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JP6081170B2 - Imaging apparatus, endoscope, and manufacturing method of imaging apparatus - Google Patents

Imaging apparatus, endoscope, and manufacturing method of imaging apparatus Download PDF

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JP6081170B2 JP2012264490A JP2012264490A JP6081170B2 JP 6081170 B2 JP6081170 B2 JP 6081170B2 JP 2012264490 A JP2012264490 A JP 2012264490A JP 2012264490 A JP2012264490 A JP 2012264490A JP 6081170 B2 JP6081170 B2 JP 6081170B2
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Description

本発明は、撮像素子チップを具備する撮像装置、前記撮像装置を具備する内視鏡及び前記撮像装置の製造方法関し、特に中継基板を介して撮像素子チップと接続された信号ケーブルを具備する撮像装置、前記撮像装置を具備する内視鏡及び前記撮像装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an imaging device including an imaging device chip, an endoscope including the imaging device, and a manufacturing method of the imaging device, and more particularly, an imaging including a signal cable connected to the imaging device chip via a relay substrate. The present invention relates to a device, an endoscope including the imaging device, and a method for manufacturing the imaging device.

撮像素子チップを具備する撮像装置は、例えば電子内視鏡の先端部に配設されて使用される。内視鏡の先端部は、被検者の苦痛を和らげるために、細径化が重要な課題である。   An imaging device including an imaging element chip is used, for example, provided at the distal end portion of an electronic endoscope. In order to relieve the pain of the subject, it is important to reduce the diameter of the distal end portion of the endoscope.

撮像装置は、撮像素子チップの撮像部と信号を送受信するための信号ケーブルを具備する。撮像素子チップと信号ケーブルとの接合部は、内視鏡の先端部の向きを変えたりするときに、応力を受ける。このため、接合強度が不十分だと、接合部で断線等が発生するおそれがあった。   The imaging device includes a signal cable for transmitting and receiving signals to and from the imaging unit of the imaging element chip. The joint between the image sensor chip and the signal cable receives stress when the direction of the distal end portion of the endoscope is changed. For this reason, if the bonding strength is insufficient, disconnection or the like may occur at the bonded portion.

図1に示すように、特開2011−188375号公報には、配線板140を介して撮像素子チップ120と接続された信号ケーブル150を具備する撮像装置101が開示されている。撮像素子チップ120は撮像部121をおもて面120SAに有し、貫通配線122を介して撮像部121と接続された複数のバンプ124が形成された接合端子123を裏面120SBに有する   As shown in FIG. 1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-188375 discloses an image pickup apparatus 101 including a signal cable 150 connected to an image pickup element chip 120 via a wiring board 140. The imaging element chip 120 has an imaging unit 121 on the front surface 120SA, and has a junction terminal 123 formed with a plurality of bumps 124 connected to the imaging unit 121 via the through wiring 122 on the back surface 120SB.

信号ケーブル150の導線151は、配線板140の接続孔140Hに挿入することにより接続/固定される。このため、撮像装置101は接合部の接続信頼性が高い。   The conductor 151 of the signal cable 150 is connected / fixed by being inserted into the connection hole 140H of the wiring board 140. For this reason, the imaging apparatus 101 has high connection reliability at the joint.

また、図2に示すように、特開2010−069186号公報には、撮像基板220と接続された回路基板240とケーブル250との接続部を連結体260で補強した撮像装置201が開示されている。回路基板240が収容された先端部のシャーシ210は連結体260のアーム260Aにより固定され、ケーブル250は連結体260の半割円筒部材260Bにより固定されている。撮像装置201ではケーブル250に引っ張り応力が印加されても、応力は、導線251と端子241の接合部ではなく、シャーシ210に印加される。このため、撮像装置201は接続信頼性が高い。   As shown in FIG. 2, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-069186 discloses an imaging apparatus 201 in which a connecting portion between a circuit board 240 and a cable 250 connected to the imaging board 220 is reinforced by a coupling body 260. Yes. The chassis 210 at the front end portion in which the circuit board 240 is accommodated is fixed by the arm 260A of the connection body 260, and the cable 250 is fixed by the half cylindrical member 260B of the connection body 260. In the imaging apparatus 201, even if a tensile stress is applied to the cable 250, the stress is applied to the chassis 210, not to the joint between the conducting wire 251 and the terminal 241. For this reason, the imaging apparatus 201 has high connection reliability.

しかし、撮像装置101では強い応力に対しては接続信頼性は十分ではないおそれがあった。また、撮像装置201は、ケーブル長手方向の引っ張り応力に対する効果は高いが、長手垂直方向(横方向)の応力に対する効果は小さく、接続信頼性は十分ではないおそれがあった。   However, the imaging apparatus 101 may not have sufficient connection reliability against a strong stress. Further, the image pickup apparatus 201 has a high effect on the tensile stress in the cable longitudinal direction, but has a small effect on the stress in the vertical direction (lateral direction), and the connection reliability may not be sufficient.

特開2011−188375号公報JP 2011-188375 A 特開2010−069186号公報JP 2010-069186 A

本発明は、撮像素子チップと信号ケーブルとの接続信頼性が高い撮像装置、前記撮像装置の製造方法及び前記撮像装置を具備する内視鏡を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an imaging device with high connection reliability between an imaging element chip and a signal cable, a method for manufacturing the imaging device, and an endoscope including the imaging device.

本発明の実施形態の撮像装置は、撮像部をおもて面に有し、貫通配線を介して前記撮像部と接続された接合端子を裏面に有する撮像素子チップと、前記撮像部と信号を送受信するための導線を有する信号ケーブルと第1の主面が導線と接続され、第2の主面が接合端子と接合された金属板からなる電極部と、前記導線を前記電極部に接続するときの長軸方向の位置決め機能を有し外部からの付勢力により変形し前記導線を圧着固定している固定部と、前記電極部から延設されている、前記電極部と一体の前記金属板からなる延設部と、を有する中継基板と、前記中継基板の前記電極部の前記導線と接続された第1の主面側、前記固定部および前記導線の前記電極部との接合部を覆っているモールド樹脂と、を具備する。 An imaging apparatus according to an embodiment of the present invention has an imaging unit on the front surface, an imaging element chip on the back surface having a junction terminal connected to the imaging unit through a through wiring, the imaging unit and a signal signal cable and the first major surface having a conductive line for transmitting and receiving is connected to the conductor, and the electrode portion second major surface comprises a metal plate which is bonded to the bonding terminals, connecting the lead to the electrode portion A fixed portion that has a positioning function in the long axis direction and is deformed by an external urging force to crimp and fix the conductive wire, and the metal plate that is integral with the electrode portion and extends from the electrode portion An extension portion comprising: a relay substrate; a first main surface side connected to the conductor of the electrode portion of the relay substrate; and a joint portion between the fixing portion and the electrode portion of the conductor. A mold resin .

