフィルタで決まる色を最も明るく表示する。
Here, depending on the presence or absence of a potential difference between the
逆に、液晶層17が、偏光を変換して透過させる配向状態である場合、液晶層17、透明電極16及びカラーフィルタ15を透過した光は、偏光子12aに吸収される。このことにより、この画素は黒を表示する。これら2つの状態の中間の配向状態では、本液晶表示装置10から出射される光の輝度も上記両者の中間となるため、この画素は中間色を表示する。
On the contrary, when the
本液晶表示装置10が半透過型液晶表示装置の場合、本偏光素子の偏光層側にさらに1/4波長板を積層させたもの(円偏光板)を用いることが好ましい。このとき、画素電極22は透明な材料で形成された透過部と、光を反射する材料で形成された反射部を有し、透過部では、前述の透過型液晶表示装置と同様にして画像が表示される。一方反射部では、外光が液晶表示装置に入射し、本偏光素子にさらに備えられた1/4波長板の作用により、本偏光素子を透過した円偏光が液晶層17を通過し、画素電極22によって反射されて表示に利用される。
In the case where the present liquid
次に、本偏光素子を用いた、インセル形式の好適な液晶表示装置(本液晶表示装置24)について、図9を参照して説明する。
本液晶表示装置24では、基板14a、偏光子12a、位相差フィルム13a、カラーフィルタ15及びブラックマトリクス20、透明電極16、液晶層17、画素電極22、層間絶縁膜18及び薄膜トランジスタ21、位相差フィルム13b、偏光子b、基板14b、並びにバックライトユニット19の順番で積層され、この構成では、本偏光素子は偏光子12aとして用いられることが好ましい。この構成では、本偏光素子は、本偏光素子にある透明基材が、基板14aを兼ねるように透明基材1、光配向層2及び偏光層3の順に配置されていてもよい。かかる構成で本偏光素子を備えた本液晶表示装置24では、入射光を直線偏光にする機能が付与されている。なお、本液晶表示装置10と同様に、位相差層13a及び13bは、液晶層17に含まれる液晶化合物の種類によっては、配置されていなくてもよい。
Next, a preferred in-cell type liquid crystal display device (the present liquid crystal display device 24) using this polarizing element will be described with reference to FIG.
In the present liquid
次に、本偏光素子を用いた、本EL表示装置30について、図12を参照して説明する。本EL表示装置に、本偏光素子を用いる場合、本偏光素子を本円偏光板にしてから用いることが好ましい。本円偏光板には2つの実施形態がある。そこで、本EL表示装置30の構成などを説明する前に、本円偏光板の2つの実施形態について、図10を参照して説明する。
Next, the
図10の(A)は本円偏光板110の第1実施形態を模式的に表す断面図である。この第1実施形態は、本偏光素子100の偏光層3上にさらに位相差層(位相差フィルム)4を設けた本円偏光板110である。図10の(B)は本円偏光板110の第2実施形態を模式的に表す断面図である。この第2実施形態は、本偏光素子100を製造する際に用いた透明基材1として、予め位相差性が付与されている透明基材1(位相差フィルム4)を用いることで、透明基材1自体が位相差層4としての機能を兼ね備えたものとした本円偏光板110である。
FIG. 10A is a cross-sectional view schematically showing the first embodiment of the circularly
ここで、本円偏光板110の製造方法に関して説明しておく。本円偏光板110の第2実施形態はすでに説明したとおり、本偏光素子100を製造する本製造方法A又は本製造方法Bにおいて、透明基材1として予め位相差性を付与された透明基材1、すなわち位相差フィルムを用いることで製造できる。本円偏光板110の第1実施形態は、本製造方法A又は本製造方法Bにより製造された本偏光素子1の偏光層3上に、位相差フィルムを貼合することで位相差層4を形成すればよい。なお、本製造方法Bにより第2ロール220の形態で、本偏光素子100を製造した場合には、該第2ロール220から本偏光素子100を巻き出し、所定の寸法に裁断してから、裁断された本偏光素子100に位相差フィルムを貼合する形態でもよいが、位相差フィルムが巻芯に巻き取られている第3ロールを準備することで、形状がフィルム状且つ長尺状である本円偏光板110を連続的に製造することもできる。
Here, a manufacturing method of the present
本円偏光板110の第1実施形態を連続的に製造する方法について、図11を参照して説明する。かかる製造方法は、
前記第2ロール220から連続的に本偏光素子100を巻き出すとともに、位相差フィルムが巻き取られている第3ロール230から連続的に前記位相差フィルムを巻き出す工程と、
前記第2ロール220から巻き出された本偏光素子100に設けられた偏光層と、前記第3ロールから巻き出された前記位相差フィルムとを連続的に貼合して本円偏光板110を形成する工程と、
形成された前記円偏光板110を第4の巻芯240Aに巻き取り、第4ロール240を得る工程とからなる。この方法はいわゆるRoll to Roll貼合である。
A method for continuously manufacturing the first embodiment of the circularly
A step of continuously unwinding the
The circularly
The circularly
以上、本円偏光板110の第1実施形態の製造方法を説明したが、本偏光素子100の偏光層3と、位相差フィルムとを貼合する際には、適当な粘着剤を用い、該粘着剤から形成される粘着層を介して、偏光層3と、位相差フィルムとを貼合してもよい。
As mentioned above, although the manufacturing method of 1st Embodiment of this circularly-polarizing
続いて、本円偏光板110を備えた本EL表示装置を、図12を参照して説明する。
本EL表示装置30は、画素電極35が形成された基板33上に、発光源である有機機能層36、及びカソード電極37が積層されたものである。基板33を挟んで有機機能層36と反対側に、円偏光板31が配置され、かかる円偏光板31として本円偏光板110が用いられる。画素電極35にプラスの電圧、カソード電極37にマイナスの電圧を加え、画素電極35及びカソード電極37間に直流電流を印加することにより、有機機能層36が発光する。発光源である有機機能層36は、電子輸送層、発光層及び正孔輸送層などからなる。有機機能層36から出射した光は、画素電極35、層間絶縁膜34、基板33、円偏光板31(本円偏光板110)を通過する。有機機能層36を有する有機EL表示装置について説明するが、無機機能層を有する無機EL表示装置にも適用してもよい。
Next, the EL display device including the circular
In the
本EL表示装置30を製造するには、まず、基板33上に薄膜トランジスタ40を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜34を成膜し、次いで画素電極35をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、有機機能層36を積層する。
In order to manufacture the
次いで、基板33の薄膜トランジスタ40が設けられている面の反対の面に、円偏光板31(本円偏光板110)を設ける。
Next, the circularly polarizing plate 31 (the present circularly polarizing plate 110) is provided on the surface of the
本円偏光板110を円偏光板31として用いる場合、その積層順を図11の点線で囲まれたCの部分の拡大図を参照して説明する。本円偏光板110を円偏光板31として用いる場合、該本円偏光板110にある位相差層4が、基板33側に配置される。図12の(C1)は、本円偏光板110の第1実施形態を円偏光板31として用いた拡大図であり、図12の(C2)は、本円偏光板110の第2実施形態を円偏光板31として用いた拡大図である。
When this circularly
次に、本EL表示装置30の本偏光素子31(円偏光板110)以外の部材について簡単に説明する。
Next, members other than the polarizing element 31 (circularly polarizing plate 110) of the
基板33としては、サファイアガラス基板、石英ガラス基板、ソーダガラス基板及びアルミナなどのセラミック基板;銅などの金属基板;プラスチック基板などが挙げられる。
