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JP6177430B2 - ポリシロキサン共重合体及びそれを含有する帯電防止剤 - Google Patents

ポリシロキサン共重合体及びそれを含有する帯電防止剤 Download PDF

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JP6177430B2 JP2016514802A JP2016514802A JP6177430B2 JP 6177430 B2 JP6177430 B2 JP 6177430B2 JP 2016514802 A JP2016514802 A JP 2016514802A JP 2016514802 A JP2016514802 A JP 2016514802A JP 6177430 B2 JP6177430 B2 JP 6177430B2
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Description

[関連出願の相互参照]
本出願は、2014年4月21日に出願された、日本国特許出願第2014−086978号明細書(その開示全体が参照により本明細書中に援用される)に基づく優先権を主張する。
本発明は、ポリシロキサン共重合体及びそれを含有する帯電防止剤に関する。
カチオンがトリアルコキシシリルアルキル基を有するアンモニウム又はホスホニウムであり、アニオンがパーフルオロアルキルスルホニルイミドであるオニウム塩は、フッ素樹脂用の低分子型帯電防止剤として用いることができる旨の報告がなされている(特許文献1参照)。しかしながら、本発明者らが前記オニウム塩の1種である1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドをポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂の帯電防止剤として用いたところ、シリコーン樹脂に対しては帯電防止性能を付与できたものの、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂に対しては実用的な帯電防止性能を付与できないことが分かった。また、シリコーン樹脂に対しては、シリコーン樹脂の硬化反応が十分に進行せず、光学用粘着剤として実用的な強度特性のシリコーン樹脂組成物が得られないことが分かった(後述の比較例参照)。
特開2010−248165号公報
本発明は、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂に対して高い帯電防止性を付与でき、かつ光学用粘着剤として実用的な強度特性を有するシリコーン樹脂を製造できるポリシロキサン共重合体及び当該ポリシロキサン共重合体を含有する帯電防止剤を提供することを課題とする。
本発明者らが上記課題を解決するために鋭意検討を行ったところ、式(1)で示されるオニウム塩と式(2)で示されるジアルコキシシランを共重合することで得られるポリシロキサン共重合体を見出し、さらに当該ポリシロキサン共重合体を帯電防止剤としてポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂に使用したところ、各々の樹脂に対して高い帯電防止性能を付与できることを見出した。また、シリコーン樹脂の硬化反応が円滑に進行し、光学用粘着剤として実用的な強度特性を有するシリコーン樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、式(1)で示されるオニウム塩(以下、オニウム塩(1)という)と式(2)で示されるジアルコキシシラン(以下、ジアルコキシシラン(2)という)を共重合することにより得られるポリシロキサン共重合体(以下、ポリシロキサン共重合体という)に関する。
式(1):
(式中、Qは窒素カチオン又はリンカチオンを示す。Rは炭素数1〜3のアルキル基を示し、R〜Rは炭素数1〜8のアルキル基を示す。RとRは末端で互いに結合し、ピロリジン環、ピペリジン環、ピリジン環、ホスホラン環、ホスホリナン環又はホスホリン環を形成してもよい。但し、ピリジン環又はホスホリン環を形成する場合は、Rは存在しない。Xはアニオンを示す。nは0〜3の整数である。)、
式(2):
(式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数7〜10のアラルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基を示す。)
本発明のポリシロキサン共重合体は、帯電防止剤として用いることができ、当該帯電防止剤をポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂に用いることで、高い帯電防止性能を有する樹脂組成物を製造できる。また、本発明のポリシロキサン共重合体を用いると光学用粘着剤として実用的な強度特性を有するシリコーン樹脂組成物を製造することができる。
以下、本発明を具体的に説明する。
