JP6127088B2 - Adhesive and substrate manufacturing method - Google Patents
Adhesive and substrate manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6127088B2 JP6127088B2 JP2015125972A JP2015125972A JP6127088B2 JP 6127088 B2 JP6127088 B2 JP 6127088B2 JP 2015125972 A JP2015125972 A JP 2015125972A JP 2015125972 A JP2015125972 A JP 2015125972A JP 6127088 B2 JP6127088 B2 JP 6127088B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- substrate
- sheet
- curing
- peeling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
本発明は、接着剤及び基板の製造方法に関する。 The present invention relates to adhesives and manufacturing how the substrate.
研削(例えば、化学的機械的研磨)により基板(例えば、半導体ウェハ、金属板、セラミックス板、単結晶板等)の平坦化や薄板化を行う場合、基板における研削を行う第1面に対する反対側の第2面を保持して第1面の研削を行う。第2面の保持には、例えば吸引機構が用いられている。しかしながら、基板の第2面は、平坦でなく、加工時にできる凹凸を有することが多い。また、半導体基板のように基板の第2面にバンプ等による比較的大きな凹凸を有することがある。そのため、吸引機構によって、凹凸を有する第2面を吸引して基板を保持しようとすると、基板が傾いた状態で吸引機構に保持されたり、吸引機構による吸引がうまく行えず基板の保持力が不足して、思い通りの研削が行えない場合がある。そこで、基板の第2面の凹凸を除去ないし補正するべく、基板の第2面に、表面を平坦にするための樹脂、テープ、シート等の補助部材を付着(貼り付け、形成)するようにしている。基板の第2面に補助部材を付着することで、基板の傾きが補正され、吸引機構による吸引がうまく行うことができるようになり基板の保持力を確保することができ、さらに、基板の第2面を薬剤、パーティクル等の異物から保護することができる。 When flattening or thinning a substrate (for example, a semiconductor wafer, a metal plate, a ceramic plate, a single crystal plate, etc.) by grinding (for example, chemical mechanical polishing), the side opposite to the first surface to be ground on the substrate The first surface is ground while holding the second surface. For example, a suction mechanism is used to hold the second surface. However, the second surface of the substrate is often not flat and has irregularities that can be formed during processing. Moreover, there may be a relatively large unevenness due to bumps or the like on the second surface of the substrate like a semiconductor substrate. For this reason, if the suction mechanism is used to suck the second surface having irregularities and hold the substrate, the substrate is held by the suction mechanism in a tilted state, or suction by the suction mechanism cannot be performed well, and the holding power of the substrate is insufficient. As a result, grinding may not be performed as intended. Therefore, in order to remove or correct irregularities on the second surface of the substrate, an auxiliary member such as a resin, tape, or sheet for flattening the surface is attached (attached or formed) to the second surface of the substrate. ing. By attaching the auxiliary member to the second surface of the substrate, the inclination of the substrate is corrected, the suction by the suction mechanism can be performed well, the holding force of the substrate can be ensured, The two surfaces can be protected from foreign substances such as drugs and particles.
しかしながら、基板を研削した後に基板から補助部材を剥がす必要がある場合、基板に補助部材の一部(例えば、接着剤)が残ってしまうことがある。そこで、基板から補助部材を確実に剥がすことができるようにするため、様々な工夫がなされている。例えば、補助部材を基板から剥がす前に紫外線等の光を照射することによって補助部材の接着力を低下させる技術(例えば、特許文献1参照)、加熱して補助部材の接着力を低下させる技術(例えば、特許文献2参照)、剥離液等による薬液処理によって補助部材の接着力を低下させる技術(例えば、特許文献3参照)が提案されている。 However, when it is necessary to peel the auxiliary member from the substrate after grinding the substrate, a part of the auxiliary member (for example, an adhesive) may remain on the substrate. Therefore, various devices have been made to ensure that the auxiliary member can be peeled off from the substrate. For example, a technique for reducing the adhesive force of the auxiliary member by irradiating light such as ultraviolet rays before peeling the auxiliary member from the substrate (see, for example, Patent Document 1), a technique for reducing the adhesive force of the auxiliary member by heating (see, for example, Patent Document 1) For example, refer to Patent Document 2), and a technique (for example, refer to Patent Document 3) for reducing the adhesive force of the auxiliary member by chemical treatment with a stripping solution or the like has been proposed.
以下の分析は、本願発明者により与えられる。 The following analysis is given by the inventor.
しかしながら、上記のいずれの技術も、補助部材の剥離の際に補助部材の接着力を低下させる処理を行ってから、補助部材を剥がしているため、補助部材を剥がすための時間が長くなり、基板の生産性が低下する可能性がある。 However, in any of the above techniques, since the auxiliary member is peeled off after the process of reducing the adhesive force of the auxiliary member at the time of peeling of the auxiliary member, the time for peeling off the auxiliary member becomes longer, and the substrate Productivity may be reduced.
また、光照射や熱処理により補助部材の接着力を低下させる技術では、補助部材において補助部材の接着力を低下させるための特殊な層を組み入れておく必要があるため、補助部材が高価となり、生産コストが増大する可能性がある。また、補助部材においてこのような特殊な層を組み入れると補助部材が厚くなるため、基板の傾きを十分に除去することができなくなる可能性があり、基板が傾いたまま研削してしまうと、基板の歩留まりが低下し、基板の生産性が低下する可能性がある。 In addition, in the technology for reducing the adhesive strength of the auxiliary member by light irradiation or heat treatment, it is necessary to incorporate a special layer for reducing the adhesive strength of the auxiliary member in the auxiliary member. Cost may increase. In addition, if such a special layer is incorporated in the auxiliary member, the auxiliary member becomes thick, so there is a possibility that the tilt of the substrate cannot be sufficiently removed. If the substrate is tilted and ground, There is a possibility that the yield of the substrate will decrease and the productivity of the substrate will decrease.
さらに、薬液処理により補助部材の接着力を低下させる技術では、薬液の成分が基板に染み込む可能性があり、染み込んだ薬液の成分により基板の構成部(例えば、半導体基板であれば絶縁層や金属層)が劣化してしまうと、基板の歩留まりが低下し、生産性を向上させることができない可能性がある。また、このような薬液には様々な特殊成分が含まれていることが多いので、薬液が高価となり、生産コストを低減することができなくなる可能性がある。 Furthermore, in the technology for reducing the adhesive force of the auxiliary member by the chemical treatment, there is a possibility that the chemical component may permeate into the substrate, and the component of the chemical (such as an insulating layer or metal for a semiconductor substrate) due to the soaked chemical component. If the layer) deteriorates, the yield of the substrate decreases, and the productivity may not be improved. In addition, since such a chemical solution often contains various special components, the chemical solution becomes expensive and there is a possibility that the production cost cannot be reduced.
本発明の主な課題は、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の平坦化や薄板化を確実に行うことができる接着剤及び基板の製造方法を提供することである。また、本発明の主な課題は、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の加工、処理を確実に行うことができる接着剤及び基板の製造方法を提供することである。 The main object of the present invention, the production cost does not increase, and, without reducing productivity, to provide a manufacturing how the adhesive and substrate planarization and thinning of the substrate can be reliably performed That is. The main object of the present invention, the production cost does not increase, and, without reducing the productivity, the substrate is processed to provide a manufacturing how the adhesive and substrate that can reliably process That is.
