JP6454597B2 - 塗布装置、塗布システム及び塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は、塗布装置、塗布システム及び塗布方法に関する。

従来、ガラス基板等の被処理基板に被膜等を形成するための塗布液を塗布する塗布装置が知られている。例えば、特許文献１には、ペーストを蓄える貯蔵タンクと、貯蔵タンクからペーストの供給を受け、真空状態にてペーストの脱泡を行う脱泡タンクと、脱泡を終えたペーストを塗工装置に送るシリンジポンプと、を備えた構成が開示されている。
特許文献２には、塗布液貯留タンク内の塗布液をエア抜きセクションを介して塗布液貯留空間に送り込み、ポンプにて塗布液貯留空間の体積を減少させることで塗布液貯留空間の下流側に設けたノズルから塗布液を吐出するようにした塗布装置において、エア抜きセクションとポンプとの間の配管及びポンプとノズルとの間の配管に開閉弁を設け、これら開閉弁間の配管内の空間及びポンプ内の空間を前記塗布液貯留空間とし、この塗布液貯留空間を構成する配管の途中に開閉弁を備える分岐配管を設けてエア抜きタンクにつなげた構成が開示されている。

特開平１１−３３３３５２号公報 特開２００６−４３５８４号公報

しかしながら、特許文献１では、貯蔵タンク内のペーストが脱泡タンク内にすべて供給されると、ペーストの脱泡を終了して真空バルブを閉じ、その後は、貯蔵タンクと共に脱泡タンクも圧送タンクとしての役割を担う構成であるため、塗布処理が完了しないと次の脱泡を行うことができない。
特許文献２では、エア抜きセクションから塗布液貯留空間に塗布液を送り込み、次いで、塗布液貯留空間内の塗布液圧を大気圧若しくは一定圧とした後に、ポンプを駆動して塗布液貯留空間内の体積を減少させて塗布液をノズルから吐出させる構成であるため、塗布処理が完了しないとエア抜きを行うことができない。
これら引用文献１及び２においては、脱気処理を行う際に塗布処理を一旦中止する必要があるため、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができず、生産効率の面で課題があった。

以上のような事情に鑑み、本発明は、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることが可能な塗布装置、塗布システム及び塗布方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る塗布装置は、塗布対象に塗布液を塗布する塗布部と、前記塗布部に前記塗布液を供給する供給部と、前記塗布液の脱気を行う第一の脱気部及び第二の脱気部と、前記第一の脱気部によって前記脱気が行われる間に、前記第二の脱気部から前記塗布部に前記塗布液が供給されるように前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を切り替える切替部と、を備える。

この構成によれば、第一の脱気部及び第二の脱気部を切り替えることによって、脱気を行う経路と、塗布液を供給する経路とを別個独立に分けることができるため、第一の脱気部により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部により塗布部に塗布液を供給して塗布処理を行うことができる。そのため、脱気処理を行う際に塗布処理を一旦中止する必要がない。従って、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることができる。

上記の塗布装置は、前記塗布液に含まれる異物を除去する除去部を更に備えてもよい。
この構成によれば、塗布部に供給される塗布液を濾過することができるため、異物が除去された塗布液を塗布することができる。

上記の塗布装置において、前記除去部は、前記供給部と前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部との間に設けられるフィルターを備えてもよい。
この構成によれば、脱気処理の前に塗布液に含まれる異物を除去することができるため、脱気処理の後に塗布液に気泡が混入する要因を排除することができる。

上記の塗布装置は、前記脱気を真空雰囲気で行う真空ポンプを更に備えてもよい。
この構成によれば、真空雰囲気で脱気処理を行うことができるため、脱気処理中に塗布液にガスが溶け込むことを回避することができる。

上記の塗布装置において、前記切替部は、前記供給部から前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える三方弁を備えてもよい。
この構成によれば、三方弁を用いた簡単な構成で、第一の脱気部及び第二の脱気部を切り替えることができる。

上記の塗布装置は、前記塗布液の脱気を行う第三の脱気部及び第四の脱気部を更に備えてもよい。
この構成によれば、第一の脱気部、第二の脱気部、第三の脱気部及び第四の脱気部を切り替え可能となるため、第一の脱気部、第三の脱気部及び第四の脱気部により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部により塗布部に塗布液を供給し塗布処理を行うことができる。又、第一の脱気部及び第三の脱気部により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部及び第四の脱気部により塗布部に塗布液を供給し塗布処理を行うこともできる。更に、第三の脱気部及び第四の脱気部により脱気処理を行いつつ、第一の脱気部及び第二の脱気部により塗布部に塗布液を供給し塗布処理を行うこともできる。従って、脱気処理及び塗布処理を連続的に安定して行うことができる。

上記の塗布装置において、前記切替部は、前記供給部から前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える第一の三方弁と、前記供給部から前記第三の脱気部又は前記第四の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える第二の三方弁と、を備えてもよい。
この構成によれば、第一の三方弁及び第二の三方弁を用いた簡単な構成で、第一の脱気部、第二の脱気部、第三の脱気部及び第四の脱気部を切り替えることができる。

上記の塗布装置において、前記供給部は、第一の塗布液を供給する第一の供給部と、第二の塗布液を供給する第二の供給部とを備えてもよい。
この構成によれば、第一の塗布液及び第二の塗布液として互いに異なる種類の塗布液を用いることができるため、脱気処理を行いつつ、塗布対象に異なる種類の塗布液を連続して塗布することができる。又、第一の塗布液及び第二の塗布液として互いに同じ種類の塗布液を用いることによって、一つの供給部のみを備える場合と比較して、塗布処理に用いる塗布液の容量を多く確保することができる。そのため、第一の供給部の塗布液が無くなった場合であっても、第二の供給部の塗布液を供給することができ、脱気処理を行いつつ、塗布対象に同じ種類の塗布液を連続して塗布することができる。

上記の塗布装置において、前記第一の供給部は、前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部へ前記第一の塗布液を供給可能とされ、前記第二の供給部は、前記第三の脱気部又は前記第四の脱気部へ前記第二の塗布液を供給可能とされてもよい。
この構成によれば、第一の脱気部により第一の塗布液の脱気処理を行いつつ第二の脱気部により塗布部に第一の塗布液を供給し塗布処理を行うと共に、第三の脱気部により第二の塗布液の脱気処理を行いつつ、第四の脱気部により塗布部に第二の塗布液を供給し塗布処理を行うことができる。従って、脱気処理並びに第一の塗布液及び第二の塗布液の塗布処理を連続的に安定して行うことができる。

上記の塗布装置において、前記塗布部は、前記塗布対象に前記塗布液を吐出するノズルを備えてもよい。
この構成によれば、ノズルを用いた簡単な構成で、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができる。

上記の塗布装置は、前記塗布部から吐出された前記塗布液を回収する回収部を更に備えてもよい。
この構成によれば、塗布部から吐出された塗布液を回収することができるため、塗布液を再利用することができる。

上記の塗布装置は、前記回収部によって回収された前記塗布液を前記塗布部に供給する循環部を更に備えてもよい。
この構成によれば、回収した塗布液を回収部と塗布部との間で循環させることによって、塗布液の粘度を小さくすることができるため、塗布部への塗布液の送液速度を速くして塗布効率を向上することができると共に、塗布液の粘度の最適化を図ることができる。

上記の塗布装置は、前記供給部、前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を収容する収容部を更に備えてもよい。
この構成によれば、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容部内に集約することができる。又、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容した状態で、脱気を行う経路と、塗布液を供給する経路とを別個独立に分けることができるため、収容部内に供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を配置しつつ収容部内で前記経路の配索を行うことができ、レイアウトの自由度を向上することができる。

上記の塗布装置において、前記収容部には、前記塗布部を載置する載置部が設けられてもよい。
この構成によれば、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容した状態で、載置部に塗布部を載置することができるため、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部の配置場所と、塗布部の配置場所とを分けることができ、塗布部のメンテナンス性を向上することができる。

本発明の一態様に係る塗布システムは、上記の塗布装置と、前記塗布対象を保持する保持部と、前記塗布部を着脱可能に支持する支持部と、を備える。
この構成によれば、上記の塗布装置によって、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることができる。又、塗布部が支持部に着脱可能とされるため、塗布部のメンテナンス性を向上することができる。

上記の塗布システムにおいて、前記塗布装置は、前記供給部、前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を収容する収容部を備え、前記収容部には、前記塗布部を載置する載置部が設けられ、前記塗布システムは、前記載置部と前記支持部との間で前記塗布部を移動する移動装置を更に備えてもよい。
この構成によれば、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容部内に集約することができる。又、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容した状態で、脱気を行う経路と、塗布液を供給する経路とを別個独立に分けることができるため、収容部内に供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を配置しつつ収容部内で前記経路の配索を行うことができ、レイアウトの自由度を向上することができる。
又、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容した状態で、載置部に塗布部を載置することができるため、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部の配置場所と、塗布部の配置場所とを分けることができ、塗布部のメンテナンス性を向上することができる。
更に、載置部と支持部との間で塗布部を移動することができるため、載置部への塗布部の載置と、支持部への塗布部の着脱とを容易に行うことができる。