別の実施形態の撮像装置の内視鏡は、撮像部をおもて面に有し、貫通配線を介して前記撮像部と接続された接合端子を裏面に有する撮像素子チップと、前記撮像部と信号を送受信するための導線を有する信号ケーブルと第1の主面が導線と接続され、第2の主面が接合端子と接合された金属板からなる電極部と、前記導線を前記電極部に接続するときの長軸方向の位置決め機能を有し外部からの付勢力により変形し前記導線を圧着固定している固定部と、前記電極部から延設されている、前記電極部と一体の前記金属板からなる延設部と、を有する中継基板と、前記中継基板の前記電極部の前記導線と接続された第1の主面側、前記固定部および前記導線の前記電極部との接合部を覆っているモールド樹脂と、を具備する撮像装置が先端部に配設された挿入部と、前記挿入部の基端側に配設された操作部と、前記操作部から延出するユニバーサルコードと、を具備する。 An endoscope of an imaging apparatus according to another embodiment includes an imaging element chip having an imaging unit on a front surface and a junction terminal connected to the imaging unit via a through wiring on the back surface, and the imaging unit a signal cable and a first major surface having a conductive line for transmitting and receiving signals are connected to the conductor, and the electrode portion second major surface comprises a metal plate which is bonded to the bonding terminals, the conductor said electrode portion A fixed portion that has a positioning function in the major axis direction when connected to the wire and is deformed by an external urging force to crimp and fix the conducting wire, and is extended from the electrode portion and is integral with the electrode portion Joining of a relay substrate having an extending portion made of the metal plate, a first main surface side connected to the conductive wire of the electrode portion of the relay substrate, the fixing portion, and the electrode portion of the conductive wire and the molding resin covering the part, the imaging device tip having a It includes an insertion portion which is set, and the insertion portion of the base end disposed in the operation unit, and a universal cord extending from the operating portion.

また、別の実施形態の製造方法は、撮像部をおもて面に有し、貫通配線を介して前記撮像部と接続された接合端子を裏面に有する撮像素子チップを作製する工程と、電極部が、延設部であるリードを介して外周部のアウターリードとつながっており、電極部が外部からの付勢力により変形する固定部を有する、金属板からなるリードフレームを作製する工程と、信号ケーブルの導線を、前記リードフレームの前記固定部により長軸方向の位置決めをして前記リードフレームに配置する工程と、外部から付勢力を付与し前記固定部を変形することで、前記導線を圧着固定する工程と、前記導線を前記リードフレームの前記電極部と接続する工程と、前記リードフレームの前記導線が接続された第1の主面側を樹脂で覆い、前記電極部、前記固定部、及び前記導線の前記電極部との接合部を、モールドする工程と、前記リードフレームの前記リードを切断し前記アウターリードを除去し接合配線板を作製する工程と、前記接合配線板の前記電極部の第2の主面と前記撮像素子チップの前記接合端子とを接合する工程と、を具備する。 In another embodiment, the manufacturing method includes a step of manufacturing an imaging element chip having an imaging unit on the front surface and having a junction terminal connected to the imaging unit via a through-wiring on the back surface; A portion is connected to the outer lead of the outer peripheral portion via a lead that is an extended portion, and the electrode portion has a fixing portion that is deformed by an external biasing force, and a step of producing a lead frame made of a metal plate; A step of positioning the lead wire of the signal cable in the lead frame by positioning the lead wire in the long axis direction by the fixing portion of the lead frame, and applying the biasing force from the outside to deform the fixing portion, a step of crimped, a step of connecting the lead and the electrode portion of the lead frame, covering the first main surface side of the lead of the lead frame are connected by the resin, the electrode portion, the fixed And a step of molding a joint portion of the lead wire with the electrode portion, a step of cutting the lead of the lead frame to remove the outer lead, and producing a joined wiring board, and the electrode of the joined wiring board Joining the second main surface of the part and the joining terminal of the imaging device chip.

本発明によれば、撮像素子チップと信号ケーブルとの接続信頼性が高い撮像装置、前記撮像装置を具備する内視鏡及び前記撮像装置の製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the imaging device with high connection reliability of an image pick-up element chip | tip and a signal cable, the endoscope which comprises the said imaging device, and the manufacturing method of the said imaging device can be provided.

従来の撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the conventional imaging device. 従来の撮像装置の側面図である。It is a side view of the conventional imaging device. 第1実施形態の撮像装置の分解断面図である。It is an exploded sectional view of the imaging device of a 1st embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置を製造するためのリードフレームの斜視図である。It is a perspective view of the lead frame for manufacturing the imaging device of a 1st embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための分解断面図である。It is an exploded sectional view for explaining a manufacturing method of an imaging device of an embodiment. 第2実施形態の撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the imaging device of 2nd Embodiment. 第2実施形態の撮像装置の中継基板の部分透視平面図である。It is a partial see-through plan view of a relay board of an imaging device of a 2nd embodiment. 第3実施形態の撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the imaging device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の撮像装置の固定部の斜視図である。It is a perspective view of the fixing | fixed part of the imaging device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 3rd Embodiment. 第4実施形態の内視鏡の斜視図である。It is a perspective view of the endoscope of a 4th embodiment.

<第1実施形態>
最初に第1実施形態の撮像装置の構造を説明する。
<First Embodiment>
First, the structure of the imaging apparatus according to the first embodiment will be described.

図3に示すように、本実施形態の撮像装置1は、プリズム10と、カバーガラス11と、撮像素子チップ20と、中継基板40と、信号ケーブル(以下、「ケーブル」という)50と、モールド樹脂60と、を具備する。図3の左方向から入射した光線は、プリズム10で反射され、撮像部21に入射する。すなわち、入射光の入射方向と撮像部21の受光面とは平行である。   As shown in FIG. 3, the imaging apparatus 1 according to the present embodiment includes a prism 10, a cover glass 11, an imaging element chip 20, a relay substrate 40, a signal cable (hereinafter referred to as “cable”) 50, and a mold. And a resin 60. A light ray incident from the left direction in FIG. 3 is reflected by the prism 10 and enters the imaging unit 21. That is, the incident direction of incident light and the light receiving surface of the imaging unit 21 are parallel.

