JP6048529B2 - 透明導電性フィルム及びタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、透明導電性フィルム及びその透明導電性フィルムを用いたタッチパネルに関する。

透明導電膜としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が広く使われている。近年、タッチパネルでは感度向上及び大面積化のために、例えば、透過率を８５％以上に保ちつつ、５０Ω／ｓｑ．以下の低い表面抵抗を有する透明導電膜が要求されている。

しかし、膜厚が約２０ｎｍであるＩＴＯ膜の表面抵抗は１００Ω／ｓｑ．程度であり、上述の要求を満たせない。このため、ＩＴＯ代替の動きが加速している。ＩＴＯ膜を凌駕する低抵抗を実現しうるものとしてサンドイッチ型透明導電膜がある（例えば、特許文献１〜２参照）。このタイプの透明導電膜は、金属薄膜を金属酸化物薄膜で挟むことによって低抵抗と高透過率を両立させている。

サンドイッチ型透明導電膜に用いる金属酸化物薄膜として酸化亜鉛（ＺｎＯ）をベースとしたものが提案されている。主材料であるＺｎＯ以外の成分である各種の酸化物等の種類、含有量を調整することによって、高い透過率に加えて、十分に低い表面抵抗、及び十分な耐環境性を付与することができる。

ところが、特許文献１の図２に示された分光透過率では、短波長及び長波長において透過率が低下している。サンドイッチ型透明導電膜は干渉効果を利用しているため、このように透過率の高い波長と低い波長とが混在してしまう。これでは透過光の色調が変化してしまい、ディスプレイなどの用途においては色再現性の低下を招いてしまう。

このような色調の変化を抑制するために、特許文献２では、金属薄膜と金属酸化物薄膜との積層構造からなる透明導電膜において、その透明導電膜の補色となる色素を透明基体に含有させること、又は透明基体の表面に塗布すること等によって透過色の色調補正を実現している。しかし、特許文献２の構成では、色素を用いて特定波長の光を吸収することによって透過色の色調を調整しているため、膜全体としての透過率は低下してしまう。この特許文献２に記載された技術によって透過率を高くすることは困難である。

透明導電膜を、例えばタッチパネルのようなデバイスに組み込む際は、多くの場合、引き出し配線を透明導電膜に接続する。その際、引き出し配線と透明導電膜との導通を良好にするためには、金属酸化物薄膜がその表面において安定した抵抗値を示す必要がある。

また、従来は透明基体としてガラスを適用したものが多いが、大面積化すると重量が増加し、また落とした際に割れやすいという問題が起きる。よって割れにくく軽い樹脂フィルムを透明基体として適用することが有利である。このような薄い樹脂フィルムを適用する場合、樹脂フィルムを屈曲した際に表面抵抗値の上昇、ヘイズの上昇、及び透過率の低下が生じる確率が高くなる。したがって、透明導電性フィルムの大面積化を実現するためには、曲げても特性変化が生じない高い屈曲性を同時に実現する必要がある。これに加えて、樹脂フィルムはガラスなどに比べ湿度などの環境により膨潤などが生じやすく、その上に成膜した透明導電膜の抵抗値及び色調などが経時的に劣化する懸念がある。よって水分などの環境物質の透過を防ぐバリア性能を併せ持たせる必要がある。

特開平０９−１７６８３７号公報 特開２０００−１４７２４４号公報

本発明は、一つの側面において、最表面にて安定した抵抗値を示し、高い屈曲性と高い耐環境性を有する透明導電性フィルムを提供することを課題とする。また、本発明は、別の側面において、上記透明導電性フィルムを用いることによって、上述の特性に優れるタッチパネルを提供することを課題とする。

このような課題に対し、本発明者らは鋭意検討を行った。その結果、金属薄膜を金属酸化物薄膜で狭持した３層構造を有する透明導電膜が透明基体上に形成された透明導電性フィルムにおいて、金属酸化物薄膜の屈折率が高くなるように酸化物材料の組成比を所定範囲に調整することを試みた。その結果、金属酸化物薄膜の最表面にて安定した抵抗値を示し、高い屈曲性と高い耐環境性を併せ持つ、極めて実用性の高い透明導電性フィルムが得られることを見出した。更に、金属酸化物薄膜を所定の膜厚範囲内で形成することによって、金属薄膜が例えば５０Ω／ｓｑ．以下の表面抵抗を得るために必要な所定の厚み以上であっても、透過率の波長依存性が小さく且つ高い透過率が得られることを見出した。また、これによって低抵抗と高い色再現性が実現されることを見出した。

更に、本発明者らは、この透明導電性フィルムを用いることで、極めて色再現性の高いタッチパネルが得られることを見出した。このようにして、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、一つの側面において、透明基体と、該透明基材の上に透明導電膜と、を備える透明導電性フィルムであって、透明導電膜は、金属薄膜と当該金属薄膜を挟持する一対の金属酸化物薄膜とを有する３層構造を備えており、一対の金属酸化物薄膜に含まれる金属元素は主としてＴｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎであり、Ｔｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎのそれぞれの含有率は、これらの合計を基準として１０〜８０ｍｏｌ％である透明導電性フィルムを提供する。

このような透明導電性フィルムは、最表面にて安定した抵抗値を示すとともに、高い屈曲性と高い耐環境性とを併せ持つことから、極めて高い実用性を有する。

上記一対の金属酸化物薄膜に含まれる上記金属元素が主としてＴｉ、Ｎｂ及びＺｎである場合、一対の金属酸化物薄膜のうち、Ｔｉの含有率をＸ、Ｎｂの含有率をＹ、及びＺｎの含有率をＺとしたとき、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚの値の小さい方が大きい膜厚を有していてもよい。これによって、上記の諸特性に加えて、屈折率のバランスにより色再現性をも十分に向上することができる。

上記一対の該金属酸化物薄膜に含まれる上記金属元素が主としてＴｉ、Ｓｎ及びＺｎである場合、一対の金属酸化物薄膜のうち、Ｔｉの含有率をＸ、Ｓｎの含有率をＷ、Ｚｎの含有率をＺとしたとき、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚの値の小さい方が大きい膜厚を有していてもよい。これによって、上記の諸特性に加えて、屈折率のバランスにより色再現性をも十分に向上することができる。

金属薄膜の膜厚は５〜１１ｎｍであってもよい。一対の金属酸化物薄膜の膜厚はそれぞれ２０〜５０ｎｍであってもよい。このような構造とすることによって、上記の諸特性に加えて、初期の表面抵抗を十分低くするとともに、色再現性を一層向上することができる。

本発明は、別の側面において、上述の透明導電性フィルムを備えるタッチパネルを提供する。このタッチパネルは、上述の透明導電性フィルムを備えることから、優れた特性及び耐久性を有する。