上記の塗布システムにおいて、前記移動装置は、前記塗布部を昇降する昇降部を備えてもよい。
この構成によれば、塗布部を昇降することができるため、支持部の高さ及び載置部の高さが互いに異なる場合であっても、載置部への塗布部の載置と、支持部への塗布部の着脱とを容易に行うことができる。

本発明の一態様に係る塗布方法は、塗布対象に塗布液を塗布する塗布ステップと、前記塗布対象に前記塗布液を塗布する塗布部に前記塗布液を供給する供給ステップと、第一の脱気部及び第二の脱気部によって前記塗布液の脱気を行う脱気ステップと、前記第一の脱気部によって前記脱気が行われる間に、前記第二の脱気部から前記塗布部に前記塗布液が供給されるように前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を切り替える切替ステップと、を含む。

この方法によれば、第一の脱気部及び第二の脱気部を切り替えることによって、脱気を行う経路と、塗布液を供給する経路とを別個独立に分けることができるため、第一の脱気部により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部により塗布部に塗布液を供給して塗布処理を行うことができる。そのため、脱気処理を行う際に塗布処理を一旦中止する必要がない。従って、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることができる。

上記の塗布方法は、前記塗布部を支持する支持ステップと、 前記塗布部に前記塗布液を供給する供給部と前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部とを収容する収容部の載置部に、前記塗布部を載置する載置ステップと、前記載置ステップと前記支持ステップとの間で前記塗布部を移動する移動ステップと、を更に含んでもよい。
この方法によれば、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部を収容した状態で、載置部に塗布部を載置することができるため、供給部、第一の脱気部及び第二の脱気部の配置場所と、塗布部の配置場所とを分けることができ、塗布部のメンテナンス性を向上することができる。
又、載置部と支持部との間で塗布部を移動することができるため、載置部への塗布部の載置と、支持部への塗布部の着脱とを容易に行うことができる。

本発明によれば、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることが可能な塗布装置、塗布システム及び塗布方法を提供することができる。

第一実施形態に係る塗布装置の模式図である。 第一実施形態に係る塗布装置の斜視図である。 第一実施形態に係る塗布システムの斜視図である。 第一実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部で脱気を行いつつ第二の脱気部で塗布液の供給を行う例を示す図である。 第一実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第二の脱気部で脱気を行いつつ第一の脱気部で塗布液の供給を行う例を示す図である。 第二実施形態に係る塗布装置の模式図である。 第二実施形態に係る塗布装置の斜視図である。 第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部、第三の脱気部及び第四の脱気部で脱気を行いつつ第二の脱気部で塗布液の供給を行う例を示す図である。 第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部及び第三の脱気部で脱気を行いつつ第二の脱気部及び第四の脱気部で塗布液の供給を行う例を示す図である。 第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第三の脱気部及び第四の脱気部で脱気を行いつつ第一の脱気部及び第二の脱気部で塗布液の供給を行う例を示す図である。 第三実施形態に係る塗布装置の模式図である。 第三実施形態に係る塗布装置の斜視図である。 第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部で第一の塗布液の脱気を行うと共に第三の脱気部及び第四の脱気部で第二の塗布液の脱気を行いつつ第二の脱気部で第一の塗布液の供給を行う例を示す図である。 第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部及び第二の脱気部で第一の塗布液の脱気を行うと共に第三の脱気部で第二の塗布液の脱気を行いつつ第四の脱気部で第二の塗布液の供給を行う例を示す図である。 第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第三の脱気部及び第四の脱気部で第二の塗布液の脱気を行いつつ第一の脱気部及び第二の脱気部で第一の塗布液の供給を行う例を示す図である。 第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部及び第二の脱気部で第一の塗布液の脱気を行いつつ第三の脱気部及び第四の脱気部で第二の塗布液の供給を行う例を示す図である。

（第一実施形態）
以下、図面を参照して、本発明の第一実施形態を説明する。
図１は、第一実施形態に係る塗布装置１の模式図である。図２は、第一実施形態に係る塗布装置１の斜視図である。図３は、第一実施形態に係る塗布システム１００の斜視図である。

＜塗布装置＞
図１〜図３に示すように、塗布装置１は、基板７０（塗布対象）に被膜等を形成するための塗布液３ａを塗布するものである。図１に示すように、塗布装置１は、塗布部２、供給部３、脱気部４、切替部５、除去部６、真空ポンプ７、回収部８、循環部９、圧送ポンプ１０、加圧タンク１１、吐出ポンプ１２、電磁弁１３、三方弁１４、メンテナンス部１６及び制御部１５を備える。制御部１５は、塗布装置１の構成要素を統括制御する。

塗布部２は、基板７０に塗布液３ａを吐出するノズル２ａを備える。ノズル２ａは、長尺状に形成され、内部に塗布液３ａを収容可能とされる。例えば、ノズル２ａは、ノズル２ａの先端（下端）に塗布液３ａを吐出するスリット状の吐出口２ｂを有するスリットノズルを用いる。

供給部３は、塗布部２に供給するための塗布液３ａを貯留する貯留タンクを備える。貯留タンクには、窒素ガス等の不活性ガスを導入可能な配管３ｂが接続される。配管３ｂは、バルブを介して加圧源（何れも不図示）に接続され、バルブの開閉制御によって、貯留タンク内の圧力が調整される。供給部３は、貯留タンク内の圧力調整によって、所定量の塗布液３ａを塗布部２に向けて供給する。

例えば、塗布液３ａは、樹脂基板及び層間絶縁膜等を形成するための液状体を用いる。本実施形態において、塗布液３ａは、１〜１０Ｐａ・ｓ程度の粘度を有するポリイミドを含む液状体を用いる。一般に、液晶表示装置に用いられるＴＦＴ及び液晶層等を形成するための液状体は、０．０１Ｐａｓ以下の粘度を有する。従って、ポリイミドを含む液状体は、ＴＦＴ及び液晶層等を形成するための液状体と比較して高い粘度を有する。尚、塗布液３ａとして、ポリイミドを含む液状体以外の液状体、例えばフォトレジスト等の薬液（液体）を用いてもよい。

塗布装置１は、塗布液３ａの流路を形成する複数の配管１０１〜１２２を備える。上述の通り、塗布液３ａは、供給部３から塗布部２に向けて流れる。以下、塗布液３ａが流れる方向において、供給部３側を「上流側」、塗布部２側を「下流側」ということがある。

脱気部４は、塗布液３ａの脱気を行う二つの脱気部（第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２）を備える。
切替部５は、三つの三方弁５ａ，５ｂ，５ｃを備える。
三方弁５ａは、配管１０２側（供給部３）から配管１０３側（第一の脱気部４１）、又は配管１０４側（第二の脱気部４２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
三方弁５ｂは、配管１０８側（第一の脱気部４１）、又は配管１０９側（第二の脱気部４２）から配管１１０側（塗布部２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
三方弁５ｃは、配管１０６側（第一の脱気部４１）、又は配管１０７側（第二の脱気部４２）の塗布液３ａの脱気を切り替える。

除去部６は、塗布液３ａに含まれる異物を除去するためのフィルター６ａ，６ｂを備える。例えば、フィルター６ａ，６ｂは、テフロン（登録商標）により形成される。
フィルター６ａは、供給部３と三方弁５ａとの間の流路上に設けられる。尚、フィルター６ａは、三方弁５ａと第一の脱気部４１との間、及び三方弁５ａと第二の脱気部４２との間に設けられていてもよい。すなわち、フィルター６ａは、供給部３と第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２との間に設けられていればよい。
フィルター６ｂは、循環部９と三方弁１４との間の流路上に設けられる。

第一の脱気部４１は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３を介して供給部３に接続される。
第二の脱気部４２は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ及び配管１０４を介して供給部３に接続される。

脱気部４には、塗布液３ａの脱気を真空状態で行う真空ポンプ７が接続される。
第一の脱気部４１は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ及び配管１０６を介して真空ポンプ７に接続される。
第二の脱気部４２は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ及び配管１０７を介して真空ポンプ７に接続される。
三方弁５ｃの切替によって、配管１０６側（第一の脱気部４１）、又は配管１０７側（第二の脱気部４２）における塗布液３ａの脱気が行われる。

電磁弁１３は、脱気部４と塗布部２との間の流路を開閉する複数（例えば本実施形態では四つ）の電磁弁１３ａ〜１３ｄを有する。

第一の脱気部４１は、上流側から順に、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
第二の脱気部４２は、上流側から順に、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
三方弁５ｂの切替によって、配管１０８側（第一の脱気部４１）、又は配管１０９側（第二の脱気部４２）から配管１１０側（塗布部２）に向けて塗布液３ａが供給される。