後述するように、撮像装置1は、カバーガラス11と撮像素子チップ20とからなる撮像基板部80が、封止樹脂31を介して、中継基板40とケーブル50とモールド樹脂60とからなる接合配線板70と接合されている。   As will be described later, the imaging apparatus 1 includes a bonding wiring in which an imaging substrate unit 80 including a cover glass 11 and an imaging element chip 20 includes a relay substrate 40, a cable 50, and a mold resin 60 via a sealing resin 31. It is joined to the plate 70.

中継基板40は、撮像素子チップ20と信号ケーブル50との間を中継している。撮像素子チップ20と中継基板40との接合部は封止樹脂(アンダーフィル)31により封止されている。ケーブル50は、撮像部21と信号を送受信するための複数の導線51を有する。ケーブル50の他端は、図示しない信号処理装置等と接続される。   The relay substrate 40 relays between the image sensor chip 20 and the signal cable 50. The joint between the image sensor chip 20 and the relay substrate 40 is sealed with a sealing resin (underfill) 31. The cable 50 includes a plurality of conductive wires 51 for transmitting and receiving signals to and from the imaging unit 21. The other end of the cable 50 is connected to a signal processing device or the like (not shown).

なお、図は説明のための模式図であり、縦横の寸法比等は実際とは異なっている。また、一部の構成要素の図示を省略したり、断面図においては、一部の構成要素を側面から観察した状態で表示したりする。   In addition, the figure is a schematic diagram for explanation, and a vertical / horizontal dimensional ratio and the like are different from actual ones. In addition, some components are not shown, and in the cross-sectional view, some components are displayed as viewed from the side.

ガラス等からなる透明光学部材であるプリズム10とカバーガラス11とは図示しない透明接着剤で接合されている。撮像素子チップ20は、おもて面20SAに撮像部21が形成されており、貫通配線22を介して撮像部21と接続された複数の接合端子23を裏面20SBに有する。接合端子23にはバンプ24が配設されている。   The prism 10 which is a transparent optical member made of glass or the like and the cover glass 11 are joined with a transparent adhesive (not shown). The imaging element chip 20 has an imaging unit 21 formed on the front surface 20SA, and has a plurality of junction terminals 23 connected to the imaging unit 21 via the through wiring 22 on the back surface 20SB. Bumps 24 are disposed on the junction terminals 23.

詳しくは後述するが、中継基板40は、複数の電極部41と、それぞれの電極部41から延設された延設部44及び固定部42を有する。固定部42は、2つのツメ部43(43A、43B)を含む。複数の電極部41等は同じ1枚の金属板から作製されるが、分離されているため、互いに導通していない。   As will be described in detail later, the relay substrate 40 includes a plurality of electrode portions 41, extension portions 44 extending from the respective electrode portions 41, and a fixing portion 42. The fixing part 42 includes two claw parts 43 (43A, 43B). The plurality of electrode portions 41 and the like are manufactured from the same single metal plate, but are separated from each other because they are separated.

ケーブル50の導線51は、変形したツメ部43により圧着固定されており、電極部41の第1の主面40SAに半田59により接合されている。一方、撮像素子チップ20の接合端子23は、中継基板40の電極部41の第2の主面40SBとバンプ24を介して接合されている。   The conducting wire 51 of the cable 50 is crimped and fixed by the deformed claw portion 43 and joined to the first main surface 40SA of the electrode portion 41 by the solder 59. On the other hand, the joint terminal 23 of the imaging element chip 20 is joined to the second main surface 40SB of the electrode part 41 of the relay substrate 40 via the bumps 24.

そして、中継基板40の第1の主面側及び導線51の先端部は、モールド樹脂60によりモールドされている。このため、中継基板40の複数の電極部41等はモールド樹脂60により一体化され、ケーブル50が延設された接合配線板70を構成している。   Then, the first main surface side of the relay substrate 40 and the leading end portion of the conducting wire 51 are molded with a molding resin 60. For this reason, the plurality of electrode portions 41 and the like of the relay substrate 40 are integrated by the mold resin 60 to constitute a bonded wiring board 70 in which the cable 50 is extended.

なお、導線51は、2つのツメ部43A、43Bの間に配設されているため、その長軸方向は、固定部42の長手方向と一致している。すなわち、固定部42は、導線51を電極部41に接合するときの長軸方向の位置決め機能を有する。   In addition, since the conducting wire 51 is disposed between the two claw portions 43 </ b> A and 43 </ b> B, the major axis direction thereof coincides with the longitudinal direction of the fixing portion 42. That is, the fixing portion 42 has a function of positioning in the long axis direction when the conducting wire 51 is joined to the electrode portion 41.

次に、撮像装置の製造方法について、図4のフローチャートに沿って説明する。   Next, a manufacturing method of the imaging device will be described along the flowchart of FIG.

<ステップS11:撮像素子チップ作製工程>
公知の半導体技術を用いて、例えばシリコン等の半導体からなるウエハのおもて面20SAにCCD又はCMOSイメージセンサ等からなる複数の撮像部21が形成される。マイクロレンズ群が、撮像部21の上に形成されていてもよい。撮像部21と接続された複数の配線(不図示)等が形成された後、おもて面20SAには撮像部21を保護するカバーガラスウエハが接合される。
<Step S11: Image Sensor Chip Manufacturing Process>
Using a known semiconductor technology, for example, a plurality of imaging units 21 made of a CCD or CMOS image sensor are formed on the front surface 20SA of a wafer made of a semiconductor such as silicon. The micro lens group may be formed on the imaging unit 21. After a plurality of wirings (not shown) connected to the imaging unit 21 are formed, a cover glass wafer that protects the imaging unit 21 is bonded to the front surface 20SA.

そして、裏面20SB側から貫通配線22が形成され、おもて面20SAの撮像部21と、貫通配線22を介して接続された複数の接合端子23が形成される。更に、それぞれの接合端子23にバンプ24が形成される。そして、ウエハを切断することで、カバーガラス11が接合された撮像素子チップ20が大量に一括して作製される。   Then, the through wiring 22 is formed from the back surface 20SB side, and a plurality of junction terminals 23 connected to the imaging unit 21 of the front surface 20SA via the through wiring 22 are formed. Further, bumps 24 are formed on the respective junction terminals 23. Then, by cutting the wafer, a large number of image pickup device chips 20 to which the cover glass 11 is bonded are manufactured in a lump.