図示はしないが、基板33上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜(DLCなど)などが挙げられる。画素電極35を反射型とする場合は、基板33とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレスなどの非透過材料を用いることができる。基板は単一で形成されていてもよく、複数の基板を接着剤で貼り合わせて積層基板として形成されていていてもよい。また、これらの基板は、板状のものに限定するものではなく、フィルムであってもよい。
Examples of the
Although not shown, a heat conductive film may be formed on the
薄膜トランジスタ40としては例えば、多結晶シリコントランジスタなどを用いればよい。薄膜トランジスタ40は、画素電極35の端部に設けられ、その大きさは10〜30μm程度である。なお、画素電極35の大きさは20μm×20μm〜300μm×300μm程度である。
For example, a polycrystalline silicon transistor may be used as the
基板33上には、薄膜トランジスタ40の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極35と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Al、Al及び遷移金属(ただしTiを除く)、Ti又は窒化チタン(TiN)のいずれか1種又は2種以上を含有するものが使われる。
On the
薄膜トランジスタ40と画素電極35との間には層間絶縁膜34が設けられる。層間絶縁膜34は、SiO2などの酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、SOG(スピン・オン・グラス)で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミド及びアクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。
An interlayer insulating
層間絶縁膜34上に、リブ41を形成する。リブ41は、画素電極35の周辺部(隣接画素間)に配置されている。リブ41の材料としては、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂などが挙げられる。リブ41の厚みは、好ましくは1.0μm以上3.5μmであり、より好ましくは1.5μm以上2.5μm以下である。
A
次に、透明電極である画素電極35と、発光源である有機機能層36と、カソード電極37とからなるEL素子について説明する。有機機能層36は、それぞれ少なくとも1層のホール輸送層及び発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層及び正孔注入層を順次有する。
Next, an EL element including a
画素電極35としては、例えば、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)、IGZO、ZnO、SnO2及びIn2O3などが挙げられるが、特にITOやIZOが好ましい。画素電極35の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すればよく、10〜500nm程度とすることが好ましい。
画素電極35は、蒸着法(好ましくはスパッタ法)により形成することができる。スパッタガスとしては、特に制限するものではなく、Ar、He、Ne、Kr及びXeなどの不活性ガス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。
Examples of the
The
カソード電極37の構成材料としては例えば、K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及びZrなどの金属元素が用いられればよいが、電極の作動安定性を向上させるためには、例示した金属元素から選ばれる2成分又は3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(Ag:1〜20at%)、Al・Li(Li:0.3〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)及びAl・Ca(Ca:5〜20at%)などが好ましい。
カソード電極37は、蒸着法及びスパッタ法などにより形成される。カソード電極37の厚さは、0.1nm以上、好ましくは1〜500nm以上であることが好ましい。
As a constituent material of the
The
正孔注入層は、画素電極35からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能及び電子を妨げる機能を有し、電荷注入層や電荷輸送層とも称される。
発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さ、及び電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法によっても異なるが、5〜100nm程度とすることが好ましい。正孔注入層や正孔輸送層には、各種有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発光層及び電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できる点で真空蒸着法を用いることができる。
The hole injection layer has a function of facilitating the injection of holes from the
The thickness of the light-emitting layer, the combined thickness of the hole injection layer and the hole transport layer, and the thickness of the electron injection / transport layer are not particularly limited and may vary depending on the formation method, but should be about 5 to 100 nm. Is preferred. Various organic compounds can be used for the hole injection layer and the hole transport layer. For the formation of the hole injecting and transporting layer, the light emitting layer and the electron injecting and transporting layer, a vacuum deposition method can be used in that a homogeneous thin film can be formed.
発光源である有機機能層36としては、1重項励起子からの発光(蛍光)を利用するもの、3重項励起子からの発光(燐光)を利用するもの、1重項励起子からの発光(蛍光)を利用するものと3重項励起子からの発光(燐光)を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むものなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、EL素子用として公知の様々なものを用いた有機機能層36を、本EL表示装置30に用いることができる。
Examples of the organic
カソード電極37と封止フタ39との空間には乾燥剤38を配置する。これは、有機機能層36は湿度に弱いためである。乾燥剤38により水分を吸収し有機機能層36の劣化を防止する。
A
図14は、本EL表示装置30の別態様の断面構成を表す概略図である。この本EL表示装置30は、薄膜封止膜41を用いた封止構造を有し、アレイ基板の反対面からも出射光を得ることができる。
薄膜封止膜41としては電解コンデンサのフィルムにDLC(ダイヤモンドライクカーボン)を蒸着したDLC膜を用いることが好ましい。DLC膜は水分浸透性が極めて悪いという特性があり、防湿性能が高い。また、DLC膜などをカソード電極37の表面に直接蒸着して形成してもよい。また、樹脂薄膜と金属薄膜とを多層に積層して、薄膜封止膜41を形成してもよい。
FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a cross-sectional configuration of another aspect of the
As the thin
以上のようにして、本発明に係る新規な偏光素子(本偏光素子)、及び本偏光素子を備えた新規な表示装置(本液晶表示装置及び本EL表示装置)が提供される。 As described above, the novel polarizing element (the present polarizing element) according to the present invention and the novel display device (the present liquid crystal display device and the present EL display device) including the present polarizing element are provided.