第1の視点に係る接着剤は、基板とシートとの間に介在させて硬化することにより前記基板と前記シートとを接着する接着剤であって、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定される。
前記第1の視点の変形例1に係る接着剤は、基板とシートとの間に介在させて硬化することにより前記基板と前記シートとを接着する接着剤であって、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定され、前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂及びウレタンアクリレート樹脂のいずれか又は全てを主成分とし、前記シートは、光透過性の樹脂よりなり、かつ、アクリル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、及びガラスのいずれか又は全てを主成分とし、前記基板は、半導体基板、セラミックス基板、金属板、樹脂板のいずれか1つであり、前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下であり、前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下であり、前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下であり、前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下であり、前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかく、前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する。
前記第1の視点の変形例2に係る接着剤は、基板とシートとの間に介在させて硬化することにより前記基板と前記シートとを接着する接着剤であって、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定され、前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂及びウレタンアクリレート樹脂のいずれか又は全てを主成分とし、前記シートは、光透過性の樹脂よりなり、かつ、前記接着剤との接着面を表面処理したPET及びポリプロピレンのいずれか又は全てを主成分とするシートであり、前記基板は、半導体基板、セラミックス基板、金属板、樹脂板のいずれか1つであり、前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下であり、前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下であり、前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下であり、前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下であり、前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかく、前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する。
The adhesive according to the first aspect is an adhesive that bonds the substrate and the sheet by being interposed and cured between the substrate and the sheet, and in a cured state, the adhesive surface to the substrate The adhesive force in the direction of peeling from the adhesive surface is set to be smaller than the adhesive force in the direction parallel to the adhesive surface, and in the cured state, the adhesive force between the adhesive and the substrate is It is set to be smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet.
The adhesive according to the first modified example of the first viewpoint is an adhesive that bonds the substrate and the sheet by being interposed between the substrate and the sheet, and is cured, In the adhesive surface with the substrate, the adhesive force in the direction of peeling from the adhesive surface is set to be smaller than the adhesive force in the direction parallel to the adhesive surface, and in a cured state, the adhesive and the substrate The adhesive force is set to be smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet, and the adhesive is made of an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays, and an acrylic resin, a urethane resin, and an epoxy resin. The main component is any or all of a silicon resin and a urethane acrylate resin, and the sheet is made of a light-transmitting resin, and acrylic, polycarbonate, polyvinyl chloride, The main component is any one or all of lyimide and glass, and the substrate is any one of a semiconductor substrate, a ceramic substrate, a metal plate, and a resin plate, and is in a shear direction with respect to the substrate after curing of the adhesive. The adhesive force is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less, and the adhesive force in the peeling direction from the substrate after the adhesive is cured is greater than 0 N / mm and 1 N / mm or less, and the adhesive is cured. The previous viscosity is 100 mPa · s or more and 100000 mPa · s or less, the elongation after curing of the adhesive is 50% or more and 700% or less, and the hardness of the adhesive after curing is from pencil 1B. also soft rather, the substrate has an uneven surface in the bonding surface of at least the adhesive.
The adhesive according to
第2の視点に係る基板の製造方法は、基板及びシートの一方に、第1の視点に係る接着剤を形成する工程と、前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、前記接着剤を硬化する工程と、前記基板における前記接着剤側の面に対する反対側の面を研削する工程と、前記接着剤を変質させずに前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、を含む。
前記第2の視点の変形例に係る基板の製造方法は、基板及びシートの一方に接着剤を形成する工程と、前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、前記圧力をかける工程の後に、前記接着剤を硬化する工程と、前記接着剤を硬化する工程の後に、前記基板における前記接着剤側の面に対する反対側の面を研削する工程と、前記研削する工程の後に、熱処理、光処理、薬液処理のいずれの処理も行わずに、前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、を含み、前記接着剤は、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、前記接着剤は、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定され、前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、ウレタンアクリレート樹脂を主成分とし、前記シートは、光透過性の樹脂よりなり、かつ、ポリ塩化ビニルを主成分とし、前記基板は、ガラス板、アルミニウム板及びシリコンウェハのいずれか1つであり、前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下であり、前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下であり、前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下であり、前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下であり、前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかく、前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する。
The substrate manufacturing method according to the second aspect includes a step of forming an adhesive according to the first viewpoint on one of the substrate and the sheet, and bonding the other of the substrate and the sheet to the adhesive, A step of applying pressure so that the thickness of the agent becomes a predetermined thickness, a step of curing the adhesive, a step of grinding a surface of the substrate opposite to the surface of the adhesive, and the bonding And peeling the sheet together with the adhesive from the substrate without altering the agent.
The substrate manufacturing method according to a modification of the second aspect includes the steps of forming the substrate and one on the adhesives of the sheet, bonded to the substrate and the other of said sheet to said adhesive, said adhesive The step of applying pressure so that the thickness becomes a predetermined thickness, the step of curing the adhesive after the step of applying pressure, and the step of curing the adhesive, the adhesive on the substrate A step of grinding the surface opposite to the side surface, and a step of peeling the sheet together with the adhesive from the substrate without performing any of heat treatment, light treatment, and chemical treatment after the grinding step. When, only contains the adhesive in the cured state, so that the direction of the adhesive strength to peel from the adhesive surface in the adhesion surface with the substrate is reduced relative to the parallel direction of the adhesive force to the adhesive surface Set the said glue Is set so that the adhesive force between the adhesive and the substrate is smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet in a cured state, and the adhesive is an ultraviolet ray that is cured by irradiation with ultraviolet rays. It is made of a cured resin and has urethane acrylate resin as a main component, the sheet is made of a light transmissive resin and has polyvinyl chloride as a main component, and the substrate is made of a glass plate, an aluminum plate, or a silicon wafer. Any one, and the adhesive force of the shear direction with respect to the said board | substrate after hardening of the said adhesive agent is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less, and the adhesive force of the peeling direction from the said board | substrate after hardening of the said adhesive agent Is greater than 0 N / mm and not more than 1 N / mm, and the viscosity of the adhesive before curing is not less than 100 mPa · s and not more than 100,000 mPa · s, The elongation after curing of the agent is 50% or more and 700% or less, the hardness of the adhesive after curing is softer than the pencil 1B, and the substrate has an uneven surface at least on the adhesive surface with the adhesive. Have .
第3の視点に係る基板保持シートは、第1の視点に係る接着剤と、前記接着剤の前記基板側の面に対する反対側の面に接着されるシートと、を備える。 The board | substrate holding sheet | seat which concerns on a 3rd viewpoint is provided with the adhesive agent which concerns on a 1st viewpoint, and the sheet | seat adhere | attached on the surface on the opposite side with respect to the said substrate side surface of the said adhesive agent.
本発明によれば、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の平坦化や薄板化を確実に行うことができる。 According to the present invention, it is possible to surely flatten or thin a substrate without increasing production costs and reducing productivity.
以下、実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、本出願において図面参照符号を付している場合は、それらは、専ら理解を助けるためのものであり、図示の態様に限定することを意図するものではない。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. Note that, in the present application, where reference numerals are attached to the drawings, these are only for the purpose of helping understanding, and are not intended to be limited to the illustrated embodiments.
[実施形態1]
実施形態1に係る基板の製造方法について図面を用いて説明する。図1は、実施形態1に係る基板の製造方法を模式的に示した工程断面図である。
[Embodiment 1]
A substrate manufacturing method according to Embodiment 1 will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process cross-sectional view schematically showing the method for manufacturing a substrate according to the first embodiment.