チップサイズパッケージタイプの撮像素子チップ20は、撮像部21をおもて面20SAに有し、それぞれの貫通配線22を介して撮像部21と接続された複数の接合端子23(バンプ24)を裏面20SBに有する。   The chip-size package type image pickup device chip 20 has an image pickup unit 21 on the front surface 20SA, and a plurality of joint terminals 23 (bumps 24) connected to the image pickup unit 21 through the respective through wirings 22 on the back surface. To 20SB.

<ステップS12:リードフレーム作製工程>
図5に示すように、例えば直径が50〜100μmの略円形の複数の電極部41が、それぞれリードである延設部44を介して外周部のアウターリード45とつながっている金属板からなるリードフレーム40Rが作製される。複数の電極部41の配置は、撮像素子チップ20の複数の接合端子23の配置に対応している。
<Step S12: Lead frame manufacturing process>
As shown in FIG. 5, for example, a lead made of a metal plate in which a plurality of substantially circular electrode portions 41 having a diameter of 50 to 100 μm are connected to outer outer leads 45 through extending portions 44 that are leads. A frame 40R is produced. The arrangement of the plurality of electrode portions 41 corresponds to the arrangement of the plurality of junction terminals 23 of the imaging element chip 20.

リードフレーム40Rは、更に、電極部41から導線の長軸方向に延設されており、両側にツメ部43A、43Bのある固定部42を有する。固定部42の延設方向は、複数の導線51の配置を考慮して設計されている。   The lead frame 40R further extends from the electrode portion 41 in the long axis direction of the conducting wire, and has a fixing portion 42 having claw portions 43A and 43B on both sides. The extending direction of the fixing portion 42 is designed in consideration of the arrangement of the plurality of conducting wires 51.

例えば、CuFeP等の銅合金からなるリードフレーム40Rは、金属板をプレス法により型抜き加工することで作製される。リードフレーム40Rは、レーザー加工法又はエッチング法により作製することもできる。なお、リードフレーム40Rの少なくとも電極部41には、半田付け性を改善するために、例えば、NiCoめっき膜とNiFePめっき膜とが積層されることが好ましい。   For example, the lead frame 40R made of a copper alloy such as CuFeP is manufactured by die-cutting a metal plate by a press method. The lead frame 40R can also be manufactured by a laser processing method or an etching method. For example, a NiCo plating film and a NiFeP plating film are preferably laminated on at least the electrode portion 41 of the lead frame 40R in order to improve solderability.

なお、図6Aでは、電極部41、固定部42、ツメ部43A、43B及び延設部44の境界を破線で示しているが、その境界は厳密に定義されるものではない。   In FIG. 6A, the boundaries of the electrode portion 41, the fixing portion 42, the claw portions 43A and 43B, and the extending portion 44 are indicated by broken lines, but the boundaries are not strictly defined.

<S13:導線配置工程>
リードフレーム40Rは、例えば、厚さ10μm程度の薄い金属板からなるため、固定部42のツメ部43A、43Bは外部からの付勢力により変形可能である。図6Bに示すように、ツメ部43A、43Bは、第1の主面40SAに対して略垂直になるように折り曲げられる。細長い固定部42の幅は、導線51の直径と略同じ、又は少し広く設定されている。そして、固定部42の延設方向は、配置する導線51の長軸方向と一致するように設定されている。このため、図6C及び図6Dに示すように、導線51を2本のツメ部43A、43Bの間に挿入することで、導線51の長軸方向が設定される。
<S13: Conductor arrangement process>
Since the lead frame 40R is made of, for example, a thin metal plate having a thickness of about 10 μm, the claw portions 43A and 43B of the fixing portion 42 can be deformed by an external urging force. As shown in FIG. 6B, the claw portions 43A and 43B are bent so as to be substantially perpendicular to the first main surface 40SA. The width of the elongated fixing portion 42 is set to be substantially the same as or slightly wider than the diameter of the conducting wire 51. And the extending direction of the fixing | fixed part 42 is set so that it may correspond with the major axis direction of the conducting wire 51 to arrange | position. For this reason, as shown to FIG. 6C and FIG. 6D, the major axis direction of the conducting wire 51 is set by inserting the conducting wire 51 between the two claw parts 43A and 43B.

なお、固定部42は、一方の側面に2つのツメ部43A、43Bを有していてもよい。導線51を2本のツメ部43A、43Bに押圧することで導線51の長軸方向を設定できる。また、ツメ部は3本以上であってもよい。   Note that the fixing portion 42 may have two claw portions 43A and 43B on one side surface. The major axis direction of the conducting wire 51 can be set by pressing the conducting wire 51 against the two claw portions 43A and 43B. Further, the number of claw portions may be three or more.

<S14:圧着固定工程>
図6Eに示すように、導線51が配置されたツメ部43A、43Bは、再び外部から付勢力が付与され、導線51を圧着固定するように変形される。すなわち、ツメ部43A、43Bは、導線51の外周方向に沿って曲げられる。
<S14: Crimp fixing process>
As shown in FIG. 6E, the claw portions 43A and 43B in which the conducting wire 51 is arranged are deformed so that the urging force is again applied from the outside and the conducting wire 51 is fixed by crimping. That is, the claw portions 43 </ b> A and 43 </ b> B are bent along the outer peripheral direction of the conducting wire 51.

<S15:導線接続工程>
図6Fに示すように、導線51、厳密には導線の導体部(芯線)51Mが電極部41の第1の主面40SAに半田49により接続される。なお、芯線51Mの長さは、略円形の電極部41の直径程度に設定されている。
<S15: Conductor connection process>
As shown in FIG. 6F, the conductive wire 51, strictly speaking, the conductor portion (core wire) 51 </ b> M of the conductive wire is connected to the first main surface 40 SA of the electrode portion 41 by solder 49. The length of the core wire 51M is set to about the diameter of the substantially circular electrode portion 41.

なお、図6E等では圧着固定工程において、樹脂で被覆された芯線51Mからなる導線51の被覆部51Cを圧着固定する例を示しているが、導線51の芯線51Mを圧着固定することで、導線51を実質的に電極部41と接続してもよい。すなわち、圧着固定工程が接続工程を兼ねていても良い。また、圧着固定工程で電極部41と接続された芯線51Mを、更に接続工程で半田接合してもよい。   6E and the like show an example in which the covering portion 51C of the conducting wire 51 made of the resin-coated core wire 51M is crimped and fixed in the crimping and fixing step. However, by conducting the crimping and fixing of the core wire 51M of the conducting wire 51, the conducting wire 51 may be connected to the electrode part 41 substantially. That is, the crimping fixing process may also serve as the connection process. Further, the core wire 51M connected to the electrode part 41 in the crimping and fixing process may be further soldered in the connecting process.

