JP5840847B2 - ガラス基板表面清掃方法及び清掃ベルト - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板を分断する分断装置において発生するガラス基板上に付着した異物（主として、ガラスカレット）のガラス基板表面清掃装置及びガラス基板表面清掃方法に関するもので、特に液晶パネルの製造工程において、偏光板の貼り付け工程前に液晶パネルを構成するガラス基板表面清掃装置、方法に関するものある。

ガラス基板を分断する基板分断装置に付随するガラス基板上に付着した異物（主として、ガラスカレット）の清掃装置、方法としては、現在、ガラス基板に真空吸引手段を用いた装置、方法もしくは研磨材を用いた装置、方法等が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２）。

特開２００８−９４６９０号公報 特開２００５−８１２９７号公報

本発明の解決しようとする課題は、ガラス基板上に存在する異物（主としてガラスカレット）の各種サイズ（例えば、１０μｍから１０００μｍの範囲）に適宜対応しうる清掃機能を有するガラス基板表面清掃装置、方法を提供することにある。

本発明の一態様は、ガラス基板支持搬送機構を用いて第一の方向にガラス基板を搬送する工程と、前記ガラス基板の表面に付着した異物を除去するためにガラス基板清掃機構が有する清掃ベルトを、前記ガラス基板の表面上で前記第一の方向に対し交差する第二の方向に摺動させる工程を含み、前記清掃ベルトが、その表面に複数の三次元構造研磨材塗膜とそれら三次元構造研磨材塗膜の間の溝とを有する、ガラス基板表面清掃方法であって、同一製造ロットの複数のガラス基板について、それらガラス基板の表面に付着した異物の外形幅寸法を調査する工程と、調査した前記異物の外形幅寸法に基づき、前記製造ロットにおける前記異物の外形幅寸法の最大値を予測する工程と、前記溝の溝幅が、予測した前記異物の外形幅寸法の最大値以上である前記清掃ベルトを用意する工程と、を含むことを特徴とするガラス基板表面清掃方法である。
本発明の別の態様は、上記ガラス基板表面清掃方法に使用される清掃ベルトである。

この発明にかかるガラス基板表面清掃方法によれば、ガラス基板上の広範なサイズの異物（主としてガラスカレット）を、適宜効率的にかつ確実に除去することができる。

図１は、本発明にかかるガラス基板表面清掃装置の全体構成を示す斜視図である。 図２は、本発明にかかるガラス基板表面清掃装置の全体構成を示す正面図である。 図３は、本発明にかかるガラス基板表面清掃装置のガラス基板の搬送方向（第一の方向、Ｍ）と清掃ベルトの摺動方向（第二の方向、Ｎ）との関係を示す平面図である。 図４は、本発明にかかるガラス基板表面清掃装置が具備した清掃ベルトの表面に設けられた構造化された複数の三次元構造研磨材塗膜を有した三次元構造研磨材層の一部を示す平面図である。 図５は、図４における切断線Ｘ−Ｘに沿った横断面図である。 図６は、清掃ベルトの三次元構造研磨材層に設けられた溝の溝幅がガラス基板表面に付着した異物（ガラスカレット）の外形幅寸法より広い場合の異物と溝との作用関係を示す模式断面図である。 図７は、清掃ベルトの三次元構造研磨材層に設けられた溝の溝幅がガラス基板表面に付着した異物（ガラスカレット）の外形幅寸法より狭い場合の異物と溝との作用関係を示す模式断面図である。

次に本発明の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で当業者の通常の知識に基づいて適宜設計の変更、改良等が加えることができると理解されるべきである。
本発明に関連するガラス基板表面清掃装置の一実施形態は、ガラス基板５０を支持し、第一の方向（図３中Ｍ）に前記ガラス基板を搬送するためのガラス基板支持搬送機構２０と、前記第一の方向に対し交差する第二の方向（図３中Ｎ）に前記ガラス基板の表面上で摺動させて、前記ガラス基板表面に付着した異物３００を除去するための清掃ベルト１１を有するガラス基板清掃機構１０とを有するガラス基板表面清掃装置１００であって、前記清掃ベルト１１が、当該表面に複数の三次元構造研磨材塗膜７０と、当該塗膜間に位置する溝６０とを有し、前記溝６０の溝幅６２が前記ガラス基板表面に付着した異物３００の外形幅寸法より広いガラス基板表面清掃装置１００である。
ここに、「清掃」とは、ガラス基板上の異物（主としてガラスカレット）を除去することを意味する。「異物の外形幅寸法」とは、清掃ベルトをガラス基板上で摺動させる第二の方向（図３中Ｎ）における異物の最大外周幅を意味する。「溝」とは、三次元構造研磨材塗膜とそれに隣り合う他の三次元構造研磨材塗膜間に構成される隙間を意味する。「溝幅」とは、三次元構造研磨材塗膜の上部７２とそれに隣り合う他の三次元構造研磨材塗膜の上部７２との間隔を意味する。ガラスカレットとは、ガラス製品を破砕、切断等した際に生じるガラス屑を意味する。