式(1)中、Qは窒素カチオン又はリンカチオンを示し、リンカチオンが好ましい。Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられ、メチル基及びエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。R〜Rは炭素数1〜8のアルキル基を示し、直鎖及び分枝鎖状のいずれであってもよく、好ましくは直鎖状のアルキル基である。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基が好ましく、ブチル基が特に好ましい。RとRは末端で互いに結合し、ピロリジン環、ピペリジン環、ピリジン環、ホスホラン環、ホスホリナン環又はホスホリン環を形成してもよい。但し、RとRは末端で互いに結合してピリジン環又はホスホリン環を形成する場合は、Rは存在しない。Xはアニオンを示す。Xとしてはハロゲンアニオン又は含フッ素アニオンが挙げられ、ハロゲンアニオンとしてはクロロアニオン、ブロモアニオン、ヨードアニオンが好ましく、クロロアニオンがより好ましい。含フッ素アニオンとしてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオンが好ましく、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオンがより好ましい。
オニウム塩(1)の具体例としては、1,1,1−トリメチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]アンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1,1−トリメチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリメチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリエチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリブチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリヘキシル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,1,1−トリオクチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1−メチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピロリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1−メチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−プロピル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピペリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1−[(トリメトキシシリル)メチル]ピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]ピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]ピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[(トリメトキシシリル)メチル]−2−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]−2−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−2−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]−2−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[(トリメトキシシリル)メチル]−3−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]−3−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−3−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]−3−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[(トリメトキシシリル)メチル]−4−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[2−(トリメトキシシリル)エチル]−4−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−4−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−[4−(トリメトキシシリル)ブチル]−4−メチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等が挙げられる。
本発明で用いるオニウム塩(1)は、特開2010−248165号公報に記載の方法に準じて製造することができる。その代表的な方法を下記の反応式1において説明する。なお、当該反応式中、R、R、R、R、Q、X及びnは前記に同じであり、Zはハロゲン原子を示し、Mはアルカリ金属を示す。
式(5)で表されるアミン類(以下、アミン類(5a)という。)又はホスフィン類(以下、ホスフィン類(5b)という。)を、式(6)で表されるアルキルハライド類(以下、アルキルハライド類(6)という。)と四級化反応させて、式(7)で表されるオニウム=ハライド(以下、オニウム=ハライド類(7)という。)が製造される。Xがハロゲンアニオンである場合、オニウム=ハライド類(7)を、オニウム塩(1)として使用することができる。