実施形態1に係る基板の製造方法は、研削により基板10の研削しようとする第1面11を平坦化又は基板10を薄板化するのに適した基板の製造方法である。実施形態1に係る基板の製造方法においては、研削前に、基板10における第1面11に対する第2面12に、吸着保持装置110で基板10を保持しやすくするための接着剤20とシート30とを別々に形成し、研削後に、接着剤20及びシート30の両方を剥離する。詳しくは、以下の通りである。
The substrate manufacturing method according to the first embodiment is a substrate manufacturing method suitable for flattening the
まず、基板10の研削しようとする第1面11に対する反対側の第2面12に接着剤20を形成する(ステップA1;図1(A)参照)。
First, the
次に、接着剤20にシート30を貼り合わせ、接着剤20の層の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける(ステップA2;図1(B)参照)。
Next, the
次に、接着剤20を硬化する(ステップA3)。
Next, the
次に、吸着保持装置110によってシート30を保持して、基板10の第1面11を研削する(ステップA4;図1(C)参照)。
Next, the
最後に、接着剤20を変質させずに(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)、基板10から接着剤20ごとシート30を引き剥がす(ステップA5;図1(D)参照)。
Finally, the
ここで、基板10には、例えば、半導体ウェハ(例えば、シリコン基板;回路が形成されているか否かは不問)、金属板、セラミックス板(例えば、フェライト、サファイア、SiC、BaN等)、単結晶板、樹脂板等の板状の部材を用いることができる。基板10の第1面11及び第2面12は、凹凸(バンプ等による凹凸を含む)を有するか否かは問わない。
Here, the
接着剤20は、硬化することにより接着力を発揮する接着剤である。接着剤20は、基板10を保持して研削するために用いることが好ましく、基板10を保持して他の作業を行うために用いてもよい。接着剤20には、光硬化性の接着剤を用いることが好ましく、熱硬化性、溶剤揮発硬化性の接着剤を用いてもよい。熱硬化性の接着剤を用いる場合には、できるだけ低温の加熱で硬化するものが望ましい。接着剤20は、液状とし、スピンコート法、塗布法、印刷法、ディスペンス塗布法等により基板10又はシート30上に形成することができる。
The adhesive 20 is an adhesive that exhibits an adhesive force when cured. The adhesive 20 is preferably used for holding and grinding the
接着剤20は、硬化した状態で、基板10の第2面12に対して平行な方向(剪断方向)に接着力が強く、基板の第2面から引き剥がす方向(剥離方向)に接着力が弱い(剪断方向の接着力に対して極小)特性を有する状態で用いられる。つまり、接着剤20は、硬化した状態で、基板10との接着面において当該接着面から引き剥がす方向の接着力が当該接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定される。接着剤20は、接着される部分の基板10及びシート30の材料に応じて設定され、接着剤20と基板10との接着力、及び、接着剤20とシート30との接着力の関係で決定することができる。接着剤20には、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂のいずれか又は全てを主成分とする接着剤を用いることができる。接着剤20は、基板10から剥がす際に変質することなく(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)引き剥がすことができるように設定される。
The adhesive 20 has a strong adhesive force in a direction parallel to the
接着剤20は、複数の市販品を配合したものを用いることができ、例えば、以下のような市販品を以下のような組成で配合したものを用いることができる。以下のように配合することにより、(1)未硬化時は小さな凹凸を充填できる程度に低粘度であり、秒単位で硬化させることができ、(2)硬化した状態では柔軟性、伸縮性がありバンプ等を傷つけることなく、簡単に基板10から剥離でき、(3)研削抵抗に耐えるせん断接着力と、簡単にはがせる適度な剥離接着力とがある。このような接着剤を開発することにより、接着剤20及びシート30を基板10から剥がす際に、接着剤20を変質することなく(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)引き剥がすこと可能になった。なお、接着剤20は、これに限るものではない。 As the adhesive 20, a mixture of a plurality of commercially available products can be used. For example, a mixture of the following commercially available products with the following composition can be used. By blending as follows, (1) when uncured, the viscosity is low enough to fill small irregularities and can be cured in seconds, and (2) flexibility and stretchability in the cured state. It can be easily peeled off from the
会社名 市販品名 組成Company name Commercial product name Composition
SARTOMER社 CN996 10wt%以上30wt%以下SARTOMER CN996 10wt% to 30wt%
SARTOMER社 SR506NS 20wt%以上60wt%以下SARTOMER SR506NS 20wt% to 60wt%
新中村化学工業株式会社 UAW2A 10wt%以上30wt%以下Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. UAW2A 10wt% or more and 30wt% or less
BASF社 IRGACURE184 0wt%以上5wt%以下BASF IRGACURE184 0wt% to 5wt%
BASF社 IRGACURE819 0wt%以上5wt%以下BASF IRGACURE819 0wt% to 5wt%
信越化学工業株式会社 KBM-5103 0wt%以上5wt%以下Shin-Etsu Chemical KBM-5103 0wt% to 5wt%
接着剤20は、できるだけ薄いことが望ましく、基板10の第2面12が凹凸を有する場合には凹部に充填され、かつ、凸部でできるだけ薄いことが望ましい。接着剤20の厚さ(最小となる部分の厚さ)は、例えば、0μmより大きくかつ500μm以下とすることができる。500μmを超えると接着剤が伸びて、基板から引き剥がしにくくなる可能性がある。また、接着剤20の厚さは、接着剤20の硬化時の収縮を小さく抑えることを考慮すると、10μm以上かつ200μm以下であることが好ましく、10μm以上かつ50μm以下であることがより好ましい。なお、基板10の第2面12とシート30とは、部分的に接してもよい。
The adhesive 20 is desirably as thin as possible. When the
接着剤20の硬化後の基板10に対する剪断方向の接着力(引張りせん断接着強さJISK6850(1999)に相当)は、0.1MPa以上かつ50MPa以下とすることができ、1MPa以上かつ30MPa以下とすることが好ましい。0.1MPaに満たないと、研削抵抗に耐えられなくなる可能性がある。一方、50MPaを超えると、基板10から引き剥がしにくくなる可能性がある。
The adhesive force in the shear direction (corresponding to the tensile shear bond strength JISK6850 (1999)) to the
接着剤20の硬化後の基板10からの剥離方向(ここでは180°)の接着力(はく離接着強さJISK6854(1999)に相当)は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下とすることができ、0.1N/mm以上かつ0.8N/mm以下とすることが好ましい。1N/mmを超えると、接着力が強すぎて、基板から引き剥がしにくくなる可能性がある。
The adhesive strength (equivalent to the peel adhesive strength JISK6854 (1999)) in the peeling direction (180 ° in this case) from the
接着剤20の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下とすることができ、500mPa・s以上かつ5000mPa・s以下とすることが好ましい。100000mPa・sを超えるとバンプ等の比較的大きな凹凸を充填できなくなる可能性がある。100mPa・sより小さいと接着剤が基板から流れ落ちてしまう可能性がある。 The viscosity of the adhesive 20 before curing can be 100 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and preferably 500 mPa · s or more and 5000 mPa · s or less. If it exceeds 100,000 mPa · s, there is a possibility that relatively large irregularities such as bumps cannot be filled. If it is less than 100 mPa · s, the adhesive may flow down from the substrate.
接着剤20の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下とすることができ、100%以上かつ500%以下とすることが好ましい。50%よりも小さいとバンプ等が取れてしまう可能性がある。700%を超えると接着剤の硬度が不足する可能性がある。接着剤20の硬化後の硬度は、「JIS K 5600」に準ずる鉛筆引っかき硬度試験法による硬度で鉛筆1Bよりも柔らかいものが好ましい。 The elongation of the adhesive 20 after curing can be 50% or more and 700% or less, and preferably 100% or more and 500% or less. If it is smaller than 50%, bumps or the like may be removed. If it exceeds 700%, the hardness of the adhesive may be insufficient. The hardness of the adhesive 20 after curing is preferably softer than the pencil 1B in terms of the hardness by the pencil scratch hardness test method according to “JIS K 5600”.