本発明の透明導電性フィルムは、ＩＴＯ膜を形成した透明導電性フィルムと同等の透過率を有しつつ、ＩＴＯ膜を形成した透明導電性フィルムでは得られないような、最表面における抵抗安定性を実現できる。また、薄い樹脂フィルムの透明基体を用いた場合に、曲げてもクラックなどが生じない高い屈曲性を実現することができる。また、湿度などの影響による経時的な特性劣化を十分に抑制することができる。したがって、長期にわたり高い性能を維持することが可能である。また、透過色の色調を殆ど損なわない高い色再現性を実現することも可能であることから、軽量性及びフレキシブル性が求められるタッチパネルなどの用途に好適である。

本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネル以外に、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、太陽電池パネル用などの透明電極として適用できる。また熱線遮断、電磁波遮蔽、透明発熱体等の用途にも適用できる。

本発明の第１の実施形態に係る透明導電性フィルムの基本構造を示す模式断面図である。 図１の透明導電性フィルムの変形例を示す模式断面図である。 図１の透明導電性フィルムの別の変形例を示す模式断面図である。 本発明の第２の実施形態に係る透明導電性フィルムの構造を示す模式断面図である。 本発明の第３の実施形態に係る透明導電性フィルムの構造を示す模式断面図である。 本発明の第４の実施形態に係る、パターンが形成された透明導電性フィルムの模式断面図である。 本発明のタッチパネルの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のタッチパネルの別の実施形態を示す模式断面図である。 本発明の透明導電性フィルムを用いて作製されたタッチパネルのマトリックス形状の１例を示す図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。ただし、以下の実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用い、場合により重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。

図１は、第１の実施形態である透明導電性フィルムの模式断面図である。図１の透明導電性フィルム１０ａは、透明基体１２の一方面（一方の主面）上に、透明導電膜６０を備える。透明導電膜６０は、金属薄膜１６とこれを挟持する一対の金属酸化物薄膜１５，１８とを有する。すなわち、透明導電膜６０は、透明基体１２側から、第１の金属酸化物薄膜１５と、金属薄膜１６と、第２の金属酸化物薄膜１８とがこの順で積層された３層構造を有する。第１の金属酸化物薄膜１５と第２の金属酸化物薄膜１８（以下、纏めて「金属酸化物薄膜１５及び１８」という場合もある。）は、同一の膜厚で形成されている。第１の金属酸化物薄膜１５と第２の金属酸化物薄膜１８の組成は、同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。

図２は、第１の実施形態の変形例である透明導電性フィルム１０ｂの模式断面図である。図２の透明導電性フィルム１０ｂは、透明基体１２と第１の金属酸化物薄膜１５との間に機能性樹脂層１３が設けられている点で、図１の透明導電性フィルム１０ａと異なる。すなわち、透明導電性フィルム１０ｂは、透明基体１２と透明導電膜６０との間に機能性樹脂層１３を有する。機能性樹脂層１３は、透明基体１２の硬度又は強度を向上させる作用を有する。機能性樹脂層１３としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等のエネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む樹脂組成物を含む。

硬化性化合物は、例えばアクリル系モノマーを含有する。アクリル系モノマーとしては、具体的には、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、及び３−（メタ）アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。例えば、ウレタン変性アクリレート、及びエポキシ変性アクリレート等も挙げられる。

硬化性化合物は、例えばビニル基を有する化合物を含有する。ビニル基を有する化合物としては、具体的には、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、及び、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。

樹脂組成物は、硬化性化合物を紫外線によって硬化させる場合、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができる。例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、及びチオキサントン系等の公知の化合物から適宜選択すればよい。より具体的には、ダロキュア１１７３、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（以上商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、及び、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（商品名、日本化薬株式会社製）が挙げられる。

光重合開始剤は、硬化性化合物に対して、０．０１〜２０質量％、又は０．５〜５質量％程度の割合で配合すればよい。樹脂組成物は、アクリル系モノマーに光重合開始剤を配合した公知のものであってもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を配合したものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂であるＳＤ−３１８（商品名、ＤＩＣ株式会社製）、及び、ＸＮＲ５５３５（商品名、長瀬産業株式会社製）等が挙げられる。

樹脂組成物は、塗膜の強度を高めること、及び／又は、屈折率を調整すること等のために、有機微粒子及び／又は無機微粒子を含んでいてもよい。有機微粒子としては、例えば、有機珪素微粒子、架橋アクリル微粒子、及び架橋ポリスチレンン微粒子等が挙げられる。無機微粒子としては、例えば、酸化珪素微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子、及び酸化鉄微粒子等が挙げられる。これらのうち、酸化珪素微粒子が好ましい。

微粒子は、その表面がシランカップリング剤で処理され、（メタ）アクリロイル基、及び／又はビニル基等のエネルギー線反応性基が表面に膜状に存在しているものも好ましい。このような反応性を有する微粒子を用いると、エネルギー線照射の際に、微粒子同士が反応したり、微粒子と多官能モノマー又はオリゴマーとが反応したりして、膜の強度を強くすることができる。（メタ）アクリロイル基を含有するシランカップリング剤で処理された酸化珪素微粒子が好ましく用いられる。

微粒子の平均粒径は、機能性樹脂層１３の厚みよりも小さく、十分な透明性を確保する観点から、１００ｎｍ以下であってもよく、２０ｎｍ以下であってもよい。一方、コロイド溶液の製造上の観点から、５ｎｍ以上であってもよく、１０ｎｍ以上であってもよい。有機微粒子及び／又は無機微粒子を用いる場合、有機微粒子及び無機微粒子の合計量は、硬化性化合物１００質量部に対して、例えば５〜５００質量部であってもよく、２０〜２００質量部であってもよい。

エネルギー線で硬化する樹脂組成物を用いると、紫外線等のエネルギー線を照射することによって、樹脂組成物を硬化させることができる。したがって、このような樹脂組成物を用いることが製造工程上の観点からも好ましい。

機能性樹脂層１３は、樹脂組成物の溶液又は分散液を、透明基体１２の一方面上に塗布して乾燥し、樹脂組成物を硬化させて作製することができる。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、及びスクイズ法などが挙げられる。

機能性樹脂層１３の厚みは、例えば０．５〜１０μｍである。厚みが１０μｍを超えると、厚みムラやシワなどが生じ易くなる傾向にある。一方、厚みが０．５μｍを下回ると、透明樹脂基材１１中に可塑剤又はオリゴマー等の低分子量成分が相当量含まれている場合に、これらの成分のブリードアウトを十分に抑制することが困難になる場合がある。

図３は、第１の実施形態の別の変形例である透明導電性フィルム１０ｃの模式断面図である。図３の透明導電性フィルム１０ｃは、機能性樹脂層１３と第１の金属酸化物薄膜１５との間に、密着層１４が更に設けられている点で、図２の透明導電性フィルム１０ｂと異なる。すなわち、透明導電性フィルム１０ｃは、透明基体１２と透明導電膜６０との間に、透明基体１２側から機能性樹脂層１３と密着層１４とをこの順で有する。密着層１４は、機能性樹脂層１３と第１の金属酸化物薄膜１５との密着性を向上させる作用を有する。