塗布部２は、上流側から順に、配管１１２、電磁弁１３ｂ、配管１１３、加圧タンク１１、配管１１４、三方弁１４、配管１１５、電磁弁１３ｃ、配管１１６、吐出ポンプ１２、配管１１７、電磁弁１３ｄ及び配管１１８を介して圧送ポンプ１０に接続される。圧送ポンプ１０と塗布部２との間の流路上に加圧タンク１１及び吐出ポンプ１２が配置されることによって、高粘度の塗布液３ａを用いた場合であっても、塗布部２に向けて塗布液３ａをスムーズに流すことができる。

尚、加圧タンク１１は、不図示のバルブ及び配管３ｂを介して供給部３の貯留タンクに接続されてもよい。これにより、バルブの開閉制御によって、貯留タンク内の圧力が調整される。又、加圧タンク１１を吐出ポンプ１２及び供給部３で共用することで、供給部３用の加圧源を別個に設ける場合と比較して、部品点数を削減することができ、装置構成の簡素化を図ることができる。

メンテナンス部１６は、ノズル２ａの先端を洗浄したり、ノズル２ａの吐出口から塗布液３ａを予備的に吐出したりすることで、ノズル先端のコンディションを整えるノズル先端管理部１６ａを備える。ノズル先端管理部１６ａは、ノズル２ａから排出された塗布液３ａ、及びノズル２ａの洗浄に用いられた洗浄液等を収容する廃液収容部を備える。

尚、メンテナンス部１６は、ノズル２ａの先端が乾燥しないように先端をディップさせるディップ部と、ノズル２ａを交換する場合及びノズル２ａに供給する塗布液３ａを交換する場合にノズル２ａ内に保持された塗布液３ａを排出する排出部と、を有するノズル待機部を備えてもよい。

ノズル先端管理部１６ａは、配管１１９、回収部８、配管１２０、循環部９、配管１２１、フィルター６ｂ及び配管１２２を介して三方弁１４に接続される。
回収部８は、塗布部２から吐出された塗布液３ａを回収する。本実施形態において、回収部８は、塗布部２から吐出された塗布液３ａのうち再利用する分を回収する。尚、塗布部２から吐出された塗布液３ａのうち再利用しない分は、不図示の廃液貯留部に貯留される。例えば、廃液貯留部は、配管１１９から分岐する配管にバルブ（何れも不図示）を介して接続される。

循環部９は、回収部８によって回収された塗布液３ａを塗布部２に供給する。例えば、三方弁１４の配管１１４側を「閉」、配管１２２側を「開」、配管１１５側を「開」とし、配管１２２と配管１１５とを連通させる。又、電磁弁１３ｃ及び電磁弁１３ｄを「開」とする。これにより、回収した塗布液３ａは、配管１２０、循環部９、配管１２１、フィルター６ｂ、配管１２２、三方弁１４、配管１１５、電磁弁１３ｃ、配管１１６、吐出ポンプ１２、配管１１７、電磁弁１３ｂ及び配管１１８を通過して塗布部２に供給される。そして、塗布部２から吐出された塗布液３ａは、ノズル先端管理部１６ａ、配管１１９を介して回収部８に回収される。このようにして、回収した塗布液３ａは、閉じられた流路内で回収部８と塗布部２との間で循環される。

図２に示すように、塗布装置１は、供給部３、フィルター６ａ、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を収容する収容部２０を更に備える。収容部２０は、直方体の箱状をなす。収容部２０内には、塗布装置１の構成要素をつなぐ複数の配管（例えば、供給部３、フィルター６ａ、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２をつなぐ配管１０１，１０２，１０３，１０４，１０８，１０９，１１０等）が引き回される。便宜上、図２では図示を省略するが、収容部２０内には、真空ポンプ７、三方弁５ａ，５ｂ，５ｃ及びこれらをつなぐ配管１０５，１０６，１０７等も収容される。

収容部２０には、塗布部２を載置する平面視長方形状の載置部２０ａ（天板）が設けられる。載置部２０ａには、載置部２０ａの長手方向の長さと略同じ長さを有する直方体状をなす土台２１が設けられる。土台２１の中央部には、塗布部２及び吐出ポンプ１２を保持する矩形板状の板部材２２が着脱可能に設けられる。例えば、板部材２２は、不図示のビス等によって土台２１に着脱可能に取り付けられる。

載置部２０ａにおいて土台２１の側方には、加圧タンク１１が配置される。加圧タンク１１の上流側につながる配管１１３等は、載置部２０ａに形成される不図示の開口を通って収容部２０内に収容される。便宜上、図２においては、加圧タンク１１の下流側につながる配管１１４、吐出ポンプ１２、配管１１７等を図示し、三方弁１１４、配管１１５、電磁弁１３ｃ等の図示を省略する。

＜塗布システム＞
図３に示すように、塗布システム１００は、塗布装置１、保持部７１、支持部７２及び移動装置６０を備える。
保持部７１は、第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂを備える。第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂは、矩形板状の基板７０の一辺に沿う方向に延びる直方体状をなし、基板７０を挟んで互いに対向するように配置される。例えば、第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂの間には、基板７０を搬送するための複数のローラ（不図示）が設けられる。尚、第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂの間に、基板７０を浮上させて搬送する不図示の浮上搬送部が設けられてもよい。又、第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂの間に、基板７０を載置する不図示のステージを設け、基板７０を載置したステージを搬送してもよい。

支持部７２は、第一支持部７２ａ、第二支持部７２ｂ及び連結部７２ｃを備える。
第一支持部７２ａは、第一搬送アーム７１ａの厚みと略同じ厚みを有する直方体状をなし、第一搬送アーム７１ａに沿って移動可能に第一搬送アーム７１ａに取り付けられる。
第二支持部７２ｂは、第二搬送アーム７１ｂの厚みと略同じ厚みを有する直方体状をなし、第二搬送アーム７１ｂに沿って移動可能に第二搬送アーム７１ｂに取り付けられる。

連結部７２ｃは、第一支持部７２ａと第二支持部７２ｂとの間を渡すように第一搬送アーム７１ａ及び第二搬送アーム７１ｂの長手方向と直交する方向に延びる直方体状をなし、第一支持部７２ａと第二支持部７２ｂとを連結する。連結部７２ｃの中央部には、塗布部２及び吐出ポンプ１２を保持する矩形板状の板部材２２が着脱可能に支持される。例えば、板部材２２は、不図示のビス等によって連結部７２ｃに着脱可能に取り付けられる。

移動装置６０は、アーム部６１、昇降部６２、車輪支持部６３及び車輪６４を備える。
アーム部６１は、第一アーム部６１ａ、第二アーム部６１ｂ及び連結板６１ｃを備える。第一アーム部６１ａ及び第二アーム部６１ｂは、互いに平行に延びる角柱状をなし、板部材２２を下方から支持可能に間隔を空けて配置される。連結板６１ｃは、第一アーム部６１ａと第二アーム部６１ｂとの間を渡すように第一アーム部６１ａ及び第二アーム部６１ｂの長手方向と直交する方向に延びる長方形の板状をなし、第一アーム部６１ａと第二アーム部６１ｂとを連結する。

昇降部６２は、上下に延びる直方体状をなし、アーム部６１の連結板６１ｃを昇降可能に支持する。例えば、昇降部６２は、昇降部６２の長手方向に沿って設けられるガイドレールと、ガイドレールに沿ってアーム部６１を上下に移動（昇降）させる駆動機構（何れも不図示）と、を備える。

車輪支持部６３は、第一支持部６３ａ、第二支持部６３ｂ及び第三支持部６３ｃを備える。第一支持部６３ａ及び第二支持部６３ｂは、互いに平行に延びる角柱状をなし、第一アーム部６１ａ及び第二アーム部６１ｂの離反間隔よりも車輪６４の幅分だけ小さい間隔を空けて配置される。第一支持部６３ａ及び第二支持部６３ｂには、車輪６４が一つずつ回転自在に取り付けられる。

第三支持部６３ｃは、第一支持部６３ａと第二支持部６３ｂとの間を渡すように第一支持部６３ａ及び第二支持部６３ｂの長手方向と直交する方向に延びる角柱状をなし、第一支持部６３ａと第二支持部６３ｂとを連結する。第三支持部６３ｃの中央部には、昇降部６２の下端部が固定される。第三支持部６３ｃにおいて昇降部６２の下端部の側方には、二つの車輪６４が回転自在に取り付けられる。

例えば、移動装置６０は、遠隔操作によって、塗布装置１と支持部７２との間を移動可能とされる。又、移動装置６０の昇降部６２は、塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で、塗布部２を昇降可能とされる。そのため、移動装置６０の遠隔操作によって、塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で塗布部２を移動することができる。