シート30は、接着剤20の補強材として用いるための部材である。シート30は、フィルム状に形成され、可撓性を有する。シート30の材質は、接着剤20と基板10との接着力、及び、接着剤20とシート30との接着力の関係で決定することができ、例えば、PET(polyethylene terephthalate)、アクリル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ガラス等のいずれか又は全てを主成分とするものを用いることができる。シート30は、接着剤20が光硬化性である場合には、光透過性の材料を用いる。
The
シート30には、市販品を用いることができ、例えば、積水成型工業株式会社製のエスビロンスタット(市販品名;0.2mm厚)を用いることができる。 A commercially available product can be used for the
シート30の厚さは、例えば、50μm以上とすることができる。50μmに満たないとシートが補強材として機能しにくくなり、基板10から引き剥がしにくくなる可能性がある。なお、厚みが1mmでも湾曲することが出来る可撓性のあるシートは、剥離することが出来るが、生産コストが増大する可能性がある。シート30の厚さは、材料にもよるが、実用性及び経済性を考慮すると、50μm以上かつ500μm以下であることが好ましく、100μm以上かつ300μm以下であることがより好ましい。
The thickness of the
吸着保持装置110は、保持しようとするもの(ここでは基板10)を吸着により保持する装置である。なお、吸着保持装置110に限らず、保持しようとするものが保持できれば、どのような装置でもかまわない。
The
なお、実施形態1では、接着剤20を基板10に形成してからシート30を貼り付けた例を示しているが、接着剤20をシート30に形成してから基板10を貼り付けるようにしてもよい。
In the first embodiment, the example in which the
実施形態1によれば、基板10の第1面11を研削する時の剪断方向の研削力(研削抵抗)に対し十分な接着力(剪断強度)があるので、基板10を確実に薄く研削することができる。また、接着剤20と基板10との接着力が弱く、かつ、接着剤20とシート30との接着力が強いので、シート30を剥離する時に、基板10に接着剤を残すことなく、基板10からシート30及び接着剤20を剥離することができる。また、基板10の第2面12に、テープやシートでは吸収しきれない凹凸(例えば、バンプ)があっても、接着剤20の層で凹凸を吸収して基板の第1面を傾けずに配置することができるので研削により、ディンプルを発生することなく基板10の第1面11を確実に平坦化することができ、基板10を確実に薄板化することができるようになり、基板の歩留まりが向上し、基板の生産性を向上させることができる。また、基板10に接着(接着硬化)された接着剤20及びシート30を引き剥がす際に、接着剤20を変質することなく(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)引き剥がすことができるので、接着剤20及びシート30を引き剥がす工程の時間を短縮することができるようになり、基板10の生産性を向上させることができる。また、基板10に接着(接着硬化)された接着剤20及びシート30を引き剥がす際に、接着剤20を変質して引き剥がしやすくするための特殊な層を組み込む必要がないため、生産コストを増大させることがない。また、接着剤20を変質して引き剥がしやすくするための特殊な層を組み込む必要がないため、接着剤20の層を薄くすることができ、基板の傾きを十分に除去して研削することができるようになり、基板10の歩留まりが向上し、基板の生産性を向上させることができる。基板10に接着(接着硬化)された接着剤20及びシート30を引き剥がす際に、接着剤20を変質して引き剥がしやすくするための薬液を使用することなく引き剥がすことができるので、生産コストを増大させることがない。また、接着剤20を変質して引き剥がしやすくするための薬液を使用することなく引き剥がすことができるので、薬液の成分により基板の構成部が劣化することがなく、基板10の歩留まりが向上し、基板10の生産性を向上させることができる。
According to the first embodiment, since there is sufficient adhesive force (shear strength) with respect to the grinding force (grinding resistance) in the shear direction when the
[実施形態2]
本発明の実施形態2に係る基板の製造方法について図面を用いて説明する。図2は、実施形態2に係る基板の製造方法を模式的に示した工程断面図である。
[Embodiment 2]
A substrate manufacturing method according to
実施形態2に係る基板の製造方法は、実施形態1の変形例であり、研削前に、基板10第2面12に接着剤(図1の20)とシート(図1の30)とを別々に形成するのではなく、接着剤41とシート42とが予めセットされた基板保持シート40の接着剤41を貼り合わせるようにしたものである。その他の工程、構成は、実施形態1と同様である。基板保持シート40は、基板10を保持するためのシートであり、接着剤41と、シート42と、を有する(図2(A)参照)。
The substrate manufacturing method according to the second embodiment is a modification of the first embodiment, and the adhesive (20 in FIG. 1) and the sheet (30 in FIG. 1) are separately applied to the
接着剤41は、硬化することにより接着力を発揮する層である。接着剤は、硬化前においてはゲル状で変形可能である。接着剤41は、シート42の片面に形成されている。接着剤41は、シート42側の面に対する反対側の面に基板10の第2面12を貼り合わせて硬化することで基板10と接着する。接着剤41のその他の構成は、実施形態1の接着剤(図1の20)と同様にすることができる。
The adhesive 41 is a layer that exhibits an adhesive force by being cured. The adhesive is gel-like and can be deformed before curing. The adhesive 41 is formed on one side of the
シート42は、接着剤41の補強材として機能させるための部材である。シート42は、実施形態1のシートと同様なものを用いることができる。
The
実施形態2に係る基板の製造方法として、まず、シート42に接着剤41が形成された基板保持シート40の接着剤41と基板10の第2面12とを貼り合わせ、接着剤41の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける(ステップB1;図2(B)参照)。ここで、接着剤41と基板10の第2面12とを貼り合わせる際、接着剤41に光、熱等の処理を行って接着剤41の粘度を低下(液状化)するようにしてもよい。
As a method for manufacturing a substrate according to the second embodiment, first, the adhesive 41 of the substrate holding sheet 40 in which the adhesive 41 is formed on the
次に、接着剤41を硬化する(ステップB2)。 Next, the adhesive 41 is cured (step B2).
次に、吸着保持装置110によってシート42を保持して、基板10の第1面11を研削する(ステップB3;図2(C)参照)。
Next, the sheet |
最後に、接着剤41を変質させずに(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)、基板10から接着剤41ごとシート42を引き剥がす(ステップB4;図1(D)参照)。
Finally, the
実施形態2によれば、実施形態1と同様に、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の平坦化や薄板化を確実に行うことができるとともに、硬化前に接着剤を基板に形成する工程を省略することができるようになり、さらに生産性を向上させることができるようになる。 According to the second embodiment, as in the first embodiment, the production cost does not increase and the substrate can be reliably flattened and thinned without decreasing the productivity. The step of forming the adhesive on the substrate can be omitted, and the productivity can be further improved.
[実施形態3][Embodiment 3]
実施形態3に係る基板の製造方法について説明する。 A method for manufacturing a substrate according to the third embodiment will be described.
実施形態3に係る基板の製造方法は、実施形態1、2に係る基板の製造方法における基板の研削の代わりに、例えば、ダイシング、切断、切削、穴あけ、表面加工、溶接、エッチング(ウェットエッチング、ドライエッチング)、成膜(ないし堆積)、表面実装(フリップチップボンディング)、印刷、めっき処理、薬物処理(酸処理、アルカリ処理)、洗浄等の機械加工、物理処理、化学処理が挙げられる。その他の工程は、実施形態1、2と同様である。 In the substrate manufacturing method according to the third embodiment, instead of grinding the substrate in the substrate manufacturing method according to the first and second embodiments, for example, dicing, cutting, cutting, drilling, surface processing, welding, etching (wet etching, Examples include dry etching), film formation (or deposition), surface mounting (flip chip bonding), printing, plating treatment, drug treatment (acid treatment, alkali treatment), mechanical processing such as cleaning, physical treatment, and chemical treatment. Other steps are the same as those in the first and second embodiments.
実施形態3によれば、実施形態1、2と同様に、シートを剥離する時に、基板に接着剤を残すことなく、基板からシート及び接着剤を剥離することができるので、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の加工、処理を確実に行うことができる。ダイシングであれば、接着剤ないしシートを完全に分離しないように基板を切ることができるので、シートの貼り替えをしなくて済む。表面実装であれば、接着剤及びシートが、表面実装時の温度以上の250℃での30分間の加熱にも耐えることができることが確認できた。また、接着剤及びシートが基板の加工時の保護膜として機能させることができ、薬剤、パーティクル等の異物から保護することができる。 According to the third embodiment, as in the first and second embodiments, when the sheet is peeled, the sheet and the adhesive can be peeled from the substrate without leaving the adhesive on the substrate, which increases the production cost. In addition, the substrate can be reliably processed and processed without reducing productivity. With dicing, the substrate can be cut so as not to completely separate the adhesive or the sheet, so that it is not necessary to replace the sheet. In the case of surface mounting, it was confirmed that the adhesive and the sheet can withstand heating for 30 minutes at 250 ° C., which is higher than the temperature for surface mounting. In addition, the adhesive and the sheet can function as a protective film during processing of the substrate, and can be protected from foreign substances such as drugs and particles.