図４は、第２の実施形態である透明導電性フィルム２０ａの模式断面図である。図４の透明導電性フィルム２０ａは、透明基体１２の一方面上に透明導電膜６０ａを備える。透明導電膜６０ａは、透明基体１２側から、第１の金属酸化物薄膜１５と、金属薄膜１６と、第２の金属酸化物薄膜１８ａとがこの順で積層されている３層構造を有する。第１の金属酸化物薄膜１５は、第２の金属酸化物薄膜１８ａよりも厚く形成されている。このように、第１の金属酸化物薄膜１５と第２の金属酸化物薄膜１８ａの膜厚は互いに異なっていてもよい。

図５は、第３の実施形態である透明導電性フィルム２０ｂの模式断面図である。透明導電性フィルム２０ｂは、透明基体１２の一方面上に、透明導電膜６０ｂを備える。透明導電膜６０ｂは、透明基体１２側から、第１の金属酸化物薄膜１５ａと、金属薄膜１６と、第２の金属酸化物薄膜１８とがこの順に積層されている３層構造を有する。第１の金属酸化物薄膜１５ａは、第２の金属酸化物薄膜１８よりも薄く形成されている。

図６は、第４の実施形態である透明導電性フィルム３０の模式断面図である。透明導電性フィルム３０には、図６のようにパターンが形成されていてもよい。透明導電性フィルム３０は、第１の金属酸化物薄膜１５と、金属薄膜１６と、第２の金属酸化物薄膜１８とがこの順に積層された透明導電膜６０からなる透明導電部３２と絶縁部３４が形成されている。つまり、透明導電部３２には透明導電膜６０が存在するのに対し、絶縁部３４には透明導電膜６０が存在しない。透明導電性フィルム３０は、例えば、図１の透明導電性フィルム１０ａにおける透明導電膜６０の一部をエッチングすることによって得ることができる。

本明細書における「透明」とは、可視光が透過することを意味しており、光をある程度散乱してもよい。光の散乱度合いについては、透明導電性フィルムの用途によって要求されるレベルが異なる。一般に半透明といわれるような光の散乱があるものも、本明細書における「透明」の概念に含まれる。光の散乱度合いは小さい方が好ましく、透明性は高い方が好ましい。

図１〜図６に示すように、透明導電性フィルム１０ａ（１０ｂ，１０ｃ，２０ａ，２０ｂ，３０）は、金属薄膜１６（銀系薄膜）を金属酸化物薄膜１５，１８（１８ａ）にて狭持する３層構造の透明導電膜６０（６０ａ，６０ｂ）が透明基体１２の少なくとも片面に形成されている。そして、金属酸化物薄膜１５，１８（１８ａ）中に含まれる金属元素は主としてＴｉとＮｂとＺｎ、又はＴｉとＳｎとＺｎであり、かつそれぞれの金属元素の含有率が１０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下である。２つの金属酸化物薄膜１５，１８（１８ａ）が、金属薄膜１６の両側に形成されていてもよい。金属薄膜１６の膜厚は例えば５ｎｍ以上１１ｎｍ以下である。金属酸化物薄膜１５，１８（１８ａ）の膜厚は例えば２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。図１〜図６に示す各透明導電性フィルムの各部材の材質、形状について説明する。

＜透明基体＞
透明基体１２としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどの無機化合物成形物を用いることができる。軽く且つ割れにくくする観点から、高分子成形物がより好適に使用できる。高分子成形物は可視波長領域において透明であればよい。高分子としては、例えばポリエチレンテレフタラート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、及びポリビニルブチラール等が挙げられる。ただし、高分子は、これらに限定されるものではない。上述の１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

透明な高分子成形物は、主面が平滑であれば板状であってもフィルム状であってもよい。フレキシブル性に富むフィルム状のものは特に好適に使用できる。透明基体１２の厚みは特に限定はされない。例えば高分子成形物であれば２５〜２００μｍ、好ましくは５０〜１８８μｍである。無機化合物成形物であれば、０．１〜１ｍｍ、好ましくは０．３〜０．７ｍｍである。透明基体１２の厚みが薄すぎるとハンドリングし難くなる傾向にある。逆に厚すぎると透明基体１２が重くなると同時にコストアップする傾向にある。

透明基体１２の表面には、図２に示すように、透明基体１２の硬度又は強度を向上させる作用を有する機能性樹脂層１３が形成されていてもよい。図３に示すように、機能性樹脂層１３と第１の金属酸化物薄膜１５との密着性を向上させる機能を有する密着層１４がさらに形成されていてもよい。機能性樹脂層１３及び密着層１４の材質や膜厚等は、機能に応じて適宜調整可能である。

＜金属酸化物薄膜＞
金属酸化物薄膜１５，１８は、主たる金属元素としてＴｉ、Ｎｂ及びＳｎの一方、並びにＺｎを含む。主たる金属元素としてＮｂを含む場合、それぞれの金属元素の含有率は、Ｔｉ、Ｎｂ、及びＺｎの合計を基準として１０〜８０ｍｏｌ％である。主たる金属元素としてＳｎを含む場合、それぞれの金属元素の含有率は、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＺｎの合計を基準として１０〜８０ｍｏｌ％である。このような組成範囲とすることにより、表面抵抗の安定性、耐環境性及び屈曲性の全てに優れる透明導電性フィルムとすることができる。

金属酸化物薄膜１５，１８は、酸化チタン、酸化ニオブ又は酸化スズ、及び酸化亜鉛を含有する。酸化チタンは、例えばＴｉＯ_２である。酸化ニオブは例えばＮｂ_２Ｏ_５である。酸化スズは、例えばＳｎＯ_２である。酸化亜鉛は、例えばＺｎＯである。各金属酸化物における金属原子と酸素原子の比は、化学量論比からずれていてもよい。各金属元素の含有量は、例えば蛍光Ｘ線分析によって求めることができる。

また、金属酸化物薄膜の膜厚は２０〜５０ｎｍとすることが好ましい。金属酸化物薄膜の膜厚が、２０ｎｍ未満であるか、又は５０ｎｍより大きい場合には、金属薄膜で生じる反射光を透過光に変換するための光干渉効果が最適な条件から外れてしまう場合がある。このため、透過光の色調変化を抑制しきれず、色再現性が低下する場合がある。

