JP4682141B2 - イリジウム錯体 - Google Patents

Description

本発明はイリジウム錯体及び該イリジウム錯体を含む不斉水素化反応に使用する錯体に関する。

従来、光学活性なアミン化合物を合成する場合、天然由来のアミン化合物を用いるか、あるいはラセミ体のアミン化合物を合成し、光学活性なカルボン酸を用いて光学分割する方法等が常法であった。しかしながら、前者の方法は原料物質を入手する困難性等の点で、また、後者の場合はせっかく光学分割しても希望する化合物は光学分割する前に存在している量を越えることが出来ないという不都合さが残っていた。それらの点を解決するために、近年、イミン類の触媒的不斉水素化反応による合成法が盛んに研究されてきた。例えばロジウム錯体を用いる方法(例えば、非特許文献１参照)や、ルテニウム錯体を用いる方法(例えば、非特許文献２参照)等が知られている。ところが、使用するロジウム金属の価格が高いこと、またロジウム金属よりも比較的安価なルテニウム金属を用いた場合、調製されるルテニウム錯体がやや不安定であり、さらに生成されるアミンの光学純度もさほど高くはないなどの指摘がなされている。価格が比較的安いイリジウム金属を採用した錯体を用いる研究報告もあるが、高活性な触媒を得るためには添加剤を必要とする(例えば、非特許文献３又は４参照)。添加剤を用いないイリジウム錯体の研究報告（例えば、非特許文献５又は６参照）もあるが、基質によっては得られるアミンの光学純度が低いという問題点があった。

また、イリジウム-カルボキシラト錯体触媒をイミンの不斉水素化反応に用いると、添加剤を併用することなく高収率で、高立体選択的に光学活性アミン化合物が得られることが報告されている(例えば、特許文献１又は非特許文献７〜９参照)。しかしながら、この錯体を用いても基質によっては低い触媒活性しか得られないという問題点があった。
特開平１１−３３５３３４ Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９１年，ｐ．１６８４ Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ，１９９４年，第２２２巻，ｐ．８５ Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，１９９０年，第２９巻，ｐ．５５８ Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９５年，ｐ．９５５ Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９０年，第１１２巻，ｐ．９４００ Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．，２００４年，第１０巻，ｐ．２６７ 第５１回錯体化学討論会講演要旨集，３２７（２ａ−Ａ０７）（２００１．９．２８〜３１） 日本化学会第８１春季年会講演予稿集Ｉ，４９９（１ＰＢ−０５９）（２００２．３．２６〜２９） モレキュラーキラリティー２００２要旨集, ４７（ＰＳ−３）（２００２．６．６）

本発明は、新規イリジウム錯体を提供することを目的とする。また、本発明は、不斉合成反応、特に不斉水素化反応の触媒として、化学選択性、エナンチオ選択性及び触媒活性等の点で優れた性能を有する新規な触媒を提供することを目的とする。

本発明者等は、新規なイリジウム錯体及びそれを用いた不斉合成反応の開発について鋭意検討した結果、一般式（１）で表されるイリジウム錯体を見出し、さらにそれを用いた反応において不斉誘起が可能となることを見出し、さらに検討を重ねて本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、
[１] 一般式（１）

（式中、Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ同一又は異なっていてもよく、単座中性配位子を表すか、又はＬ^１とＬ^２とで形成される二座中性配位子を表す。Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３はそれぞれ同一又は異なっていてもよく、ハロゲン原子を表し、Ｘ^４はカウンターアニオンを表す。）
で表されるイリジウム錯体、
[２] 単座中性配位子又は二座中性配位子が光学活性体である前記[１]に記載のイリジウム錯体、
[３] 単座中性配位子が、ホスフィン化合物、オキサゾリン類又は含窒素複素環式カルベンであることを特徴とする前記[１]に記載のイリジウム錯体、
[４] ホスフィン化合物が、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン又はジアルキルアリールホスフィンであることを特徴とする前記[３]に記載のイリジウム錯体、
[５] オキサゾリン類が、下記一般式（２）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。＊は、それぞれ不斉炭素原子又は非不斉炭素原子を表す。）で表される化合物であることを特徴とする前記[３]に記載のイリジウム錯体、
[６] 含窒素複素環式カルベンが、下記式

から選択される化合物であることを特徴とする前記[３]に記載のイリジウム錯体、
[７] 二座中性配位子が、ビスホスフィン類、ジアミン類、ビスオキサゾリン類又はビスカルベン類であることを特徴とする前記[１]に記載のイリジウム錯体、
[８] ビスホスフィン類が、一般式（３）

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｑ^１は二価基を表す。）で表される化合物であることを特徴とする前記[７]に記載のイリジウム錯体、
[９] ジアミン類が、一般式（４）

（式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１３及びＲ^１４は同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルコキシカルボニル基又はスルホニル基を表し、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、又は単環もしくは多環の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^９とＲ^１１又はＲ^１０とＲ^１２は結合して環を形成してもよく、＊は不斉炭素原子又は非不斉炭素原子を表す。）で表される化合物であることを特徴とする前記[７]に記載のイリジウム錯体、
[１０] ビスオキサゾリン類が、下記一般式（５）

（式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８は水素原子（ただし、Ｒ^１５及びＲ^１６は同時に水素原子ではなく、Ｒ^１７及びＲ^１８は同時に水素原子ではない。）、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、又は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｑ^２はフェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。）で表される化合物であることを特徴とする前記[７]に記載のイリジウム錯体、
[１１] ビスカルベン類が、下記一般式（６）

（式中、Ｑ^３はアルキレン基、フェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、アルキレン基は不斉炭素を有してもよく、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。カルベン１及びカルベン２は同一又は異なってもよく含窒素複素環式カルベンを表す。）で表される化合物であることを特徴とする前記[７]に記載のイリジウム錯体、
[１２] 前記[１]〜[１１]のいずれかに記載のイリジウム錯体を含むことを特徴とする触媒、及び
[１３] 不斉水素化反応に使用されることを特徴とする前記[１２]に記載の触媒、
に関する。