図１、図２は、例えば、特開２００５−８１２９７号公報に記載されている液晶パネルの製造工程における偏光板の貼り付け工程前に液晶パネルを構成するガラス基板の表面を清掃するに供する本発明の清掃装置を示したものである。図１において、ガラス基板表面清掃装置１００は、ガラス基板支持搬送機構２０とガラス基板清掃機構１０とを備えている。ガラス基板支持搬送装置２０は、ガラス基板を下方面側から支持し、ガラス基板を第一の方向（図３中Ｍ）に搬送するための搬入ローラシャフト２１と搬出ローラシャフト２２及びガイド２３を有する。ガラス基板清掃機構１０は、基板支持搬送装置２０のほぼ中央上方に設けられ、無縁軌道を有する清掃ベルト１１と、当該清掃ベルトに所定のテンションを与えながら回転させる為の従動ガイドプーリ１３，１４，１５と駆動ガイドプーリ１２を有して構成されている。駆動ガイドプーリは、駆動ガイドプーリに駆動力を与えるべく駆動モータ１８に連結されている。また、清掃ベルト１１は、ガラス基板の搬送方向（第一の方向、図３中Ｍ）に対して、交差する方向（第二の方向、図３中Ｎ）に配置されている。

図２に示すように、摺動時に清掃ベルト１１はガラス基板５０上面に接して配置されており、また清掃ベルト直上には清掃ベルトにガラス基板への押付力を付加すべく荷重負荷装置３０が配置されている。荷重負荷装置３０としては、エアブロアタイプ、水圧タイプ等必要に応じていずれのものも用いることができる。荷重負荷は、０．０１ｋｇ／ｃｍ^２から３ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で調整できる。

図３は、上記ガラス基板清掃装置においてガラスの搬送方向（第一の方向、図３中Ｍ）と清掃ベルトの摺動方向（第二の方向）との関係を示したものである。図３に示すように清掃ベルトのガラス基板上での摺動方向（第二の方向、図３中Ｎ）は、ガラス基板の搬送方向（第一の方向、図３中Ｍ）に対して交差する方向に設けられている。このように清掃ベルトを交差して配置するのは、ガラス基板に対し摺動面を広くとれ、またガラス基板の清掃ベルトへの突入時における衝撃を緩和させる為である。当該交差角度θ（図３）は、具体的には、約７０°〜８５°、もしくは、９５°〜１１０°程度に設けられている。

ベルト摺動速度、ガラス基板搬送速度は、ガラス基板の生産性、異物除去の程度を考慮して決められる。具体的には、ガラス基板の第二の方向（図３中Ｎ）のベルト摺動速度は、通常毎分１０ｍから５００ｍの範囲で調整でき、ガラス基板の第一の方向（図３中Ｍ）の搬送速度は、通常毎分０．１ｍから１０ｍの範囲で調整できる。摺動速度／搬送速度の比の値は、通常、２から１００である。よって、当該ガラス基板表面清掃装置において、異物除去は、主として第二の方向（図３中Ｎ）の清掃ベルトの摺動によりなされることになる。

図４、５は、本発明の一実施態様として、ガラス基板清掃機構１０に用いられる清掃ベルト１１を示したものである。図４、５に示すように、本発明において用いられる清掃ベルト１１は、表面に複数の三次元構造研磨材塗膜７０と当該複数の三次元構造研磨材塗膜間に構成される溝６０を有する研磨材層８０と表面の背面側に研磨層を保持するバッキング層９０から構成される。

研磨材層は、前記したようにバッキング層９０の上面に搭載された三次元構造研磨材塗膜７０と溝から構成されている。

三次元構造研磨材塗膜７０の幾何学的形状は、立方体状、角柱状、円柱状、円錐状、角錐状、切頭角錐（角錐台）状、切頭円錐（円錐台）状などからなる群から選択される。これらの中で、好ましいのは、平坦な上面を有する切頭角錐・切頭円錐の形態を有したものである。切頭角錐・切頭円錐であれば、三次元研磨材塗膜の上面がガラス基板と面接触しガラス基板上に付着する異物除去が促進されるからである。
当該切頭角錐・切頭円錐の三次元構造研磨材塗膜７０は、通常、精密成型により形成される。ここで、「精密成型」とは、国際公開第ＷＯ９８／３９１４２号に記載されているものと同じ意味であり、砥粒を含むバインダー前駆物質をバッキング層９０上に製造ツールを用いて成型し、その後、バインダー前駆物質を硬化させて、三次元形状体を形成することをいう。