[実施形態4][Embodiment 4]
実施形態4に係る基板の製造方法について説明する。図面を用いて説明する。図4は、実施形態4に係る基板の製造方法を模式的に示した工程断面図である。 A method for manufacturing a substrate according to Embodiment 4 will be described. This will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a process cross-sectional view schematically showing the substrate manufacturing method according to the fourth embodiment.
実施形態4に係る基板の製造方法は、実施形態1、2の変形例であり、基板10を保持する手段として吸着保持装置(図1(C)、図2(C)の110)を用いるのをやめ、保持板50及び粘着剤51を用いたものである。その他の工程、構成は、実施形態1、2と同様である。 The substrate manufacturing method according to the fourth embodiment is a modification of the first and second embodiments, and an adsorption holding device (110 in FIGS. 1C and 2C) is used as a means for holding the
ここで、保持板50は、基板10を保持するための板状の部材である。保持板50には、例えば、セラミック板、金属板等を用いることができ、これらに限られるものではない。保持板50には、市販品を用いることができ、例えば、日本エンギス株式会社製のセラミック製貼付盤(直径383mm、厚み20mm)を用いることができる。 Here, the holding
また、粘着剤51は、粘着力により物体間を接着する粘着剤である。粘着剤51には、保持板50やシート30の材質に応じて、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤等を用いることができ、これらに限られるものではない。粘着剤51には、市販品を用いることができ、例えば、トーヨーケム株式会社製のBPS5079−1を用いることができる。粘着剤51は、加熱(例えば、100℃以下の温度に加熱)することによって粘度が低下して保持板50を剥がしやすくできるものであることが好ましい。粘着剤51は、液状とし、スピンコート法、塗布法、印刷法、ディスペンス塗布法等によりシート30又は上に形成することができる。粘着剤の厚さは、できるだけ薄いことが望ましく、例えば、0μmより大きくかつ50μm以下とすることができ、実用性及び経済性を考慮すると、10μm以上かつ30μm以下が好ましい。 The pressure-
実施形態4に係る基板の製造方法として、まず、ステップA1〜A3、又は、ステップB1〜B2により、基板10の第2面12に接着剤20(又は41、以下同様)を介してシート30(又は42、以下同様)を貼り合わせ、接着剤20の厚さが所定の厚さになるように圧力をかけ、その後、接着剤20を硬化する(ステップC1)。 As a method for manufacturing a substrate according to Embodiment 4, first, the sheet 30 (or 41, the same applies below) is applied to the
次に、シート30の接着剤20側に対する反対側の面に粘着剤51を形成する(ステップC2;図4(A)参照)。なお、粘着剤51は、保持板(図4(B)の50)に形成してもよい。 Next, the pressure-
次に、粘着剤51に保持板50を接着することによって基板10を保持板50に保持させる(ステップC3;図4(B)参照)。 Next, the
次に、基板10の第1面11を研削する(ステップC4;図4(C)参照)。なお、実施形態3のように、研削の代わりに、例えば、ダイシング、切断、切削、穴あけ、表面加工、溶接、エッチング(ウェットエッチング、ドライエッチング)、成膜(ないし堆積)、表面実装(フリップチップボンディング)、印刷、めっき処理、薬物処理(酸処理、アルカリ処理)、洗浄等の機械加工、物理処理、化学処理を行ってもよい。 Next, the
次に、基板10、接着剤20、シート30、粘着剤51、及び保持板(図4(C)の50)を含むユニットを加熱することによって、当該ユニットから保持板(図4(C)の50)を剥がす(ステップC5;図4(D)参照)。なお、粘着剤51は、シート30に付着していてもよく、付着していなくてもよい。 Next, the unit including the
最後に、接着剤20を変質させずに(光処理、熱処理、薬液処理等の処理を行わずに)、基板10から接着剤20ごとシート30を引き剥がす(ステップC6;図4(E)参照)。 Finally, the
実施形態4によれば、粘着剤51を用いて保持板50に貼り付けて基板10の確実な保持が必要な場合にも、粘着剤51を基板10に接触させる必要がなくなり、シート30を剥離する時に、基板10に接着剤20及び粘着剤51を残すことなく、基板10からシート30及び接着剤20を剥離することができるので、実施形態1〜3と同様に、生産コストが増大せず、かつ、生産性を低下させることなく、基板の加工、処理を確実に行うことができる。 According to the fourth embodiment, it is not necessary to bring the adhesive 51 into contact with the
基板の製造方法における研削試験及び剥離試験について説明する。 The grinding test and peeling test in the substrate manufacturing method will be described.
[研削試験]
研削試験では、実施形態1に係る基板の製造方法(図1参照)に沿って、基板10に接着剤20を介してシート30を貼り付け、その後、基板10を研削できるか否かを試験した。詳細には、基板10として厚さ500μmのシリコンウェハを用い、シリコンウェハの第2面12に、接着剤20として光硬化型接着剤(主成分:ウレタンアクリレート樹脂)をディスペンスして均一な厚さに塗布し、その後、シート30として厚さ200μmの塩化ビニルシートを光硬化型接着剤に貼り合わせ、その後、光硬化型接着剤が厚さ20μm(最薄部の厚さ)となるように均等に圧力をかけ、その後、光(紫外線)を照射して光硬化型接着剤を硬化させ、その後、シリコンウェハの第1面11を研削できるか否かを試験した。
[Grinding test]
In the grinding test, in accordance with the substrate manufacturing method (see FIG. 1) according to the first embodiment, the
その結果、シリコンウェハの第2面12に凹凸があっても第1面11に凹凸が出ないように平坦に研削することができた。また、シリコンウェハを厚さ50μmまで研削することができた。
As a result, even if the
なお、光硬化型接着剤の代わりに溶剤揮発硬化型接着剤、熱硬化型接着剤を用いた場合、光硬化型接着剤よりも硬化するまでに時間がかかった。 When a solvent volatile curable adhesive or a thermosetting adhesive was used instead of the photocurable adhesive, it took longer to cure than the photocurable adhesive.
[剥離試験]
剥離試験では、基板10の種類を変えたり、接着剤及びシートの厚さを変えて剥離試験を行った。基板として、厚さ500μmのガラス板、アルミニウム板、シリコンウェハを使用し、接着剤として、ウレタンアクリレート樹脂を主成分とする紫外線硬化型の接着剤を使用し、シートとして、PET(厚さ50μm)、ポリ塩化ビニル樹脂(厚さ0.2、0.3、0.5、1mm)を使用した。
[Peel test]
In the peel test, the peel test was performed by changing the type of the
剥離試験の方法として、基板の第2面(接着面)に接着剤を塗布(ディスペンス塗布)し、その後、幅100mm及び長さ200mmにカットしたシートを、接着剤に貼り合わせ、その後、接着剤が50μm、200μmになるように均等に加圧し、その後、接着剤に光(紫外線)を照射して接着剤を硬化し、その後、バックグラインド用剥離テープをシートにおける幅100mmの辺の周縁部に貼り付け、その後、シートを引き剥がしたときにシートとともに接着剤を引き剥がせるか否かの試験を行った。なお、ここでは研削を行っていない。また、バックグラインド用剥離テープは、シートを引き剥がす時のきっかけとするものである。 As a peeling test method, an adhesive is applied to the second surface (adhesion surface) of the substrate (dispensing application), and then a sheet cut to a width of 100 mm and a length of 200 mm is bonded to the adhesive, and then the adhesive. Are uniformly pressed to 50 μm and 200 μm, and then the adhesive is cured by irradiating the adhesive with light (ultraviolet rays), and then the backgrinding release tape is applied to the peripheral portion of the side having a width of 100 mm on the sheet. Then, a test was conducted as to whether or not the adhesive could be peeled off together with the sheet when the sheet was peeled off. Here, grinding is not performed. Further, the backgrinding release tape is a trigger when the sheet is peeled off.