次に、オニウム=ハライド類(7)と、式(8)で表されるアルキル金属塩という。)とのイオン交換反応により、オニウム塩(1)が製造できる。
アミン類(5a)としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、
1−メチルピロリジン、1−メチルピペリジン、1−エチルピロリジン、1−エチルピペリジン、1−プロピルピロリジン、1−プロピルピペリジン、1−イソプロピルピロリジン、1−イソプロピルピペリジン、1−ブチルピロリジン、1−ブチルピペリジン、1−ペンチルピロリジン、1−ペンチルピペリジン、1−ヘキシルピロリジン、1−ヘキシルピペリジン、1−メチル−2−メチルピロリジン、1−メチル−2−メチルピペリジン、1−メチル−3−メチルピロリジン、1−メチル−3−メチルピペリジン、1−メチル−4−メチルピペリジン、1−メチル−2−エチルピロリジン、1−メチル−2−プロピルピロリジン、1−メチル−2−イソプロピルピロリジン、1−メチル−2−ブチルピロリジン、1−メチル−2−イソブチルピロリジン、1−メチル−2−sec−ブチルピロリジン、1−メチル−2−tert−ブチルピロリジン、
ピリジン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2−プロピルピリジン、3−プロピルピリジン、4−プロピルピリジン、2−プロピルピリジン、3−プロピルピリジン、4−プロピルピリジン、2−イソプロピルピリジン、3−イソプロピルピリジン、4−イソプロピルピリジン、2−ブチルピリジン、3−ブチルピリジン、4−ブチルピリジン、2−イソブチルピリジン、3−イソブチルピリジン、4−イソブチルピリジン、2−sec−ブチルピリジン、3−sec−ブチルピリジン、4−sec−ブチルピリジン、2−tert−ブチルピリジン、3−tert−ブチルピリジン、4−tert−ブチルピリジン等が挙げられる。
ホスフィン類(5b)としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリペンチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリヘプチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、
1−メチルホスホラン、1−メチルホスホリナン、1−エチルホスホラン、1−エチルホスホリナン、1−プロピルホスホラン、1−プロピルホスホリナン、1−イソプロピルホスホラン、1−イソプロピルホスホリナン、1−ブチルホスホラン、1−ブチルホスホリナン、1−ペンチルホスホラン、1−ペンチルホスホリナン、1−ヘキシルホスホラン、1−ヘキシルホスホリナン、1−メチル−2−メチルホスホラン、1−メチル−2−メチルホスホリナン、1−メチル−3−メチルホスホラン、1−メチル−3−メチルホスホリナン、1−メチル−4−メチルホスホリナン、1−メチル−2−エチルホスホラン、1−メチル−2−プロピルホスホラン、1−メチル−2−イソプロピルホスホラン、1−メチル−2−ブチルホスホラン、1−メチル−2−イソブチルホスホラン、1−メチル−2−sec−ブチルホスホラン、1−メチル−2−tert−ブチルホスホラン、
ホスホリン、2−メチルホスホリン、3−メチルホスホリン、4−メチルホスホリン、2−エチルホスホリン、3−エチルホスホリン、4−エチルホスホリン、2−プロピルホスホリン、3−プロピルホスホリン、4−プロピルホスホリン、2−プロピルホスホリン、3−プロピルホスホリン、4−プロピルホスホリン、2−イソプロピルホスホリン、3−イソプロピルホスホリン、4−イソプロピルホスホリン、2−ブチルホスホリン、3−ブチルホスホリン、4−ブチルホスホリン、2−イソブチルホスホリン、3−イソブチルホスホリン、4−イソブチルホスホリン、2−sec−ブチルホスホリン、3−sec−ブチルホスホリン、4−sec−ブチルホスホリン、2−tert−ブチルホスホリン、3−tert−ブチルホスホリン、4−tert−ブチルホスホリン等が挙げられる。
アルキルハライド類(6)としては、例えば、クロロメチルトリメトキシシラン、2−クロロエチルトリメトキシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、4−クロロブチルトリメトキシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、2−クロロエチルトリエトキシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、4−クロロブチルトリエトキシラン、クロロメチルトリプロポキシシラン、2−クロロエチルトリプロポキシラン、3−クロロプロピルトリプロポキシシラン、4−クロロブチルトリプロポキシラン、クロロメチルトリブトキシシラン、2−クロロエチルトリブトキシラン、3−クロロプロピルトリブトキシシラン、4−クロロブチルトリブトキシラン、ブロモメチルトリメトキシシラン、2−ブロモエチルトリメトキシラン、3−ブロモプロピルトリメトキシシラン、4−ブロモブチルトリメトキシラン、ブロモメチルトリエトキシシラン、2−ブロモエチルトリエトキシラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、4−ブロモブチルトリエトキシラン、ブロモメチルトリプロポキシシラン、2−ブロモエチルトリプロポキシラン、3−ブロモプロピルトリプロポキシシラン、4−ブロモブチルトリプロポキシラン、ブロモメチルトリブトキシシラン、2−ブロモエチルトリブトキシラン、3−ブロモプロピルトリブトキシシラン、4−ブロモブチルトリブトキシラン、ヨ−ドメチルトリメトキシシラン、2−ヨ−ドエチルトリメトキシラン、3−ヨ−ドプロピルトリメトキシシラン、4−ヨ−ドブチルトリメトキシラン、ヨ−ドメチルトリエトキシシラン、2−ヨ−ドエチルトリエトキシラン、3−ヨ−ドプロピルトリエトキシシラン、4−ヨ−ドブチルトリエトキシラン、ヨ−ドメチルトリプロポキシシラン、2−ヨ−ドエチルトリプロポキシラン、3−ヨ−ドプロピルトリポロポキシシラン、4−ヨ−ドブチルトリプロポキシラン、ヨ−ドメチルトリブトキシシラン、2−ヨ−ドエチルトリブトキシラン、3−ヨ−ドプロピルトリブトキシシラン、4−ヨ−ドブチルトリブトキシラン等が挙げられる。
式(5)で表されるアミン類又はホスフィン類と、アルキルハライド類(6)との四級化反応は、溶媒を使用してもしなくてもよい。溶媒を使用するときの溶媒としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
アルキルハライド類(6)の使用量は、式(5)で表されるアミン類又はホスフィン類1モルに対して0.7モル以上であればよく、好ましくは0、9〜1.5モルである。
アルカリ金属塩(8)としては、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウム、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドナトリウム、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドカリウム、テトラフルオロボレートリチウム、テトラフルオロボレートナトリウム、テトラフルオロボレートカリウム、ヘキサフルオロホスフェートリチウム、ヘキサフルオロホスフェートナトリウム、ヘキサフルオロホスフェートカリウム等の含フッ素アニオンのアルカリ金属塩が挙げられる。
アニオンのカウンターカチオンを形成するアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。
イオン交換反応におけるアルカリ金属塩(6)の使用量は、オニウム=ハライド類(5)1モルに対して、通常0.8モル以上、好ましくは0.9モル〜1.2モルであり、より好ましくは1〜1.05モルである。
イオン交換反応は通常溶媒中で行われる。溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。使用量は特に制限はないが、オニウム=ハライド類(5)1重量部に対して通常10重量部以下、好ましくは1〜10重量部であり、特に好ましくは2〜6重量部である。
オニウム=ハライド類(5)、アルカリ金属塩(6)及び溶媒の混合順序は特に限定されず、オニウム=ハライド類(5)と溶媒を混合した後にアルカリ金属塩(6)を添加してもよいし、アルカリ金属塩(6)と溶媒を混合した後にオニウム=ハライド類(5)を添加してもよい。
イオン交換反応における反応温度は、通常10℃以上、好ましくは10〜60℃、特に好ましくは10〜30℃である。
反応終了後の反応液からオニウム塩(1)を分離するには、溶媒及び生成する無機塩を反応液から除去する。得られた反応液中に無機塩が析出していれば、反応液を濾過して析出の無機塩を除き、次いで濃縮、ろ過、抽出等の単位操作を適宜組み合わせて、オニウム塩(1)を単離する。また、得られた反応液中に無機塩が析出していない場合には、反応液を濃縮して無機塩を析出させ、ろ過で無機塩を除去した後、濃縮、ろ過、抽出等の単位操作を適宜組み合わせて、オニウム塩(1)を単離する。
式(2)中、Rは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数7〜10のアラルキル基を表す。Rは同一または異なっていてもよく、Rとしては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基等が挙げられ、メチル基及びフェニル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。Rは炭素数1〜3のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、メチル基及びエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
ジアルコキシシラン(2)の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルブチルジメトキシシラン、メチルペンチルジメトキシシラン、メチルヘキシルジメトキシシラン、メチルへプチルジメトキシシラン、メチルオクチルジメトキシシラン、メチルノニルジメトキシシラン、メチルデシルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルベンジルジメトキシシラン、メチルナフチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルペンチルジエトキシシラン、メチルヘキシルジエトキシシラン、メチルへプチルジエトキシシラン、メチルオクチルジエトキシシラン、メチルノニルジエトキシシラン、メチルデシルジエトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルベンジルジエトキシシラン、メチルナフチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン、メチルプロピルジプロポキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン、メチルペンチルジプロポキシシラン、メチルヘキシルジプロポキシシラン、メチルへプチルジプロポキシシラン、メチルオクチルジプロポキシシラン、メチルノニルジプロポキシシラン、メチルデシルジプロポキシシラン、メチルフェニルジプロポキシシラン、メチルベンジルジプロポキシシラン、メチルナフチルジプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジプロポキシシラン等が挙げられ、ジメチルジメトキシシランが好ましい。
ジアルコキシシラン(2)は市販品を用いてもよいし、公知の製造方法により製造したものを用いてもよい。
オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)との共重合は、通常、オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)の混合物に、オニウム塩(1)及びジアルコキシシラン(2)の両方を溶解する有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン等)を加えて溶液とした後、その溶液に加水分解反応の触媒となる酸(以下、酸(3)という。)又は塩基(以下、塩基(4)という。)と水を滴下して行われる。酸(3)又は塩基(4)は、水溶液で滴下しても良い。オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)の量論比は、通常オニウム塩(1)1モルに対してジアルコキシシラン(2)4〜49モル、好ましくはオニウム塩(1)1モルに対してジアルコキシシラン(2)4〜16モル、より好ましくはオニウム塩(1)1モルに対してジアルコキシシラン(2)4〜8モルである。なお、オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)との共重合において、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のトリアルコキシシランを含有させて得た共重合体は、上記トリアルコキシシランを含有させないポリシロキサン共重合体に比べて、樹脂に対する帯電防止付与性能が低下する傾向がある。このため、オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)との共重合体は、上記トリアルコキシシランを含有しないものである。また、その他の任意成分として、帯電防止性発現の効果を損なわない範囲でモノアルコキシシラン、テトラアルコキシシランを混合し共重合しても良い。モノアルコキシシランの具体例としては、トリメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、ビニルジメチルプロポキシシラン等が挙げられ、テトラアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン等が挙げられる。
オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)を溶解する有機溶媒の使用量は、特に制限はないが、通常、オニウム塩(1)1重量部に対して通常20重量部以下、好ましくは0.5〜10重量部であり、特に好ましくは1〜5重量部である。
酸(3)としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸一水和物等が挙げられ、塩酸が特に好ましい。酸(3)の使用量は、通常、オニウム塩(1)1モルに対して、0.001〜1モル、好ましくは0.01〜0.2モルである。
塩基(4)としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。塩基(4)の使用量は、通常、オニウム塩(1)1モルに対して、0.001〜1モル、好ましくは0.01〜0.2モルである。
共重合に用いる水の使用量は、通常、オニウム塩(1)1モルに対して、4〜49モルである。
オニウム塩(1)とジアルコキシシラン(2)との共重合の反応温度は特に制限はないが、通常10〜80℃、好ましくは20〜40℃である。反応時間としては、通常3時間以上、好ましくは3〜72時間である。
ポリシロキサン共重合体は前記反応によって得られる反応混合物を濃縮することで得られ、得られたポリシロキサン共重合体は必要に応じて混和しない有機溶媒(ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等)で洗浄してもよい。
共重合に用いる有機溶媒の使用量に特に制限はないが、通常、オニウム塩(1)1重量部に対して通常20重量部以下、好ましくは2〜9重量部である。
反応混合物の濃縮温度に特に制限はないが、通常10〜120℃、好ましくは60〜80℃である。
このようにして得られたポリシロキサン共重合体は、樹脂に練りこむことで、樹脂に対して帯電防止性能を付与することができる。前記樹脂としては、例えばポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂が挙げられる。従って、本発明は、上記ポリシロキサン共重合体を樹脂に添加(例えば、混練。)する工程を含む、樹脂に対して帯電防止性能を付与する方法をも提供する。さらに、本発明は、上記ポリシロキサン共重合体の、帯電防止剤としての、特に、樹脂に対して帯電防止性能を付与するための使用をも提供する。