最後に、本偏光素子100を用いた投射型液晶表示装置について説明する。
図15は、本偏光素子100を用いた投射型液晶表示装置を示す概略図である。
この投射型液晶表示装置の偏光子142及び/又は偏光子143として、本偏光素子100は用いられる。
Finally, a projection type liquid crystal display device using the
FIG. 15 is a schematic view showing a projection type liquid crystal display device using the
The
発光源である光源(例えば、高圧水銀ランプ)111から出射された光線束は、まずは第1のレンズアレイ112、第2のレンズアレイ113、偏光変換素子114、重畳レンズ115を通過することにより、反光線束断面での輝度の均一化と偏光化が行われる。
A light bundle emitted from a light source (for example, a high-pressure mercury lamp) 111 that is a light emission source first passes through a
具体的には光源111から出射された光線束は、微小なレンズ112aがマトリクス状に形成された第1のレンズアレイ112によって多数の微小な光線束に分割される。第2のレンズアレイ113及び重畳レンズ115は、分割された光線束のそれぞれが、照明対象である3つの液晶パネル140R,140G,140Bの全体を照射するように備えられており、このため、各液晶パネル入射側表面は全体がほぼ均一な照度となる。
Specifically, the light bundle emitted from the
偏光変換素子114は、偏光ビームスプリッタアレイにより構成され、第2のレンズアレイ113と重畳レンズ115との間に配置される。これにより光源からのランダム偏光をあらかじめ特定の偏光方向を有する偏光に変換し、後述する入射側偏光子での光量損失を低減して、画面の輝度を向上させる役割を果たしている。
The
上記のように輝度均一化および偏光化された光は、反射ミラー122を経由してRGBの3原色に分離するためのダイクロイックミラー121,123,132により順次、レッドチャンネル、グリーンチャンネル、ブルーチャンネルに分離され、それぞれ液晶パネル140R,140G,140Bに入射する。
The light whose luminance is uniformed and polarized as described above is sequentially converted into the red channel, the green channel, and the blue channel by the
液晶パネル140R,140G,140Bには、その入射側には偏光子142が配置され、出射側には偏光子143がそれぞれ配置されている。この偏光子142、偏光子143に本偏光素子100を用いることができる。
In the liquid crystal panels 140R, 140G, and 140B, a
RGB各光路に配置される偏光子142及び偏光子143は、それぞれの吸収軸が直交するように配置されている。各光路に配置される各液晶パネル140R,140G,140Bは、画像信号により画素ごとに制御された偏光状態を光量に変換する機能を有する。
The
本偏光素子100は、対応するチャンネルに適した二色性色素の種類を選択することで、ブルーチャンネル、グリーンチャンネル及びレッドチャンネルのどの光路においても耐久性の優れた偏光フィルムとして有用である。
The
液晶パネル140R,140G,140Bの画像データに応じて、画素毎に異なる透過率で入射光を透過させることによって作成された光学像は、クロスダイクロイックプリズム150により合成され、投写レンズ170によって、スクリーン180に拡大投写される。
An optical image created by transmitting incident light with different transmittance for each pixel according to the image data of the liquid crystal panels 140R, 140G, and 140B is synthesized by the cross
電子ペーパーとしては、光学異方性と染料分子配向のような分子により表示されるもの、電気泳動、粒子移動、粒子回転、相変化のような粒子により表示されるもの、フィルムの一端が移動することにより表示されるもの、分子の発色/相変化により表示されるもの、分子の光吸収により表示されるもの、電子とホールが結合して自発光により表示されるものなどが挙げられる。より具体的には、マイクロカプセル型電気泳動、水平移動型電気泳動、垂直移動型電気泳動、球状ツイストボール、磁気ツイストボール、円柱ツイストボール方式、帯電トナー、電子粉流体、磁気泳動型、磁気感熱式、エレクトロウェッテイング、光散乱(透明/白濁変化)、コレステリック液晶/光導電層、コレステリック液晶、双安定性ネマチック液晶、強誘電性液晶、2色性色素・液晶分散型、可動フィルム、ロイコ染料による発消色、フォトクロミック、エレクトロクロミック、エレクトロデポジション、フレキシブル有機ELなどが挙げられる。電子ペーパーは、テキストや画像を個人的に利用するものだけでなく、広告表示(サイネージ)等に利用されるものであってもよい。本偏光素子によれば、電子ペーパーの厚みを薄くすることができる。 Electronic paper is displayed by molecules such as optical anisotropy and dye molecule orientation, displayed by particles such as electrophoresis, particle movement, particle rotation, and phase change, and one end of the film moves And the like, those displayed by molecular color development / phase change, those displayed by light absorption of molecules, and those displayed by self-emission by combining electrons and holes. More specifically, microcapsule type electrophoresis, horizontal movement type electrophoresis, vertical movement type electrophoresis, spherical twist ball, magnetic twist ball, cylindrical twist ball method, charged toner, electronic powder fluid, magnetophoretic type, magnetic thermosensitive Formula, electrowetting, light scattering (transparency / translucency change), cholesteric liquid crystal / photoconductive layer, cholesteric liquid crystal, bistable nematic liquid crystal, ferroelectric liquid crystal, dichroic dye / liquid crystal dispersion type, movable film, leuco dye And color erasing, photochromic, electrochromic, electrodeposition, flexible organic EL, and the like. The electronic paper may be used not only for personal use of text and images but also for advertisement display (signage) or the like. According to this polarizing element, the thickness of the electronic paper can be reduced.
立体表示装置としては、例えばマイクロポール方式のように交互に異なる位相差フィルムを配列させる方法が提案(特開2002−185983号公報)されているが、本発明の光学フィルムを偏光フィルムとして用いると、印刷、インクジェット、フォトリソグラフィー等によりパターニングが容易であるため、表示装置の製造工程を短くすることができ、かつ位相差フィルムが不要となる。 As a stereoscopic display device, for example, a method of arranging different retardation films alternately like a micropole method has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-185983), but when the optical film of the present invention is used as a polarizing film, Since patterning is easy by printing, inkjet, photolithography, etc., the manufacturing process of the display device can be shortened, and a retardation film is not required.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Unless otherwise specified, “%” and “parts” in the examples are% by mass and parts by mass.
光反応性基を有するポリマーの合成例1
光反応性基を有するポリマーとして、ポリマー1及びポリマー2を合成した。
Synthesis example 1 of polymer having photoreactive group
合成例1:ポリマー1の合成
ポリマー1は、以下の構造単位からなるものである。
〔ポリマー1〕
Synthesis Example 1: Synthesis of
[Polymer 1]
[ポリマー1の合成スキーム]
[Synthesis scheme of polymer 1]
[化合物(a1−1−1)の合成]
フェルラ酸50g(258mmol)をメタノール360gに溶解させた。得られた溶液に、室温で硫酸10gを加え、溶媒が還流するまで昇温した後、還流下2時間反応させた。得られた反応溶液を冷却後、氷150g及び水150gを加えた。上澄みをデカンテーションにて除去し、さらに5℃の水150g加えて結晶化させた。得られた白色結晶をろ過した、濾過した白色結晶を、さらに1M炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄した後、真空乾燥して、化合物(a1−1−1)を22.2g得た。収率はフェルラ酸を基準として83%であった。
[Synthesis of Compound (a1-1-1)]
50 g (258 mmol) of ferulic acid was dissolved in 360 g of methanol. To the obtained solution, 10 g of sulfuric acid was added at room temperature, and the temperature was raised until the solvent was refluxed, followed by reaction for 2 hours under reflux. After cooling the resulting reaction solution, 150 g of ice and 150 g of water were added. The supernatant was removed by decantation, and further 150 g of water at 5 ° C. was added for crystallization. The obtained white crystals were filtered, and the filtered white crystals were further washed with 1M aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, and then dried under vacuum to obtain 22.2 g of compound (a1-1-1). The yield was 83% based on ferulic acid.
[化合物(b1−1−1)の合成]
化合物(a1−1−1)25g(120mmol)をジメチルアセトアミド250gに溶解させた。得られた溶液に、炭酸カリウム33.19g(240mmol)、及びヨウ化カリウム1.99g(12mmol)を加えた。得られた分散液に、6−クロロヘキサノールを滴加し、室温で1時間攪拌後、70℃で8時間攪拌した。得られた反応溶液を濾過して不溶物を除去した。濾液に、メチルイソブチルケトン200g及び水300gを加えて攪拌、静置し、分液して有機層を回収した。回収された有機層に水200gを加え、攪拌、静置及び分液という水洗操作を2回繰り返した。回収した有機層から、エバポレータを用いた減圧蒸留により溶媒を除去して、化合物(b1−1−1)の粗生成物を得た。
[Synthesis of Compound (b1-1-1)]
25 g (120 mmol) of the compound (a1-1-1) was dissolved in 250 g of dimethylacetamide. To the obtained solution, 33.19 g (240 mmol) of potassium carbonate and 1.99 g (12 mmol) of potassium iodide were added. To the obtained dispersion, 6-chlorohexanol was added dropwise, stirred at room temperature for 1 hour, and then stirred at 70 ° C. for 8 hours. The obtained reaction solution was filtered to remove insoluble matters. To the filtrate, 200 g of methyl isobutyl ketone and 300 g of water were added, stirred and allowed to stand, and separated to recover the organic layer. 200 g of water was added to the collected organic layer, and the water washing operations of stirring, standing and liquid separation were repeated twice. The solvent was removed from the recovered organic layer by distillation under reduced pressure using an evaporator to obtain a crude product of compound (b1-1-1).