その結果、PETシートの場合、どの基板であってもPETシートのみが剥離し、接着剤が基板に残った。そのため、基板に残った接着剤を再度剥離処理することが必要となる。再度剥離処理を回避するには、表面処理したPETシートを用いる必要がある。 As a result, in the case of the PET sheet, only the PET sheet was peeled off regardless of the substrate, and the adhesive remained on the substrate. Therefore, it is necessary to remove the adhesive remaining on the substrate again. To avoid re-peeling process, it is necessary to have use a PET sheet surface-treated.
ポリ塩化ビニルシートの場合、図3に示すような結果となった。すなわち、シート厚、接着剤厚、基板の種類に応じて基板からシート及び接着剤を剥離することができた。基板の種類にかかわらず、シート厚及び接着剤厚がともに薄いものほどシー及び接着剤を剥離しやすい傾向があった。基板はアルミニウム板、ガラス板、シリコンウェハの順にシート及び接着剤を剥離しやすい傾向があった。少なくともシート厚0.3mm以下、かつ、接着剤厚50μm以下で使用すれば、どの種類の基板に対してもシート及び接着剤を剥離できる。 In the case of the polyvinyl chloride sheet, the result shown in FIG. 3 was obtained. That is, the sheet and the adhesive could be peeled from the substrate according to the sheet thickness, the adhesive thickness, and the type of the substrate. Regardless of the type of substrate, the thinner the sheet thickness and the adhesive thickness, the easier it was to peel off the seal and the adhesive. The substrate tended to easily peel off the sheet and adhesive in the order of an aluminum plate, a glass plate, and a silicon wafer. If it is used at least with a sheet thickness of 0.3 mm or less and an adhesive thickness of 50 μm or less, the sheet and the adhesive can be peeled from any kind of substrate.
なお、塩化ビニルシートの代わりにポリプロピレンシートを用いると、シートを引き剥がしたときに、シートと接着剤との間の接着力が弱く、PETシートの場合と同様に、接着剤がシリコンウェハに残った。ただし、ポリプロピレンシートを用いても、接着剤との接着面を表面処理(例えば、コロナ放電処理)したポリプロピレンシートを用いれば、接着剤がシリコンウェハに残らないようにすることができる。さらに、シートを使用しないで接着剤のみ使用する場合、引き剥がし時の強度を確保するのに接着剤の層を厚くする必要があり、経済的ではない。
When a polypropylene sheet is used instead of the vinyl chloride sheet, the adhesive strength between the sheet and the adhesive is weak when the sheet is peeled off, and the adhesive remains on the silicon wafer as in the case of the PET sheet. It was. However, even with a polypropylene sheet, the adhesive surface of the adhesive surface treatment (e.g., corona discharge treatment) if put use a polypropylene sheet, can be made to the adhesive does not remain on the silicon wafer. Furthermore, when only the adhesive is used without using a sheet, it is necessary to increase the thickness of the adhesive layer in order to ensure the strength at the time of peeling, which is not economical.
(付記)
第1の視点に係る接着剤は、基板とシートとの間に介在させて硬化することにより前記基板と前記シートとを接着する接着剤であって、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定される。また、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定される。
(Appendix)
The adhesive according to the first aspect is an adhesive that bonds the substrate and the sheet by being interposed and cured between the substrate and the sheet, and in a cured state, the adhesive surface to the substrate The adhesive force in the direction of peeling from the adhesive surface is set to be smaller than the adhesive force in the direction parallel to the adhesive surface. Further, in the cured state, the adhesive force between the adhesive and the substrate is set to be smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet.
前記第1の視点に係る接着剤において、前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂及びウレタンアクリレート樹脂のいずれか又は全てを主成分とする。 In the adhesive according to the first aspect, the adhesive is made of an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays, and any or all of an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a silicon resin, and a urethane acrylate resin. Is the main component.
前記第1の視点に係る接着剤において、前記接着剤は、前記基板と前記シートとの間で厚さ0μmより大きくかつ500μm以下で用いられる。 In the adhesive according to the first aspect, the adhesive is used between the substrate and the sheet at a thickness greater than 0 μm and not greater than 500 μm.
前記第1の視点に係る接着剤において、前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下である。また、前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下である。 In the adhesive according to the first aspect, the adhesive force in the shear direction to the substrate after the adhesive is cured is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less. Moreover, the adhesive force in the peeling direction from the substrate after the adhesive is cured is greater than 0 N / mm and not greater than 1 N / mm.
前記第1の視点に係る接着剤において、前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下である。また、前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下である。さらに、前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかい。 In the adhesive according to the first aspect, the viscosity of the adhesive before curing is not less than 100 mPa · s and not more than 100,000 mPa · s. The elongation of the adhesive after curing is 50% or more and 700% or less. Furthermore, the hardness of the adhesive after curing is softer than the pencil 1B.
第2の視点に係る基板の製造方法は、基板及びシートの一方に、前記第1の視点に係る接着剤を形成する工程と、前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、前記接着剤を硬化する工程と、前記基板における前記接着剤側の面に対する反対側の面を研削する工程と、前記接着剤を変質させずに前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、を含む。 A method for manufacturing a substrate according to a second aspect includes a step of forming an adhesive according to the first viewpoint on one of a substrate and a sheet, and bonding the other of the substrate and the sheet to the adhesive, Applying a pressure so that the thickness of the adhesive becomes a predetermined thickness, curing the adhesive, grinding a surface of the substrate opposite to the adhesive-side surface, Peeling the sheet together with the adhesive from the substrate without altering the adhesive.
前記第2の視点に係る基板の製造方法において、前記シートは、光透過性の樹脂よりなる。また、前記シートは、PET、アクリル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、及びガラスのいずれか又は全てを主成分とする。さらに、前記シートの厚さは、50μm以上とすることができる。 In the method for manufacturing a substrate according to the second aspect, the sheet is made of a light transmissive resin. The sheet contains, as a main component, any or all of PET, acrylic, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyimide, and glass. Furthermore, the thickness of the sheet can be 50 μm or more.
前記第2の視点に係る基板の製造方法において、前記基板は、半導体基板、セラミックス基板、金属板、樹脂板のいずれか1つである。また、前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する。 In the substrate manufacturing method according to the second aspect, the substrate is one of a semiconductor substrate, a ceramic substrate, a metal plate, and a resin plate. Further, the substrate has an uneven surface at least on an adhesive surface with the adhesive.
前記第2の視点に係る基板の製造方法において、前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程では、熱処理、光処理、薬液処理のいずれの処理も行わずに、前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす。 In the method of manufacturing a substrate according to the second aspect, in the step of peeling the sheet together with the adhesive, the sheet together with the adhesive from the substrate is not performed without any of heat treatment, light treatment, and chemical treatment. Tear off.
第3の視点に係る基板保持シートは、前記第1の視点に係る接着剤と、前記接着剤の前記基板側の面に対する反対側の面に接着されるシートと、を備える。 The board | substrate holding sheet | seat which concerns on a 3rd viewpoint is provided with the adhesive agent which concerns on the said 1st viewpoint, and the sheet | seat adhere | attached on the surface on the opposite side with respect to the said substrate side surface of the said adhesive agent.