また、ポリシロキサン共重合体を樹脂に練りこむ際は、加熱溶融して混練しても良いし、適当な溶媒(例えば、ジクロロメタン、酢酸エチル、トルエン等)と混合して溶液を調製した後、当該溶液を塗布し、溶媒を除去する等の方法により、樹脂を成型しても良い。光硬化性の樹脂の場合、ポリシロキサン共重合体を含む樹脂又はその溶液を塗布後、当該塗布面を紫外線照射により硬化させても良い。
ポリシロキサン共重合体の樹脂に対する添加量に関しては、特に制限はないが、好ましくは樹脂1重量部に対して0.01〜1重量%、特に好ましくは0.05〜0.5重量%である。
次に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はなんらこれらに限定されるものではない。実施例中、H−NMRは日本電子データム株式会社製AL−400を使用し、400MHzでテトラメチルシランを基準としてケミカルシフトを算出した。また、表面抵抗率は、三菱化学株式会社製ハイレスターUP(MCP−HT450)を用いて、23±3℃、湿度45±5%の条件下で測定した。
製造例1
撹拌装置を備えた500mLのガラス反応器に、窒素雰囲気下、ジメトキシジメチルシラン51.64g(0.4モル)、イソプロピルアルコール40.34g及び特開2010−248165号公報に記載の方法により製造した1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド30.77g(0.05モル)を仕込んだ。得られた混合物に対して、0.1規定塩酸8.47gを室温で滴下した後、さらに室温で16時間撹拌して得た反応混合物をロータリーエバポレーターで80℃下4時間濃縮した。得られた濃縮残渣をn−ヘキサン80gで2回分液洗浄し、さらにロータリーエバポレーターを用いて80℃で5時間濃縮することにより、淡黄色液体のポリシロキサン共重合体A33.14gを得た。そのH−NMR分析結果を以下に示す。
H−NMR(CDCl)δ(ppm)4.40−4.00(m,0.5H),3.70−3.40(m,2H),2.40−2.00(m,8H),1.80−1.60(m,2H),1.60−1.40(m,12H),1.30−1.10(m,3H),1.10−0.90(m,9H),0.90−0.70(m,2H),0.30−0.00(m,20H)
製造例2
0.1規定塩酸を10.83g用いた以外は、製造例1と同様にして白色懸濁液体のポリシロキサン共重合体B38.56gを得た。
実施例1
50mLのサンプル瓶にポリカーボネート樹脂(住友ダウ株式会社製、カリバー(登録商標)200−13 NAT)3.2gとジクロロメタン20mLを入れ、ポリカーボネート樹脂を溶解させてポリカーボネート樹脂のジクロロメタン溶液を調製した。その溶液に帯電防止剤として製造例1で得たポリシロキサン共重合体A1.6mgを添加し、完溶させた後に金型(縦12cm×横20cm×深さ2cm)へ流し込み、室温で1時間、40℃で1時間乾燥させ、ポリカーボネート樹脂組成物の試験片(膜厚0.1±0.02mm)を作成した。得られた試験片の表面抵抗率の測定結果を表1に示す。
実施例2
ポリシロキサン共重合体Aを3.2mg用いた以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
実施例3
ポリシロキサン共重合体Aを16mg用いた以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
実施例4
ポリシロキサン共重合体Aを32mg用いた以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
実施例5
製造例2で得たポリシロキサン共重合体Bを32mg用いた以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
比較例1
ポリシロキサン共重合体A又はBを添加しない以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
比較例2
ポリシロキサン共重合体A又はBの代わりに、1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを用いた以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂組成物の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
実施例6
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(A−DPH:新中村化学工業株式会社製)0.50g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(A−TMN−3LM−N:新中村化学工業株式会社製)1.50g、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT:新中村化学工業株式会社製)0.50g、帯電防止剤として製造例1で得たポリシロキサン共重合体A0.54g、イソプロピルアルコール1.75g、コロイダルシリカのIPA分散液(IPA−ST:シリカ固形分30wt%、日産化学工業株式会社製)3.60g及び光重合開始剤として2−ヒドロキシー2−メチルプロピオフェノン0.15gを混合した。得られた混合物を厚さ100μmのポリエチレンテレフタラートフィルムの片面にバーコーターを用いて乾燥膜厚が約5μmとなるよう塗布した後、塗膜側に高圧水銀UVランプ(120W/cm)の紫外線を積算光量約400mJ/cmの条件で照射して、塗膜を硬化させることによって、アクリル樹脂でハードコートされた試験片を作成した。得られた試験片のハードコート面の表面抵抗率の測定結果を表2に示す。