本発明で規定するイリジウム錯体を触媒とすることによって高立体選択的な反応を行うことができ、光学活性化合物を高収率で得ることができる。また、これら光学活性化合物は様々な化合物の合成中間体として有用である。

以下、本発明について説明する。なお、本明細書において、「炭素数１〜６のアルキル基」とは、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−メチルペンタン−３−イル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等をいう。「炭素数１〜８のアルキル基」とは、前記炭素数１〜６のアルキル基及びヘプチル基、オクチル基、シクロヘプチル基等をいい、「炭素数１〜１０のアルキル基」とは、前記炭素数１〜８のアルキル基及びノニル基、デシル基等をいい、「炭素数１〜１２のアルキル基」とは、前記炭素数１〜１０のアルキル基及びウンデシル基、ドデシル基等をいい、「炭素数１〜１５のアルキル基」とは、前記炭素数１〜１２のアルキル基及びトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等をいう。また、「炭素数１〜６のアルコキシ基」とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等をいう。

本発明のイリジウム錯体は、一般式（１）で示されるように二つのイリジウム原子に三つのハロゲン原子が架橋し、各々のイリジウム原子に水素原子及び中性配位子が配位した二核性イリジウムカチオン型錯体である。

一般式（１）中、Ｌ^１及びＬ^２で表される単座中性配位子としては、ホスフィン化合物、又はオキサゾリン類あるいは含窒素複素環式カルベン等の複素環化合物が挙げられる。

ホスフィン化合物としては、トリアルキルホスフィン、トリ（ヘテロ）アリールホスフィン又はジアルキル（ヘテロ）アリールホスフィン等のモノホスフィン化合物が挙げられ、これらモノホスフィン化合物はラセミ体でもよく光学活性体でもよい。
前記ホスフィン化合物において、トリアルキルホスフィンのアルキル基としては、鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。各々のアルキル基は同一又は異なっていてもよい。

前記ホスフィン化合物において、トリ（ヘテロ）アリールホスフィンの（ヘテロ）アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フリル基又はチエニル基等が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよく、また各々の（ヘテロ）アリール基は同一又は異なっていてもよい。ここで、（ヘテロ）アリール基に置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ジアルキルアミノ基又はアルキレンジオキシ基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。また、アルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン化アルキル基としては、パーフルオロアルキル基等が好ましく、例えばトリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えばジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基が挙げられる。アルキレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基又はイソプロピリデンジオキシ基等が挙げられる。

オキサゾリン類としては、下記一般式（２）で表される、ラセミ体又は光学活性体の１，３−オキサゾリン類が好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。＊は、それぞれ不斉炭素原子又は非不斉炭素原子を表す。）

Ｒ^１及びＲ^２で表されるアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖又は分岐若しくは環状のアルキル基が好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基又はビフェニル基等のアリール基が挙げられ、これらのアリール基は置換基を有していてもよい。アリール基に置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン原子等が挙げられる。該置換基のアルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。該置換基のアルコキシ基としては炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられる。該置換基のハロゲン化アルキル基としてはパーフルオロアルキル基等が好ましく、例えばトリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基等が挙げられる。該置換基のハロゲン原子としてはフッ素原子又は塩素原子等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２で表されるヘテロアリール基としては、例えば、炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる１又は２種のヘテロ原子を、１〜４個含む単環、２環又は３環式の５〜１４員（好ましくは５〜１０員）芳香族複素環から水素原子１個を除いて形成される基等が挙げられる。当該５〜１４員（好ましくは５〜１０員）の芳香族複素環としては、例えば、チオフェン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンズイソチアゾール、ナフト［２，３−ｂ］チオフェン、フラン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、１Ｈ−インダゾール、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、カルバゾール、β−カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナジン、チアゾール、イソチアゾール、フェノチアジン、イソオキサゾール、フラザン、フェノキサジン、フタルイミドなどの芳香族複素環、又はこれらの環（好ましくは単環）が１ないし複数個（好ましくは１又は２個）の芳香環（例、ベンゼン環等）と縮合して形成された環などが挙げられる。当該ヘテロアリール基として好ましくは、例えばチオフェン、フラン、ベンゾフラン、ピリジン又はインドール等が挙げられる。これらのヘテロアリール基は上記アリール基と同じ置換基を有していてもよい。

また、含窒素複素環式カルベンとは、少なくとも１つの窒素原子を含む複素環からなるカルベン又はＮ−ヘテロサイクリックカルベンを意味する。含窒素複素環式カルベンとしては、例えば下記の式で表される少なくとも１個の窒素原子を含む５員環構造を有するものが好ましい。環構造には酸素原子や硫黄原子等のヘテロ原子が存在していてもよく、また二重結合が存在していてもよい。

上記含窒素複素環式カルベンは、カルベン性炭素原子以外の環を構成する炭素原子上又は環を構成する窒素原子上に水素原子以外の原子又は置換基を有していてもよい。水素原子以外の原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。置換基としては、例えばアルキル基又はアリール基等が挙げられる。また、該置換基がキラリティーを有するものであってもよい。
上記含窒素複素環式カルベンの置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、これらアルキル基はアルコキシ基又はフェニル基等で置換されていてもよい。また、アルキル基が分岐している場合又は置換基を有する場合は、該アルキル基が光学活性であってもよい。
上記含窒素複素環式カルベンの置換基としてのアリール基としては、例えば置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいナフチル基等が挙げられる。これらアリール基上の置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基又はジアルキルアミノ基等が挙げられる。アリール基上の置換基において、アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、アルコキシ基としては炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、また、ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等が好ましい。

Ｌ^１とＬ^２とで形成される二座中性配位子としては、ビスホスフィン類、ジアミン類、ビスオキサゾリン類又はビスカルベン類等が挙げられ、これらの配位子はラセミ体でも光学活性体でもよい。

ビスホスフィン類としては、下記一般式（３）

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｑ^１は二価基を表す。）で表される。
上記Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状でもよく、例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。