尚、移動装置６０に不図示の操縦席を設け、作業者が操縦席に座りながら移動装置６０を操作することによって、塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で塗布部２を移動してもよい。又、作業者が手動で移動装置６０を操作することによって、塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で塗布部２を移動してもよい。

＜塗布方法＞
次に、本実施形態に係る塗布方法を説明する。本実施形態では、上記の塗布装置１又は塗布システム１００を用いて基板７０に塗布液３ａを塗布する。塗布装置１、塗布システム１００の各部で行われる動作は、制御部１５によって制御される。

本実施形態に係る塗布方法は、塗布ステップ、供給ステップ、脱気ステップ及び切替ステップを含む。
塗布ステップにおいて、塗布部２は、基板７０に塗布液３ａを塗布する。
供給ステップにおいて、供給部３は、塗布部２に塗布液３ａを供給する。
脱気ステップにおいて、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２は、塗布液３ａの脱気を行う。
切替ステップにおいて、切替部５は、第一の脱気部４１によって脱気が行われる間に、第二の脱気部４２から塗布部２に塗布液３ａが供給されるように第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を切り替える。

図４は、第一実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１で脱気を行いつつ第二の脱気部４２で塗布液３ａの供給を行う例を示す図である。
図４に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ａの配管１０２側を「開」、配管１０３側を「閉」、配管１０４側を「開」とし、配管１０２と配管１０４とを連通させる。

これにより、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ及び配管１０４を通過して第二の脱気部４２に供給される。このとき、三方弁５ａの配管１０３側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「閉」、配管１０９側を「開」、配管１１０側を「開」とし、配管１０９と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０、配管１１１、配管１１２、配管１１３、配管１１４、配管１１５、配管１１６、配管１１７及び配管１１８を連通させる。

これにより、第二の脱気部４２に供給された塗布液３ａは、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０、配管１１２、電磁弁１３ｂ、配管１１３、加圧タンク１１、配管１１４、三方弁１４、配管１１５、電磁弁１３ｃ、配管１１６、吐出ポンプ１２、配管１１７、電磁弁１３ｄ及び配管１１８を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０８側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「閉」とし、配管１０５と配管１０６とを連通させる。
これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１における塗布液３ａの脱気が行われる。このとき、三方弁５ｃの配管１０７側は閉じられているため、第二の脱気部４２における塗布液３ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１によって脱気が行われる間に、第二の脱気部４２から塗布部２に塗布液３ａが供給される。

図５は、第一実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第二の脱気部４２で脱気を行いつつ第一の脱気部４１で塗布液３ａの供給を行う例を示す図である。
図５に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ａの配管１０２側を「開」、配管１０３側を「開」、配管１０４側を「閉」とし、配管１０２と配管１０３とを連通させる。

これにより、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ及び配管１０３を通過して第一の脱気部４１に供給される。このとき、三方弁５ａの配管１０４側は閉じられているため、第二の脱気部４２には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「閉」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０、配管１１１、配管１１２、配管１１３、配管１１４、配管１１５、配管１１６、配管１１７及び配管１１８を連通させる。

これにより、第一の脱気部４１に供給された塗布液３ａは、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０、配管１１２、電磁弁１３ｂ、配管１１３、加圧タンク１１、配管１１４、三方弁１４、配管１１５、電磁弁１３ｃ、配管１１６、吐出ポンプ１２、配管１１７、電磁弁１３ｄ及び配管１１８を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０９側は閉じられているため、第二の脱気部４２には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「閉」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５と配管１０７とを連通させる。
これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４２における塗布液３ａの脱気が行われる。このとき、三方弁５ｃの配管１０６側は閉じられているため、第一の脱気部４１における塗布液３ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を切り替えることにより、閉じられた流路内で第二の脱気部４２によって脱気が行われる間に、第一の脱気部４１から塗布部２に塗布液３ａが供給される。

次に、上記の移動装置６０を用いて塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で塗布部２を移動する方法を説明する。図３においては、二つの塗布装置１を図示し、一方の塗布装置１を駆動状態とし、他方の塗布装置１を待機状態とする。
ここで、駆動状態とは、基板７０に塗布液３ａを塗布している状態を意味する。待機状態とは、基板７０に塗布液３ａを塗布していない状態、すなわち、塗布部２が載置部２０ａに載置されている状態を意味する。

本実施形態に係る塗布方法は、支持ステップ、載置ステップ及び移動ステップを更に含む。
支持ステップにおいて、支持部７２は、塗布部２を支持する。例えば、塗布部２及び吐出ポンプ１２を保持した板部材２２（以下「塗布ユニット」という。）を、不図示のビス等によって支持部７２の連結部７２ｃに着脱可能に取り付ける。
載置ステップにおいて、収容部２０の載置部２０ａに塗布部２を載置する。例えば、塗布ユニットを、不図示のビス等によって載置部２０ａの土台２１に着脱可能に取り付ける。

移動ステップにおいて、載置ステップと支持ステップとの間で塗布部２を移動する。例えば、載置部２０ａの手前に移動装置６０を移動した後、塗布ユニットを土台２１から取り外し、その後、アーム部６１によって塗布ユニットを下方から支持する。その後、アーム部６１で塗布ユニットを支持した状態で、移動装置６０を支持部７２に向けて移動する。支持部７２の手前に移動装置６０を移動した後、塗布ユニットを支持部７２の連結部７２ｃに取り付ける。
尚、移動装置６０の昇降部６２を駆動することによって、塗布装置１の載置部２０ａの手前、又は支持部７２の連結部７２ｃの手前で、塗布ユニットを昇降してもよい。
これらのステップを経て、塗布装置１の載置部２０ａと支持部７２の連結部７２ｃとの間で塗布部２を移動することができる。

以上のように、本実施形態によれば、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を切り替えることによって、脱気を行う経路と、塗布液３ａを供給する経路とを別個独立に分けることができるため、第一の脱気部４１により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部４２により塗布部２に塗布液３ａを供給して塗布処理を行うことができる。そのため、脱気処理を行う際に塗布処理を一旦中止する必要がない。従って、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることができる。

又、塗布装置１は、塗布液３ａに含まれる異物を除去する除去部６を更に備えることで、塗布部２に供給される塗布液３ａを濾過することができるため、異物が除去された塗布液３ａを塗布することができる。

又、除去部６は、供給部３と第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２との間に設けられるフィルター６ａを備えることで、脱気処理の前に塗布液３ａに含まれる異物を除去することができるため、脱気処理の後に塗布液３ａに気泡が混入する要因を排除することができる。

又、塗布装置１は、脱気を真空雰囲気で行う真空ポンプ７を更に備えることで、真空雰囲気で脱気処理を行うことができるため、脱気処理中に塗布液３ａにガスが溶け込むことを回避することができる。

又、切替部５は、供給部３から第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２への塗布液３ａの供給を切り替える三方弁５ａ，５ｂ，５ｃを備えることで、三方弁５ａ，５ｂ，５ｃを用いた簡単な構成で、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を切り替えることができる。

又、塗布部２は、基板７０に塗布液３ａを吐出するノズル２ａを備えることで、ノズル２ａを用いた簡単な構成で、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができる。

又、塗布装置１は、塗布部２から吐出された塗布液３ａを回収する回収部８を更に備えることで、塗布部２から吐出された塗布液３ａを回収することができるため、塗布液３ａを再利用することができる。

又、塗布装置１は、回収部８によって回収された塗布液３ａを塗布部２に供給する循環部９を更に備えることで、回収した塗布液３ａを回収部８と塗布部２との間で循環させることによって、塗布液３ａの粘度を小さくすることができるため、塗布部２への塗布液３ａの送液速度を速くして塗布効率を向上することができると共に、塗布液３ａの粘度の最適化を図ることができる。塗布液３ａの粘度の最適化を図ることによって、高粘度の塗布液３ａを用いた場合であっても、塗布部２に向けて塗布液３ａをスムーズに流すことができる。

又、塗布装置１は、供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を収容する収容部２０を更に備えることで、供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を収容部２０内に集約することができる。又、供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を収容した状態で、脱気を行う経路と、塗布液３ａを供給する経路とを別個独立に分けることができるため、収容部２０内に供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を配置しつつ収容部２０内で前記経路の配索を行うことができ、レイアウトの自由度を向上することができる。

又、収容部２０には、塗布部２を載置する載置部２０ａが設けられることで、供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２を収容した状態で、載置部２０ａに塗布部２を載置することができるため、供給部３、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２の配置場所と、塗布部２の配置場所とを分けることができ、塗布部２のメンテナンス性を向上することができる。