透明導電性フィルム１０ａ（１０ｂ，１０ｃ，２０ａ，２０ｂ，３０）を構成する各層の厚みは、以下の手順で測定することができる。集束イオンビーム装置（ＦＩＢ，Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）によって透明導電性フィルムを切断して断面を得る。透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて当該断面を観察し、各層の厚みを測定する。測定は、任意に選択された１０箇所以上の位置で測定を行い、その平均値を求めることが好ましい。断面を得る方法として、集束イオンビーム装置以外の装置としてミクロトームを用いてもよい。厚みを測定する方法としては、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてもよい。また蛍光Ｘ線装置を用いても膜厚を測定することが可能である。

Ｔｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎの合計を基準とするＴｉの含有率が１０ｍｏｌ％未満である場合、Ｔｉ添加によって得ようとしている水分等の環境物質に対するバリア性が低下してしまい、抵抗値及び透過率の経時的な劣化が生じてしまう。またＴｉは酸化物薄膜の屈折率を上げる効果も有するため、Ｔｉの含有率が低いと酸化物薄膜の屈折率を上げることができない。このため、金属薄膜の膜厚が大きい場合における透過光の色調変化を抑制しきれず、色再現性が悪化してしまう。一方、Ｔｉの上記含有率が８０ｍｏｌ％を超える場合は、後述するようにＮｂ、Ｓｎ又はＺｎのいずれかの含有量が１０ｍｏｌ％未満となってしまい、これらの元素で本来得ようとしている効果が得られなくなってしまう。

Ｔｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎの合計を基準とする、Ｎｂ又はＳｎの含有率が１０ｍｏｌ％未満である場合、Ｎｂ又はＳｎ添加によって金属酸化物薄膜を非晶質化させ、屈曲した際のクラック発生を抑制させる効果が弱まってしまい、耐屈曲性が低下してしまう。一方、Ｎｂ又はＳｎの上記含有率が８０ｍｏｌ％を超える場合は、前述のＴｉ又は後述のＺｎのどちらかの含有量が１０ｍｏｌ％未満となってしまい、これらの元素で本来得ようとしている効果が得られなくなってしまう。

Ｔｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎの合計を基準とするＺｎの含有率が１０ｍｏｌ％未満である場合、Ｚｎ添加によって膜に導電性を付与し、最表面における安定した抵抗値を持たせる効果が弱まってしまう。その結果、デバイスとして使用する際の引き出し配線との接続不良が生じてしまう。また、Ｚｎの上記含有率が８０ｍｏｌ％を超える場合は、前述のＴｉ、或いはＮｂ又はＳｎのいずれかの含有量が１０ｍｏｌ％未満となってしまい、これらの元素で本来得ようとしている効果が得られなくなってしまう。

金属酸化物薄膜１５，１８が、主たる金属元素としてＴｉとＮｂとＺｎを含み、第１の金属酸化物薄膜１５と第２の金属酸化物薄膜１８との組成が異なる場合には、図４及び図５に示すように、透過色の色調変化が最小となるように、それぞれの薄膜を異なる膜厚で形成してもよい。具体的には、金属酸化物薄膜１５，１８のうち、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚで表される値が小さい方の膜厚を、当該値が大きい方の膜厚よりも厚くすることが好ましい。このパラメータは、主たる金属元素としてＴｉとＮｂとＺｎを含む金属酸化物薄膜１５，１８の屈折率と相関がある。このパラメータを用いて金属酸化物薄膜１５，１８の屈折率の大小関係を判定することができる。

上記式のＸ，Ｙ，Ｚは、それぞれ、Ｔｉ、Ｎｂ及びＺｎの合計を基準とする、Ｔｉ、Ｎｂ及びＺｎのモル基準の含有率である。上記式においてＸ，Ｙ，Ｚに掛けあわせられる各係数は、金属酸化物薄膜１５，１８を主として構成する個々の酸化物の屈折率に対応する数値である。具体的には、各酸化物単体の屈折率を１０倍して、小数点第一位を四捨五入したものである。

金属酸化物薄膜１５，１８が、主たる金属元素としてＴｉとＳｎとＺｎを含み、第１の金属酸化物薄膜１５と第２の金属酸化物薄膜１８との組成が異なる場合には、図４及び図５に示すように、透過色の色調変化が最小となるように、それぞれの薄膜を異なる膜厚で形成してもよい。具体的には、金属酸化物薄膜１５，１８のうち、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚで表される値が小さい方の膜厚を、当該値が大きい方の膜厚よりも厚くすることが好ましい。このパラメータは、主たる金属元素としてＴｉとＳｎとＺｎを含む金属酸化物薄膜１５，１８の屈折率と相関があり、このパラメータを用いて金属酸化物薄膜１５，１８の屈折率の大小関係を判定することができる。

上記式のＸ，Ｗ，Ｚは、それぞれ、Ｔｉ、Ｓｎ及びＺｎの合計を基準とする、Ｔｉ、Ｓｎ及びＺｎのモル含有率である。上記式においてＸ，Ｙ，Ｚに掛けあわせられる各係数は、金属酸化物薄膜１５，１８を主として構成する個々の酸化物の屈折率に対応する数値である。具体的には、各酸化物単体の屈折率を１０倍して、小数点第一位を四捨五入したものである。

金属酸化物薄膜１５，１８の成膜方法は、例えば各金属元素を構成元素とする酸化物ターゲットを用いたＤＣマグネトロンスパッタが挙げられる。成膜方法は、これに限定されず、プラズマ又はイオンビーム等を用いたその他の真空成膜法、或いは構成元素を適当なバインダーに分散した液体を用いたコーティング法などを適宜選択可能である。

金属酸化物薄膜１５，１８に含まれる金属元素は、上記に示したどちらかの組み合わせ、すなわち、ＴｉとＮｂとＺｎの組み合わせか、又はＴｉとＳｎとＺｎの組み合わせが主体となっていればよく、他の微量の金属元素が含まれていてもよい。例えば、微量の金属元素として、Ａｌ、Ｍｇ、Ｔｈ、Ｙ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｓｉ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｗ、Ｂｉなどが含まれていても、所望の効果を得ることができる。これらの金属元素は酸化物として含まれていてもよい。全金属元素に対するＴｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎの合計含有率は、例えば９５ｍｏｌ％以上であってもよく、９８ｍｏｌ％以上であってもよい。

＜金属薄膜＞
本発明の金属薄膜１６は、体積抵抗率の低い銀が主体となっていることが好ましい。膜厚は、５〜１１ｎｍ（５ｎｍ以上１１ｎｍ以下）であることが好ましい。金属薄膜１６が５ｎｍ未満である場合、５０Ω／ｓｑ．以下の表面抵抗が得られ難くなる傾向にある。一方、膜厚が１１ｎｍを超える場合、金属酸化物薄膜１５，１８の高屈折率化が限界に達し、透過光の色調変化が抑制できず、色再現性が低下してしまう傾向にある。金属薄膜１６は、例えばＤＣマグネトロンスパッタを用いて形成することができる。金属薄膜１６の成膜方法は特に限定されず、プラズマ又はイオンビーム等を用いたその他の真空成膜法、或いは構成元素を適当なバインダーに分散した液体を用いたコーティング法などを適宜選択可能である。