実施例7
製造例2で得たポリシロキサン共重合体Bを0.54g用いた以外は、実施例6と同様にしてアクリル樹脂でハードコートされた試験片を作成した。得られた試験片のハードコート面の表面抵抗率の測定結果を表2に示す。
比較例3
ポリシロキサン共重合体A又はBを添加しない以外は、実施例6と同様にしてアクリル樹脂でハードコートされた試験片を作成した。得られた試験片のハードコート面の表面抵抗率の測定結果を表2に示す。
比較例4
ポリシロキサン共重合体A又はBの代わりに、1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド0.54gを用いた以外は、実施例6と同様にしてアクリル樹脂でハードコートされた試験片を作成した。得られた試験片のハードコート面の表面抵抗率の測定結果を表2に示す。
実施例8
メタクリル酸メチル5.00g、アゾビスイソブチロニトリル0.20g及び帯電防止剤として製造例1で得たポリシロキサン共重合体A5mgを混合し、得られた混合物をプラスティック容器(内径5cm×深さ1.5cmの円筒形)に流し込み、50℃で10時間硬化させて厚さ約2mmのポリメチルメタクリレート樹脂の試験片を作成した。得られた試験片の表面抵抗率の測定結果を表3に示す。
比較例5
ポリシロキサン共重合体A又はBを添加しない以外は、実施例8と同様にしてポリメチルメタクリレート樹脂の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表3に示す。
比較例6
ポリシロキサン共重合体A又はBの代わりに、1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド5mgを用いた以外は、実施例8と同様にしてポリメチルメタクリレート樹脂の試験片を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表3に示す。
実施例9
過酸化物硬化型シリコーン粘着剤KR−101−10(固形分60%、信越化学工業株式会社製)4.0g、硬化剤BPO(過酸化ベンゾイル)0.08g、酢酸エチル6.2g及び帯電防止剤として実施例1で得たポリシロキサン共重合体A48mgを混合してシリコーン樹脂粘着剤を得た。前記シリコーン樹脂粘着剤をポリエチレンテレフタラートフィルム(離型紙)の片面にバーコーターを用いて乾燥膜厚が約8μmとなるよう塗布し、90℃で3分間、160℃で2分間加熱乾燥させてシリコーン樹脂粘着剤層を作成し、その表面抵抗率を測定した。その結果を表4に示す。
前記粘着剤層を有する面にトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)を貼り合わせ、25℃、50%RHで1時間エージングして試験用フィルムを作成した。試験用フィルムから離型紙を剥離した際の離型紙への粘着剤の付着状態を目視で評価した。その結果を表4に示す。
A:離型紙への粘着剤の付着が認められない。
B:離型紙への部分的な粘着剤の付着が認められる。
C:離型紙への大部分の粘着剤の付着が認められる。
比較例7
ポリシロキサン共重合体A又はBを添加しない以外は実施例9と同様にしてシリコーン樹脂粘着剤層及び試験用フィルムを作成し、その表面抵抗率を測定するとともに、離型紙への粘着剤の付着状態を目視で評価した。その結果を表4に示す。
比較例8
ポリシロキサン共重合体A又はBの代わりに、1−(3−トリメトキシシリルプロピル)−1,1,1−トリブチルホスホニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを用いた以外は実施例9と同様にしてシリコーン樹脂粘着剤層及び試験用フィルムを作成し、その表面抵抗率を測定するとともに、離型紙への粘着剤の付着状態を目視で評価した。その結果を表4に示す。

Claims (9)

  1. 式(1)で示されるオニウム塩と式(2)で示されるジアルコキシシランを共重合して得られるポリシロキサン共重合体。
    式(1):
    (式中、Qは窒素カチオン又はリンカチオンを示す。Rは炭素数1〜3のアルキル基を示し、R〜Rは炭素数1〜8のアルキル基を示す。RとRは末端で互いに結合し、ピロリジン環、ピペリジン環、ピリジン環、ホスホラン環、ホスホリナン環又はホスホリン環を形成してもよい。但し、RとRは末端で互いに結合してピリジン環又はホスホリン環を形成する場合は、Rは存在しない。X含フッ素アニオンを示す。nは0〜3の整数である。)
    式(2):
    (式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数7〜10のアラルキル基を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基を示す。)
  2. 前記式(1)において、Qがリンカチオンである請求項1に記載のポリシロキサン共重合体。