又、塗布システム１００は、上記の塗布装置１と、基板７０を保持する保持部７１と、塗布部２を着脱可能に支持する支持部７２と、を備えることで、上記の塗布装置１によって、脱気処理を行いつつ塗布処理を連続して行うことができ、生産効率の向上を図ることができる。又、塗布部２が支持部７２に着脱可能とされるため、塗布部２のメンテナンス性を向上することができる。

又、塗布システム１００は、載置部２０ａと支持部７２との間で塗布部２を移動する移動装置６０を更に備えることで、載置部２０ａと支持部７２との間で塗布部２を移動することができるため、載置部２０ａへの塗布部２の載置と、支持部７２への塗布部２の着脱とを容易に行うことができる。

又、移動装置６０は、塗布部２を昇降する昇降部６２を備えることで、塗布部２を昇降することができるため、支持部７２の高さ及び載置部２０ａの高さが互いに異なる場合であっても、載置部２０ａへの塗布部２の載置と、支持部７２への塗布部２の着脱とを容易に行うことができる。

（第二実施形態）
次に、本発明の第二実施形態について、図６〜図１０を用いて説明する。
図６は、第二実施形態に係る塗布装置２０１の模式図である。図７は、第二実施形態に係る塗布装置２０１の斜視図である。
第二実施形態では、第一実施形態に対して、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を更に備える点で特に異なる。図６及び図７において、第一実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。

＜塗布装置＞
図６に示すように、本実施形態に係る塗布装置２０１は、脱気部２０４及び切替部２０５を備える。
脱気部２０４は、塗布液３ａの脱気を行う四つの脱気部（第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４）を備える。
切替部２０５は、三方弁５ａ，５ｂ，５ｃと、第一の三方弁５１と、第二の三方弁５２とを備える。
三方弁５ａは、配管１０２側（供給部３）から配管１０３側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）、又は配管１０４側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）への塗布液３ａの供給を切り替える。
三方弁５ｂは、配管１０８側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）、又は配管１０９側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）から配管１１０側（塗布部２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
三方弁５ｃは、配管１０６側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）、又は配管１０７側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）の塗布液３ａの脱気を切り替える。

第一の三方弁５１は、第一の三方弁５１ａ，５１ｂ，５１ｃを備える。
第一の三方弁５１ａは、配管１０３側（供給部３）から配管１０３ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０３ｂ側（第二の脱気部４２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
第一の三方弁５１ｂは、配管１０８ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０８ｂ側（第二の脱気部４２）から配管１０８側（塗布部２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
第一の三方弁５１ｃは、配管１０６ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０６ｂ側（第二の脱気部４２）の塗布液３ａの脱気を切り替える。

第二の三方弁５２は、第二の三方弁５２ａ，５２ｂ，５２ｃを備える。
第二の三方弁５２ａは、配管１０４側（供給部３）から配管１０４ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０４ｂ側（第四の脱気部４４）への塗布液３ａの供給を切り替える。
第二の三方弁５２ｂは、配管１０９ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０９ｂ側（第四の脱気部４４）から配管１０９側（塗布部２）への塗布液３ａの供給を切り替える。
第二の三方弁５２ｃは、配管１０７ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０７ｂ側（第四の脱気部４４）の塗布液３ａの脱気を切り替える。

第一の脱気部４１は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ａを介して供給部３に接続される。
第二の脱気部４２は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを介して供給部３に接続される。
第三の脱気部４３は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０４、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ａを介して供給部３に接続される。
第四の脱気部４４は、上流側から順に、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０４、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ｂを介して供給部３に接続される。

脱気部２０４には、塗布液３ａの脱気を真空状態で行う真空ポンプ７が接続される。
第一の脱気部４１は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ、配管１０６、第一の三方弁５１ｃ及び配管１０６ａを介して真空ポンプ７に接続される。
第二の脱気部４２は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ、配管１０６、第一の三方弁５１ｃ及び配管１０６ｂを介して真空ポンプ７に接続される。
第三の脱気部４３は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ、配管１０７、第二の三方弁５２ｃ及び配管１０７ａを介して真空ポンプ７に接続される。
第四の脱気部４４は、真空ポンプ７側から順に、配管１０５、三方弁５ｃ、配管１０７、第二の三方弁５２ｃ及び配管１０７ｂを介して真空ポンプ７に接続される。
三方弁５ｃの切替によって、配管１０６側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）、又は配管１０７側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）における塗布液３ａの脱気が行われる。

第一の脱気部４１は、上流側から順に、配管１０８ａ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
第二の脱気部４２は、上流側から順に、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
第三の脱気部４３は、上流側から順に、配管１０９ａ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
第四の脱気部４４は、上流側から順に、配管１０９ｂ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ及び配管１１１を介して圧送ポンプ１０に接続される。
三方弁５ｂの切替によって、配管１０８側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）、又は配管１０９側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）から配管１１０側（塗布部２）に向けて塗布液３ａが供給される。

図７に示すように、収容部２０内には、塗布装置２０１の構成要素をつなぐ複数の配管（例えば、供給部３、フィルター６ａ、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４をつなぐ配管１０１，１０２，１０３，１０３ａ，１０３ｂ，１０４，１０４ａ，１０４ｂ，１０８，１０８ａ，１０８ｂ，１０９，１０９ａ，１０９ｂ，１１０等）が引き回される。便宜上、図７では図示を省略するが、収容部２０内には、真空ポンプ７、三方弁５ａ，５ｂ，５ｃ、第一の三方弁５１ａ，５１ｂ，５１ｃ、第二の三方弁５２ａ，５２ｂ，５２ｃ及びこれらをつなぐ配管１０５，１０６，１０６ａ，１０６ｂ，１０７，１０７ａ，１０７ｂ等も収容される。

＜塗布方法＞
次に、本実施形態に係る塗布方法を説明する。本実施形態では、上記の塗布装置２０１を用いて基板７０に塗布液３ａを塗布する。塗布装置２０１の各部で行われる動作は、制御部１５によって制御される。尚、本実施形態に係る塗布方法において、第一実施形態と同様の方法については、その詳細な説明を省略する。

図８は、第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４で脱気を行いつつ第二の脱気部４２で塗布液３ａの供給を行う例を示す図である。

図８に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ａの配管１０２側を「開」、配管１０３側を「開」、配管１０４側を「閉」とし、配管１０２と配管１０３とを連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ａの配管１０３側を「開」、配管１０３ａ側を「閉」、配管１０３ｂ側を「開」とし、配管１０３と配管１０３ｂとを連通させる。

これにより、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを通過して第二の脱気部４２に供給される。
このとき、三方弁５ａの配管１０４側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４には塗布液３ａは供給されない。又、第一の三方弁５１ａの配管１０３ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１にも塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側を「閉」、配管１０８ｂ側を「開」、配管１０８側を「開」とし、配管１０８ｂと配管１０８とを連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「閉」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第二の脱気部４２に供給された塗布液３ａは、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。又、三方弁５ｂの配管１０９側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５、配管１０６及び配管１０７を連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ｃの配管１０６側を「開」、配管１０６ａ側を「開」、配管１０６ｂ側を「閉」とし、配管１０６と配管１０６ａとを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「開」とし、配管１０７、配管１０７ａ及び配管１０７ｂを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４における塗布液３ａの脱気が行われる。
このとき、第一の三方弁５１ｃの配管１０６ｂ側は閉じられているため、第二の脱気部４２における塗布液３ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４によって脱気が行われる間に、第二の脱気部４２から塗布部２に塗布液３ａが供給される。

図９は、第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１及び第三の脱気部４３で脱気を行いつつ第二の脱気部４２及び第四の脱気部４４で塗布液３ａの供給を行う例を示す図である。

図９に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ａの配管１０２側を「開」、配管１０３側を「開」、配管１０４側を「開」とし、配管１０２、配管１０３及び配管１０４を連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ａの配管１０３側を「開」、配管１０３ａ側を「閉」、配管１０３ｂ側を「開」とし、配管１０３と配管１０３ｂとを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ａの配管１０４側を「開」、１０４ａ側を「閉」、配管１０４ｂ側を「開」とし、配管１０４と配管１０４ｂとを連通させる。