[化合物(c1−1−1)の合成]
前記化合物(b1−1−1)の粗生成物の全量を、エタノール185gに溶解させた。
得られた溶液に、水92g及び水酸化ナトリウム14.41g(360mmol)を加えて80℃で1時間攪拌した。反応溶液を3℃程度まで冷却後、温度を5℃以下に保ちながら2M塩酸水溶液を加えて、pHを2にした。酸析した白色沈殿を濾取し、さらに水100g及びメタノール80gの混合溶液で2回洗浄し、真空乾燥させて、化合物(c1−1−1)を30.4g得た。収率は化合物(a1−1−1)を基準として86%であった。
[Synthesis of Compound (c1-1-1)]
The total amount of the crude product of the compound (b1-1-1) was dissolved in 185 g of ethanol.
To the obtained solution, 92 g of water and 14.41 g (360 mmol) of sodium hydroxide were added and stirred at 80 ° C. for 1 hour. After the reaction solution was cooled to about 3 ° C., a 2M hydrochloric acid aqueous solution was added while maintaining the temperature at 5 ° C. or lower to adjust the pH to 2. The acid precipitated white precipitate was collected by filtration, further washed twice with a mixed solution of 100 g of water and 80 g of methanol, and dried under vacuum to obtain 30.4 g of compound (c1-1-1). The yield was 86% based on the compound (a1-1-1).
[化合物(M1−1−1)の合成]
化合物(c1−1−1)27.46g(93mmol)をクロロホルム280gに溶解した。得られた溶液に、重合禁止剤としてBHT(ジt−ブチル−ヒドロキシトルエン)2.06g、トリエチルアミン37.73g(373mmol)を加えて氷冷下で攪拌させた。反応溶液にメタクリル酸クロリド29.26g(260mmol)を滴加し、5℃以下を保持して5時間攪拌した。得られた反応溶液に、ジメチルアミノピリジン5.7g及び水190gを加え、室温下で12時間攪拌した。静置した後、有機層を回収し、この有機層に2N塩酸水溶液100gを加え、攪拌、静置及び分液という洗浄操作を2回繰り返した。有機層を回収し、n−ヘプタン300gを加えて析出した結晶を濾取した。水100g及びメタノール80gからなる混合溶媒で2回洗浄後、真空乾燥して、化合物(M1−1−1)を22.0g得た。収率は化合物(c1−1−1)を基準として65%であった。
[Synthesis of Compound (M1-1-1)]
27.46 g (93 mmol) of the compound (c1-1-1) was dissolved in 280 g of chloroform. To the obtained solution, 2.06 g of BHT (di-t-butyl-hydroxytoluene) and 37.73 g (373 mmol) of triethylamine were added as a polymerization inhibitor and stirred under ice cooling. To the reaction solution, 29.26 g (260 mmol) of methacrylic acid chloride was added dropwise, and the mixture was stirred at 5 ° C. or lower for 5 hours. To the obtained reaction solution, 5.7 g of dimethylaminopyridine and 190 g of water were added and stirred at room temperature for 12 hours. After allowing to stand, the organic layer was recovered, 100 g of 2N hydrochloric acid aqueous solution was added to the organic layer, and washing operations of stirring, standing, and liquid separation were repeated twice. The organic layer was recovered, 300 g of n-heptane was added, and the precipitated crystals were collected by filtration. The mixture was washed twice with a mixed solvent consisting of 100 g of water and 80 g of methanol, and then vacuum-dried to obtain 22.0 g of compound (M1-1-1). The yield was 65% based on the compound (c1-1-1).
[ポリマー1の合成]
シュレンク管中に、化合物(M1−1−1)1.00g(2.76mmol)、及び10gのテトラヒドロフランを加えて、脱酸素後、窒素を流しながらアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2.27mgを加え、60℃で72時間攪拌させた。得られた反応溶液をトルエン200gに加えた。析出物を濾取し、ヘプタンで洗浄後、真空乾燥させることにより、0.75gのポリマー1を得た。収率は化合物(M1−1−1)を基準として75%であった。GPC測定より、得られたポリマー1の分子量は数平均分子量28200、Mw/Mn1.82を示し、モノマー含有量は0.5%であった。
[Synthesis of Polymer 1]
In a Schlenk tube, 1.00 g (2.76 mmol) of the compound (M1-1-1) and 10 g of tetrahydrofuran were added, and after deoxygenation, 2.27 mg of azobisisobutyronitrile (AIBN) was introduced while flowing nitrogen. And stirred at 60 ° C. for 72 hours. The obtained reaction solution was added to 200 g of toluene. The precipitate was collected by filtration, washed with heptane, and then vacuum-dried to obtain 0.75 g of
合成例2:ポリマー2の合成
Macromolecules, Vol.39, No.26(2006)記載の方法により下記の構造のポリマー2を合成した。
(なお、括弧に付した数値は、ポリマー2の全構造単位に対する各構造単位のモル分率を表す。)
Synthesis Example 2: Synthesis of
(The numerical value in parentheses represents the mole fraction of each structural unit with respect to all the structural units of
重合性スメクチック液晶化合物の合成
重合性スメクチック液晶化合物(なお、以下の説明では、重合性スメクチック液晶化合物を「重合性液晶化合物」と略称する。)として、化合物(1−6)、化合物(1−7)、化合物(1−8)、化合物(1−13)及び化合物(1−14)を合成した。
Synthesis of Polymerizable Smectic Liquid Crystal Compound As a polymerizable smectic liquid crystal compound (in the following description, the polymerizable smectic liquid crystal compound is abbreviated as “polymerizable liquid crystal compound”), compound (1-6), compound (1- 7), Compound (1-8), Compound (1-13) and Compound (1-14) were synthesized.
合成例3:化合物(1−6)(下記式(1−6)で表される化合物)
化合物(1−6)は、Lub et al. Recl.Trav.Chim.Pays−Bas,115, 321−328(1996)記載の方法で合成した。
Synthesis Example 3: Compound (1-6) (compound represented by the following formula (1-6))
Compound (1-6) was prepared according to Lub et al. Trav. Chim. It was synthesized by the method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996).
合成例4〜7:化合物(1−7)、化合物(1−8)、化合物(1−13)及び化合物(1−14)の合成
化合物(1−7)(下記式(1−7)で表される化合物)、化合物(1−8)(下記式(1−8)で表される化合物)、化合物(1−13)(下記式(1−13)で表される化合物)、化合物(1−14)(下記式(1−14)で表される化合物)は、いずれも化合物(1−6)の合成方法を参考にして合成した。
Synthesis Examples 4 to 7: Synthesis of Compound (1-7), Compound (1-8), Compound (1-13), and Compound (1-14) Compound (1-7) (in the following formula (1-7) A compound represented by the following formula (1-8), a compound (1-13) (a compound represented by the following formula (1-13)), a compound ( 1-14) (a compound represented by the following formula (1-14)) was synthesized by referring to the synthesis method of the compound (1-6).
実施例1
〔偏光層形成用組成物の調整〕
下記の成分を混合し、80℃で1時間攪拌することで、偏光層形成用組成物を得た。
重合性液晶化合物;化合物(1−6) 75部
化合物(1−7) 25部
二色性色素;アゾ色素(G205;林原生物化学研究所製) 3.0部
重合開始剤;1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュア184;チバスペシャルティケミカルズ社製) 6部
レベリング剤;ポリアクリレート化合物(BYK−361N;BYK−Chemie社製) 1.5部
溶剤;シクロペンタノン 250部
Example 1
[Adjustment of composition for forming polarizing layer]
The following components were mixed and stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a polarizing layer forming composition.