このように精密成型された各切頭角錐の上部７２の面積は、０．２ｍｍ^２から２０ｍｍ^２、好ましくは、１ｍｍ^２から１０ｍｍ^２である。当該切頭角錐の下部７４は、上部より最大６０％、より好ましくは最大４０％、もっとも好ましくは最大２０％大きい表面を有する。また、切頭角錐・円錐の高さ（図５中H）は、０．２ｍｍから５ｍｍ、より好ましくは、０．３ｍｍから３ｍｍである。これら三次元研磨材塗膜７０の形態は、最終的には、除去する異物の状態、すなわち異物の大きさ、基板への付着強度等を考慮して決められる。

上記複数の三次元研磨材塗膜７０は、バッキング層９０の上面に通常第二の方向（図３中Ｎ）に等間隔で格子状、千鳥状等の規則性を持って整然と配置される。このように配置を、国際公開第ＷＯ９８／３９１４２号に記載されているものと同じ意味で「構造」と称するのでそれに対応して本明細書では、研磨材層、研磨材塗膜を三次元「構造」研磨材層、三次元「構造」研磨材塗膜と呼ぶ。
清掃ベルト１１の構成材料はバッキング層９０と三次元構造研磨材層８０からなり、三次元構造研磨材層８０は砥粒とバインダーから成る。

バッキング層９０は、清掃ベルトが長持ちし、異物除去（主としてガラスカレット）３００が、ベルト全幅にわたって均一に行い得るように強度があり耐久性がある必要がある。清掃ベルト１１がガラス基板に均一に合致し、もしくは、密着することができるように、強度があり可撓性、柔軟性が必要である。バッキング層の材料としては、ポリマーフィルム、紙、布、金属フィルム、バルカナイズドファイバー、及びこれらの積層体、処理品等を用いることができる。ポリマーフィルムの例は、ポリエステルフィルム、コポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム等である。紙の例は、強度向上のため、樹脂を含浸させたもの等である。布の例としては、樹脂繊維、綿繊維、ガラス繊維、及びこれらを組み合わせた繊維等から選択された繊維を用い、織布またはニット等をもちいることができる。尚、ポリマーフィルムについては、三次元構造研磨材塗膜の基材に対する接着を促進するためにエチレンアクリル酸共重合体のような材料で下塗りしてもよい。

三次元構造研磨材層８０はバインダーのマトリックスとその中に分散させた砥粒とを含む研磨材コンポジットを構成成分として有している。

砥粒の寸法はガラス表面に深い傷を発生させないよう、細かいことが好ましい。例えば、その寸法は、平均粒径０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０１〜５μｍさらに好ましくは０．０１〜３μｍである。本発明に適する砥粒の例には、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、酸化セリウム、溶融酸化アルミニウム、熱処理酸化アルミニウム、ゾルゲル酸化アルミニウム、シリコンカーバイド、酸化クロム、シリカ、ジルコニア、アルミナジルコニア、酸化鉄、ガーネット、炭酸カルシウムおよびこれらの混合物が含まれる。特に好ましいものは、モース硬度６以上のダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、酸化アルミニウム、シリコンカーバイド、酸化セリウム、シリカである。

バインダーは硬化またはゲル化することにより研磨材層を形成する。本発明に好ましいバインダーの例には、フェノール樹脂、レゾール−フェノール樹脂、アミノプラスト樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、メラミン樹脂、アクリレート化イソシアヌレート樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、イソシアヌレート樹脂、アクリレート化ウレタン樹脂、アクリレート化エポキシ樹脂およびこれらの混合物が含まれる。バインダーは熱可塑性樹脂でもよい。

特に好ましいものは、フェノール樹脂、レゾール−フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂である。

バインダーは照射硬化性であってもよい。照射硬化性結合剤は照射エネルギーにより少なくとも部分的に硬化されるか、または少なくとも部分的に重合されうるいずれかのバインダーである。用いられるバインダーに依存して、熱、赤外線、電子線、紫外線照射または可視光照射のようなエネルギー源が用いられる。

典型的には、これらのバインダーはフリーラジカル機構により重合される。好ましくは、これらは、アクリレート化ウレタン、アクリレート化エポキシ、α，β−不飽和カルボニル基を有するアミノプラスト誘導体、エチレン性不飽和化合物、少なくとも１個のアクリレート基を有するイソシアヌレート誘導体、少なくとも１個のアクリレート基を有するイソシアネート、およびこれらの混合物からなる群から選択される。