これにより、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを通過して第二の脱気部４２に供給される。又、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０４、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ｂを通過して第四の脱気部４４に供給される。
このとき、第一の三方弁５１ａの配管１０３ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。又、第二の三方弁５２ａの配管１０４ａ側は閉じられているため、第三の脱気部４３にも塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側を「閉」、配管１０８ｂ側を「開」、配管１０８側を「開」とし、配管１０８ｂと配管１０８とを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｂの配管１０９ａ側を「閉」、配管１０９ｂ側を「開」、配管１０９側を「開」とし、配管１０９ｂと配管１０９とを連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「開」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８、配管１０９及び配管１１０を連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第二の脱気部４２に供給された塗布液３ａは、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
又、第四の脱気部４４に供給された塗布液３ａは、配管１０９ｂ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。又、第二の三方弁５２ｂの配管１０９ａ側は閉じられているため、第三の脱気部４３にも塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５、配管１０６及び配管１０７を連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ｃの配管１０６側を「開」、配管１０６ａ側を「開」、配管１０６ｂ側を「閉」とし、配管１０６と配管１０６ａとを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「閉」とし、配管１０７と配管１０７ａとを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１及び第三の脱気部４３における塗布液３ａの脱気が行われる。
このとき、第一の三方弁５１ｃの配管１０６ｂ側は閉じられているため、第二の脱気部４２における塗布液３ａの脱気は行われない。又、第二の三方弁５２ｃの配管１０７ｂ側は閉じられているため、第四の脱気部４４における塗布液３ａの脱気も行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１及び第三の脱気部４３によって脱気が行われる間に、第二の脱気部４２及び第四の脱気部４４から塗布部２に塗布液３ａが供給される。

図１０は、第二実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４で脱気を行いつつ第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２で塗布液３ａの供給を行う例を示す図である。

図１０に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ａの配管１０２側を「開」、配管１０３側を「開」、配管１０４側を「閉」とし、配管１０２と配管１０３とを連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ａの配管１０３側を「開」、配管１０３ａ側を「開」、配管１０３ｂ側を「開」とし、配管１０３、配管１０３ａ及び配管１０３ｂを連通させる。

これにより、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ａを通過して第一の脱気部４１に供給される。
又、供給部３からの塗布液３ａは、配管１０１、フィルター６ａ、配管１０２、三方弁５ａ、配管１０３、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを通過して第二の脱気部４２に供給される。
このとき、三方弁５ａの配管１０４側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側を「開」、配管１０８ｂ側を「開」、配管１０８側を「開」とし、配管１０８ａ、配管１０８ｂ及び配管１０８を連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「閉」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第一の脱気部４１に供給された塗布液３ａは、配管１０８ａ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
又、第二の脱気部４２に供給された塗布液３ａは、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０９側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「閉」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５と配管１０７とを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「開」とし、配管１０７、配管１０７ａ及び配管１０７ｂを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４の塗布液３ａの脱気が行われる。
このとき、三方弁５ｃの配管１０６側は閉じられているため、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２における塗布液３ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４によって脱気が行われる間に、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２から塗布部２に塗布液３ａが供給される。

以上のように、本実施形態によれば、塗布液３ａの脱気を行う第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を更に備えることで、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替え可能となるため、第一の脱気部４１、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部４２により塗布部２に塗布液３ａを供給し塗布処理を行うことができる。又、第一の脱気部４１及び第三の脱気部４３により脱気処理を行いつつ、第二の脱気部４２及び第四の脱気部４４により塗布部２に塗布液３ａを供給し塗布処理を行うこともできる。更に、第三の脱気部及び第四の脱気部により脱気処理を行いつつ、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２により塗布部２に塗布液３ａを供給し塗布処理を行うこともできる。従って、脱気処理及び塗布処理を連続的に安定して行うことができる。

又、切替部２０５は、供給部３から第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２への塗布液３ａの供給を切り替える第一の三方弁５１と、供給部３から第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４への塗布液３ａの供給を切り替える第二の三方弁５２と、を備えることで、第一の三方弁５１及び第二の三方弁５２を用いた簡単な構成で、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることができる。

（第三実施形態）
次に、本発明の第三実施形態について、図１１〜図１６を用いて説明する。
図１１は、第三実施形態に係る塗布装置３０１の模式図である。図１２は、第三実施形態に係る塗布装置３０１の斜視図である。
第三実施形態では、第二実施形態に対して、供給部３０３が第一の供給部３１及び第二の供給部３２を備える点で特に異なる。図１１及び図１２において、第二実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。

＜塗布装置＞
図１１に示すように、本実施形態に係る塗布装置３０１は、供給部３０３、切替部３０５及び除去部３０６を備える。
供給部３０３は、第一の供給部３１及び第二の供給部３２を備える。
第一の供給部３１は、塗布部２に供給するための第一の塗布液３１ａを貯留する貯留タンクを備える。貯留タンクには、窒素ガス等の不活性ガスを導入可能な配管３１ｂが接続される。配管３１ｂは、バルブを介して加圧源（何れも不図示）に接続され、バルブの開閉制御によって、貯留タンク内の圧力が調整される。第一の供給部３１は、貯留タンク内の圧力調整によって、所定量の第一の塗布液３１ａを塗布部２に向けて供給する。第一の供給部３１は、第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２へ第一の塗布液３１ａを供給可能とされる。

第二の供給部３２は、塗布部２に供給するための第二の塗布液３２ａを貯留する貯留タンクを備える。貯留タンクには、窒素ガス等の不活性ガスを導入可能な配管３２ｂが接続される。配管３２ｂは、バルブを介して加圧源（何れも不図示）に接続され、バルブの開閉制御によって、貯留タンク内の圧力が調整される。第二の供給部３２は、貯留タンク内の圧力調整によって、所定量の第二の塗布液３２ａを塗布部２に向けて供給する。第二の供給部３２は、第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４へ第二の塗布液３２ａを供給可能とされる。

例えば、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａは、樹脂基板及び層間絶縁膜等を形成するための液状体を用いる。本実施形態においては、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａとして互いに異なる種類の塗布液を用いる。尚、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａとして互いに同じ種類の塗布液を用いてもよい。

塗布装置３０１は、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａの流路を形成する複数の配管１０１ａ，１０１ｂ，１０２ａ，１０２ｂ等を備える。上述の通り、第一の塗布液３１ａは、第一の供給部３１から塗布部２に向けて流れ、第二の塗布液３２ａは、第二の供給部３２から塗布部２に向けて流れる。以下、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａが流れる方向において、第一の供給部３１及び第二の供給部３２側を「上流側」、塗布部２側を「下流側」ということがある。

切替部３０５は、三方弁５ｂ，５ｃと、第一の三方弁５１と、第二の三方弁５２とを備える。本実施形態の切替部３０５は、三方弁５ａを備えていない。

第一の三方弁５１は、第一の三方弁５１ａ，５１ｂ，５１ｃを備える。
第一の三方弁５１ａは、配管１０２ａ側（第一の供給部３１）から配管１０３ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０３ｂ側（第二の脱気部４２）への第一の塗布液３１ａの供給を切り替える。
第一の三方弁５１ｂは、配管１０８ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０８ｂ側（第二の脱気部４２）から配管１０８側（塗布部２）への第一の塗布液３１ａの供給を切り替える。
第一の三方弁５１ｃは、配管１０６ａ側（第一の脱気部４１）、又は配管１０６ｂ側（第二の脱気部４２）の第一の塗布液３１ａの脱気を切り替える。

第二の三方弁５２は、第二の三方弁５２ａ，５２ｂ，５２ｃを備える。
第二の三方弁５２ａは、配管１０２ｂ側（第二の供給部３２）から配管１０４ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０４ｂ側（第四の脱気部４４）への第二の塗布液３２ａの供給を切り替える。
第二の三方弁５２ｂは、配管１０９ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０９ｂ側（第四の脱気部４４）から配管１０９側（塗布部２）への第二の塗布液３２ａの供給を切り替える。
第二の三方弁５２ｃは、配管１０７ａ側（第三の脱気部４３）、又は配管１０７ｂ側（第四の脱気部４４）の第二の塗布液３２ａの脱気を切り替える。

除去部３０６は、第一のフィルター３０６ａ及び第二のフィルター３０６ｂを備える。
第一のフィルター３０６ａは、第一の塗布液３１ａに含まれる異物を除去するためのものであり、第一の供給部３１と第一の三方弁５１ａとの間の流路上に設けられる。
第二のフィルター３０６ｂは、第二の塗布液３２ａに含まれる異物を除去するためのものであり、第二の供給部３２と第二の三方弁５２ａとの間の流路上に設けられる。

第一の脱気部４１は、上流側から順に、配管１０１ａ、第一のフィルター３０６ａ、配管１０２ａ、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ａを介して第一の供給部３１に接続される。
第二の脱気部４２は、上流側から順に、配管１０１ａ、第一のフィルター３０６ａ、配管１０２ａ、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを介して第一の供給部３１に接続される。
第三の脱気部４３は、上流側から順に、配管１０１ｂ、第二のフィルター３０６ｂ、配管１０２ｂ、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ａを介して第二の供給部３２に接続される。
第四の脱気部４４は、上流側から順に、配管１０１ｂ、第二のフィルター３０６ｂ、配管１０２ｂ、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ｂを介して第二の供給部３２に接続される。

脱気部２０４には、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａの脱気を真空状態で行う真空ポンプ７が接続される。
三方弁５ｃの切替によって、配管１０６側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）における第一の塗布液３１ａ、又は配管１０７側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）における第二の塗布液３２ａの脱気が行われる。
三方弁５ｂの切替によって、配管１０８側（第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２）の第一の塗布液３１ａ、又は配管１０９側（第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４）の第二の塗布液３２ａが配管１１０側（塗布部２）に向けて供給される。