また、金属薄膜１６の材質は銀が主体となっていればよく、他の微量の金属元素が含まれていてもよい。例えばＣｕ、Ｎｄ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｂなどが微量含有されると、銀の耐環境性が向上する。銀とこれらの微量の金属とが合金化していてもよい。銀合金の例としては、Ａｇ−Ｐｄ、Ａｇ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ、及びＡｇ−Ｓｎ−Ｓｂが挙げられる。

＜タッチパネル＞
次に、本発明のタッチパネルの実施形態を説明する。本実施形態のタッチパネルは、上述のいずれかの透明導電性フィルムを有する。ここでは、一例として、上述の透明導電性フィルムを静電容量式タッチパネルに適用した場合について説明する。静電容量式タッチパネルの構造は、通常、透明基体上に、マトリックス状の透明導電膜からなる第１のパターン（例えば、図９のパターン５２）と第２のパターン（例えば、図９のパターン５４）が設けられた構造を有している。

図７は、それぞれパターンが形成された２つの透明導電性フィルムを用いて作製されるタッチパネルの一実施形態における断面構造を示している。図８は、それぞれパターンが形成された２つの透明導電性フィルムを用いて作製されるタッチパネルの別の実施形態の断面構造を示している。図７及び図８に示すようなタッチパネルの作製に用いられる透明導電性フィルムとしては、例えば図６に示すようなパターンが形成された透明導電性フィルムを用いることができる。

図７のタッチパネル４０ａは、パターンが形成された第１の透明導電性フィルム４４の第２の金属酸化物薄膜１８側の面と、パターンが形成された第２の透明導電性フィルム４６の透明基体１２’とが、透明接着剤層４２によって貼り合わされている。第１の透明導電性フィルム４４における透明導電膜６０は、Ｘ透明配線５２を構成する。第２の透明導電性フィルム４６における透明導電膜６０’は、Ｙ透明配線５４を構成する。透明導電膜６０は、透明基体１２側から、第１の金属酸化物薄膜１５と金属薄膜１６と第２の金属酸化物薄膜１８とがこの順で積層されている３層構造を有する。透明導電膜６０’は、透明基体１２’側から、第１の金属酸化物薄膜１５’と金属薄膜１６’と第２の金属酸化物薄膜１８’とがこの順で積層されている３層構造を有する。

図８のタッチパネル４０ｂは、パターンが形成された第１の透明導電性フィルム４４の第２の金属酸化物薄膜１８側の面と、パターンが形成された第２の透明導電性フィルム４６の第２の金属酸化物薄膜１８’側の面とが、透明接着剤層４２によって貼り合わされている。第１の透明導電性フィルム４４における透明導電膜６０は、Ｘ透明配線を構成する。第２の透明導電性フィルム４６における透明導電膜６０’は、Ｙ透明性配線を構成する。

Ｘ透明配線とＹ透明配線の積層順序は、ここに記載の順序に限定されない。また、透明接着剤層４２の材質は特に限定されず、透過性及び接着性に優れた樹脂材料であれば適宜選択可能である。また、図示していないが、図７及び図８の上下どちらか一方の面には、指と直接接触する保護パネルが、また他方の面には液晶や有機ＥＬなどの表示パネルが配置されていてもよい。保護パネル及び表示パネルは、適宜選択された透明接着剤等によって各々接着される。

図７及び図８のタッチパネルにおけるＸ透明配線（透明導電膜６０）及びＹ透明配線（透明導電膜６０’）には、引き出し配線４８が接続されている。なお、Ｙ透明配線に接続される引き出し配線は図示していない。引き出し配線４８の材質は特に限定され。一般に体積抵抗率の低い材料が好ましく、例えばＣｕやＡｇなどが好適に使用可能である。

図９は、タッチパネルのマトリックス形状の１例を示す図である。このようなタッチパネルは、上述の透明導電性フィルムのいずれかを用いて作製することができる。図９のタッチパネル５０は、菱形形状を有する導電性領域がＸ方向にブリッジ接続されたパターン５２と、菱形形状を有する導電性領域がＹ方向にブリッジ接続されたパターン５４とが、互いに隙間を埋めるように配置されている。

図９におけるパターン５２は、Ｘ透明配線であり、図８における第１の透明導電性フィルム４４における透明導電膜６０で構成される。図９におけるパターン５４は、Ｙ透明配線であり、図８における第２の透明導電性フィルム４６における透明導電膜６０’で構成される。

図９におけるＸ透明配線（パターン５２）及びＹ透明配線（パターン５４）には、引き出し配線５８が接続されている。引き出し配線５８は、図８の引き出し配線４８に対応する。

静電容量方式は、さらにいくつかの方式に分類可能であるが、図８及び図９に示すタッチパネル構造を元に、自己容量方式のタッチパネルの動作原理を説明する。

自己容量方式のタッチパネルでは、図８及び図９に示すＸ透明配線とＹ透明配線に交互に電流を流し（スキャンし）、静電容量値を読み取っている。指が近づくと、近傍のパターン部と指との間でコンデンサが形成され、静電容量が変化する。どこの配線で静電容量が変化したかを、Ｘ透明配線とＹ透明配線とがそれぞれ検出することによって、どの位置に指があるかを判別することが可能となる。

また、別の方式として相互容量方式がある。これは、導電性パターンと指との間における容量変化を検出する自己容量方式と異なり、Ｘ透明配線とＹ透明配線との間に形成される静電容量値の変化を読み取る方式である。つまり、Ｘ透明配線とＹ透明配線との間にコンデンサが形成されており、そこに指が近づくと、Ｘ透明配線とＹ透明配線との間に形成されていた電界分布が変化し、Ｘ透明配線とＹ透明配線との間の静電容量値が変化する。これを検出することによって、どの位置に指があるかを判別する。この方式は、自己容量方式に比べ多点接触に対する感度が高いというメリットがある。

自己容量方式と相互容量方式のいずれにおいても、Ｘ透明配線とＹ透明配線に交互に電流を流し、タッチ位置を検出している。通常は複数回スキャンを行うことによって、タッチ位置の検出精度を高めている。１回あたりの静電容量値の変化量が大きいほど、つまり感度が高いほどスキャン回数を減らすことができる。これによって、タッチしてから位置を判別するまでの時間が短縮されるため、省エネ及びタッチに対する応答速度の向上につながる。感度を高くするためには、透明導電膜の低抵抗化が非常に重要となる。

また、大画面タッチパネルにおいては、上記のようなスキャン回数は、エネルギー消費量及びタッチに対する応答速度に対し、より顕著な影響が現れる。よって、上記各実施形態の透明導電性フィルムは、自己容量方式や相互容量方式等の方式に関わらず、静電容量方式のタッチパネルに使用することが可能であり、また大面積のタッチパネルにおいて、より好適に使用することが可能である。

