JP6065259B2 - 光学活性アミン類の製造方法 - Google Patents
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Description
それらの問題点を解決するために、近年プロキラルな炭素−窒素二重結合の触媒的不斉水素化反応による合成法が盛んに研究されてきた。最近の総説にはロジウム、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、チタンを中心金属とする錯体を用いる方法が述べられている(非特許文献1〜3参照)。これらの総説には高価なロジウム金属やイリジウム金属を用いた例は非常に多く、高収率で高立体選択的に光学活性アミン化合物が得られることが報告されている。しかしながら、比較的安価なルテニウム金属を用いた場合、生成するアミン化合物によりルテニウム錯体の活性が失われる場合があるため、広い基質適用性を有する炭素−酸素二重結合の不斉水素化反応に比べて、その利用は限られていると記載されている(非特許文献2)。
ルテニウム錯体と水素ガスを用いた炭素−窒素二重結合の触媒的不斉水素化反応の例として以下の文献が挙げられる。RuCl2(diphosphine)(diamine)と塩基を用いて種々のプロキラルなイミンの不斉水素化反応では、非環式のイミンであるN−(フェニルエチリデン)アニリンは最高92%eeで不斉水素化されたが、環式のイミンである2−メチルキノキサリンでは69%ee に低下する(特許文献1又は非特許文献4)。RuCl2[(S)−Hexahemp][(S,S)−DACH]を用いた2−メチルキノキサリンの不斉水素化反応では最高81%eeと、中程度の光学純度のアミンしか得られていない(特許文献2)。Ru(p−cymene)(monosulfonylated diamine)(BArF)を用いた2-メチルキノキサリンの不斉水素化では、1mol%の触媒量では98%eeの高い光学純度のアミンが得られているが、触媒量を0.1mol%まで減らすと93%eeまで低下する(非特許文献5)。
また、3-置換−2H−1,4−ベンゾキサジンの不斉水素化反応は、Ir−ジホスフィン錯体を用いた例があるが、価格が比較的安価なRu金属を用いた例は報告されていない(非特許文献6)。
即ち、本発明は、ルテナビシクロ構造を有するルテニウム錯体を用いた不斉還元による光学活性アミンの製造方法を提供する。
本発明は以下の[1]〜[6]の内容を含むものである。
[1]下記一般式(1)又は(2)
で表されるルテニウム錯体の存在下、プロキラルな炭素−窒素二重結合を不斉水素化することを特徴とする光学活性アミン類の製造方法。
[2]ルテニウム錯体が、下記一般式(3)又は(4)
で表される前記[1]に記載の製造方法。
[3]P⌒Pで表される光学活性ジホスフィンが、下記一般式(5)
R1R2P−Q−PR3R4 (5)
(式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、R1とR2とで及び/又はR3とR4とで環を形成してもよい。Qは不斉構造を有し、置換基を有していてもよい、ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基、ビピリジンジイル基、パラシクロファンジイル基、又はフェロセンジイル基を表す。)
で表されるジホスフィンである前記[1]又は[2]のいずれかに記載の製造方法。
[4]P⌒Pが、下記一般式(6)で表される光学活性ジホスフィンである前記[3]に記載の製造方法。
[5]一般式(5)におけるR1、R2、R3及びR4、並びに一般式(6)におけるR1'、R2'、R3'及びR4'が、3,5−キシリル基である前記[3]又は[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]塩基化合物の存在下で行われる、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6、より好ましくは炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、該アルキル基はフッ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよく、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。
直鎖又は分岐のアルコキシ基としては、例えば炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6、より好ましくは炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基及びt−ブトキシ基などが挙げられる。
シクロアルキル基としては、炭素数3〜15、好ましくは炭素数5〜7の飽和又は不飽和の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、具体的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。これらシクロアルキル基の環上においては、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基で、1又は2以上置換されていてもよい。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等が挙げられる。
ヘテロアリール基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等を含む5員環又は6員環状の基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基等が挙げられる。
三置換シリル基としては、前記したアルキル基やアリール基で三置換されたシリル基が挙げられ、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが挙げられる。
C1〜C20アルキル基としては、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜5、より好ましくは炭素数1〜4の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられ例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。
C2〜C20アルケニル基としては、炭素数2〜20、好ましくは炭素数2〜10、より好ましくは炭素数2〜6の直鎖状又は分枝状のアルケニル基が挙げられ、例えば、エテニル基、n−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、1−ブテン−2−イル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。
C1〜C20アルコキシ基としては、前記した炭素数1〜20のアルキル基に酸素原子結合した基が挙げられる。例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基及びt−ブトキシ基などが挙げられる。
炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリクロロメチル基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。
ヘテロアリール基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等を含む5員環又は6員環状の基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基等が挙げられる。
三置換シリル基としては、前記したアルキル基やアリール基で三置換されたシリル基が挙げられ、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが挙げられる。
C7〜C20アラルキル基としては、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜14の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基に、前記した炭素数1〜19のアルキル基が結合した、炭素数7〜20、好ましくは炭素数7〜15、炭素数7〜10のアラルキル基が挙げられる。例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜14、炭素数6〜12の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が挙げられる。具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基などが挙げられ、フェニル基が好ましい。これらアリール基は1又は2以上の置換基を有していてもよく、該置換基としては、前述したようなメチル基、イソプロピル基及びt−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基及びt−ブトキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基などが挙げられる。
RbとRcとで形成するアルキレンジオキシ基としては、炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキレンジオキシ基が挙げられる。例えば、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基等が挙げられる。
RN1とRaとで形成するアルキレン基としては、炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキレン基が挙げられる。例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられ、これらアルキレン基は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよい。
上記式中、R1、R2、R3及びR4で表される、置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば炭素数6〜14のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基などが挙げられる。
これらアリール基は1又は2以上の置換基を有していてもよく、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
前記アリール基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基及びt−ブトキシ基などが挙げられる。
置換基を有していてもよいアルキル基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基が挙げられ、具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基及びt−ブチル基などが挙げられる。これらのアルキル基においては、前記アリール基の置換基として挙げたようなアルコキシ基などの置換基で、1又は2以上置換されていてもよい。
ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基及びビピリジンジイル基としては、軸不斉構造を有する1,1'−ビアリール−2,2'−ジイル型の構造を有するものが好ましく、該ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基及びビピリジンジイル基は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基及びt−ブチル基などの炭素数1〜6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基及びt−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基などのアルキレンジオキシ基;水酸基;アミノ基;又は置換アミノ基などで置換されていてもよい。
また、フェロセンジイル基も置換基を有していてもよく、置換基としては、前記したようなアルキル基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、水酸基、アミノ基、置換アミノ基などが挙げられる。
これらの置換アミノ基としては、1個又は2個の炭素数1〜6のアルキルで置換されたアミノ基が挙げられる。
R)−6,7−ジメチル−6,7−ジヒドロジベンゾ[e,g][1,4]ジオキソシン−1,12−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(4,4',5,5',6,6'−ヘキサメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4',5,5',6,6'−ヘキサメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(4,4',5,5',6,6'−ヘキサメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4',5,5',6,6'−ヘキサメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5,5'−ジクロロ−4,4',6,6'−テトラメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5'−ジクロロ−4,4',6,6'−テトラメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5,5'−ジメトキシ−4,4',6,6'−テトラメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5'−ジメトキシ−4,4',6,6'−テトラメチルビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2,2'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−6,6'−ジメトキシビフェニル−3,3'−ジオール、2,2'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−6,6'−ジメトキシビフェニル−3,3'−ジオール、(3,3',6,6'−テトラメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(3,3',6,6'−テトラメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(3,3'−ジイソプロピル−6,6'−ジメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(3,3'−ジイソプロピル−6,6'−ジメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(6,6'−ジメトキシ−3,3'−ビス(p−トリルオキシ)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(6,6'−ジメトキシ−3,3'−ビス(p−トリルオキシ)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2,2'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−6,6'−ジメトキシビフェニル−3,3'−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、2,2'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−6,6'−ジメトキシビフェニル−3,3'−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、(5,5'−ジクロロ−6,6'−ジメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5'−ジクロロ−6,6'−ジメトキシビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、6,6'−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイル ジアセテート、6,6'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイル ジアセテート、6,6'−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、6,6'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、6,6'−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイルビス(2−メチルプロパノエート)、6,6'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイルビス(2−メチルプロパノエート、6,6'−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイル ジシクロヘキサンカルボキシレート、6,6'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2'−ジイル ジシクロヘキサンカルボキシレート、(4,4',6,6'−テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4',6,6'−テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5−メトキシ−4,6−ジメチル−4',6'−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5−メトキシ−4,6−ジメチル−4',6'−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(2,2,2',2'−テトラメチル−4,4'−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(2,2,2',2'−テトラメチル−4,4'−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、6,6'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2',3,3'−テトラヒドロ−7,7'−ビベンゾフラン、6,6'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−2,2',3,3'−テトラヒドロ−7,7'−ビベンゾフラン、(2,2,2',2'−テトラフルオロ−4,4'−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(2,2,2',2'−テトラフルオロ−4,4'−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5'−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2−(ナフチル)−8−ジフェニルホスフィノ−1−[3,5−ジオサ−4−ホスファ−シクロヘプタ[2,1−a;3,4−a']ジナフタレン−4−イル]−1,2−ジヒドロキノリン、4,12−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−[2.2]−パラシクロファン、7,7'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−2,2',3,3'−テトラヒドロ−1,1'−スピロビインダン(Xyl-SDP)、7,7'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2',3,3'−テトラヒドロ−1,1'−スピロビインダン(SDP)、ビス(2−ジフェニルホスフィノフェニル)エーテル(DPEphos)、4,5−ビス(ジフェニルホスフィノメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン(DIOP)、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(PROPHOS)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(CHIRAPHOS)、1,2−ビス[(2−メトキシフェニル)(フェニル)ホスフィノ]エタン(DIPAMP)、3,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1−ベンジルピロリジン(DEGUPHOS)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン(NORPHOS)、1−ターシャリーブトキシカルボニル−4−ジフェニルホスフィノ−2−(ジフェニルホスフィノメチル)ピロリジン(BPPM)、(2,2'−ビス−(ジベンゾフラン−3,3−ジイル)−ビス−ジフェニルホスフィン(BIBFUP)、2,2‐ビス(ジフェニルホスフィノ)‐3,3‐ビナフト[b]フラン(BINAPFu)、2,2'‐ビス(ジフェニルホスフィノ)‐3,3'‐ビ[ベンゾ[b]チオフェン](BITIANP)、N,N'−ジメチル−7,7'−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−3,3',4,4'−テトラヒドロ−8,8'−ビ−2H−1,4−ベンズオキサジン(Xyl-Solphos)2,3−ビス(ターシャリーブチルメチルホスフィノ)キノキサリン(QuinoxP*)、2,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(SKEWPHOS)、2,4−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ペンタン(XylSKEWPHOS)、4,4'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ビチオフェン(TMBTP)、3,3'−ビス(ジフェニルホスホニル)−1,1'−2,2'−ビインドール(N-Me-2-BINPO)、(2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ビチオフェン−4,4'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)(BITIANP)、(4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ビベンゾ[b]チオフェン−2,2'−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)(tetraMe-BITIANP)、1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−3,3'−ジメチル−1H,1'H−2,2'−ビインドール(BISCAP)、2,2'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−3,3'−ビベンゾフラン(BICUMP)、2,2'−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1'−ビベンゾ[d]イミダゾール(BIMIP)などが挙げられる。
[RuX'(L)(P⌒P)]X' (A)
(式(A)中、Ruはルテニウム原子を示し、X'はアニオン性基を示し、Lはアレーンを示し、P⌒Pは光学活性ジホスフィンを示す。)
[Ru(X')2(L)]m (B)
(式(B)中、Ruはルテニウム原子を示し、X'はアニオン性基を示し、Lはアレーンを示し、mは2以上の自然数を示す。)
一般式(B)で示されるルテニウム化合物(以下、アレーン錯体ともいう。)は、市販されているもの、又は既報の方法に準じて製造することができる。また、一般式(A)で示されるルテニウム化合物(以下、アレーン−ホスフィン錯体ともいう。)は、市販されているもの、又は既報の方法に準じてP⌒Pで表される光学活性ジホスフィン化合物と、一般式(B)で示されるアレーン錯体とを反応させて製造することもできる。
以下、不斉水素化に関して説明する。
本発明のプロキラルな炭素−窒素二重結合の不斉水素化反応としては、式(12)
上記化合物(C)及び(D)のR21、R22及びR23のアルキル基としては、例えば炭素数1〜8の炭素数のアルキル基が挙げられ、(ヘテロ)アリール基としては、フェニル、ナフチル、ピリジル、ピリミジニル、フリル、チエニルなどが挙げられ、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アラルキル基のアルキルとしては炭素数1〜12のものが挙げられる。この種の代表的なイミン基質は、N−(1−フェニルエチリデン)アニリンやN−(1−フェニルエチリデン)ベンジルアミン等が挙げられる。
実施例によって限定されるものではない。
実施例1において使用した触媒、基質と触媒のモル比、水素圧、反応温度、反応時間を表1に示すように変更した以外は、原料として2−メチルキノキサリンを用いて実施例1と同様の方法で反応を実施した。1,2,3,4−テトラヒドロ−2−メチルキノキサリンの収率は、実施例1と同様に、反応後、水素を開放した後、溶液を減圧下濃縮し、残渣を1H NMRにて測定した。光学純度も実施例1と同様に、ガスクロマトグラフィー(カラム:CHIRASIL−DEX CB)を用いて測定した。反応結果を表1に示す。
実施例1〜9及び比較例1との比較から、比較例1の触媒活性は実施例1〜9の触媒活性の2分の1以下にとどまり、得られる生成物の光学純度も低いことを確認した。
Claims (3)
- 下記一般式(3)又は(4)
(式中、P⌒Pは、下記一般式(6)で表される光学活性ジホスフィンを表し、
Xはアニオン性基を表す。R a 、R b 及びR c はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいC 1 〜C 20 アルキル基、置換基を有してもよいC 2 〜C 20 アルケニル基、置換基を有してもよいC 3 〜C 8 シクロアルキル基、置換基を有してもよいC 7 〜C 20 アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロ環基を表すか、R b とR c とで置換基を有してもよいアルキレン基又は置換基を有してもよいアルキレンジオキシ基を形成してもよい。R d 、R e 、R f 、R g はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいC 1 〜C 20 アルキル基、C 1 〜C 5 ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいC 3 〜C 8 シクロアルキル基、三置換シリル基又は置換基を有してもよいC 1 〜C 20 アルコキシ基を表す。R N1 、R N2 、R N3 及びR N4 はそれぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいC 1 〜C 20 アルキル基、置換基を有してもよいC 2 〜C 20 アルケニル基、置換基を有してもよいC 7 〜C 20 アラルキル基、又は置換基を有してもよいC 3 〜C 8 シクロアルキル基を表し、R N1 、R N2 、R N3 及びR N4 のうち少なくとも一つは水素原子である。また、R N1 とR a とで置換基を有してもよいアルキレン基を形成してもよい。)で表されるルテニウム錯体の存在下、プロキラルな炭素−窒素二重結合を不斉水素化する光学活性アミン化合物の製造方法であって、
プロキラルな炭素−窒素二重結合を不斉水素化が、下記式(13)
下記式(14)
- 一般式(6)におけるR1'、R2'、R3'及びR4'が、3,5−キシリル基である請求項1に記載の製造方法。
- 塩基化合物の存在下で行われる、請求項1又は2に記載の製造方法。
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