<S16:モールド工程>
図7に示すように、リードフレーム40Rの第1の主面40SAがモールド樹脂60で覆われる。すなわち、複数の電極部41、複数の固定部42、複数の導線51の先端部、及び複数の延設部44の一部が樹脂によりモールドされる。このとき、少なくとも電極部41の第2の主面40SBは、モールド樹脂60により覆われない。また、導線51の後端側もモールド樹脂60により覆われない。
<S16: Molding process>
As shown in FIG. 7, the first main surface 40SA of the lead frame 40R is covered with a mold resin 60. In other words, the plurality of electrode portions 41, the plurality of fixing portions 42, the tip portions of the plurality of conductive wires 51, and a part of the plurality of extending portions 44 are molded with resin. At this time, at least the second main surface 40SB of the electrode portion 41 is not covered with the mold resin 60. Further, the rear end side of the conducting wire 51 is not covered with the mold resin 60.

モールド樹脂60としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂又はシリコーン樹脂等の各種樹脂を用いる。モールド型の中に未硬化の硬化性樹脂を流し込んでから硬化しモールドしてもよいし、熱可塑性樹脂を加熱した状態で押圧することでモールドしてもよい。   As the mold resin 60, various resins such as an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, or a silicone resin are used. The mold may be cured by pouring an uncured curable resin into the mold, or may be molded by pressing the thermoplastic resin in a heated state.

<S17:アウターリード除去工程>
図8に示すように、リードフレーム40Rの延設部44が切断され、アウターリード45が除去されることで、接合配線板70が作製される。接合配線板70の延設部44の端面44Sは切断面となる。すなわち、厳密にはリードフレーム40Rの延設部の一部が、接合配線板70の延設部44となり、リードフレーム40Rの延設部の残部44Rはアウターリード45とともに除去される。
<S17: Outer lead removal process>
As shown in FIG. 8, the extended portion 44 of the lead frame 40R is cut and the outer lead 45 is removed, whereby the bonded wiring board 70 is manufactured. The end surface 44S of the extended portion 44 of the bonded wiring board 70 becomes a cut surface. That is, strictly speaking, a part of the extended portion of the lead frame 40R becomes the extended portion 44 of the bonded wiring board 70, and the remaining portion 44R of the extended portion of the lead frame 40R is removed together with the outer lead 45.

なお、図8では、接合配線板70のモールド樹脂60の側面と、延設部44の端面44Sとが一致しているが、端面44Sがモールド樹脂60の側面から突出していてもよい。   In FIG. 8, the side surface of the mold resin 60 of the bonded wiring board 70 and the end surface 44 </ b> S of the extending portion 44 coincide with each other, but the end surface 44 </ b> S may protrude from the side surface of the mold resin 60.

<S18:接合配線板の接合工程>
図9に示すように、接合配線板70の表面に露出している、中継基板40の複数の電極部41の第2の主面40SBと、撮像素子チップ20の裏面20SBの複数の接合端子23(バンプ24)と、が接合される。すなわち、撮像基板部80が接合配線板70と接合される。このとき、接合面は封止樹脂31により封止される。
<S18: Joining Step of Bonded Wiring Board>
As shown in FIG. 9, the second main surface 40SB of the plurality of electrode portions 41 of the relay substrate 40 exposed on the surface of the bonding wiring board 70 and the plurality of bonding terminals 23 of the back surface 20SB of the imaging element chip 20 are exposed. (Bump 24) is joined. That is, the imaging substrate unit 80 is bonded to the bonded wiring board 70. At this time, the joint surface is sealed with the sealing resin 31.

なお、アウターリード除去工程は、接合配線板の接合工程の後に行ってもよい。   In addition, you may perform an outer lead removal process after the joining process of a joining wiring board.

封止樹脂31は、接合部の周囲を封止し接続の信頼性を高めると同時に、撮像素子チップ20と接合配線板70との接合強度を高めている。封止樹脂31としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、又はフェーノール樹脂等を用いる。   The sealing resin 31 seals the periphery of the joint portion to increase connection reliability, and at the same time, enhances the joint strength between the imaging element chip 20 and the joint wiring board 70. As the sealing resin 31, an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin, a phenol resin, or the like is used.

更にカバーガラス11にプリズム10が接合され、撮像装置1が完成する。もちろん、接合配線板の接合工程において、プリズム10が接合された撮像基板部80を接合配線板70と接合しておいてもよい。   Further, the prism 10 is bonded to the cover glass 11 to complete the imaging device 1. Of course, in the bonding wiring board bonding step, the imaging substrate unit 80 to which the prism 10 is bonded may be bonded to the bonding wiring board 70.

撮像装置1は、撮像素子チップ20とケーブル50の電気的接続に、ケーブル50との接合部が樹脂モールドされた中継基板40からなる接合配線板70を用いる。更に、導線51は、中継基板40の固定部42に圧着固定されている。このため、ケーブル50に掛かる応力は、接合部には伝達しないので、接合箇所の剥離又は断線などを防止できる。すなわち、撮像装置1は、撮像素子チップ20と信号ケーブル50との接続信頼性が高い。また、接合配線板70は、撮像素子チップ20の下部に位置し、撮像素子チップ20と略同じ大きさであるため、撮像装置1は小型である。   The imaging device 1 uses a junction wiring board 70 made of a relay substrate 40 in which a joint portion with the cable 50 is resin-molded for electrical connection between the imaging element chip 20 and the cable 50. Furthermore, the conducting wire 51 is fixed to the fixing portion 42 of the relay substrate 40 by pressure bonding. For this reason, since the stress applied to the cable 50 is not transmitted to the joint portion, it is possible to prevent peeling or disconnection of the joint portion. That is, the imaging device 1 has high connection reliability between the imaging element chip 20 and the signal cable 50. In addition, since the bonded wiring board 70 is located below the imaging element chip 20 and is approximately the same size as the imaging element chip 20, the imaging device 1 is small.