透明導電膜や引き出し配線のエッチング方法に特に制限はなく、酸又はアルカリによるウェットエッチング法、或いは、真空中での反応性プラズマ又は反応性イオンビームを用いたドライエッチング法などを適宜選択可能である。また構成元素を適当なバインダーに分散した液体を用い、グラビア印刷法又はインクジェット法などと組み合わせてパターン形成することも可能である。

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下の各実施例及び各比較例では、透明基体として厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルムを使用した。各実施例及各比較例の金属酸化物薄膜及び金属薄膜（銀系薄膜）は、以下のとおりにして形成した。

金属酸化物薄膜は、ＴｉＯ_２ターゲット、Ｎｂ_２Ｏ_５ターゲット又はＳｎＯ_２ターゲット、及びＺｎＯターゲットを用い、ＤＣマグネトロンスパッタによって形成した。成膜条件は、Ａｒガス：３０ｓｃｃｍ、成膜圧力：０．５Ｐａの条件とした。所望の組成比を有する金属酸化物薄膜が得られるように、上述の３つのターゲットの成膜パワーを調整しながら、３元同時スパッタによって成膜を行った。

金属薄膜は、ＡｇＰｄＣｕ（Ａｇ：Ｐｄ：Ｃｕ＝９９．０：０．５：０．５（質量％））ターゲットを用い、ＤＣマグネトロンスパッタによって形成した。成膜条件は、Ａｒガス：３０ｓｃｃｍ、成膜圧力：０．５Ｐａ、成膜パワー：０．２ｋＷとした。

各実施例及び各比較例における透明導電性フィルムの詳細な構造については後述する。作製した透明導電性フィルムの評価方法について、以下に説明する。

＜色調及び透過率の評価＞
透過色の色調についてはヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製：ＨＭ−１５０）を使用し、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における「ａ＊」及び「ｂ＊」の値で評価した。「ａ＊」及び「ｂ＊」の値が−１〜＋１の範囲に入っていれば人の目で色調変化を識別することが困難となり好ましい。長期にわたる使用でも安定した色再現性を確保するためには、「ａ＊」及び「ｂ＊」の値はゼロに近いほど好ましい。

＜表面抵抗値、及び最表面での抵抗安定性の評価＞
表面抵抗は４端子法の抵抗測定器を用いて測定した。１点につき１５秒間の連続測定を、異なる１０点において行った。全ての測定点で示した表面抵抗の平均値（Ｒａｖｅ）を求めた。また表面抵抗の最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとしたときの変化率を、（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／Ｒａｖｅ×１００によって求めた。この変化率が１０％未満の場合を「Ａ」、１０％を超える場合を「Ｂ」と評価した。この評価結果を、表１〜４中、「抵抗安定性」の欄に示した。評価「Ａ」の透明導電性フィルムは、引き出し配線との間で安定した導電性を確保でき、タッチパネルに用いた場合に安定した駆動性能を確保できる。

＜耐環境性の評価＞
耐環境性は、作製した透明導電性フィルムを８５℃，８５％ＲＨに保持した恒温槽に２００時間保持した。保持前から保持後の透過率の低下幅（保持前の透過率−保持後の透過率）が１％未満であり、かつ保持前の表面抵抗（Ｒ０）に対する保持後の表面抵抗（Ｒ１）の上昇率［（Ｒ１−Ｒ０）／Ｒ０］が１０％未満のものを「Ａ」と評価し、それ以外のものを「Ｂ」と評価した。評価「Ａ」の透明導電性フィルムは、タッチパネルに用いた場合に、その使用環境下において長期にわたり安定した駆動性能が確保できる。

＜屈曲性の評価＞
屈曲性は、成膜したフィルムをφ５ｍｍの円筒に巻きつける前後における表面抵抗の変化率（上昇率）で評価した。当該変化率（上昇率）は、巻きつけ前の表面抵抗値をＲ０、巻きつけ後の表面抵抗値をＲ１としたときに、（Ｒ１−Ｒ０）／Ｒ０×１００の数式で計算した。表面抵抗の変化率は小さいほど好ましい。巻きつけ前後の表面抵抗値の変化率が１．１％未満であるものを「Ａ」と評価し、変化率が１．１％以上のものを「Ｂ」と評価した。評価結果が「Ａ」であれば、透明導電性フィルムやタッチパネルの製造工程におけるハンドリング等の影響で、特性が劣化する事態を回避することができる。また、曲面を有する表示パネル用のタッチパネルとして適用する場合においても、安定した性能を確保することができる。

作製した透明導電性フィルムの構造及び特性を、表１〜４に記載した。個別の実施例における詳細な構造及び手順について、以下に説明する。

［実施例１］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。なお、表１〜表４に記載の各金属元素の含有率は、３つの金属元素の合計に対するモル分率である。また、それぞれの金属元素の含有率から、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚ、又は２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚの計算値を表１〜表４に示す。

［実施例２］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（２５ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例３］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（４５ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例４］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（１５ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例５］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（５５ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

実施例１〜５では、第２の金属酸化物薄膜の厚みを変えている。表１に示すように、実施例１〜５の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｎいずれも１０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下の範囲にあった。これらの最表面での抵抗安定性、耐環境性、及び屈曲性の評価結果は、いずれも「Ａ」であった。Ｒａｖｅがいずれも約１６Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。

第２の金属酸化物薄膜の膜厚が２０〜５０ｎｍの範囲にある実施例１〜３の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性が良好であった。これに対し、上記範囲から逸脱している実施例４〜５の「ｂ＊」は、＋１より大きくなっており、目視できるレベル以上の色調変化を呈していた。

［実施例６］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３９ｎｍ）、金属薄膜（５ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３９ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例７］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３３ｎｍ）、金属薄膜（１１ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３３ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例８］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３９ｎｍ）、金属薄膜（４ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３９ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

［実施例９］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３３ｎｍ）、金属薄膜（１２ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３３ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表１に記載の組成比となるようにした。

実施例６〜９では、金属薄膜の膜厚を変えている。表１に示すように、実施例６〜９の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｎのいずれもが１０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下の範囲にあり、最表面での抵抗安定性、耐環境性、及び屈曲性の評価結果は、いずれも「Ａ」であった。

金属薄膜の膜厚が５〜１１ｎｍの範囲にある実施例６〜７は、Ｒａｖｅがいずれも５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。一方、金属薄膜の膜厚が４ｎｍである実施例８の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあった。このように、色再現性は良好であった。ただし、表面抵抗が約１００Ω／ｓｑ．と高かった。金属薄膜の膜厚が１２ｎｍである実施例９では、Ｒａｖｅは約９Ω／ｓｑ．と低く良好であった。一方、「ａ＊」は−１より小さくなっており、視認できるレベル以上の色調変化を呈していた。

［比較例１］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

［比較例２］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（８ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