図１２に示すように、収容部２０内には、塗布装置３０１の構成要素をつなぐ複数の配管（例えば、第一の供給部３１、第二の供給部３２、第一のフィルター３０６ａ、第二のフィルター３０６ｂ、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４をつなぐ配管１０１ａ，１０１ｂ，１０２ａ，１０２ｂ，１０３ａ，１０３ｂ，１０４ａ，１０４ｂ，１０８，１０８ａ，１０８ｂ，１０９，１０９ａ，１０９ｂ，１１０等）が引き回される。便宜上、図１２では図示を省略するが、収容部２０内には、真空ポンプ７、三方弁５ｂ，５ｃ、第一の三方弁５１ａ，５１ｂ，５１ｃ、第二の三方弁５２ａ，５２ｂ，５２ｃ及びこれらをつなぐ配管１０５，１０６，１０６ａ，１０６ｂ，１０７，１０７ａ，１０７ｂ等も収容される。

＜塗布方法＞
次に、本実施形態に係る塗布方法を説明する。本実施形態では、上記の塗布装置３０１を用いて基板７０に第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａを塗布する。塗布装置３０１の各部で行われる動作は、制御部１５によって制御される。尚、本実施形態に係る塗布方法において、第一実施形態と同様の方法については、その詳細な説明を省略する。

図１３は、第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１で第一の塗布液３１ａの脱気を行うと共に第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４で第二の塗布液３２ａの脱気を行いつつ第二の脱気部４２で第一の塗布液３１ａの供給を行う例を示す図である。

図１３に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ａの配管１０２ａ側を「開」、配管１０３ａ側を「閉」、配管１０３ｂ側を「開」とし、配管１０２ａと配管１０３ｂとを連通させる。

これにより、第一の供給部３１からの第一の塗布液３１ａは、配管１０１ａ、第一のフィルター３０６ａ、配管１０２ａ、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを通過して第二の脱気部４２に供給される。
このとき、第一の三方弁５１ａの配管１０３ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１には塗布液３ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側を「閉」、配管１０８ｂ側を「開」、配管１０８側を「開」とし、配管１０８ｂと配管１０８とを連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「閉」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第二の脱気部４２に供給された第一の塗布液３１ａは、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側は閉じられているため、第一の脱気部４１には第一の塗布液３１ａは供給されない。又、三方弁５ｂの配管１０９側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４にも第一の塗布液３１ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５、配管１０６及び配管１０７を連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ｃの配管１０６側を「開」、配管１０６ａ側を「開」、配管１０６ｂ側を「閉」とし、配管１０６と配管１０６ａとを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「開」とし、配管１０７、配管１０７ａ及び配管１０７ｂを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１における第一の塗布液３１ａの脱気と共に、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４における第二の塗布液３２ａの脱気が行われる。
このとき、第一の三方弁５１ｃの配管１０６ｂ側は閉じられているため、第二の脱気部４２における第一の塗布液３１ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１によって第一の塗布液３１ａの脱気が行われると共に第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４によって第二の塗布液３２ａの脱気が行われる間に、第二の脱気部４２から塗布部２に第一の塗布液３１ａが供給される。

図１４は、第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２で第一の塗布液３１ａの脱気を行うと共に第三の脱気部４３で第二の塗布液３２ａの脱気を行いつつ第四の脱気部４４で第二の塗布液３２ａの供給を行う例を示す図である。

図１４に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、第二の三方弁５２ａの配管１０２ｂ側を「開」、１０４ａ側を「閉」、配管１０４ｂ側を「開」とし、配管１０２ｂと配管１０４ｂとを連通させる。

これにより、第二の供給部３２からの第二の塗布液３２ａは、配管１０１ｂ、第二のフィルター３０６ｂ、配管１０２ｂ、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ｂを通過して第四の脱気部４４に供給される。
このとき、第二の三方弁５２ａの配管１０４ａ側は閉じられているため、第三の脱気部４３には第二の塗布液３２ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第二の三方弁５２ｂの配管１０９ａ側を「閉」、配管１０９ｂ側を「開」、配管１０９側を「開」とし、配管１０９ｂと配管１０９とを連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「閉」、配管１０９側を「開」、配管１１０側を「開」とし、配管１０９と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第四の脱気部４４に供給された第二の塗布液３２ａは、配管１０９ｂ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０８側は閉じられているため、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２には第二の塗布液３２ａは供給されない。又、第二の三方弁５２ｂの配管１０９ａ側は閉じられているため、第三の脱気部４３には第二の塗布液３２ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５、配管１０６及び配管１０７を連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ｃの配管１０６側を「開」、配管１０６ａ側を「開」、配管１０６ｂ側を「開」とし、配管１０６、配管１０６ａ及び配管１０６ｂを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「閉」とし、配管１０７と配管１０７ａとを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２における第一の塗布液３１ａの脱気が行われると共に、第三の脱気部４３における第二の塗布液３２ａの脱気が行われる。
このとき、第二の三方弁５２ｃの配管１０７ｂ側は閉じられているため、第四の脱気部４４における第二の塗布液３２ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２によって第一の塗布液３１ａの脱気が行われると共に第三の脱気部４３によって第二の塗布液３２ａの脱気が行われる間に、第四の脱気部４４から塗布部２に第二の塗布液３２ａが供給される。

図１５は、第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４で第二の塗布液３２ａの脱気を行いつつ第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２で第一の塗布液３１ａの供給を行う例を示す図である。

図１５に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ａの配管１０２ａ側を「開」、配管１０３ａ側を「開」、配管１０３ｂ側を「開」とし、配管１０２ａ、配管１０３ａ及び配管１０３ｂを連通させる。

これにより、第一の供給部３１からの第一の塗布液３１ａは、配管１０１ａ、第一のフィルター３０６ａ、配管１０２ａ、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ａを通過して第一の脱気部４１に供給される。
又、第一の供給部３１からの第一の塗布液３１ａは、配管１０１ａ、第一のフィルター３０６ａ、配管１０２ａ、第一の三方弁５１ａ及び配管１０３ｂを通過して第二の脱気部４２に供給される。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第一の三方弁５１ｂの配管１０８ａ側を「開」、配管１０８ｂ側を「開」、配管１０８側を「開」とし、配管１０８ａ、配管１０８ｂ及び配管１０８を連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「開」、配管１０９側を「閉」、配管１１０側を「開」とし、配管１０８と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第一の脱気部４１に供給された第一の塗布液３１ａは、配管１０８ａ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
又、第二の脱気部４２に供給された第一の塗布液３１ａは、配管１０８ｂ、第一の三方弁５１ｂ、配管１０８、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０９側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４には第一の塗布液３１ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「閉」、配管１０７側を「開」とし、配管１０５と配管１０７とを連通させる。
又、制御部１５は、第二の三方弁５２ｃの配管１０７側を「開」、配管１０７ａ側を「開」、配管１０７ｂ側を「開」とし、配管１０７、配管１０７ａ及び配管１０７ｂを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４における第二の塗布液３２ａの脱気が行われる。
このとき、三方弁５ｃの配管１０６側は閉じられているため、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２における第一の塗布液３１ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４によって第二の塗布液３２ａの脱気が行われる間に、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２から塗布部２に第一の塗布液３１ａが供給される。

図１６は、第三実施形態に係る塗布方法の切替ステップを説明するための図であり、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２で第一の塗布液３１ａの脱気を行いつつ第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４で第二の塗布液３２ａの供給を行う例を示す図である。

図１６に示すように、切替ステップにおいて、制御部１５は、第二の三方弁５２ａの配管１０２ｂ側を「開」、配管１０４ａ側を「開」、配管１０４ｂ側を「開」とし、配管１０２ｂ、配管１０４ａ及び配管１０４ｂを連通させる。

これにより、第二の供給部３２からの第二の塗布液３２ａは、配管１０１ｂ、第二のフィルター３０６ｂ、配管１０２ｂ、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ａを通過して第三の脱気部４３に供給される。
又、第二の供給部３２からの第二の塗布液３２ａは、配管１０１ｂ、第二のフィルター３０６ｂ、配管１０２ｂ、第二の三方弁５２ａ及び配管１０４ｂを通過して第四の脱気部４４に供給される。

切替ステップにおいて、制御部１５は、第二の三方弁５２ｂの配管１０９ａ側を「開」、配管１０９ｂ側を「開」、配管１０９側を「開」とし、配管１０９ａ、配管１０９ｂ及び配管１０９を連通させる。
又、制御部１５は、三方弁５ｂの配管１０８側を「閉」、配管１０９側を「開」、配管１１０側を「開」とし、配管１０９と配管１１０とを連通させる。
又、制御部１５は、電磁弁１３ａ〜１３ｄを「開」とすると共に、三方弁１４の配管１１４側を「開」、配管１１５側を「開」、配管１２２側を「閉」とし、配管１１０〜１１８を連通させる。