また、撮像装置1の製造方法は、複数の電極部41等を一括して所定位置に配設できるリードフレーム40Rを用いているため、製造が容易で、かつ安価に製造ができる。   Moreover, since the manufacturing method of the imaging device 1 uses the lead frame 40R in which a plurality of electrode portions 41 and the like can be collectively disposed at a predetermined position, the manufacturing is easy and can be manufactured at low cost.

<第1実施形態の変形例>
次に、図10及び図11を用いて第1実施形態の変形例の撮像装置1Aについて説明する。撮像装置1Aは、撮像装置1と類似しているので同じ構成要素には同じ符号を付し説明は省略する。
<Modification of First Embodiment>
Next, an imaging apparatus 1A according to a modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. Since the image pickup apparatus 1A is similar to the image pickup apparatus 1, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図10に示すように、撮像装置1Aは、再配線基板29が接合された撮像素子チップが、接合配線板70Aと接合されている。図10では省略して図示しているが、再配線基板29は、複数の配線層からなる多層配線層が複数の絶縁層により絶縁された構造の多層配線板であり、ガラスエポキシ、セラミック、又はアルミニウム等を基材として用いる。再配線基板29は、チップコンデンサ等の電子部品を内蔵している部品内蔵基板であってもよい。   As shown in FIG. 10, in the imaging apparatus 1A, the imaging element chip to which the rewiring board 29 is bonded is bonded to the bonded wiring board 70A. Although not shown in FIG. 10, the rewiring board 29 is a multilayer wiring board having a structure in which a multilayer wiring layer composed of a plurality of wiring layers is insulated by a plurality of insulating layers, and is made of glass epoxy, ceramic, or Aluminum or the like is used as a base material. The rewiring board 29 may be a component built-in board in which an electronic component such as a chip capacitor is built.

更に、図11に示すように、接合配線板70Aの第2の主面40SBは、めっき電極層48により被覆されている電極部41を除いて絶縁層47で覆われている。めっき電極層48は、半田付け性改善のためであり、例えば、電気銅めっき又は無電解銅めっきにより成膜された、Ni/Au等である。   Furthermore, as shown in FIG. 11, the second main surface 40SB of the bonded wiring board 70 </ b> A is covered with an insulating layer 47 except for the electrode portion 41 covered with the plating electrode layer 48. The plated electrode layer 48 is for improving solderability, and is, for example, Ni / Au formed by electrolytic copper plating or electroless copper plating.

すなわち、接合配線板70Aは、めっき電極層48及び絶縁層47で覆われた中継基板40と、導線51と、がモールド樹脂60で一体化されている。また、撮像基板部80Aは、カバーガラス11と、撮像素子チップ20と、再配線基板29と、からなる。   That is, in the junction wiring board 70 </ b> A, the relay substrate 40 covered with the plating electrode layer 48 and the insulating layer 47 and the conductive wire 51 are integrated with the mold resin 60. Further, the imaging substrate unit 80 </ b> A includes the cover glass 11, the imaging element chip 20, and the rewiring substrate 29.

撮像装置1Aは、撮像装置1と同じ効果を有し、更に装置設計が容易で、また撮像素子チップ20と接合配線板70との接合時に短絡が生じにくい。   The image pickup apparatus 1 </ b> A has the same effect as the image pickup apparatus 1, can be easily designed, and is unlikely to cause a short circuit when the image pickup element chip 20 and the bonded wiring board 70 are bonded.

<第2実施形態>
次に、図12〜図15を用いて第2実施形態の撮像装置1Bについて説明する。撮像装置1Bは、撮像装置1、1Aと類似しているので同じ構成要素には同じ符号を付し説明は省略する。
Second Embodiment
Next, an imaging apparatus 1B according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. Since the imaging device 1B is similar to the imaging devices 1 and 1A, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図12に示すように、撮像装置1Bでは、導線51が、電極部41Bの主面に垂直に配置されており、導線51の先端部の芯線が挿入された孔42Hを有する固定部42Bが電極部41Bに接合されている。すなわち、電極部41Bと固定部42Bとは別部材である。   As shown in FIG. 12, in the imaging apparatus 1B, the conducting wire 51 is arranged perpendicular to the main surface of the electrode portion 41B, and the fixing portion 42B having the hole 42H into which the core wire at the tip of the conducting wire 51 is inserted is an electrode. It is joined to the portion 41B. That is, the electrode part 41B and the fixing part 42B are separate members.

撮像装置1Bでは、入射光の入射方向と撮像部21の受光面とは垂直である。後述するように、接合配線板70Bは、固定部42Bが高温半田49Aで接合され、めっき電極層48及び絶縁層47で覆われた、電極部41B(中継基板40B)と、半田49Bで接合された導線51と、がモールド樹脂60Bで一体化されている。また、撮像基板部80Bは、カバーガラス11と、撮像素子チップ20と、再配線基板29と、からなる。   In the imaging apparatus 1B, the incident direction of incident light and the light receiving surface of the imaging unit 21 are perpendicular to each other. As will be described later, the bonding wiring board 70B is bonded to the electrode portion 41B (relay substrate 40B) covered with the plating electrode layer 48 and the insulating layer 47 with the fixing portion 42B with the high-temperature solder 49A and the solder 49B. The conductive wire 51 is integrated with the mold resin 60B. In addition, the imaging substrate unit 80 </ b> B includes the cover glass 11, the imaging element chip 20, and the rewiring substrate 29.

なお、接合配線板70Bの大きさ(平面視寸法)は、撮像素子チップ20(撮像基板部80B)の大きさ(平面視寸法)20Sと、同じ又は少し小さい。   Note that the size (planar dimension) of the bonded wiring board 70B is the same as or slightly smaller than the size (planar dimension) 20S of the imaging element chip 20 (imaging substrate part 80B).

図13に示すように、固定部42Bは、例えば長さが300μmで、孔42Hが形成された筒状体であり、上部の側面にスリット42Sが形成されている。固定部42Bは、例えば、銅合金又はNiFe合金等からなる。固定部42Bの上部(スリット形成部)は、外部からの付勢力により容易に変形する。   As shown in FIG. 13, the fixing portion 42B is, for example, a cylindrical body having a length of 300 μm and having a hole 42H formed therein, and a slit 42S is formed on the upper side surface. The fixing portion 42B is made of, for example, a copper alloy or a NiFe alloy. The upper part (slit forming part) of the fixing part 42B is easily deformed by an external biasing force.

