JP6361095B2 - 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 - Google Patents
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Description
[1] 基材の表面上に、第1層〜第18層を前記基材側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、
奇数層はHe光源のd線(波長587.56 nm)における屈折率が2.15以上2.70以下の高屈折率材料により形成された高屈折率層であり、
前記第18層を除く偶数層は前記d線における屈折率が1.37以上1.93以下の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層であり、
前記第18層は前記d線における屈折率が1.37以上1.40未満の低屈折率材料により形成された低屈折率層であり、
前記低屈折率層の屈折率は前記中間屈折率層の屈折率より低く、
光線の入射角度が0〜10°の範囲内で波長390〜800 nmの範囲において反射率が0.15%以下であることが特徴とする反射防止膜。
[2] 上記[1] に記載の反射防止膜において、前記中間屈折率層と前記高屈折率層との間の屈折率差は0.77〜1.30であることが特徴とする反射防止膜。
[3] 上記[1] 又は[2] に記載の反射防止膜において、
前記高屈折率材料はTiO2、Nb2O5又はCeO2の単体又はそれらとSiO2又はAl2O3との混合物又は化合物からなり、
前記中間屈折率材料はMgF2、SiO2又はAl2O3の単体又はそれらとTiO2、Nb2O5又はCeO2との混合物又は化合物からなり、
前記低屈折率材料はMgF2の単体又はMgF2とSiO2、CaF2又はLiF2との混合物又は化合物からなることを特徴とした反射防止膜。
[4] 上記[1] 〜[3] のいずれかに記載の反射防止膜を施したことを特徴とする光学部材。
[5] 上記[4] に記載の光学部材を有することを特徴とする光学機器。
図1に示す基材10及び反射防止膜20を用いて分光反射率のシミュレーションを行った。図2〜13の表(A) に示すように、高屈折率層21,23,25,27,29,31,33,35及び37の成膜材料としてd線に対して屈折率2.455を示すTiO2、中間屈折率層22,24,26,28,30,32,34及び36の成膜材料としてd線に対して屈折率1.644を示すAl2O3、低屈折率層38の成膜材料としてd線に対して屈折率1.388を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜38の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。
図14〜25の表(A) に示すように、高屈折率層21,23,25,27,29,31,33,35及び37の成膜材料としてd線に対して屈折率2.312を示すNb2O5、中間屈折率層22,24,26,28,30,32,34及び36の成膜材料としてd線に対して屈折率1.482を示すSiO2、低屈折率層38の成膜材料としてd線に対して屈折率1.388を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜38の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。
図1に示す基材10及び反射防止膜20を用いて分光反射率のシミュレーションを行った。図26〜31の表(A) に示すように、実施例3-1〜3-6の反射防止膜20の各層の屈折率及び光学膜厚はそれぞれ実施例1-2,1-6,1-11,2-2,2-6,2-11に対応している。
20・・・反射防止膜
Claims (5)
- 基材の表面上に、第1層〜第18層を前記基材側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、
奇数層はHe光源のd線(波長587.56 nm)における屈折率が2.15以上2.70以下の高屈折率材料により形成された高屈折率層であり、
前記第18層を除く偶数層は前記d線における屈折率が1.37以上1.93以下の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層であり、
前記第18層は前記d線における屈折率が1.37以上1.40未満の低屈折率材料により形成された低屈折率層であり、
前記低屈折率層の屈折率は前記中間屈折率層の屈折率より低く、
光線の入射角度が0〜10°の範囲内で波長390〜800 nmの範囲において反射率が0.15%以下であることが特徴とする反射防止膜。 - 請求項1に記載の反射防止膜において、前記中間屈折率層と前記高屈折率層との間の屈折率差は0.77〜1.30であることが特徴とする反射防止膜。
- 請求項1又は2に記載の反射防止膜において、
前記高屈折率材料はTiO2、Nb2O5又はCeO2の単体又はそれらとSiO2又はAl2O3との混合物又は化合物からなり、
前記中間屈折率材料はMgF2、SiO2又はAl2O3の単体又はそれらとTiO2、Nb2O5又はCeO2との混合物又は化合物からなり、
前記低屈折率材料はMgF2の単体又はMgF2とSiO2、CaF2又はLiF2との混合物又は化合物からなることを特徴とした反射防止膜。 - 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜を施したことを特徴とする光学部材。
- 請求項4に記載の光学部材を有することを特徴とする光学機器。
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JP2013154139A JP6361095B2 (ja) | 2013-07-25 | 2013-07-25 | 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 |
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