また、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表されるアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。具体的にはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基又はビフェニル基等が挙げられる。これらアリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン原子等が挙げられ、これら置換基の具体例としては、Ｒ^１及びＲ^２で表されるアリール基に置換する置換基で記載したようなものが挙げられる。

また、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表される複素環基としては、脂肪族又は芳香族複素環基が挙げられ、脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個の例えば窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環等の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えばピロリジル−２−オン基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５で、異種原子として少なくとも１個の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基又はベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

Ｑ^１で表される二価基としては、アルキレン基、フェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基等が挙げられる。アルキレン基としては、具体的には、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基等が挙げられ、これらのメチレン鎖は前記Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表されるアルキル基、アリール基又は複素環基で置換されてもよい。フェニレン基としては、ｏ，ｍ又はｐ−フェニレン基であり、該フェニレン基はアルキル基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基又は置換アミノ基等で置換されていてもよい。ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基としては、１，１’−ビアリール−２，２’−ジイル型の構造を有するものが好ましく、該ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、水酸基、アミノ基又は置換アミノ基等で置換されていてもよく、部分的に水素付加されていてもよい。

一般式（３）で示されるビスホスフィン類としては、上記したビスホスフィンの中でも、光学活性ビスホスフィン類がより好ましい。更に、光学活性ビスホスフィン類について説明する。

光学活性ビスホスフィン類としては，例えば本出願前公知の光学活性ビスホスフィン類が挙げられ、その一つとして一般式（７）

（式中、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は同一又は異なっていてもよく、シクロアルキル基を表すか、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子（例えばフッ素又は塩素等）等で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表されるビスホスフィン類が挙げられる。Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２で表されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
一般式（７）で表される具体的光学活性ビスホスフィン類としては、例えば２，２’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス−（ジ−ｍ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＤＭ−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−クロロフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジシクロペンチルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｃｐ−ＢＩＮＡＰ）又は２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｃｙ−ＢＩＮＡＰ）等が挙げられる。

また、光学活性ビスホスフィン類の一つとしては更に一般式（８）

（式中、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５及びＲ^２６は同一又は異なっていていてもよく、シクロアルキル基を表すか、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は上記したハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表されるビスホスフィン類を挙げることができる。Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５及びＲ^２６で表されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
一般式（８）で表される具体的光学活性ビスホスフィン類としては、例えば２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル（以下、Ｈ_８−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｍ−トリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−クロロフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジシクロペンチルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル又は２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル等がある。

さらに、光学活性ビスホスフィン類の一つとしては下記一般式（９）

（式中、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９及びＲ^３０は同一又は異なっていてもよく、シクロアルキル基を表すか、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表す。Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５及びＲ^３６は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３の内の二つが結合して酸素を環構成原子としてもよい５〜６員環等の環を形成していてもよく、Ｒ^３４、Ｒ^３５及びＲ^３６の内の二つが結合して同様の環を形成していてもよい。ただし、Ｒ^３３及びＲ^３４は水素原子になることはない。）で表されるビスホスフィン類が挙げられる。Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９及びＲ^３０で表されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。

一般式（９）で表される具体的光学活性ビスホスフィン類としては、例えば（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）（ＳＥＧＰＨＯＳ）、（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ビス（３，５−キシリル）ホスフィン）（ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）、（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスフィン）（ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ）、（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィン）、（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ジシクロヘキシルホスフィン）（Ｃｙ−ＳＥＧＰＨＯＳ）、（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル）ビス（ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン）、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラ（トリフルオロメチル）−５，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，６−ジ（トリフルオロメチル）−４’，６’−ジメチル−５’−メトキシ−１，１’−ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−ジフェニルホスフィノ−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−テトラメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−３，３’，６，６’−テトラメチル−１，１’−ビフェニル）、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ジフルオロ−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｍ−フルオロフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、１，１１−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，７−ジヒドロベンゾ［ｃ，ｅ］オキセピン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル又は２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，５，５’，６，６’−ヘキサメトキシ−１，１’−ビフェニル等が挙げられる。

さらに本発明において用いることのできる他の光学活性ビスホスフィン類としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス｛（ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ｝エタン、１，２−ビス（２，５−ジアルキルホスホラノ）ベンゼン、１，２−ビス（２，５−ジアルキルホスホラノ）エタン、１−（２，５−ジアルキルホスホラノ）−２−（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン、１−（２，５−ジアルキルホスホラノ）−２−（ジ（アルキルフェニル）ホスフィノ）ベンゼン、５，６−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン又は２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン等が挙げられる。もちろん本発明に用いることができる光学活性ビスホスフィン類はこれらに何ら限定されるものではないが、とりわけ好ましい光学活性ビスホスフィンは、一般式（７）で示される光学活性ビスホスフィンであり、特にＢＩＮＡＰ、Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ、ＤＭ−ＢＩＮＡＰ、Ｈ_８−ＢＩＮＡＰ、ＳＥＧＰＨＯＳ、ＤＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ又はＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳ等が好ましい。

二座配位子におけるジアミン類としては、一般式（４）

（式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１３及びＲ^１４は水素原子、アルコキシカルボニル基又はスルホニル基を表し、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、又は単環もしくは多環の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^９とＲ^１１又はＲ^１０とＲ^１２は結合して環を形成してもよく、＊は不斉炭素原子又は非不斉炭素原子を表す。）で表されるジアミン類が挙げられる。

Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１３及びＲ^１４で表される飽和炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、不飽和炭化水素基としては、例えばビニル基、プロパルギル基、プロペニル基又はブチニル基等の炭素数２〜６のアルケニル基又はアルキニル基等が挙げられ、アリール基としてはフェニル基又はナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基が挙げられる。
Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、単環あるいは多環の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、トリル基(ｏ−，ｍ−，ｐ−)、キシリル基又はナフチル基等のアリール基が好ましく、又は不飽和炭化水素基としては、例えばビニル基、プロパルギル基、プロペニル基又はブチニル基等の炭素数２〜６のアルケニル基又はアルキニル基等が挙げられる。Ｒ^９とＲ^１１又はＲ^１０とＲ^１２が結合して形成する環としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭素数３〜８の環が挙げられる。