撮像装置1Bの製造方法は、図4に示した撮像装置1の製造方法と略同じである。しかし、リードフレーム作製工程〜導線接続工程が異なっている。   The manufacturing method of the imaging device 1B is substantially the same as the manufacturing method of the imaging device 1 shown in FIG. However, the lead frame manufacturing process to the conductor connecting process are different.

撮像装置1Bの製造に用いるリードフレーム40RBは、詳細は図示しないが、図5に示したリードフレーム40Rと類似している。しかし、リードフレーム40RBの電極部41Bからは固定部が延設されていない。   The lead frame 40RB used for manufacturing the imaging device 1B is similar to the lead frame 40R shown in FIG. However, no fixed portion extends from the electrode portion 41B of the lead frame 40RB.

図14Aに示すように、撮像装置1Bの固定部42Bは、半田49Bよりも溶融温度が高い高温半田49A等によりリードフレーム40RBの電極部41Bに接合(ロー付け)されている。   As shown in FIG. 14A, the fixing portion 42B of the imaging device 1B is joined (brazed) to the electrode portion 41B of the lead frame 40RB with a high-temperature solder 49A having a melting temperature higher than that of the solder 49B.

図14Bに示すように、導線配置工程では、固定部42Bの孔42Hに導線51の先端部が挿入される。固定部42Bの孔42Hの内径は、導線51の外径と略同じ又は少し大きいため、導線51の長軸方向は電極部41Bの主面に垂直に設定される。そして、導線接続工程において、導線51は半田49Bにより接合される。   As shown in FIG. 14B, in the lead wire arranging step, the leading end portion of the lead wire 51 is inserted into the hole 42H of the fixing portion 42B. Since the inner diameter of the hole 42H of the fixing portion 42B is substantially the same as or slightly larger than the outer diameter of the conducting wire 51, the major axis direction of the conducting wire 51 is set perpendicular to the main surface of the electrode portion 41B. And in the conducting wire connecting step, the conducting wire 51 is joined by the solder 49B.

図14Cに示すように、圧着固定工程では、固定部42Bの上部に外部から付勢力を加えることで、導線51は固定部42Bに圧着固定される。すなわち、撮像装置1の製造方法と比較すると、撮像装置1Bの製造方法は、導線接続工程と圧着固定工程の順序が逆である。しかし、圧着固定により導線51が接続されても良いことからも、この順序は重要ではないことは明らかである。   As shown in FIG. 14C, in the crimping and fixing step, the conducting wire 51 is crimped and fixed to the fixing portion 42B by applying an urging force to the upper portion of the fixing portion 42B from the outside. That is, compared with the manufacturing method of the imaging device 1, the manufacturing method of the imaging device 1B has the order of the lead wire connecting step and the crimping fixing step reversed. However, it is clear that this order is not important because the conductors 51 may be connected by crimping.

すなわち、図14C等では、導線51の被覆部51Cを圧着固定する例を示しているが、撮像装置1Bでも、導線51の芯線51Mを圧着固定することで、導線51を実質的に電極部41Bと接続してもよい。すなわち半田49Bによる接合は必須ではない。   That is, in FIG. 14C and the like, an example in which the covering portion 51C of the conducting wire 51 is crimped and fixed is shown, but also in the imaging device 1B, the conducting wire 51 is substantially fixed to the electrode portion 41B by crimping and fixing the core wire 51M. You may connect with. That is, joining with the solder 49B is not essential.

また、図15に示すように、半田めっき等により芯線51Mに半田49BBが被覆された導線51を固定部42Bの孔42HBに導線51を挿入した後に、加熱して半田49BBを溶解することで、導線51を接合してもよい。また、固定部42Bの孔は貫通孔ではなく、孔42HBのように有底のビアホールでもよい。   Further, as shown in FIG. 15, by inserting the lead 51 into the hole 42HB of the fixing portion 42B after the lead 51 having the core wire 51M covered with the solder 49BB by solder plating or the like is heated to melt the solder 49BB, You may join the conducting wire 51. FIG. Further, the hole of the fixing portion 42B is not a through hole but may be a bottomed via hole like the hole 42HB.

撮像装置1Bは、撮像装置1、1Aと同じ効果を有し、更に、平面視寸法が撮像素子チップ20の平面視寸法20Sであるため、特に狭い空間内に配置可能である。   The imaging device 1B has the same effect as the imaging devices 1 and 1A. Further, since the planar view size is the planar view size 20S of the image sensor chip 20, it can be arranged in a particularly narrow space.

<第3実施形態>
次に、第3の実施の形態の内視鏡9について説明する。
<Third Embodiment>
Next, an endoscope 9 according to a third embodiment will be described.

図16に示すように、内視鏡9は、撮像装置1、撮像装置1A又は撮像装置1Bが先端部2に配設された挿入部3と、挿入部3の基端側に配設された操作部4と、操作部4から延出するユニバーサルコード5と、を具備する。   As shown in FIG. 16, the endoscope 9 is provided with the imaging device 1, the imaging device 1 </ b> A, or the imaging device 1 </ b> B provided at the distal end portion 2 and the proximal end side of the insertion portion 3. An operation unit 4 and a universal cord 5 extending from the operation unit 4 are provided.

内視鏡9は、撮像素子チップ20と信号ケーブル50との接続信頼性が高い撮像装置1等を有するため、信頼性が高い。   Since the endoscope 9 includes the imaging device 1 and the like having high connection reliability between the imaging element chip 20 and the signal cable 50, the endoscope 9 has high reliability.

特に、平面視寸法20S1が小さい撮像装置1Bを有する内視鏡9は、先端部2の細径化が容易である。   In particular, the endoscope 9 having the imaging device 1B having a small planar view size 20S1 can easily reduce the diameter of the distal end portion 2.

本発明は上述した実施の形態又は変形例に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等ができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment or modification, and various changes and modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1、1A、1B…撮像装置、9…内視鏡、10…プリズム、11…カバーガラス、21…撮像部、22…貫通配線、23…接合端子、24…バンプ、29…再配線基板、31…封止樹脂、40…中継基板、40R…リードフレーム、41…電極部、42…固定部、43(43A、43B)…ツメ部、44…延設部、45…アウターリード、47…絶縁層、48…電極層、49…半田、50…信号ケーブル、51…導線、59…半田、60…モールド樹脂、70…接合配線板、80…撮像基板部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1B ... Imaging device, 9 ... Endoscope, 10 ... Prism, 11 ... Cover glass, 21 ... Imaging part, 22 ... Through wiring, 23 ... Joining terminal, 24 ... Bump, 29 ... Rewiring board, 31 ... Sealing resin, 40 ... Relay substrate, 40R ... Lead frame, 41 ... Electrode part, 42 ... Fixing part, 43 (43A, 43B) ... Claw part, 44 ... Extension part, 45 ... Outer lead, 47 ... Insulating layer , 48 ... Electrode layer, 49 ... Solder, 50 ... Signal cable, 51 ... Lead wire, 59 ... Solder, 60 ... Mold resin, 70 ... Bonded wiring board, 80 ... Imaging board part

Claims (8)

撮像部をおもて面に有し、貫通配線を介して前記撮像部と接続された接合端子を裏面に有する撮像素子チップと、
前記撮像部と信号を送受信するための導線を有する信号ケーブルと
第1の主面が前記導線と接続され、第2の主面が前記接合端子と接合された金属板からなる電極部と、前記導線を前記電極部に接続するときの長軸方向の位置決め機能を有し外部からの付勢力により変形し前記導線を圧着固定している固定部と、前記電極部から延設されている、前記電極部と一体の前記金属板からなる延設部と、を有する中継基板と、
前記中継基板の前記電極部の前記導線と接続された第1の主面側、前記固定部および前記導線の前記電極部との接合部を覆っているモールド樹脂と、を具備することを特徴とする撮像装置。
An imaging element chip having an imaging unit on the front surface and having a junction terminal on the back surface connected to the imaging unit via a through-wiring;
Signal cable and the first major surface having a conductive line for sending and receiving the image pickup unit and the signal is connected to the conductor, and the electrode portion second major surface comprises a metal plate which is bonded to the bonding terminals, the a fixed portion which is deformed by crimping fixing the conductive wire by the urging force from the outside has a function of positioning the long axis direction when connecting the leads to the electrode portion, is extended from the electrode portion, the An extended portion made of the metal plate integral with the electrode portion, and a relay substrate,
A first resin main surface side connected to the conductor of the electrode portion of the relay substrate, and a molding resin covering a joint portion between the fixing portion and the electrode portion of the conductor. An imaging device.
前記延設部の端面が、切断面であることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 The imaging apparatus according to claim 1, wherein an end surface of the extending portion is a cut surface. 前記導線が、前記中継基板の主面に平行に配置されており、  The conducting wire is arranged in parallel to the main surface of the relay board;
前記固定部が、前記電極部から前記導線の長軸方向に延設されている前記金属板からなり、前記導線を圧着固定しているツメ部を有することを特徴とする請求項2に記載の撮像装置。  The said fixing | fixed part consists of the said metal plate extended in the major axis direction of the said conducting wire from the said electrode part, and has a nail | claw part which crimps and fixes the said conducting wire. Imaging device.
前記導線が、前記中継基板の主面に垂直に配置されており、  The conducting wire is disposed perpendicular to the main surface of the relay board;
前記固定部が、前記導線の先端部が挿入された孔を有し、前記電極部に接合されていることを特徴とする請求項2に記載の撮像装置。  The imaging device according to claim 2, wherein the fixing portion has a hole into which a leading end portion of the conducting wire is inserted and is joined to the electrode portion.
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の撮像装置が先端部に配設された挿入部と、前記挿入部の基端側に配設された操作部と、前記操作部から延出するユニバーサルコードと、を具備することを特徴とする内視鏡。  The imaging device according to any one of claims 1 to 4, wherein the imaging device is disposed at a distal end portion thereof, an operation portion disposed on a proximal end side of the insertion portion, and extending from the operation portion. An endoscope comprising: a universal cord that exits. 撮像部をおもて面に有し、貫通配線を介して前記撮像部と接続された接合端子を裏面に有する撮像素子チップを作製する工程と、  Producing an image pickup device chip having an image pickup unit on the front surface and having a junction terminal connected to the image pickup unit via a through-wiring on the back surface;
電極部が、延設部であるリードを介して外周部のアウターリードとつながっており、前記電極部が外部からの付勢力により変形する固定部を有する、金属板からなるリードフレームを作製する工程と、  A step of producing a lead frame made of a metal plate, in which the electrode portion is connected to the outer outer lead through a lead that is an extended portion, and the electrode portion has a fixing portion that is deformed by an external biasing force. When,
信号ケーブルの導線を、前記リードフレームの前記固定部により長軸方向の位置決めをして前記リードフレームに配置する工程と、  Positioning the lead wire of the signal cable in the lead frame by positioning in the long axis direction by the fixing portion of the lead frame; and
外部から付勢力を付与し前記固定部を変形することで、前記導線を圧着固定する工程と、  A step of crimping and fixing the conducting wire by applying an urging force from the outside and deforming the fixing portion;
前記導線を前記リードフレームの前記電極部と接続する工程と、  Connecting the conductive wire to the electrode portion of the lead frame;
前記リードフレームの前記導線が接続された第1の主面側を樹脂で覆い、前記電極部、前記固定部、及び前記導線の前記電極部との接合部を、モールドする工程と、  Covering the first main surface side of the lead frame to which the conductive wire is connected with resin, and molding the electrode portion, the fixing portion, and the joint portion of the conductive wire with the electrode portion; and
前記リードフレームの前記リードを切断し前記アウターリードを除去し接合配線板を作製する工程と、  Cutting the leads of the lead frame and removing the outer leads to produce a bonded wiring board;
前記接合配線板の前記電極部の第2の主面と前記撮像素子チップの前記接合端子とを接合する工程と、を具備することを特徴とする撮像装置の製造方法。  A step of bonding the second main surface of the electrode portion of the bonded wiring board and the bonding terminal of the imaging element chip.
前記導線が、前記電極部の前記主面に平行に配置されており、  The conducting wire is disposed in parallel to the principal surface of the electrode portion;
前記固定部が、前記電極部から延設された前記リードフレームの一部であることを特徴とする請求項6に記載の撮像装置の製造方法。  The method of manufacturing an imaging apparatus according to claim 6, wherein the fixing portion is a part of the lead frame extending from the electrode portion.
前記導線が、前記電極部の前記主面に垂直に配置されており、  The conducting wire is disposed perpendicular to the principal surface of the electrode portion;
前記固定部が、前記導線の先端部が挿入された孔を有し、前記電極部に接合されていることを特徴とする請求項6に記載の撮像装置の製造方法。  The method of manufacturing an imaging apparatus according to claim 6, wherein the fixing portion has a hole into which a leading end portion of the conducting wire is inserted and is joined to the electrode portion.
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