第4の視点に係る基板の製造方法は、基板及びシートの一方に、請求項1乃至5のいずれか一に記載の接着剤を形成する工程と、前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、前記接着剤を硬化する工程と、前記基板に対して所定の加工を行う工程と、前記接着剤を変質させずに前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、を含むことを特徴とする。 The manufacturing method of the board | substrate which concerns on a 4th viewpoint WHEREIN: The process of forming the adhesive agent as described in any one of Claims 1 thru | or 5 on one side of a board | substrate and a sheet | seat, and the other of the said board | substrate and the said sheet | seat on the said adhesive agent And applying a pressure so that the thickness of the adhesive becomes a predetermined thickness, curing the adhesive, performing a predetermined process on the substrate, and the adhesive And the step of peeling the sheet together with the adhesive from the substrate without deteriorating the material.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記所定の加工は、前記基板のダイシング、切断、切削、穴あけ、表面加工、溶接、エッチング、成膜、表面実装、印刷、めっき処理、薬物処理、及び、洗浄のいずれかである。 In the substrate manufacturing method according to the fourth aspect, the predetermined processing includes dicing, cutting, cutting, drilling, surface processing, welding, etching, film formation, surface mounting, printing, plating processing, drug processing of the substrate. And either cleaning.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記シートは、光透過性の樹脂よりなる。また、前記シートは、PET、アクリル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、及びガラスのいずれか又は全てを主成分とする。さらに、前記シートの厚さは、50μm以上とすることができる。 In the substrate manufacturing method according to the fourth aspect, the sheet is made of a light-transmitting resin. The sheet contains, as a main component, any or all of PET, acrylic, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyimide, and glass. Furthermore, the thickness of the sheet can be 50 μm or more.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記基板は、半導体基板、セラミックス基板、金属板、樹脂板のいずれか1つである。また、前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する。 In the substrate manufacturing method according to the fourth aspect, the substrate is one of a semiconductor substrate, a ceramic substrate, a metal plate, and a resin plate. Further, the substrate has an uneven surface at least on an adhesive surface with the adhesive.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程では、熱処理、光処理、薬液処理のいずれの処理も行わずに、前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす。 In the method for manufacturing a substrate according to the fourth aspect, in the step of peeling the sheet together with the adhesive, the sheet together with the adhesive from the substrate is not performed without any of heat treatment, light treatment, and chemical treatment. Tear off.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記接着剤を硬化する工程の後、かつ、前記所定の加工を行う工程の前に、前記シートの前記接着剤側に対する反対側の面に粘着剤を介して保持板を貼り合わせる工程を行い、前記所定の加工を行う工程の後、かつ、前記シートを引き剥がす工程の前に、前記シートから少なくとも保持板を剥がす工程を行う。 In the method for manufacturing a substrate according to the fourth aspect, after the step of curing the adhesive and before the step of performing the predetermined processing, the sheet is adhered to the surface opposite to the adhesive side. A step of bonding the holding plate through an agent is performed, and after the step of performing the predetermined processing and before the step of peeling off the sheet, a step of peeling at least the holding plate from the sheet is performed.
前記第4の視点に係る基板の製造方法において、前記粘着剤は、前記保持板と前記シートとの間で厚さ0μmより大きくかつ50μm以下で用いられる。 In the substrate manufacturing method according to the fourth aspect, the pressure-sensitive adhesive is used between the holding plate and the sheet at a thickness of greater than 0 μm and less than or equal to 50 μm.
なお、上記の特許文献、非特許文献の各開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示(特許請求の範囲及び図面を含む)の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の全開示の枠内において種々の開示要素(各請求項の各要素、各実施形態ないし実施例の各要素、各図面の各要素等を含む)の多様な組み合わせないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲及び図面を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。また、本願に記載の数値及び数値範囲については、明記がなくともその任意の中間値、下位数値、及び、小範囲が記載されているものとみなされる。 Each disclosure of the above-mentioned patent documents and non-patent documents is incorporated herein by reference. Within the scope of the entire disclosure (including claims and drawings) of the present invention, the embodiments and examples can be changed and adjusted based on the basic technical concept. In addition, various combinations or selections of various disclosed elements (including each element of each claim, each element of each embodiment or example, each element of each drawing, etc.) are possible within the framework of the entire disclosure of the present invention. It is. That is, the present invention naturally includes various variations and modifications that could be made by those skilled in the art according to the entire disclosure including the claims and the drawings, and the technical idea. Further, regarding numerical values and numerical ranges described in the present application, it is considered that any intermediate value, lower numerical value, and small range are described even if not specified.
[優先権主張の意義][Significance of priority claim]
本願は、先の出願・特願2015−64926(出願日2015年3月26日)の優先権を主張し、その利益を享受するものであり、該先の出願に記載された特許請求の範囲の記載事項の解釈においては専ら先の出願日を基準日として該先の出願の全記載事項(特許請求の範囲、明細書、図面を含む)にのみ基づいて解釈されるべきものである。 This application claims the priority of the previous application / Japanese Patent Application No. 2015-64926 (filing date: March 26, 2015) and enjoys the benefits thereof, and the claims described in the previous application Should be interpreted based solely on the entire description (including claims, specification and drawings) of the earlier application, with the earlier filing date as the reference date.
また、後の出願日を基準日とする特許請求の範囲の解釈は、後の出願日における明細書、図面の全記載事項に基づいて解釈するものとする。 Further, the interpretation of the scope of claims with the later filing date as the reference date shall be interpreted based on the entire description of the specification and drawings as of the later filing date.
(なお、後の出願日に追加ないし変更された事項には下線を施して示す。)(Note that items added or changed on a later filing date are underlined.)
10 基板
11 第1面
12 第2面
20 接着剤
30 シート
40 基板保持シート
41 接着剤
42 シート
50 保持板
51 粘着剤
100 研削機
110 吸着保持装置
DESCRIPTION OF
50 Retaining plate
51 Adhesive 100
Claims (6)
前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、
前記圧力をかける工程の後に、前記接着剤を硬化する工程と、
前記接着剤を硬化する工程の後に、前記基板における前記接着剤側の面に対する反対側の面を研削する工程と、
前記研削する工程の後に、熱処理、光処理、薬液処理のいずれの処理も行わずに、前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、
を含み、
前記接着剤は、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、
前記接着剤は、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定され、
前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、ウレタンアクリレート樹脂を主成分とし、
前記シートは、光透過性の樹脂よりなり、かつ、ポリ塩化ビニルを主成分とし、
前記基板は、ガラス板、アルミニウム板及びシリコンウェハのいずれか1つであり、
前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下であり、
前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下であり、
前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下であり、
前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下であり、
前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかく、
前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する、
ことを特徴とする基板の製造方法。 Forming a substrate and one on the adhesives of the sheet,
Bonding the other of the substrate and the sheet to the adhesive and applying pressure so that the thickness of the adhesive is a predetermined thickness;
After the step of applying the pressure, curing the adhesive;
After the step of curing the adhesive, grinding the surface of the substrate opposite to the adhesive side surface;
After the grinding step, without performing any of heat treatment, light treatment, and chemical treatment, the step of peeling the sheet together with the adhesive from the substrate;
Only including,
In the cured state, the adhesive is set so that the adhesive force in the direction of peeling from the adhesive surface on the adhesive surface with the substrate is smaller than the adhesive force in the direction parallel to the adhesive surface,
The adhesive is set in a cured state so that the adhesive force between the adhesive and the substrate is smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet,
The adhesive is made of an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet irradiation, and has a urethane acrylate resin as a main component,
The sheet is made of a light-transmitting resin, and has polyvinyl chloride as a main component,
The substrate is any one of a glass plate, an aluminum plate, and a silicon wafer,
The adhesive force in the shear direction with respect to the substrate after curing of the adhesive is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less,
The adhesive force in the peeling direction from the substrate after curing of the adhesive is greater than 0 N / mm and not greater than 1 N / mm,
The viscosity of the adhesive before curing is 100 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less,