具体的には、１，２−ジフェニルエチレンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルヘプタンジアミン、１−メチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン又は１−イソプロピル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、Ｎ−メトキシカルボニル−１，２―ジフェニルエチレンジアミン、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−１’２−ジフェニルエチレンジアミンまたはＮ−メタンスルホニル−１，２―ジフェニルエチレンジアミン等が挙げられ、これらのジアミン類はラセミ体でも光学活性体でもよい。

二座配位子におけるビスオキサゾリン類としては、下記一般式（５）

（式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８は水素原子（ただし、Ｒ^１５及びＲ^１６は同時に水素原子ではなく、Ｒ^１７及びＲ^１８は同時に水素原子ではない。）、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、又は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｑ^２はフェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。）で表されるビスオキサゾリン類が挙げられる。これらのビスオキサゾリン類はラセミ体でも光学活性体でもよい。

二座配位子におけるビスカルベン類としては、下記一般式（６）

（式中、Ｑ^３はアルキレン基、フェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、アルキレン基は不斉炭素を有してもよく、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。カルベン１及びカルベン２は同一又は異なってもよく含窒素複素環式カルベンを表す。）で表されるビスカルベン類が挙げられる。

Ｑ^３で表されるアルキレン基としては、Ｑ^１で表されるアルキレン基と同じアルキレン基が好ましく挙げられる。
カルベン１及びカルベン２で表される含窒素複素環式カルベンとしては、少なくとも１つの窒素原子を含む複素環からなるカルベン又はＮ−ヘテロサイクリックカルベン等を意味する。含窒素複素環式カルベンとしては、例えば、下記の式：

で表される少なくとも１個の窒素原子を含む５員環構造を有するものが好ましい。環構造には酸素原子又は硫黄原子等のヘテロ原子が存在していてもよく、また二重結合が存在していてもよい。

含窒素複素環式カルベンは、カルベン性炭素原子以外の環を構成する炭素原子上及び環を構成する窒素原子上でＱ^３と結合しており、Ｑ^３と結合していない箇所には水素原子以外の原子又は置換基を有していてもよい。水素原子以外の原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。置換基としては、例えばアルキル基又はアリール基等が挙げられる。また、該置換基がキラリティーを有するものであってもよい。

上記含窒素複素環式カルベンの置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、これら炭素数１〜６のアルキル基は炭素数１〜６のアルコキシ基又はフェニル基等で置換されていてもよい。また、アルキル基が分岐している場合又は置換基を有する場合は、該アルキル基が光学活性であってもよい。

上記含窒素複素環式カルベンの置換基としてのアリール基としては、例えば置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいナフチル基等が挙げられる。これらアリール基上の置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基又はジアルキルアミノ基等が挙げられる。アリール基上の置換基において、アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、アルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基等が好ましい。また、ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等が挙げられる。

これらのビスカルベン類はラセミ体でも光学活性体でもよい。上記中性配位子は、配位子そのもの又は配位子の前駆体として、一部のものは市販品の試薬として入手可能であり、また、対応する文献等に記載された方法により製造することもできる。

Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３で表わされるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等が挙げられる。
Ｘ^４で表わされるカウンターアニオンは、一価のアニオン性配位子を含み、例えば、Ｆ⁻、Ｂｒ⁻、Ｃｌ⁻、Ｉ⁻、Ｉ_３ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＮＯ_３ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｈ_５）_４ ⁻、Ｂ［３，５−（ＣＦ_３）_２Ｃ_６Ｈ_３］_３ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻又はＡｓＦ_６ ⁻等が挙げられる。

本発明のイリジウム錯体は、イリジウム化合物と上記単座中性配位子又は二座中性配位子とを反応させ、次いでハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させることにより製造できる。
上記イリジウム化合物としては、例えばジ−μ−クロロテトラキス（シクロオクテン）二イリジウム（［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２）、ジ−μ−ブロモテトラキス（シクロオクテン）二イリジウム（［ＩｒＢｒ（ｃｏｅ）_２］_２）、ジ−μ−ヨードテトラキス（シクロオクテン）二イリジウム（［ＩｒＩ（ｃｏｅ）_２］_２）、ジ−μ−クロロビス（１，５−シクロオクタジエン）二イリジウム（［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］_２）、ジ−μ−ブロモビス（１，５−シクロオクタジエン）二イリジウム （［ＩｒＢｒ（ｃｏｄ）］_２）、ジ−μ−ヨードビス（１，５−シクロオクタジエン）二イリジウム（［ＩｒＩ（ｃｏｄ）］_２）、ジ−μ−クロロビス（ビシクロ［２，２，１］ヘプタ−２，５−ジエン）二イリジウム（［ＩｒＣｌ（ｎｂｄ）］_２）、ジ−μ−ブロモビス（ビシクロ［２，２，１］ヘプタ−２，５−ジエン）二イリジウム （［ＩｒＢｒ（ｎｂｄ）］_２）又はジ−μ−ヨードビス（ビシクロ［２，２，１］ヘプタ−２，５−ジエン）二イリジウム（［ＩｒＩ（ｎｂｄ）］_２）等が挙げられる。

本発明のイリジウム錯体は、これらのイリジウム化合物と上記単座中性配位子又は二座中性配位子を反応させ、ついでハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させることにより調製できる。前記ハロゲン化水素としては、例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素などが挙げられ、ハロゲン化水素酸としては、例えばフッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸などが挙げられる。単座中性配位子又は中性配位子の量は、イリジウム化合物のイリジウム原子に対して単座中性配位子の場合はほぼ２倍モル量、二座中性配位子の場合はほぼ等モル量とすることにより好ましい結果を得ることができる。

さらに本発明のイリジウム錯体は、下記一般式（１０）

(式中、Ｙ^１はハロゲン原子を、Ｙ^２は有機酸残基を示し、その他の基は前記と同意義を示す。)
又は下記一般式（１０）

（式中、Ｒ^４６は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよい（ヘテロ）アリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基を、その他の基は前記と同意義を示す。）
で表されるイリジウム錯体とハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させることにより調製できる。

一般式（１０）で表される化合物は、例えば特開平１１−３３５３３４号公報、第５１回錯体化学討論会講演要旨集、ｐ．３２７（２ａ−Ａ０７）（２００１．９．２８〜３１）、日本化学会第８１春季年会講演予稿集Ｉ、ｐ．４９９（１ＰＢ−０５９）（２００２．３．２６〜２９）、モレキュラーキラリティー２００２要旨集，ｐ．４７（ＰＳ−３）（２００２．６．６）に記載の方法で合成することができる。

上記一般式（１０）で表されるＹ^２における有機酸残基とは、有機酸からプロトンとして水素原子が一つ外れた構造のものを表し、具体的にはカルボン酸残基（Ｒ^４７ＣＯ_２）、スルホン酸残基（Ｒ^４８ＳＯ_３）及びリン酸残基（（Ｒ^４９）_２ＰＯ_２）の残基が挙げられる。
カルボン酸残基であるＲ^４７ＣＯ_２におけるＲ^４７としては、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜３のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基又はナフチル基が挙げられ、置換基を有してもよい炭素数１〜３のアルキル基の置換基としては炭素数１〜４のアルキル基及びハロゲン原子が挙げられる。具体的な置換基を有してもよい炭素数１〜３のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ピバロイル基、トリフルオロメチル基が挙げられる。また、置換基を有してもよいフェニル基あるいはナフチル基において、その置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
スルホン酸残基であるＲ^４８ＳＯ_３におけるＲ^４８としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基又はナフチル基が挙げられる。
リン酸残基である（Ｒ^４９）_２ＰＯ_２におけるＲ^４９としては、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニル基又はナフチル基を示し、更には二つのＲ^４９が結合して環を形成していてもよいものが挙げられる。置換基を有してもよいフェニル基又はナフチル基としては、（ビフェニル−２，２’−ジイル）ジオキシ基、（１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル）ジオキシ基などが挙げられ、置換基を有してもよいフェニル基又はナフチル基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。

一般式（１１）で表される化合物は、例えばＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，１９９８年，第３７巻，ｐ．３３８１−３３８３に記載の方法で合成することができる。

上記一般式（１１）で表される化合物のＲ^４６におけるアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。（ヘテロ）アリール基としては、例えばフェニル、ナフチル、ピリジル、ピリミジニル、フリル、チエニルなどが挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。Ｒ^４６におけるアラルキル基のアルキルとしては炭素数１〜１２のものが挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。

これらの反応は溶媒中で行うことが好ましい。溶媒の具体例としてはトルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレン等のハロゲン含有炭化水素溶媒、メタノール、エタノール又はイソプロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等の有機溶媒等が挙げられ、これらの溶媒を単独あるいは二種以上を混合した混合溶媒を用いることが好ましい。

上記ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸としては、例えば塩化水素、臭化水素又はヨウ化水素等のハロゲン化水素、塩酸、臭化水素酸又はヨウ化水素酸等のハロゲン化水素酸が挙げられるが、取り扱いの点からハロゲン化水素酸が好ましい。これらハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸の使用量は、イリジウム原子に対してほぼ１０当量程度までの範囲内とすることが好ましい。

また、このようにして得られたイリジウム錯体のカウンターアニオンは、所望によりハロゲン原子から別な原子団へと交換することができる。交換しうる原子団としては、例えばＢＦ_４、ＣｌＯ_４、ＣＦ_３ＳＯ_３（以下、ＯＴｆとする）、ＰＦ_６、ＳｂＦ_６、ＢＰｈ_４、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻、ＮＯ_３ ⁻,Ｂ〔３、５−（ＣＦ_３）_２Ｃ_６Ｈ_３〕_３ ⁻又はＡｓＦ_６ ⁻等が挙げられる。

このようにして得られた本発明のイリジウム錯体、特に光学活性配位子を有するイリジウム錯体は、光学活性化合物の製造のために好適に使用される。光学活性化合物の製造のために適用される具体的な反応としては、不斉１，４−付加反応、不斉ヒドロホルミル化反応、不斉ヒドロシアノ化反応、不斉ヒドロアミノ化反応、不斉ヘック（Ｈｅｃｋ）反応又は不斉水素化反応等が挙げられ、特に不斉水素化反応が有利に用いられる。

不斉水素化反応の例としては、プロキラルな炭素−炭素二重結合、例えばプロキラルなエナミン、オレフィン又はエノールエーテル等、プロキラルな炭素−酸素二重結合、例えばプロキラルなケトン等又はプロキラルな炭素−窒素二重結合、例えばプロキラルなイミン等の不斉水素化反応が挙げられる。

以下、不斉水素化反応に関して説明する。

上記炭素−炭素二重結合を有する化合物の不斉水素化反応としては、例えば式（１２）

（式中、Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９及びＲ^４０は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい（ヘテロ）アリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、シアノ基、アシルアミノ基又はアミノ基を表し、Ｒ^３７とＲ^３８又はＲ^３９とＲ^４０はそれぞれ相異なる。また、Ｒ^３７とＲ^３９、Ｒ^３７とＲ^４０又はＲ^３９とＲ^４０がそれぞれ一緒になって全体で非対称環式構造を形成してもよい。＊は不斉炭素を示す。）
で表されるオレフィン化合物等の反応が挙げられる。

上記Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９及びＲ^４０におけるアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。（ヘテロ）アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基又はチエニル基等が挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。アラルキル基の置換基において、アルキル基としては炭素数１〜１２のものが挙げられる。アシル基としては、例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチリル基、ピバロイル基又はベンゾイル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。置換カルバモイル基としては、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基又はジベンジルカルバモイル基等が挙げられる。アシルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基又はベンジルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。また、全体で非対称環式構造を形成する場合の構造としては、５員環又は６員環構造が好ましい。