  3. 前記含フッ素アニオンがトリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン、テトラフルオロボレートアニオン又はヘキサフルオロホスフェートアニオンである請求項1又は2に記載のポリシロキサン共重合体。
  4. 前記式(1)で示されるオニウム塩1モルに対して前記式(2)で示されるジアルコキシシラン4〜49モルを共重合して得られる請求項1〜のいずれかに記載のポリシロキサン共重合体。
  5. 請求項1〜のいずれかに記載のポリシロキサン共重合体を含有する帯電防止剤。
  6. 請求項に記載の帯電防止剤を含有する樹脂組成物。
  7. 前記樹脂組成物がポリカーボネート樹脂組成物、アクリル樹脂組成物又はシリコーン樹脂組成物である請求項に記載の樹脂組成物。
  8. 塩酸存在下、前記式(1)で示されるオニウム塩と前記式(2)で示されるジアルコキシシランとを共重合させることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のポリシロキサン共重合体の製造方法。
  9. 塩酸存在下、前記式(1)で示されるオニウム塩1モルに対して前記式(2)で示されるジアルコキシシラン4〜49モルを共重合させることを特徴とする請求項4に記載のポリシロキサン共重合体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6253882B2 (ja) * 2012-12-03 2017-12-27 広栄化学工業株式会社 四級塩構造を有するポリシロキサン共重合体およびそれを含有する帯電防止剤
KR102117416B1 (ko) * 2016-09-26 2020-06-01 닛토덴코 가부시키가이샤 점착제 조성물, 점착 시트, 및 광학 부재
KR102126686B1 (ko) * 2016-11-04 2020-06-25 주식회사 엘지화학 코팅 조성물
JP2021054874A (ja) * 2018-01-30 2021-04-08 マナック株式会社 帯電防止剤
JP7009259B2 (ja) * 2018-02-28 2022-02-10 広栄化学株式会社 オニウム塩
CN108864460B (zh) * 2018-06-28 2020-06-09 浙江清华柔性电子技术研究院 抗静电硅橡胶的制备方法
JP6958511B2 (ja) 2018-08-17 2021-11-02 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン化合物およびその製造方法並びにそれを含有する帯電防止剤および硬化性組成物
JP6988781B2 (ja) * 2018-12-13 2022-01-05 信越化学工業株式会社 帯電防止性シリコーンゴム組成物及び帯電防止キャリアプレート

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1386876A (en) * 1971-10-04 1975-03-12 Dow Corning Bactericidal and fungicidal composition
JP2603291B2 (ja) * 1988-04-19 1997-04-23 東芝シリコーン株式会社 第4級アンモニウム基含有シリコーン樹脂微粉末
JP3115519B2 (ja) * 1995-05-15 2000-12-11 三洋化成工業株式会社 シリコーン樹脂用帯電防止剤
JP2004202925A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Takemoto Oil & Fat Co Ltd インクジェット記録媒体の光沢層用塗工液及びインクジェット記録媒体
JP3993143B2 (ja) * 2003-08-25 2007-10-17 独立行政法人科学技術振興機構 セミipn型複合体およびその製造方法、並びに防汚塗料
JP5602996B2 (ja) * 2008-02-08 2014-10-08 日本化学工業株式会社 粉末状のシリカコンポジット粒子及びその製造方法、シリカコンポジット粒子分散液、並びに樹脂組成物
JP5621982B2 (ja) * 2008-08-18 2014-11-12 日産化学工業株式会社 オニウム基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物
JP2010077383A (ja) * 2008-08-25 2010-04-08 Nippon Chem Ind Co Ltd シロキサン結合を主骨格とするナノコンポジット粉末状粒子及びその製造方法、シロキサン結合を主骨格とするナノコンポジット粉末状粒子分散液、並びに樹脂組成物
JP5456297B2 (ja) * 2008-10-17 2014-03-26 広栄化学工業株式会社 トリアルキルシリル基を有するオニウム塩
JP5628504B2 (ja) 2009-03-24 2014-11-19 広栄化学工業株式会社 トリアルコキシシリルアルキル基を有するオニウム塩
JP6190572B2 (ja) * 2011-06-24 2017-08-30 広栄化学工業株式会社 トリアルコキシシリルアルキル基を有するオニウム塩
JP6253882B2 (ja) * 2012-12-03 2017-12-27 広栄化学工業株式会社 四級塩構造を有するポリシロキサン共重合体およびそれを含有する帯電防止剤

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