The elongation after curing of the adhesive is 50% or more and 700% or less,
The hardness of the adhesive after curing is softer than the pencil 1B,
The substrate has a concavo-convex surface at least in an adhesive surface with the adhesive,
A method for manufacturing a substrate, comprising:
前記接着剤に前記基板及び前記シートの他方を貼り合わせ、前記接着剤の厚さが所定の厚さになるように圧力をかける工程と、
前記圧力をかける工程の後に、前記接着剤を硬化する工程と、
前記接着剤を硬化する工程の後に、前記基板に対して所定の加工を行う工程と、
前記所定の加工を行う工程の後に、熱処理、光処理、薬液処理のいずれの処理も行わずに、前記基板から前記接着剤ごと前記シートを引き剥がす工程と、
を含み、
前記接着剤は、硬化した状態で、前記基板との接着面において前記接着面から引き剥がす方向の接着力が前記接着面に平行な方向の接着力に対して小さくなるように設定され、
前記接着剤は、硬化した状態で、前記接着剤と前記基板との接着力が、前記接着剤と前記シートとの接着力よりも小さくなるように設定され、
前記接着剤は、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂よりなり、かつ、ウレタンアクリレート樹脂を主成分とし、
前記シートは、光透過性の樹脂よりなり、かつ、ポリ塩化ビニルを主成分とし、
前記基板は、ガラス板、アルミニウム板及びシリコンウェハのいずれか1つであり、
前記接着剤の硬化後の前記基板に対する剪断方向の接着力は、0.1MPa以上かつ50MPa以下であり、
前記接着剤の硬化後の前記基板からの剥離方向の接着力は、0N/mmより大きくかつ1N/mm以下であり、
前記接着剤の硬化前の粘度は、100mPa・s以上かつ100000mPa・s以下であり、
前記接着剤の硬化後の伸びは、50%以上かつ700%以下であり、
前記接着剤の硬化後の硬度は、鉛筆1Bよりも柔らかく、
前記基板は、少なくとも前記接着剤との接着面において凹凸面を有する、
ことを特徴とする基板の製造方法。 Forming an adhesive on one of the substrate and the sheet;
Bonding the other of the substrate and the sheet to the adhesive and applying pressure so that the thickness of the adhesive is a predetermined thickness;
After the step of applying the pressure, curing the adhesive;
After the step of curing the adhesive, performing a predetermined process on the substrate;
After the step of performing the predetermined processing, without performing any of heat treatment, light treatment, and chemical treatment, the step of peeling the sheet together with the adhesive from the substrate;
Only including,
In the cured state, the adhesive is set so that the adhesive force in the direction of peeling from the adhesive surface on the adhesive surface with the substrate is smaller than the adhesive force in the direction parallel to the adhesive surface,
The adhesive is set in a cured state so that the adhesive force between the adhesive and the substrate is smaller than the adhesive force between the adhesive and the sheet,
The adhesive is made of an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet irradiation, and has a urethane acrylate resin as a main component,
The sheet is made of a light-transmitting resin, and has polyvinyl chloride as a main component,
The substrate is any one of a glass plate, an aluminum plate, and a silicon wafer,
The adhesive force in the shear direction with respect to the substrate after curing of the adhesive is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less,
The adhesive force in the peeling direction from the substrate after curing of the adhesive is greater than 0 N / mm and not greater than 1 N / mm,
The viscosity of the adhesive before curing is 100 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less,
The elongation after curing of the adhesive is 50% or more and 700% or less,
The hardness of the adhesive after curing is softer than the pencil 1B,
The substrate has a concavo-convex surface at least in an adhesive surface with the adhesive,
A method for manufacturing a substrate, comprising:
前記所定の加工を行う工程の後、かつ、前記シートを引き剥がす工程の前に、前記シートから少なくとも保持板を剥がす工程を行うことを特徴とする請求項3又は4記載の基板の製造方法。 After the step of curing the adhesive, and before the step of performing the predetermined processing, performing a step of attaching a holding plate to the surface on the opposite side to the adhesive side of the sheet via an adhesive,
5. The method for manufacturing a substrate according to claim 3 , wherein a step of peeling at least the holding plate from the sheet is performed after the step of performing the predetermined processing and before the step of peeling off the sheet.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015064926 | 2015-03-26 | ||
JP2015064926 | 2015-03-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016094587A JP2016094587A (en) | 2016-05-26 |
JP6127088B2 true JP6127088B2 (en) | 2017-05-10 |
Family
ID=56069830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015125972A Expired - Fee Related JP6127088B2 (en) | 2015-03-26 | 2015-06-23 | Adhesive and substrate manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6127088B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6867202B2 (en) * | 2017-03-17 | 2021-04-28 | 積水化学工業株式会社 | Wafer processing method |
CN111629899A (en) * | 2018-01-17 | 2020-09-04 | Agc株式会社 | Laminate, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing electronic device |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1092776A (en) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | Protection member for material to be worked and wafer polishing method |
JP3501624B2 (en) * | 1997-06-09 | 2004-03-02 | 電気化学工業株式会社 | Semiconductor wafer fixing sheet |
JP4675441B2 (en) * | 1999-01-25 | 2011-04-20 | リンテック株式会社 | Adhesive sheet |
JP2004214521A (en) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Mitsui Chemicals Inc | Adhesive film for protecting rear surface of semiconductor wafer and method for protecting semiconductor wafer using adhesive film |
JP3894908B2 (en) * | 2003-06-24 | 2007-03-22 | 電気化学工業株式会社 | Adhesive sheet for semiconductor wafer back grinding |
JP2007019151A (en) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Tape for processing wafer and method of manufacturing chip using the same |
KR101386764B1 (en) * | 2006-10-03 | 2014-04-21 | 가부시끼가이샤 이테크 | Adhesive composition and adhesive sheet |
KR101191120B1 (en) * | 2008-05-14 | 2012-10-15 | 주식회사 엘지화학 | Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheet and semiconductor wafer backgrinding method using the same |
CN102449090B (en) * | 2009-06-05 | 2014-01-01 | 电气化学工业株式会社 | Adhesive sheet and back grinding method of semiconductor wafer |
JP4988815B2 (en) * | 2009-12-25 | 2012-08-01 | 日東電工株式会社 | Chip holding tape, chip-shaped work holding method, semiconductor device manufacturing method using chip holding tape, and chip holding tape manufacturing method |
JP2013104054A (en) * | 2011-11-16 | 2013-05-30 | Lintec Corp | Moisture-sensitive adhesive force-variable adhesive agent composition, and its use |
-
2015
- 2015-06-23 JP JP2015125972A patent/JP6127088B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016094587A (en) | 2016-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI490262B (en) | A hardened composition, a sintered crystal tape, a connecting structure, and a method of manufacturing a semiconductor wafer with an adhesive layer | |
JP6328987B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
TW201117279A (en) | Adhesive sheet for supporting and protecting semiconductor wafer and method for grinding back of semiconductor wafer | |
CN102197470A (en) | Method of manufacturing wafer laminated body, device of manufacturing wafer laminated body, wafer laminated body, method of peeling support body, and method of manufacturing wafer | |
JPWO2004065510A1 (en) | Adhesive sheet, semiconductor wafer surface protection method and workpiece processing method | |
WO2016199819A1 (en) | Electronic-device-protecting film, electronic-device-protecting member, method for manufacturing electronic device, and method for manufacturing package | |
CN104419341B (en) | Adhesive tape for dicing and method for producing semiconductor chip | |
CN103302572B (en) | The method for grinding of plate object | |
TWI590361B (en) | Semiconductor Wafer Processing Adhesive Tapes and Semiconductor Wafer Processing Methods | |
JP6454580B2 (en) | Thermosetting adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor device | |
TW200911952A (en) | Heat-peelable adhesive sheet | |
JP6127088B2 (en) | Adhesive and substrate manufacturing method | |
TW201206813A (en) | Wafer processing tape | |
JPWO2015059944A1 (en) | Resin film forming sheet | |
JP2009239190A (en) | Dicing die-bonding tape | |
TWI822982B (en) | Attachment device | |
JP2010258239A (en) | Insulating adhesive sheet | |
JP5476033B2 (en) | Mounting method of semiconductor chip | |
TWI601643B (en) | Plate affixed to the method | |
JP2016194020A (en) | Adhesive for dicing film integrated type semiconductor | |
JP2006303180A (en) | Method for fixing substrate | |
JP2012023244A (en) | Manufacturing method of semiconductor element and light emitting diode and power device having the semiconductor element manufactured by the method | |
CN214693974U (en) | Flexible chip bonding film and packaging structure of flexible chip | |
JP2014049537A (en) | Processing method of wafer | |
JP6058414B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor chip |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160314 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160921 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170309 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6127088 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |