JP6344477B2 - 半導体モジュール - Google Patents
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Description
天板部の厚さAを0.5mm、底板部の厚さBを2.5mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは3mm、B/A比は5である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.16%であり、冷却器の反り量は、0.99mmであった。
天板部の厚さAを1mm、底板部の厚さBを2mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは3mm、B/A比は2である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.25%であり、冷却器の反り量は、0.99mmであった。
天板部の厚さAを1.5mm、底板部の厚さBを1.5mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは3mm、B/A比は1である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.27%であり、冷却器の反り量は、0.99mmであった。
(実施例4)
天板部の厚さAを1mm、底板部の厚さBを3mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは4mm、B/A比は3である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.26%であり、冷却器の反り量は、0.88mmであった。
天板部の厚さAを1.33mm、底板部の厚さBを2.67mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは4mm、B/A比は2である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.27%であり、冷却器の反り量は、0.87mmであった。
天板部の厚さAを2mm、底板部の厚さBを2mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは4mm、B/A比は1である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.44%であり、冷却器の反り量は、0.85mmであった。
天板部の厚さAを0.5mm、底板部の厚さBを5.5mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは6mm、B/A比は11である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.2%であり、冷却器の反り量は、0.77mmであった。
天板部の厚さAを1mm、底板部の厚さBを5mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは6mm、B/A比は5である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.27%であり、冷却器の反り量は、0.70mmであった。
天板部の厚さAを1.5mm、底板部の厚さBを4.5mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは6mm、B/A比は3である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.29%であり、冷却器の反り量は、0.71mmであった。
天板部の厚さAを2mm、底板部の厚さBを4mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは6mm、B/A比は2である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.4%であり、冷却器の反り量は、0.70mmであった。
天板部の厚さAを1mm、底板部の厚さBを1mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは2mm、B/A比は1である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.24%であり、冷却器の反り量は、1.13mmであった。
天板部の厚さAを3mm、底板部の厚さBを3mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは6mm、B/A比は1である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.54%であり、冷却器の反り量は、0.63mmであった。
天板部の厚さAを4mm、底板部の厚さBを4mmとして、シミュレーションを実施した。AとBの合計厚さは8mm、B/A比は1である。計算の結果、半田の塑性ひずみ振幅は、1.65%であり、冷却器の反り量は、0.48mmであった。
(シミュレーション結果の解析)
シミュレーション結果を図2に示した。図2の条件の分布を表す図を図7に示した。図3と図4は、図2の結果をグラフで表したものである。図6は、天板部の厚さ(A)当たりの底板部の厚さ(B)の比(B/A比)に対する半田の塑性ひずみ振幅を示したグラフである。
2 半田層
3 回路層
4 絶縁基板
5 金属層
6 半田層
7 第1の冷却器
7a 天板部
7b フィン部
7c 底板部
8 空洞
9 天板部
10 ジャケット
10a 側壁部
10b 底板部
11 フィン部
12 第2の冷却器
13 接合部材
100 半導体モジュール
200 半導体モジュール
Claims (7)
- 基板、前記基板のおもて面に配置された回路層、および前記基板の裏面に配置された金属層を備えた絶縁回路基板と、
前記回路層に電気的に接続された半導体素子と、
前記金属層に接合される平面を持ち一様な厚みの天板部、前記天板部と対向して配置された底板部、前記天板部の周囲と前記底板部の周囲を接続する側壁部、および、前記天板部と前記底板部とを接続するフィン部を備え、前記天板部の厚さが0.5mm以上2.0mm以下であり、かつ、前記天板部と前記底板部の合計厚さが、3mm以上6mm以下である冷却器と、
前記金属層の裏面全体と、前記天板部との間に設けられ、200℃以上350℃以下の温度で溶融し前記天板部と前記金属層とを接合させる半田層を備え、
前記底板部の厚さは、前記天板部の厚さの2倍以上3倍未満である
半導体モジュール。 - 請求項1に記載の半導体モジュールにおいて、
前記天板部と前記底板部の合計厚さが、3mm以上4mm以下であることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1または2に記載の半導体モジュールにおいて、
前記側壁部は前記底板部と一体の部材であり、
前記天板部と前記側壁部、前記天板部と前記フィン部、および、前記底板部と前記フィン部をそれぞれ接続し、前記半田層と同じ温度で溶融状態になる接合部材を備えることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1または2に記載の半導体モジュールにおいて、
前記冷却器は、前記底板部と前記側壁部とが一体となっている複合部材と、前記天板部と、前記フィン部とが接合部材で一体に接合されていることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項3または4に記載の半導体モジュールにおいて、
前記接合部材と前記半田層とが同じ組成である
半導体モジュール。 - 請求項1または2に記載の半導体モジュールにおいて、
前記冷却器は、前記天板部と、前記底板部と、前記側壁部と、前記フィン部とが一体成型されていることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1から6の何れか一項に記載の半導体モジュールにおいて、
前記天板部および前記底板部の材質は、アルミニウムまたはアルミニウム合金であることを特徴とする半導体モジュール。
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