比較例１〜２は、金属酸化物薄膜中のＴｉの含有量を変えている。表２に示すように、金属酸化物薄膜中のＴｉ含有量が５ｍｏｌ％である比較例１において、「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は、約１６Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、耐環境性評価における表面抵抗の上昇率が１０％以上となり、不十分であった。

金属酸化物薄膜中のＴｉ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例２の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は、約１３Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び耐環境性の評価結果は「Ａ」であった。一方、屈曲性評価における表面抵抗の上昇率が１．１％以上となり、不十分であった。

［比較例３］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

［比較例４］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（８ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

比較例３〜４は、金属酸化物薄膜中のＮｂの含有量を変えている。表２に示すように、金属酸化物薄膜中のＮｂ含有量が５ｍｏｌ％である比較例３の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１６Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び耐環境性の評価結果は「Ａ」であった。一方、屈曲性評価における表面抵抗の上昇率が１．１％以上となり、不十分であった。

金属酸化物薄膜中のＮｂ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例４の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１３Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。耐環境性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、最表面での抵抗安定性評価における表面抵抗の変化率が１０％以上となり、不十分であった。

［比較例５］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（８ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

［比較例６］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

比較例５〜６は、金属酸化物薄膜中のＺｎの含有量を変えている。表２に示すように、金属酸化物薄膜中のＺｎ含有量が５ｍｏｌ％である比較例５の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１３Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。最表面での耐環境性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、最表面での抵抗安定性評価における表面抵抗の変化率が１０％以上となり、不十分であった。

また、金属酸化物薄膜中のＺｎ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例６の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１６Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、耐環境性評価における表面抵抗の上昇率が１０％以上となり、不十分であった。

［実施例１０］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（２９ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（４１ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

［実施例１１］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

［実施例１２］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（４１ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（２９ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表２に記載の組成比となるようにした。

実施例１０〜１２は、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜との組成が異なっている。表２に示すように、実施例１０において、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚで示される値が、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜とで異なっている。実施例１０では、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜のうち、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚで示される値が小さい第２の金属酸化物薄膜の方が、第１の金属酸化物薄膜よりも膜厚が厚くなっている。一方、実施例１１では、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜とが同じ膜厚となっている。また、実施例１２では、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜のうち、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚで示される値が小さい第２の金属酸化物薄膜の方が、第１の金属酸化物薄膜よりも膜厚が薄くなっている。

表２に示すように、実施例１０〜１２の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｎのいずれもが１０〜８０ｍｏｌ％の範囲にあった。そして、最表面での抵抗安定性、耐環境性、屈曲性の評価結果がいずれも「Ａ」であった。また、表面抵抗がいずれも約１６Ω／ｓｑ．であり、５０Ω／ｓｑ．より低く良好であった。一方、「ａ＊」及び「ｂ＊」の値は、実施例１０が最もゼロに近く、実施例１１、実施例１２の順に「ａ＊」及び「ｂ＊」の値が大きくなっていることが分かった。このことから、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚで計算される値が小さい第２の金属酸化物薄膜が、第１の金属酸化物薄膜よりも大きい膜厚を有することによって、色調変化が十分に抑制され、安定した色再現性が得られることが確認された。

［実施例１３］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例１４］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（２５ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例１５］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（４５ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例１６］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（１５ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例１７］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（５５ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

実施例１３〜１７は、第２の金属酸化物薄膜の厚みを変えている。表３に示すように、実施例１３〜１７の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｎのいずれも１０〜８０ｍｏｌ％の範囲にあり、最表面での抵抗安定性、耐環境性、屈曲性の評価結果がいずれも「Ａ」であった。また、表面抵抗がいずれも約１６Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。

第２の金属酸化物薄膜の膜厚が２０〜５０ｎｍの範囲にある実施例１３〜１５の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性が良好であった。これに対し、第２の金属酸化物薄膜の膜厚が上記範囲から逸脱している実施例１６〜１７の「ｂ＊」は＋１より大きくなっており、目視できるレベル以上の色調変化を呈していた。

［実施例１８］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（５ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例１９］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３４ｎｍ）、金属薄膜（１１ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３４ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例２０］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（４ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

［実施例２１］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３４ｎｍ）、金属薄膜（１２ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３４ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表３に記載の組成比となるようにした。

実施例１８〜２１は、金属薄膜の膜厚を変えている。表３に示すように、実施例１８〜２１の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｎのいずれも１０〜８０ｍｏｌ％の範囲にあり、最表面での抵抗安定性、耐環境性、屈曲性の評価結果はいずれも「Ａ」であった。

金属薄膜の膜厚が５〜１１ｎｍの範囲にある実施例１８〜１９は、表面抵抗がいずれも５０Ω／ｓｑより低く良好であった。一方、金属薄膜の膜厚が４ｎｍである実施例２０の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。ただし、表面抵抗は約１００Ω／ｓｑと高かった。

金属薄膜の膜厚が１２ｎｍである実施例２１の表面抵抗は約９Ω／ｓｑと低く良好であった。一方、「ａ＊」は−１より小さくなっており、視認できるレベル以上の色調変化を呈していた。

［比較例７］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

［比較例８］
第１の実施形態において、ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（８ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

比較例７〜８は、金属酸化物薄膜中のＴｉの含有量を変えている。表４に示すように、金属酸化物薄膜中のＴｉ含有量が５ｍｏｌ％である比較例７の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１６Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、耐環境性評価における表面抵抗の上昇率が１０％以上となり、不十分であった。

金属酸化物薄膜中のＴｉ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例８の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１３Ω／ｓｑで、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。また、最表面での抵抗安定性、及び耐環境性の評価結果は「Ａ」であった。一方、屈曲性評価における表面抵抗の上昇率が１．１％以上となり、不十分であった。

［比較例９］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

［比較例１０］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（６ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

比較例９〜１０は、金属酸化物薄膜中のＳｎの含有量を変えている。表４に示すように、金属酸化物薄膜中のＳｎ含有量が５ｍｏｌ％である比較例９は、「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１６Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。最表面での抵抗安定性、及び耐環境性の評価結果は「Ａ」であった。一方、屈曲性評価における表面抵抗の上昇率が１．１％以上となり、不十分であった。

金属酸化物薄膜中のＳｎ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例１０の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約２３Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。耐環境性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、最表面での抵抗安定性評価における表面抵抗の変化率が１０％以上となり、不十分であった。

［比較例１１］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（６ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

［比較例１２］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１と同様の構造を有する透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

比較例１１〜１２は、金属酸化物薄膜中のＺｎの含有量を変えている。表４に示すように、金属酸化物薄膜中のＺｎ含有量が５ｍｏｌ％である比較例１１の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約２３Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。最表面での耐環境性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、最表面での抵抗安定性評価における表面抵抗の変化率が１０％以上となり、不十分であった。

金属酸化物薄膜中のＺｎ含有量が８５ｍｏｌ％である比較例１２の「ａ＊」及び「ｂ＊」は−１〜＋１の範囲内にあり、色再現性は良好であった。表面抵抗は約１６Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。また、最表面での抵抗安定性、及び屈曲性の評価結果は「Ａ」であった。一方、耐環境性評価における表面抵抗の上昇率が１０％以上となり、不十分であった。

［実施例２２］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３０ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（４１ｎｍ）をこの順に積層して、図５に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

［実施例２３］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３５ｎｍ）をこの順に積層して、図１に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。

［実施例２４］
ＰＥＴフィルムの表面に第１の金属酸化物薄膜（４１ｎｍ）、金属薄膜（７ｎｍ）、第２の金属酸化物薄膜（３０ｎｍ）をこの順に積層して、図４に示すような透明導電性フィルムを作製した。第１及び第２の金属酸化物薄膜の組成比は、３種類のターゲットのパワーを調整することによって、表４に記載の組成比となるようにした。実施例２２〜２４は、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜との組成が異なっている。

表４に示すように、実施例２２において、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚで示される値が、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜とで異なっている。すなわち、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜のうち、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚで示される値が小さい第２の金属酸化物薄膜の方が、第１の金属酸化物薄膜よりも膜厚が厚くなっている。一方、実施例２３では、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜とが同じ膜厚となっている。実施例２４では、第１の金属酸化物薄膜と第２の金属酸化物薄膜のうち、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚで示される値が小さい第２の金属酸化物薄膜の方が、第１の金属酸化物薄膜よりも膜厚が薄くなっている。

表４に示すように、実施例２２〜２４の金属酸化物薄膜は、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｎのいずれも１０〜８０ｍｏｌ％の範囲にあり、最表面での抵抗安定性、耐環境性、屈曲性の評価結果はいずれも「Ａ」であった。また、表面抵抗がいずれも約１６Ω／ｓｑであり、５０Ω／ｓｑより低く良好であった。一方、「ａ＊」及び「ｂ＊」の平均値は、実施例２２が最もゼロに近く、実施例２３、実施例２４の順に「ａ＊」及び「ｂ＊」の平均値が大きくなっていることが分かった。２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚで計算される値が小さい第２の金属酸化物薄膜の方が、第１の金属酸化物薄膜よりも大きい膜厚を有することによって、色調変化が十分に抑制され、安定した色再現性が得られることが確認された。

［実施例２５］
以下の手順でタッチパネルを作製した。実施例１で作製した透明導電性フィルムの表面に、フェノール系ポジ型フォトレジスト（関東化学製：ＯＦＰＲ−８００ＬＢ）を用いて、図９のパターン５２の形状に対応するようにレジストパターンを形成した。その後、レジストパターンをマスクとし、透明導電性フィルムを２３℃に保持したエッチング液（富士技研工業製：クロマットＩＴ）に１分間浸漬した。これによって、マスクされていない部分の透明導電膜（第１の金属酸化物薄膜、金属薄膜、及び第２の金属酸化物薄膜）をエッチングして絶縁部を形成し、図７，８の透明導電膜６０で構成される第１のパターン５２を作製した。続いて、第１のパターン５２を形成する工程と同じ工程によって、図７，８の透明導電膜６０’で構成される第２のパターン５４を作製した。

続いて、作製した第１のパターン５２と第２のパターン５４に、Ｃｕ微粒子が分散されたペーストを用い、インクジェット法により図７，８の引き出し配線４８（図９の引き出し配線５８）を形成した。

続いて、第１のパターン透明導電性フィルムと第２のパターン透明導電性フィルムとを、光学接着剤を用い、図８及び図９に示すとおりに貼りあわせすることで、タッチパネルを作製した。

上記タッチパネルを、接着剤によって液晶パネルと貼り合わせ、表示画像の色調を目視で確認した。その結果、タッチパネルを貼り合わせる前後において、液晶パネルの表示色がほとんど変化せず、高い色再現性が実現されていることを確認した。

また、上記の方法により、４インチ、７インチ、１０インチ、１４インチのタッチパネルをそれぞれ作製した。これらのタッチパネルと、液晶パネル及び保護パネルとを貼り合わせし、指の接触に対する精度及び応答速度を評価した。その結果、どのサイズにおいても誤認識することなく、またほぼ同等の応答速度で接触位置が検出されていることを確認した。

本発明によれば、最表面にて安定した抵抗値を示し、高い屈曲性と高い耐環境性とを兼ね備える透明導電性フィルムを提供することができる。また、上記透明導電性フィルムを用いることによって、上述の特性に優れるタッチパネルを提供することができる。

１０ａ，１０ｂ，１０ｃ…透明導電性フィルム、１２，１２’…透明基体、１３…機能性樹脂層、１４…密着層、１５、１５’…第１の金属酸化物薄膜、１６，１６’…金属薄膜、１８，１８’…第２の金属酸化物薄膜、２０ａ，２０ｂ…透明導電性フィルム、３０…透明導電性フィルム、３２…透明導電部、３４…絶縁部、４０ａ，４０ｂ，５０…タッチパネル、４２…透明接着剤層、４４…第１の透明導電性フィルム、４６…第２の透明導電性フィルム、４８，５８…引き出し配線、５２…Ｘ透明配線（パターン）、５４…Ｙ透明配線（パターン）。

Claims (5)

1. 透明基体と、該透明基体の上に透明導電膜と、を備える透明導電性フィルムであって、
   前記透明導電膜は、金属薄膜と当該金属薄膜を挟持する一対の金属酸化物薄膜とを有する３層構造を備えており、
   前記一対の金属酸化物薄膜に含まれる金属元素は主としてＴｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎであり、
   Ｔｉ、Ｎｂ又はＳｎ、及びＺｎのそれぞれの含有率は、これらの合計を基準として１０〜８０ｍｏｌ％である透明導電性フィルム。
2. 前記一対の金属酸化物薄膜に含まれる前記金属元素は主としてＴｉ、Ｎｂ及びＺｎであり、
   前記一対の金属酸化物薄膜のうち、Ｔｉの含有率をＸ、Ｎｂの含有率をＹ、及びＺｎの含有率をＺとしたとき、２６Ｘ＋２３Ｙ＋２１Ｚの値の小さい方が大きい膜厚を有する、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
3. 前記一対の該金属酸化物薄膜に含まれる前記金属元素は主としてＴｉ、Ｓｎ及びＺｎであり、
   前記一対の金属酸化物薄膜のうち、Ｔｉの含有率をＸ、Ｓｎの含有率をＷ、Ｚｎの含有率をＺとしたとき、２６Ｘ＋１９Ｗ＋２１Ｚの値の小さい方が大きい膜厚を有する、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
4. 前記金属薄膜の膜厚は５〜１１ｎｍであり、前記一対の金属酸化物薄膜の膜厚はそれぞれ２０〜５０ｎｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムを備えるタッチパネル。

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