多重結合を有する有機化合物において、炭素−酸素二重結合を有する化合物の不斉水素化反応としては、例えば式（１３）

（式中、Ｒ^４１及びＲ^４２は相異なり、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい（ヘテロ）アリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。またＲ^４１とＲ^４２が一緒になって全体で非対称環式ケトンを形成していてもよい。＊は不斉炭素を示す。）
で表されるケトン化合物の反応が挙げられ、炭素−窒素二重結合を有する化合物の不斉水素化反応としては、式（１４）

（式中、Ｒ^４３及びＲ^４４は相異なり置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい（ヘテロ）アリール基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基を表し、式中Ｒ^４５は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。またＲ^４３とＲ^４４、Ｒ^４３とＲ^４５又はＲ^４４とＲ^４５とで非対称環式イミンを形成してもよい。＊は不斉炭素を示す。）
で表されるイミン化合物の反応が挙げられる。

上記Ｒ^４１及びＲ^４２、又は一般式（１４）で表される化合物のＲ^４３、Ｒ^４４及びＲ^４５のアルキル基としては、例えば炭素数１〜８の炭素数のアルキル基が挙げられ、（ヘテロ）アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基又はチエニル基等が挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子等が挙げられる。アラルキル基の置換基において、アルキル基としては炭素数１〜１２のものが挙げられる。Ｒ^４１とＲ^４２が一緒になって環状構造を形成している場合の一般式（１３）で表される置換されていてもよい環式ケトンとしては、例えば炭素数３〜８のシクロアルカノン骨格又はシクロアルケノン骨格、１−インダノン骨格、２−インダノン骨格、１−テトラロン骨格、２−テトラロン骨格又は１−ベンゾスベロン骨格等を有する化合物等が挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子又はアリール基等が挙げられる。

Ｒ^４３とＲ^４４、Ｒ^４３とＲ^４５又はＲ^４４とＲ^４５とで非対称環式イミンを形成している化合物としては、例えば３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール骨格、２，３，４，５−テトラヒドロピリジン骨格、３Ｈ−インドール骨格、３，４−ジヒドロキノリン骨格又は３，４−ジヒドロイソキノリン骨格等を有する化合物等が挙げられ、置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子又はアリール基等が挙げられる。

上記式（１３）の（ｃ）で表される化合物の具体例としては、アセトフェノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、イソブチロフェノン、クロロメチルフェニルケトン、ブロモメチルフェニルケトン、２−アセチルピリジン、３−アセチルピリジン、（ｏ―メトキシ）アセトフェノン、（ｏ―エトキシ）アセトフェノン、（ｏ−プロポキシ）アセトフェノン、（ｏ−ベンジルオキシ）アセトフェノン、α−アセトナフトン、ｐ−クロロフェニルメチルケトン、ｐ−ブロモフェニルメチルケトン、ｐ−シアノフェニルメチルケトン、フェニルベンジルケトン、フェニル（ｏ−トリルメチル）ケトン、フェニル（ｍ−トリルメチル）ケトン、フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン、２−ノナノン、２−デカノン、シクロヘキシルメチルケトン、シクロヘキシルエチルケトン、シクロヘキシルベンジルケトン、ｔ−ブチルメチルケトン、３−キヌクリジノン、１−インダノン、２−インダノン、１−テトラロン、２−テトラロン、ベンジル（２−ピリジル）ケトン、ベンジル（３−ピリジル）ケトン又はベンジル（２−チアゾリル）ケトン等が挙げられる。

上記式（１４）の（ｅ）で表される化合物の具体例としては、３，４−ジヒドロ−５−フェニル−２Ｈ−ピロール、６−フェニル−２，３，４，５，−テトラヒドロピリジン、１−メチル−３，４−ジヒドロイソキノリン、６，７−ジメトキシ−１−メチル−３，４−ジヒドロイソキノリン、１−フェニル−３，４−ジヒドロイソキノリン、１−メチル−３，４−ジヒドロ−９Ｈ−ピリド［３，４−ｂ］インドール又はα−メチルベンジリデンベンジルアミン等が挙げられる。

本発明のイリジウム錯体は有機化合物の多重結合の還元、特に炭素−炭素二重結合又は炭素−ヘテロ原子二重結合の還元触媒として有用である。更には、本発明のイリジウム錯体の配位子を光学活性体とすることにより、不斉水素化反応の触媒としても有用である。本発明のイリジウム錯体を触媒として用いる場合は、前記イリジウム錯体合成の反応後に、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、洗浄、再結晶等の手法により錯体の純度を高めてから使用してもよいが、錯体を精製することなく還元反応触媒として使用してもよい。

本発明の好ましい態様としての不斉水素化反応は、水素化される基質を例えばメタノール、エタノール又はイソプロパノール等のアルコール溶媒やテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレン、アセトン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒等の不斉水素化反応を阻害しない溶媒に溶解し、基質に対して約１／１０〜１／１０，０００モル、好ましくは約１／５０〜１／３，０００モルの本発明による触媒を加え、水素圧約１〜１０ＭＰａ、好ましくは約３〜７ＭＰａ、温度約−２０〜１００℃、好ましくは約２０〜８０℃で約０．５〜３０時間、好ましくは約１〜２０時間で行われる。

以下に実施例を挙げ、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。なお、実施例中において下記の分析機器を用いた。
核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）； ＭＥＲＣＵＲＹ３００−Ｃ／Ｈ （ＶＡＲＩＡＮ）
融点（ｍｐ）； ＭＰ−５００Ｄ （Ｙａｎａｋｏ）
赤外吸収スペクトル（ＩＲ）； ＦＴ／ＩＲ−２３０ （ＪＡＳＣＯ Ｃｏｒｐ．）
ガスクロマトグラフィー（ＧＬＣ）； ＧＣ−１４Ａ （Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｃｏｒｐ．）

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｉ）_３］Iの合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［ＩｒＩ（ｃｏｄ）］_２ ３３．５ ｍｇ （０．０３９２ ｍｍｏｌ）及びトルエン５ ｍＬを加え撹拌した。これに（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ ５３．７ ｍｇ （０．０８６２ ｍｍｏｌ） を加え、室温で３時間撹拌した後、反応液に５５％ヨウ化水素酸２８．５ μＬ（０．１９６ ｍｍｏｌ，５．０当量）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（６６．０ ｍｇ， 薄黄色固体）を得た。なお、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２や［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］_２を原料として用いても同様に目的物が得られる。
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， ３５℃）：δ； ６．６−８．４ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −１５．８ （ｂｒ， ｈｙｄｒｉｄｅ）， −１９．０ （ｂｒ， ｈｙｄｒｉｄｅ）
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， −１０℃）：δ； ６．６−８．４ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −１５．６ （ｔ ｌｉｋｅ， ｈｙｄｒｉｄｅ）， −１９．０ （ｄｄ， ｈｙｄｒｉｄｅ， Ｊ ＝ ７ Ｈｚ， １１Ｈｚ），
^３１Ｐ｛^１Ｈ｝ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， −１０℃）：δ； −４．６ （ｍ）， −１２．８ （ｍ）
ＩＲ （ＫＢｒ）： ２２２８ ｃｍ^−１ （ｂｒ， Ｉｒ−Ｈ伸縮）
ＥＳＩ ＭＳ； ｍ／ｚ ２０１３（Ｍ−Ｉ⁻）
ＦＡＢ ＭＳ； ｍ／ｚ ２０１３（Ｍ−Ｉ⁻）
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_８８Ｈ_６６Ｉ_４Ｉｒ_２Ｐ_４： Ｃ ４９．４０， Ｈ ３．１１； Ｆｏｕｎｄ： Ｃ ４８．９４， Ｈ ２．９０
ｍｐ； １１０℃（ｄｅｃ）
Λ_０（電気伝導度）＝ １８０．２ Ｓｃｍ^２／ｍｏｌ

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｂｒ）_３］Ｂｒの合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［ＩｒＢｒ（ｃｏｄ）］_２ ５１．５ ｍｇ （０．０６７７ ｍｍｏｌ）及びトルエン５ ｍＬを加え撹拌した。これに（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ ８８．５ ｍｇ （０．１４２１ ｍｍｏｌ） を加え、室温で３時間撹拌した後、反応液に４７％臭化水素酸３９．４ μＬ（０．３３８５ ｍｍｏｌ，５．０当量）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（１２５．０ ｍｇ， 薄黄色固体）を得た。なお、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２を原料として用いても同様に目的物が得られる。
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， ３５℃）：δ； ６．２−８．２ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −２１．５２ （ｄｄ， Ｊ ＝ １４ Ｈｚ， １６ Ｈｚ， ｈｙｄｒｉｄｅ），
^３１Ｐ｛^１Ｈ｝ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， ３５℃）：δ −０．９ （ｄ， １９ Ｈｚ）， −９．２ （ｄ）
ＩＲ （ＫＢｒ）： ２２６８ ｃｍ^−１ （ｂｒｓ， Ｉｒ−Ｈ伸縮）
ＥＳＩ ＭＳ； ｍ／ｚ １８７２（Ｍ−Ｂｒ⁻）
ＦＡＢ ＭＳ； ｍ／ｚ １８７２（Ｍ−Ｂｒ⁻）
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_８８Ｈ_６６Ｂｒ_４Ｉｒ_２Ｐ_４： Ｃ ５４．１６， Ｈ， ３．４１； Ｆｏｕｎｄ： Ｃ ５３．６３， Ｈ ３．３９
ｍｐ； １４１℃（ｄｅｃ）
Λ_０ ＝ １３９．７８ Ｓｃｍ^２／ｍｏｌ

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｂｒ）_３］Ｂｒの合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］_２ １６８．７ ｍｇ （０．２５１２ ｍｍｏｌ）及びトルエン５ ｍＬを投入し撹拌した。これに（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ ３２６．３ ｍｇ （０．５２４０ ｍｍｏｌ） を加え、室温で３時間撹拌した後、反応液に４７％臭化水素酸１４３ μＬ（１．２５６ ｍｍｏｌ，５．０当量）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（４４３．６ ｍｇ， 薄黄色固体）を得た。得られた錯体のＮＭＲ分析及びＥＤＡＸによる塩素原子未検出から、塩素原子を含まない標題の錯体であることが支持された。

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｃｌ）_３］Ｃｌの合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］_２ １２０．０ ｍｇ （０．１７９０ ｍｍｏｌ）及びトルエン５ ｍＬを投入し撹拌した。これに（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ ２３９．０ ｍｇ （０．３８４２ ｍｍｏｌ） を加え、室温で３時間撹拌した後、反応液に３５％塩酸 ７９．０μＬ（０．９０ ｍｍｏｌ， ５．１当量）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し、表題化合物（２９０．７ ｍｇ， 薄黄色固体）を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， ３５℃）：δ； ６．３−８．１ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −２２．７０ （ｄｄ， Ｊ ＝ ６ Ｈｚ， １５ Ｈｚ， ｈｙｄｒｉｄｅ），
^３１Ｐ｛^１Ｈ｝ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， ３５℃）：δ −０．４ （ｄ）， −７．９ （ｄ）
ＩＲ （ＫＢｒ）： ２２６９ ｃｍ^−１ （ｂｒｓ， Ｉｒ−Ｈ伸縮）
ＦＡＢ ＭＳ； ｍ／ｚ １７３８（Ｍ−Ｃｌ⁻）
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_８８Ｈ_６６Ｃｌ_４Ｉｒ_２Ｐ_４： Ｃ ５８．４６， Ｈ ３．６２； Ｆｏｕｎｄ： Ｃ ５８．５１， Ｈ ３．７３
ｍｐ； １６２℃（ｄｅｃ）
Λ_０ ＝ ３０１．６０ Ｓｃｍ^２／ｍｏｌ

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｉ）_３］ＰＦ_６の合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｉ）_３］Ｉ ６２．９ ｍｇ （０．０２９４ ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ ５ ｍＬを投入し撹拌した。これにＮａＰＦ_６ １１２．０ ｍｇ （０．６６７ ｍｍｏｌ） を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、表題化合物（６０．７ ｍｇ， 収率９６．５％）を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； ６．６−８．４ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −１９．０ （ｄｄ， ｈｙｄｒｉｄｅ， Ｊ ＝ ７ Ｈｚ，１１ Ｈｚ），
^３１Ｐ｛^１Ｈ｝ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； −４．６ （ｄｄ ｌｉｋｅ）， −１２．８ （ｄｄ ｌｉｋｅ）， −１４４．５ （ｓｅｐｔ， Ｊ_ＰＦ ＝ ７０６ Ｈｚ）
^１９Ｆ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； ７７．０ （ｄ， Ｊ_ＰＦ ＝ ７０６ Ｈｚ）
ＩＲ （ＫＢｒ）： ２２３３ ｃｍ^−１ （ｂｒ， Ｉｒ−Ｈ伸縮）

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｂｒ）_３］ＰＦ_６の合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｂｒ）_３］Ｂｒ ６４．８ ｍｇ （０．０３３２ ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ５ ｍＬを投入し撹拌した。これにＮａＰＦ_６ １１２．０ ｍｇ （０．６６７ ｍｍｏｌ） を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、表題化合物（６４．５ ｍｇ， 収率９６．４％）を得た。
^１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； ６．２−８．２ （Ａｒｙｌ Ｈ ｏｆ ＢＩＮＡＰ）， −２１．５２ （ｄｄ， Ｊ ＝ １４ Ｈｚ， １６ Ｈｚ， ｈｙｄｒｉｄｅ），
^３１Ｐ｛^１Ｈ｝ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； −０．９ （ｄ）， −９．２ （ｄ）， −１４４．５ （ｓｅｐｔ， Ｊ_ＰＦ ＝ ７０６ Ｈｚ）
^１９Ｆ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３）：δ； ７７．０（ｄ， Ｊ_ＰＦ ＝ ７０６ Ｈｚ）
ＩＲ （ＫＢｒ）： ２２３３ ｃｍ^−１ （ｂｒｓ， Ｉｒ−Ｈ伸縮）

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｃｌ）_３］ＰＦ_６の合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｃｌ）_３］Ｃｌ ５５．０ ｍｇ （０．０３１０ ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ５ ｍＬを投入し撹拌した。これにＮａＰＦ_６ １０４．９ ｍｇ （０．６２５ ｍｍｏｌ） を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、表題化合物（５１．７ ｍｇ， 収率８８．７％）を得た。

［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｉ）_３］Ｉの合成
アルゴン雰囲気下、２０ ｍＬシュレンク管に、［｛ＩｒＨＩ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）（ＣＨ_３ＣＯ_２）］及びトルエンを投入し、これに５５％ヨウ化水素酸（Ｉｒ錯体に対して１０当量）を加え、室温で一晩撹拌した。（Ｃｌ ５５．０ ｍｇ （０．０３１０ ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ５ ｍＬを加え撹拌した。溶媒を減圧留去し、表題化合物を収率９０．９％で得た。

[実施例９〜１２]
６−フェニル−２，３，４，５−テトラヒドロピリジンの不斉水素化反応
１００ｍＬのオートクレーブに、［｛ＩｒＨ（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）｝_２（μ−Ｘ）_３］Ｘ（Ｘは表中のハロゲン原子を表わす）、６−フェニル−２，３，４，５−テトラヒドロピリジン（以下、ＰｈＴＨＰと略す）及びトルエンを投入し（ＰｈＴＨＰ濃度が０．５ｍｏｌ／Ｌになるように）、２０℃、３時間、水素圧６ ＭＰａで不斉水素化反応を行った。得られた結果を表１に示す。
＜反応転化率の分析＞
ＧＬＣにてキャピラリーカラムＤＢ−１（Ｊ＆Ｗ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて測定した。
＜光学純度の測定＞
得られたアミンをトリフルオロアセトアミド化した後、ＧＬＣにてキャピラリーカラムＣｈｉｒａｓｉｌ−ＤＥＸ ＣＢ（Ｃｈｒｏｍｐａｃｋ社製）を用いて測定した。

本発明で規定するイリジウム錯体を触媒とすることによって高立体選択的な反応を行うことができ、光学活性化合物を高収率で得ることができる。また、これら光学活性化合物は様々な化合物の合成中間体として有用である。

Claims (7)

1. 一般式（１）
   

   

   （式中、Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ同一又は異なっていてもよく、Ｌ^１とＬ^２とで形成される二座中性配位子を表し、前記二座中性配位子は、ビスホスフィン、ジアミン、ビスオキサゾリン又はビスカルベンである。Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３はそれぞれ同一又は異なっていてもよく、ハロゲン原子を表し、Ｘ^４はカウンターアニオンを表す。）で表されるイリジウム錯体。
2. 二座中性配位子が光学活性体である請求の範囲第１項に記載のイリジウム錯体。
3. ビスホスフィンが、一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｑ^１は二価基を表す。）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のイリジウム錯体。
4. ジアミンが、下記一般式（４）
   

   

   （式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１３及びＲ^１４は同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルコキシカルボニル基又はスルホニル基を表し、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、又は単環もしくは多環の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^９とＲ^１１又はＲ^１０とＲ^１２は結合して環を形成してもよく、＊は不斉炭素原子又は非不斉炭素原子を表す。）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のイリジウム錯体。
5. ビスオキサゾリンが、下記一般式（５）
   

   

   （式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８は水素原子（ただし、Ｒ^１５及びＲ^１６は同時に水素原子ではなく、Ｒ^１７及びＲ^１８は同時に水素原子ではない。）、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、又は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｑ^２はフェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のイリジウム錯体。
6. ビスカルベンが、下記一般式（６）
   

   

   （式中、Ｑ^３はアルキレン基、フェニレン基、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基を表し、アルキレン基は不斉炭素を有してもよく、ビフェニルジイル基又はビナフタレンジイル基は軸不斉構造を有してもよい。カルベン１及びカルベン２は同一又は異なってもよく含窒素複素環式カルベンを表す。）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のイリジウム錯体。
7. 請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載のイリジウム錯体を含み、不斉水素化反応に使用されることを特徴とする触媒。