Polymerizable liquid crystal compound; Compound (1-6) 75 parts
Compound (1-7) 25 parts Dichroic dye; Azo dye (G205; manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories) 3.0 parts Polymerization initiator; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 6 Part leveling agent; polyacrylate compound (BYK-361N; manufactured by BYK-Chemie) 1.5 parts solvent; 250 parts of cyclopentanone
〔相転移温度の測定〕
偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって相転移温度を確認した。偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は、120℃まで昇温して溶剤を除去乾燥後、降温時において、110℃でネマチック相に相転移し104℃でスメクチックA相に相転移し、83℃でスメクチックB相へ相転移したことを確認した。
(Measurement of phase transition temperature)
The phase transition temperature was confirmed by texture observation with a polarizing microscope. The polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer is heated to 120 ° C., removed from the solvent, dried, then transitioned to a nematic phase at 110 ° C. and then to a smectic A phase at 104 ° C. Then, it was confirmed that the phase transition to the smectic B phase was performed at 83 ° C.
〔光配向層の作製〕
光反応性基を有するポリマー(ポリマー1又はポリマー2)を濃度5重量%で、シクロペンタノンに溶解した溶液(光配向層形成用組成物)を、ポリエチレンテレフタレート基板(PET基板)上にバーコート法により塗布し、60℃で1分間乾燥後、厚さ100nmの第1乾燥被膜を形成した。続いて、得られた第1乾燥被膜の表面に偏光UV照射処理を施して光配向層を形成した。偏光UV処理は、UV照射装置(SPOT CURE SP−7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、波長365nmで測定した強度が100mJの条件で行った。
(Preparation of photo-alignment layer)
A solution (composition for forming a photo-alignment layer) of a polymer having a photoreactive group (
〔偏光層の作製〕
光配向膜上に、偏光層形成用組成物をバーコート法により塗布し、120℃の乾燥オーブンにて1分間加熱乾燥した後、室温まで冷却して第2乾燥被膜を得た。UV照射装置(SPOT CURE SP−7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量1200mJ/cm2(365nm基準)の紫外線を第2乾燥被膜に照射することにより、偏光層を形成し、偏光素子を製造した。この際の偏光層の膜厚をレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社社製 OLS3000)により測定したところ、1.6μmであった。
(Preparation of polarizing layer)
A composition for forming a polarizing layer was applied onto the photo-alignment film by a bar coating method, dried by heating in a drying oven at 120 ° C. for 1 minute, and then cooled to room temperature to obtain a second dry film. Using a UV irradiation apparatus (SPOT CURE SP-7; manufactured by USHIO INC.), The polarizing film is formed by irradiating the second dry film with ultraviolet rays having an exposure amount of 1200 mJ / cm 2 (365 nm standard). A device was manufactured. When the film thickness of the polarizing layer at this time was measured with a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation), it was 1.6 μm.
〔X線回折測定〕
得られた偏光層に対して、X線回折装置X’Pert PRO MPD(スペクトリス株式会社製)を用いてX線回折測定を行った。ターゲットとしてCuを用いてX線管電流40mA、X線管電圧45kVの条件で発生したX線を固定発散スリット1/2°を介してラビング方向から入射させ、走査範囲2θ=4.0〜40.0°の範囲で2θ=0.01671°ステップで走査して測定を行った結果、2θ=20.22°付近にピーク半価幅(FWHM)=約0.187°のシャープな回折ピーク(ブラッグピーク)が得られた。また、ラビング垂直方向からの入射でも同等な結果を得た。ピーク位置から求めた秩序周期(d)は約4.4Åであり、高次スメクチック相を反映した構造を形成していることがわかる。
[X-ray diffraction measurement]
X-ray diffraction measurement was performed on the obtained polarizing layer using an X-ray diffractometer X′Pert PRO MPD (Spectris Co., Ltd.). Using Cu as a target, X-rays generated under conditions of an X-ray tube current of 40 mA and an X-ray tube voltage of 45 kV are incident from the rubbing direction through a fixed diverging
〔二色比の測定〕
極大吸収波長における透過軸方向の吸光度(A1)及び吸収軸方向の吸光度(A2)を、分光光度計(島津製作所株式会社製 UV−3150)に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いてダブルビーム法で測定した。該フォルダーは、リファレンス側は光量を50%カットするメッシュを設置した。測定された透過軸方向の吸光度(A1)及び吸収軸方向の吸光度(A2)の値から、比(A2/A1)を算出し、二色比とした。結果を表に示す。二色比が高いほど、偏光層として有用であるといえる。二色比の測定結果を表1に示す。
[Dichroic ratio measurement]
Using the apparatus which set the folder with a polarizer to the spectrophotometer (Shimadzu Corporation UV-3150) for the absorbance (A 1 ) in the transmission axis direction and the absorbance (A 2 ) in the absorption axis direction at the maximum absorption wavelength. Measured by the double beam method. The folder was provided with a mesh that cuts the light amount by 50% on the reference side. The ratio (A 2 / A 1 ) was calculated from the measured absorbance (A 1 ) in the transmission axis direction and absorbance (A 2 ) in the absorption axis direction to obtain a dichroic ratio. The results are shown in the table. It can be said that the higher the dichroic ratio, the more useful the polarizing layer. Table 1 shows the measurement results of the dichroic ratio.
〔配向状態の観察〕
得られた偏光層の配向状態を偏光顕微鏡観察によって確認した。偏光顕微鏡クロスニコルの間に約45°の方向にサンプルを挿入し、光抜けの状態で観察を実施した。垂直方向に配向している場合、光抜けは発生せずに暗視野の状態が観察され、水平配向している場合、光抜けが発生して明視野の状態で観察される。画面全体に渡って明視野が得られた場合は「○」、画面全体に渡って暗視野が得られた場合には「×」とする二水準で評価した。結果を表1に示す。
(Observation of orientation state)
The alignment state of the obtained polarizing layer was confirmed by polarizing microscope observation. A sample was inserted in the direction of about 45 ° between the polarizing microscope crossed Nicols, and observation was carried out in a light-out state. In the case of being oriented in the vertical direction, a dark field state is observed without occurrence of light omission, and in the case of being oriented in the horizontal direction, light omission is caused and observed in a bright field state. The evaluation was based on two levels: “◯” when a bright field was obtained over the entire screen, and “X” when a dark field was obtained over the entire screen. The results are shown in Table 1.
〔Haze値の測定〕
得られた偏光子に対して、ヘイズメーター(HZ−2;スガ試験機(株)製)を用いてヘイズ値を測定した。ヘイズ値は以下の式で表される。
ヘイズ値(%)= 散乱透過率(%)/全光線透過率(%)×100
光配向層による偏光層の配向規制力が不十分であれば、偏光層の主成分である重合性スメクチック液晶に不連続性の欠陥が発生する。この不連続性欠陥界面で光散乱が発生するために、ヘイズ値が大きな値となる。すなわち、ヘイズ値が小さければ小さいほど良好な配向性であるといえる。ここでは3%以下を良とした。結果を表1に示す。
[Measurement of Haze Value]
The haze value was measured with respect to the obtained polarizer using the haze meter (HZ-2; Suga Test Instruments Co., Ltd. product). The haze value is represented by the following formula.
Haze value (%) = scattering transmittance (%) / total light transmittance (%) × 100
If the alignment regulating force of the polarizing layer by the photo-alignment layer is insufficient, discontinuous defects occur in the polymerizable smectic liquid crystal that is the main component of the polarizing layer. Since light scattering occurs at this discontinuous defect interface, the haze value becomes a large value. That is, it can be said that the smaller the haze value, the better the orientation. Here, 3% or less was considered good. The results are shown in Table 1.
実施例2
二色性色素をアゾ色素(G205;林原生物化学研究所製)からアゾ色素(NKX2029;林原生物化学研究所製)に変えた以外は実施例1と同様にして、偏光素子を製造した。
Example 2
A polarizing element was produced in the same manner as in Example 1, except that the dichroic dye was changed from an azo dye (G205; manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories) to an azo dye (NKX2029; manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories).
〔相転移温度の測定〕
実施例1と同様にして、実施例2の偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶組成物の相転移挙動を測定した。120℃まで昇温して溶剤を除去乾燥後、降温時において、113℃でネマチック相に相転移し107℃でスメクチックA相に相転移し、83℃でスメクチックB相へ相転移したことを確認した。
(Measurement of phase transition temperature)
In the same manner as in Example 1, the phase transition behavior of the polymerizable liquid crystal composition contained in the composition for forming a polarizing layer in Example 2 was measured. After heating to 120 ° C, removing the solvent and drying, at the time of cooling, it was confirmed that the phase transition to the nematic phase at 113 ° C, the phase transition to the smectic A phase at 107 ° C, and the phase transition to the smectic B phase at 83 ° C. did.
実施例1と同様に、製造した偏光素子の二色比測定、配向状態観察、ヘイズ値測定を行った。その結果を表1に示す。 As in Example 1, dichroic ratio measurement, orientation state observation, and haze value measurement of the manufactured polarizing element were performed. The results are shown in Table 1.
実施例3
偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を、化合物(1−6)75部及び化合物(1−7)25部の混合物から、化合物(1−6)75部及び化合物(1−8)25部の混合物に変えた以外は実施例1と同様にして、偏光素子を製造した。
Example 3
The polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer is obtained by mixing 75 parts of compound (1-6) and 75 parts of compound (1-8) from a mixture of 75 parts of compound (1-6) and 25 parts of compound (1-7). ) A polarizing element was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixture was changed to 25 parts.
〔相転移温度の測定〕
実施例1と同様にして、実施例3の偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶組成物の相転移挙動を測定した。120℃まで昇温して溶剤を除去乾燥後、降温時において、111℃でネマチック相に相転移し105℃でスメクチックA相に相転移し、82℃でスメクチックB相へ相転移したことを確認した。
(Measurement of phase transition temperature)
In the same manner as in Example 1, the phase transition behavior of the polymerizable liquid crystal composition contained in the composition for forming a polarizing layer in Example 3 was measured. After heating to 120 ° C., removing the solvent and drying, it was confirmed that the phase transitioned to the nematic phase at 111 ° C., to the smectic A phase at 105 ° C., and to the smectic B phase at 82 ° C. did.
実施例1と同様に、製造した偏光素子の二色比測定、配向状態観察、ヘイズ値測定を行った。その結果を表1に示す。 As in Example 1, dichroic ratio measurement, orientation state observation, and haze value measurement of the manufactured polarizing element were performed. The results are shown in Table 1.
実施例4
偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を、化合物(1−6)75部及び化合物(1−7)25部の混合物から、化合物(1−6)75部及び化合物(1−13)25部の混合物に変えた以外は実施例1と同様にして、偏光素子を製造した。
Example 4
The polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer is obtained by mixing 75 parts of compound (1-6) and 75 parts of compound (1-13) from a mixture of 75 parts of compound (1-6) and 25 parts of compound (1-7). ) A polarizing element was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixture was changed to 25 parts.
〔相転移温度の測定〕
実施例1と同様にして、実施例4の偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶組成物の相転移挙動を測定した。130℃まで昇温して溶剤を除去乾燥後、降温時において、119℃でネマチック相に相転移し111℃でスメクチックA相に相転移し、82℃でスメクチックB相へ相転移したことを確認した。
(Measurement of phase transition temperature)
In the same manner as in Example 1, the phase transition behavior of the polymerizable liquid crystal composition contained in the composition for forming a polarizing layer in Example 4 was measured. After heating to 130 ° C., removing the solvent and drying, it was confirmed that the phase transitioned to 119 ° C. to nematic phase, to 111 ° C. to smectic A phase, and to 82 ° C. to smectic B phase. did.
実施例1と同様に、製造した偏光素子の二色比測定、配向状態観察、ヘイズ値測定を行った。その結果を表1に示す。 As in Example 1, dichroic ratio measurement, orientation state observation, and haze value measurement of the manufactured polarizing element were performed. The results are shown in Table 1.
実施例5
偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を、化合物(1−6)75部及び化合物(1−7)25部の混合物から、化合物(1−6)75部及び化合物(1−14)25部の混合物に変えた以外は実施例1と同様にして、偏光素子を製造した。
Example 5
The polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer is obtained by mixing 75 parts of compound (1-6) and 75 parts of compound (1-14) from a mixture of 75 parts of compound (1-6) and 25 parts of compound (1-7). ) A polarizing element was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixture was changed to 25 parts.
〔相転移温度の測定〕
実施例1と同様にして、実施例5の偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶組成物の相転移挙動を測定した。130℃まで昇温して溶剤を除去乾燥後、降温時において、118℃でネマチック相に相転移し109℃でスメクチックA相に相転移し、79℃でスメクチックB相へ相転移したことを確認した。
(Measurement of phase transition temperature)
In the same manner as in Example 1, the phase transition behavior of the polymerizable liquid crystal composition contained in the composition for forming a polarizing layer in Example 5 was measured. After heating to 130 ° C., removing the solvent and drying, at the time of cooling, it was confirmed that the phase transitioned to the nematic phase at 118 ° C., the phase transition to the smectic A phase at 109 ° C., and the phase transition to the smectic B phase at 79 ° C. did.
実施例1と同様に、製造した偏光素子の二色比測定、配向状態観察、ヘイズ値測定を行った。その結果を表1に示す。 As in Example 1, dichroic ratio measurement, orientation state observation, and haze value measurement of the manufactured polarizing element were performed. The results are shown in Table 1.
実施例6
光配向層形成用組成物に含まれる、光反応性基を有するポリマーを、ポリマー1からポリマー2に変えた以外は実施例1と同様にして、偏光素子を製造した。
Example 6
A polarizing element was produced in the same manner as in Example 1 except that the polymer having a photoreactive group contained in the composition for forming a photo-alignment layer was changed from
実施例1と同様に、製造した偏光素子の二色比測定、配向状態観察、ヘイズ値測定を行った。その結果を表1に示す。 As in Example 1, dichroic ratio measurement, orientation state observation, and haze value measurement of the manufactured polarizing element were performed. The results are shown in Table 1.
本発明の偏光素子及び円偏光板は、液晶表示装置、(有機)EL表示装置及び投射型液晶表示装置を製造するうえで有用である。 The polarizing element and the circularly polarizing plate of the present invention are useful for producing a liquid crystal display device, an (organic) EL display device, and a projection type liquid crystal display device.
1 透明基材
2 光配向層
3 偏光層
100 本偏光素子
110 本円偏光板
101 第1積層体
102 第2積層体
103 第3積層体
210 第1ロール 210A 巻芯
220 第2ロール 220A 巻芯
211A,211B 塗布装置
212A,212B 乾燥炉
213A 偏光UV照射装置
213B 光照射装置
300 補助ロール
10 液晶表示装置
12a、12b 偏光子(本偏光素子)
13a、13b 位相差層(位相差フィルム)
14a、14b 基板
15 カラーフィルタ
16 透明電極
17 液晶層
18 層間絶縁膜
20 ブラックマトリクス
21 薄膜トランジスタ
22 画素電極
23 スペーサ
24 液晶表示装置
30 EL表示装置
31 円偏光板
33 基板
34 層間絶縁膜
35 画素電極
36 発光層
37 カソード電極
38 乾燥剤
39 封止フタ
40 薄膜トランジスタ
41 リブ
42 薄膜板
44 EL表示装置
111 光源
112 第1のレンズアレイ
112a レンズ
113 第2のレンズアレイ
114 偏光変換素子
115 重畳レンズ
121,123,132 ダイクロイックミラー
122 反射ミラー
140R、140G,140B 液晶パネル
142,143 偏光子
150 クロスダイクロイックプリズム
170 投写レンズ
180 スクリーン
DESCRIPTION OF
13a, 13b retardation layer (retardation film)
14a,
Claims (17)
該光配向層は、二量化反応を生じる光反応性基を有し、主鎖が以下の式(M−1)で示される(メタ)アクリル酸エステル単位、式(M−2)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位、式(M−3)で示される(メタ)アクリル酸アミド単位、式(M−4)で表される(メタ)アクリルアミド単位、式(M−5)で示されるビニルエーテル単位、式(M−6)で表されるビニルエーテル単位、式(M−7)で示される(メチル)スチレン単位、式(M−8)で表される(メチル)スチレン単位、式(M−9)で示されるビニルエステル単位および式(M−10)で表されるビニルエステル単位からなる群より選ばれるものから構成されるポリマーから形成されたものであり、
該偏光層が、
重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素及びレベリング剤を含有する組成物から形成されたものであり、
該二色性色素は、式(2)
A1(−N=N−A2)p−N=N−A3 (2)
[式(2)中、
A1及びA3は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。A2は、置換基を有していてもよいp−フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン−1,4−ジイル基又は置換基を有していてもよい2価の複素環基を表す。pは1〜4の整数を表す。pが2以上である場合、複数のA2は互いに同一でも異なっていてもよい。]
で示される化合物である偏光素子。
A polarizer in which a photo-alignment layer and a polarizing layer are provided in this order on a transparent substrate,
The photo-alignment layer has a photoreactive group that causes a dimerization reaction, and a main chain is represented by a (meth) acrylate unit represented by the following formula (M-1), represented by the formula (M-2). (Meth) acrylic acid ester unit, (meth) acrylic acid amide unit represented by formula (M-3), (meth) acrylamide unit represented by formula (M-4), represented by formula (M-5) Vinyl ether unit, vinyl ether unit represented by formula (M-6), (methyl) styrene unit represented by formula (M-7), (methyl) styrene unit represented by formula (M-8), formula ( Formed from a polymer selected from the group consisting of vinyl ester units represented by M-9) and vinyl ester units represented by formula (M-10),
The polarizing layer is
It is formed from a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye and a leveling agent ,
The dichroic dye has the formula (2)
A 1 (-N = N-A 2) p -N = N-A 3 (2)
[In Formula (2),
A 1 and A 3, independently of one another, which may have a substituent phenyl group, 1 may have a naphthyl group or a substituted group may have a substituent monovalent heterocyclic group Represents. A 2 represents a p-phenylene group which may have a substituent, a naphthalene-1,4-diyl group which may have a substituent, or a divalent heterocyclic ring which may have a substituent. Represents a group. p represents an integer of 1 to 4. When p is 2 or more, the plurality of A 2 may be the same as or different from each other. ]
The polarizing element which is a compound shown by.
[式(A’)中、
nは、0又は1を表す。
X1は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−N=N−、−CH=CH−又は−CH2−を表す。
Y1は、単結合又は−O−を表す。
R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は、ポリマー主鎖に対する結合手を表す。] The polarizing element according to claim 1, wherein the polymer having the photoreactive group is a polymer containing a group represented by the formula (A ′).
[In the formula (A ′),
n represents 0 or 1.
X 1 represents a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —N═N—, —CH═CH— or —CH 2 —.
Y 1 represents a single bond or —O—.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond to the polymer main chain. ]
前記透明基材上に、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該透明基材上に第1塗布膜を形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去することにより、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1乾燥被膜から光配向層を形成して第2積層体を得る工程と、
該第2積層体にある該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、レベリング剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を形成する工程と、
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を得る工程と、
該第2乾燥被膜中の該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第2乾燥被膜から偏光層を形成する工程と
を有する製造方法。 It is a manufacturing method of the polarizing element in any one of Claims 1-4,
On the transparent substrate,
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent to form a first coating film on the transparent substrate;
Forming the first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film to obtain a first laminate;
Irradiating the first dry film with polarized UV to form a photo-alignment layer from the first dry film to obtain a second laminate;
A composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye , a leveling agent and a solvent is applied on the photo-alignment layer in the second laminate, and a second coating film is formed on the photo-alignment layer. Forming, and
The second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer to form a third laminate. Obtaining
The polymerizable smectic liquid crystal compound in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while the smectic liquid crystal state is maintained, whereby a polarizing layer is formed from the second dry film. The manufacturing method which has a process of forming.
透明基材が第1の巻芯に巻き取られている第1ロールを準備する工程と、
該第1ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程と、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該透明基材上に第1塗布膜を連続的に形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去することにより、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を連続的に得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1積層体の搬送方向に対して、略45°の角度に配向方向を有する光配向層を形成して、第2積層体を連続的に得る工程と、
該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、レベリング剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を連続的に形成する工程と
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を連続的に得る工程と、
該第2乾燥被膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第3積層体の搬送方向に対して、45°の角度に吸収軸を有する偏光層を形成して、偏光素子を連続的に得る工程と、
連続的に得られた偏光素子を第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程と
を有する製造方法。 It is a manufacturing method of the polarizing element according to claim 6.
Preparing a first roll in which a transparent substrate is wound around a first core;
Continuously feeding the transparent substrate from the first roll;
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent, and continuously forming a first coating film on the transparent substrate;
Forming the first dry film on the transparent substrate by drying and removing the solvent from the first coating film, and continuously obtaining the first laminate;
By irradiating the first dry film with polarized UV, a photo-alignment layer having an orientation direction at an angle of about 45 ° with respect to the transport direction of the first laminate is formed, and the second laminate is continuously formed. And the process of obtaining
Applying a composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye , a leveling agent and a solvent on the photo-alignment layer, and continuously forming a second coating film on the photo-alignment layer; The second coating film is dried under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized, thereby forming a second dry film on the photo-alignment layer to form a third laminate. Continuously obtaining
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer having an absorption axis at an angle of 45 ° with respect to the transport direction to obtain a polarizing element continuously;
The manufacturing method which has the process of winding up the polarizing element obtained continuously on the 2nd core, and obtaining the 2nd roll.
波長550nmの光で測定した楕円率の値が80%以上であり、
前記位相差フィルムが、波長550nmの光で測定した正面リタデーションの値が100〜150nmの範囲のフィルムである円偏光板。 A circle obtained by laminating the polarizing element according to any one of claims 1 to 4 and a retardation film so that an angle formed by an absorption axis of the polarizing layer and a slow axis of the retardation film is approximately 45 °. A polarizing plate,
The ellipticity value measured with light having a wavelength of 550 nm is 80% or more,
A circularly polarizing plate in which the retardation film is a film having a front retardation value of 100 to 150 nm measured with light having a wavelength of 550 nm.
位相差フィルムが第3の巻芯に巻き取られている第3ロールを準備する工程と、
前記偏光素子が第2の巻芯に巻き取られている第2ロールを準備する工程と、
該第2ロールから該偏光素子を連続的に巻き出すとともに、該第3ロールから該位相差フィルムを連続的に巻き出す工程と、
連続的に巻き出された偏光素子の偏光層と、連続的に巻き出された位相差フィルムとを張り合わせる工程と
を有する製造方法。 A method for producing a circularly polarizing plate according to claim 12,
Preparing a third roll in which a retardation film is wound around a third core;
Preparing a second roll in which the polarizing element is wound around a second core;
A step of continuously unwinding the polarizing element from the second roll and unwinding the retardation film from the third roll;
The manufacturing method which has the process of bonding the polarizing layer of the polarizing element unwound continuously, and the retardation film unwound continuously.
波長550nmの光で測定した楕円率の値が80%以上であり、
前記位相差フィルムが、波長550nmの光で測定した正面リタデーションの値が100〜150nmの範囲のフィルムである円偏光板。 The transparent substrate contained in the polarizing element according to any one of claims 1 to 4 is replaced with a retardation film having retardation, and an angle formed by a slow axis of the retardation film and an absorption axis of the polarizing layer. Is a circularly polarizing plate formed by laminating at approximately 45 °,
The ellipticity value measured with light having a wavelength of 550 nm is 80% or more,
A circularly polarizing plate in which the retardation film is a film having a front retardation value of 100 to 150 nm measured with light having a wavelength of 550 nm.
位相差フィルムが第1の巻芯に巻き取られている第1ロールを準備する工程と、
該第1ロールから、該位相差フィルムを連続的に送り出す工程と、
前記光反応性基を有するポリマーと溶剤とを含有する組成物を塗布して、該位相差フィルム上に第1塗布膜を連続的に形成する工程と、
該第1塗布膜から該溶剤を乾燥除去して、該透明基材上に第1乾燥被膜を形成して、第1積層体を連続的に得る工程と、
該第1乾燥被膜に偏光UVを照射することにより、該第1積層体の搬送方向に対して、略45°の角度に配向方向を有する光配向層を形成して、第2積層体を連続的に得る工程と、
該光配向層上に、重合性スメクチック液晶化合物、二色性色素、重合開始剤、レベリング剤及び溶剤を含有する組成物を塗布して、該光配向層上に第2塗布膜を連続的に形成する工程と
該第2塗布膜を、該第2塗布膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物が重合しない条件で乾燥することにより、該光配向層上に第2乾燥被膜を形成して第3積層体を連続的に得る工程と、
該第2乾燥被膜中に含まれる該重合性スメクチック液晶化合物をスメクチック液晶状態とした後、該スメクチック液晶状態を保持したまま、該重合性スメクチック液晶化合物を重合させることにより、該第3積層体の搬送方向に対して、45°の角度に吸収軸を有する偏光層を形成して、円偏光板を連続的に得る工程と、
連続的に得られた円偏光板を第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程と
を有する製造方法。 A method for producing a circularly polarizing plate according to claim 15,
Preparing a first roll in which a phase difference film is wound around a first core;
A step of continuously feeding out the retardation film from the first roll;
Applying a composition containing a polymer having a photoreactive group and a solvent, and continuously forming a first coating film on the retardation film;
A step of drying and removing the solvent from the first coating film to form a first dry film on the transparent substrate to obtain a first laminate continuously;
By irradiating the first dry film with polarized UV, a photo-alignment layer having an orientation direction at an angle of about 45 ° with respect to the transport direction of the first laminate is formed, and the second laminate is continuously formed. And the process of obtaining
A composition containing a polymerizable smectic liquid crystal compound, a dichroic dye, a polymerization initiator , a leveling agent and a solvent is applied on the photo-alignment layer, and a second coating film is continuously formed on the photo-alignment layer. And forming the second coating film on the photo-alignment layer by drying the second coating film under a condition in which the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second coating film is not polymerized. Continuously obtaining a third laminate;
The polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the second dry film is changed to a smectic liquid crystal state, and then the polymerizable smectic liquid crystal compound is polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state. Forming a polarizing layer having an absorption axis at an angle of 45 ° with respect to the transport direction to obtain a circularly polarizing plate continuously;
The manufacturing method which has the process of winding up the circularly-polarizing plate obtained continuously on the 2nd core, and obtaining the 2nd roll.
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WO2017170951A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 日産化学工業株式会社 | Alignment film forming composition |
KR102481313B1 (en) * | 2016-07-21 | 2022-12-23 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | ellipsoidal polarizer |
WO2018021328A1 (en) * | 2016-07-26 | 2018-02-01 | 日産化学工業株式会社 | Polymer composition |
WO2018022098A1 (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Display control in display devices |
JP2018022060A (en) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 東洋紡株式会社 | Long-size polarizing film and liquid crystal display, and electret luminescence display |
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KR102445631B1 (en) * | 2018-03-06 | 2022-09-21 | 후지필름 가부시키가이샤 | Method for manufacturing a laminate |
WO2019171760A1 (en) * | 2018-03-09 | 2019-09-12 | 富士フイルム株式会社 | Method for forming photo-alignment film and method for manufacturing laminate |
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KR20040083081A (en) * | 2002-01-23 | 2004-09-30 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Optical compensation plate and deflecting plate using the same |
CN1465653A (en) * | 2002-06-25 | 2004-01-07 | 中国科学院化学研究所 | A kind of liquid crystal aligning film and its preparation and application |
JP2004264345A (en) * | 2003-02-03 | 2004-09-24 | Nitto Denko Corp | Retardation film and its manufacturing method |
WO2005050269A1 (en) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Circularly polarized plate, vertically-oriented liquid crystal display panel and production methods for them |
JP2005215435A (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Visible angle control member and its manufacturing method |
JP4604661B2 (en) * | 2004-11-05 | 2011-01-05 | ウシオ電機株式会社 | Polarized light irradiation device for photo-alignment |
TWI413809B (en) * | 2004-12-27 | 2013-11-01 | Dainippon Ink & Chemicals | Optical film, elliptically polarizing plate, circularly polarizing plate, liquid crystal display element, and method of producing optical film |
US7978302B2 (en) * | 2005-06-27 | 2011-07-12 | Sumitomo Chemical Co. Ltd. | Fabrication of dichroic guest-host polarizer |
JP2007034174A (en) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacturing method of optical element |
JP2007193090A (en) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Fujifilm Corp | Method for manufacturing substrate for liquid crystal cell, substrate for liquid crystal cell and liquid crystal display device |
JP2007219022A (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Toagosei Co Ltd | Roll-type retardation film, elliptically polarizing plate, and production method thereof |
JP4708287B2 (en) * | 2006-08-25 | 2011-06-22 | 富士フイルム株式会社 | Manufacturing method of optical film, optical film, polarizing plate, transfer material, liquid crystal display device, and polarized ultraviolet exposure device |
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JP5153445B2 (en) * | 2008-01-24 | 2013-02-27 | 日東電工株式会社 | Liquid crystalline coating liquid and polarizing film |
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JP5364304B2 (en) * | 2008-06-19 | 2013-12-11 | 富士フイルム株式会社 | Liquid crystal composition, light absorption anisotropic film, polarizing element, liquid crystal display device |
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