これにより、第三の脱気部４３に供給された第二の塗布液３２ａは、配管１０９ａ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
又、第四の脱気部４４に供給された第二の塗布液３２ａは、配管１０９ｂ、第二の三方弁５２ｂ、配管１０９、三方弁５ｂ、配管１１０、電磁弁１３ａ、配管１１１、圧送ポンプ１０等を通過して塗布部２に供給される。
このとき、三方弁５ｂの配管１０８側は閉じられているため、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２には第二の塗布液３２ａは供給されない。

切替ステップにおいて、制御部１５は、三方弁５ｃの１０５側を「開」、配管１０６側を「開」、配管１０７側を「閉」とし、配管１０５と配管１０６とを連通させる。
又、制御部１５は、第一の三方弁５１ｃの配管１０６側を「開」、配管１０６ａ側を「開」、配管１０６ｂ側を「開」とし、配管１０６、配管１０６ａ及び配管１０6ｂを連通させる。

これにより、真空ポンプ７を駆動すると、第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２における第一の塗布液３１ａの脱気が行われる。
このとき、三方弁５ｃの配管１０７側は閉じられているため、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４における第二の塗布液３２ａの脱気は行われない。

このように、第一の脱気部４１、第二の脱気部４２、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４を切り替えることにより、閉じられた流路内で第一の脱気部４１及び第二の脱気部４２によって第一の塗布液３１ａの脱気が行われる間に、第三の脱気部４３及び第四の脱気部４４から塗布部２に第二の塗布液３２ａが供給される。

以上のように、本実施形態によれば、供給部３０３は、第一の塗布液３１ａを供給する第一の供給部３１と、第二の塗布液３２ａを供給する第二の供給部３２とを備えることで、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａとして互いに異なる種類の塗布液を用いることができるため、脱気処理を行いつつ、基板７０に異なる種類の塗布液を連続して塗布することができる。又、第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａとして互いに同じ種類の塗布液を用いることによって、一つの供給部のみを備える場合と比較して、塗布処理に用いる塗布液の容量を多く確保することができる。そのため、第一の供給部３１の塗布液が無くなった場合であっても、第二の供給部３２の塗布液を供給することができ、脱気処理を行いつつ、基板７０に同じ種類の塗布液を連続して塗布することができる。

又、第一の供給部３１は、第一の脱気部４１又は第二の脱気部４２へ第一の塗布液３１ａを供給可能とされ、第二の供給部３２は、第三の脱気部４３又は第四の脱気部４４へ第二の塗布液３２ａを供給可能とされることで、第一の脱気部４１により第一の塗布液３１ａの脱気処理を行いつつ第二の脱気部４２により塗布部２に第一の塗布液３１ａを供給し塗布処理を行うと共に、第三の脱気部４３により第二の塗布液３２ａの脱気処理を行いつつ第四の脱気部４４により塗布部２に第二の塗布液３２ａを供給し塗布処理を行うことができる。従って、脱気処理並びに第一の塗布液３１ａ及び第二の塗布液３２ａの塗布処理を連続的に安定して行うことができる。

尚、上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施形態においては、塗布部２として、スリット型のノズル２ａを用いたが、これに限られることは無く、中央滴下型の塗布部を用いても構わないし、インクジェット型の塗布部を用いても構わない。また、基板７０上に配置される液状体をスキージなどを用いて拡散させて塗布する構成であっても構わない。

又、上記実施形態においては、脱気部として二つ又は四つの脱気部を用いたが、これに限られることなく、六つ以上の複数の脱気部を用いても構わない。ただし、三方弁を用いた簡単な構成で脱気部の切替を行う観点からは、二つ又は四つの脱気部を用いることが好ましい。

尚、上記において実施形態又はその変形例として記載した各構成要素は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜組み合わせることができるし、また、組み合わされた複数の構成要素のうち一部の構成要素を適宜用いないようにすることもできる。

１，２０１，３０１…塗布装置 ２…塗布部、２ａ…ノズル、３，３０３…供給部、５…切替部、５ａ，５ｂ，５ｃ…三方弁、６，３０６…除去部、６ａ…フィルター、７…真空ポンプ、８…回収部、９…循環部、２０…収容部、２０ａ…載置部、３１…第一の供給部、３２…第二の供給部、４１…第一の脱気部、４２…第二の脱気部、４３…第三の脱気部、４４…第四の脱気部、５１…第一の三方弁、５２…第二の三方弁、６０…移動装置、６２…昇降部、７０…基板（塗布対象）、７１…保持部、７２…支持部、１００…塗布システム

Claims (19)

1. 塗布対象に塗布液を塗布する塗布部と、
   前記塗布部に前記塗布液を供給する供給部と、
   前記塗布液の脱気を行う第一の脱気部及び第二の脱気部と、
   前記第一の脱気部によって前記脱気が行われる間に、前記第二の脱気部から前記塗布部に前記塗布液が供給されるように前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を切り替える切替部と、
   を備え、
   前記塗布部は、上流側から順に、加圧タンク、吐出ポンプを介して圧送ポンプに接続される塗布装置。
2. 前記塗布液に含まれる異物を除去する除去部を更に備える
   請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記除去部は、前記供給部と前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部との間に設けられるフィルターを備える
   請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記脱気を真空雰囲気で行う真空ポンプを更に備える
   請求項１〜３の何れか一項に記載の塗布装置。
5. 前記切替部は、前記供給部から前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える三方弁を備える
   請求項１〜４の何れか一項に記載の塗布装置。
6. 前記塗布液の脱気を行う第三の脱気部及び第四の脱気部を更に備える
   請求項１〜５の何れか一項に記載の塗布装置。
7. 前記切替部は、
   前記供給部から前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える第一の三方弁と、
   前記供給部から前記第三の脱気部又は前記第四の脱気部への前記塗布液の供給を切り替える第二の三方弁と、を備える
   請求項６に記載の塗布装置。
8. 前記供給部は、第一の塗布液を供給する第一の供給部と、第二の塗布液を供給する第二の供給部とを備える
   請求項７に記載の塗布装置。
9. 前記第一の供給部は、前記第一の脱気部又は前記第二の脱気部へ前記第一の塗布液を供給可能とされ、
   前記第二の供給部は、前記第三の脱気部又は前記第四の脱気部へ前記第二の塗布液を供給可能とされる
   請求項８に記載の塗布装置。
10. 前記塗布部は、前記塗布対象に前記塗布液を吐出するノズルを備える
    請求項１〜９の何れか一項に記載の塗布装置。
11. 前記塗布部から吐出された前記塗布液を回収する回収部を更に備える
    請求項１〜１０の何れか一項に記載の塗布装置。
12. 前記回収部によって回収された前記塗布液を前記塗布部に供給する循環部を更に備える
    請求項１１に記載の塗布装置。
13. 前記供給部及び前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を収容する収容部を更に備える
    請求項１〜１２の何れか一項に記載の塗布装置。
14. 前記収容部には、前記塗布部を載置する載置部が設けられる
    請求項１３に記載の塗布装置。
15. 請求項１〜１４の何れか一項に記載の塗布装置と、
    前記塗布対象を保持する保持部と、
    前記塗布部を着脱可能に支持する支持部と、
    を備える塗布システム。
16. 前記塗布装置は、前記供給部、前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を収容する収容部を備え、
    前記収容部には、前記塗布部を載置する載置部が設けられ、
    前記塗布システムは、前記載置部と前記支持部との間で前記塗布部を移動する移動装置を更に備える
    請求項１５に記載の塗布システム。
17. 前記移動装置は、前記塗布部を昇降する昇降部を備える
    請求項１６に記載の塗布システム。
18. 塗布対象に塗布液を塗布する塗布ステップと、
    前記塗布対象に前記塗布液を塗布する塗布部に前記塗布液を供給する供給ステップと、
    第一の脱気部及び第二の脱気部によって前記塗布液の脱気を行う脱気ステップと、
    前記第一の脱気部によって前記脱気が行われる間に、前記第二の脱気部から前記塗布部に前記塗布液が供給されるように前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部を切り替える切替ステップと、を含み、
    前記塗布部は、上流側から順に、加圧タンク、吐出ポンプを介して圧送ポンプに接続される塗布方法。
19. 前記塗布部を支持する支持ステップと、
    前記塗布部に前記塗布液を供給する供給部と前記第一の脱気部及び前記第二の脱気部とを収容する収容部の載置部に、前記塗布部を載置する載置ステップと、
    前記載置ステップと前記支持ステップとの間で前記塗布部を移動する移動ステップと、
    を更に含む請求項１８に記載の塗布方法。

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