バインダーが紫外線照射により硬化される場合は、フリーラジカル重合を開始させるために光開始剤を必要とする。この目的に好ましい光開始剤の例には、有機パーオキシド、アゾ化合物、キノン、ベンゾフェノン、ニトロソ化合物、アクリルハライド、ヒドラゾン、メルカプト化合物、ピリリウム化合物、トリアクリルイミダゾール、ビスイミダゾール、クロロアルキルトリアジン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール、チオキサントンおよびアセトフェノン誘導体が含まれる。好ましい光開始剤は２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニル−１−エタノン、２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オンである。

バインダーが可視光照射で硬化される場合は、光開始剤はフリーラジカル重合を開始させることが必要とされる。この目的のために好ましい光開始剤の例は、ここに参照として挙げる米国特許第４，７３５，６３２号、第３欄、第２５行から第４欄第１０行、第５欄第１〜７行、第６欄第１〜３５行に記載されている。

研磨材コンポジットは、未硬化または未ゲル化状態のバインダー中に分散された複数の砥粒を含有するスラリーから形成される。硬化またはゲル化において、研磨材コンポジットは固形化、すなわち予め定められた形状および予め定められた構造に固定される。

研磨材コンポジットにおける砥粒のバインダーに対する混合比は、一般に、バインダー１００質量部に対して約５０〜１０００質量部の砥粒、好ましくはバインダー１００質量部に対して約１００〜７００質量部の砥粒の範囲である。この割合は砥粒の種類とサイズおよび用いるバインダーの種類に依存して変化する。

研磨コンポジットは砥粒およびバインダー以外の材料を含んでよい。例えば、カップリング剤、湿潤剤、染料、顔料、可塑剤、フィラー、剥離剤、研磨補助剤およびこれらの混合物のような通常の添加剤である。

研磨コンポジットはカップリング剤を含むことができる。カップリング剤を添加することにより、研磨コンポジットを形成するために用いるスラリーの粘度を低下させうる。本発明に好ましいこのようなカップリング剤の例には、有機シラン、ジルコアルミネートおよびチタネートが含まれる。カップリング剤の量は、一般に、砥粒の５質量％未満、好ましくは２質量％未満である。

清掃ベルト１１の三次元構造研磨材層８０の溝６０は、複数の三次元構造研磨材塗膜７０間に形成されており、溝の形状は、バッキング層９０の上面に搭載され構造化された三次元構造研磨材塗膜７０の外周そのものとなる。よって、溝の深さは、切頭角錐の高さと同じ、０．２ｍｍから５ｍｍであり、好ましくは、０．３ｍｍから３ｍｍである。また、溝の幅は、０．３ｍｍ以上、好ましくは０．５ｍｍ以上、さらに好ましくは１ｍｍ以上である。

発明にかかる清掃装置の清掃ベルトの溝寸法は、除去すべき異物（主としてガラスカレット）の寸法を考慮して決められる。図６、図７は、清掃装置の稼働時の異物（ガラスカレット）と清掃ベルトの溝６０との関係を模式的に示したものである。図６に示すような溝幅がガラス基板表面に付着した異物（ガラスカレット）の外形幅寸法より広い場合、最初、ガラス基板上の異物（ガラスカレット）３００の上部が研磨材層の構造化された複数の三次元構造研磨材塗膜７０の上部７２と接触しているに過ぎない（図６（ａ）参照）が、清掃ベルトがガラス基材上を摺動することで、清掃ベルト１１の良好な可撓性に起因して異物（ガラスカレット）３００は、溝内に包含され、溝に嵌合することになる（図６（ｂ）参照）。ここで、「異物が溝に嵌合する」とは、異物の少なくとも上部の一部が三次元構造研磨材塗膜間に構成される溝内に包含され、ベルトの摺動により三次元構造研磨材塗膜より第二の方向（図３中Ｎ）に剪断力を受け得るようになる状態を言う。

その後、溝内の異物（ガラスカレット）は、溝の側壁、すなわち良好な形状維持性を有する三次元研磨材塗膜７０の側壁に衝突し（図６（ｃ）参照）、最終的に異物（ガラスカレット）は、ガラス基板上から剥ぎ取られ溝内を移動して除去される（図６（ｄ）参照）ことになる。

一方、図７に示すような溝幅がガラス基板表面に付着した異物（ガラスカレット）３００の外形幅寸法より狭い場合、最初、ガラス基板上の異物（ガラスカレット）の上部が研磨層の三次元構造研磨材塗膜７０の上部７２と接触している状態から、その後、清掃ベルトが摺動することで、異物（ガラスカレット）が、溝に到達しても、溝内に包含されることなく、研磨複合体の上部を滑るだけで、異物（ガラスカレット）は、ガラス基板上から剥ぎ取られることはなく、ガラス基板上に残留することになる。

具体的ガラス基板表面清掃方法の一例は、次のようになる。本発明にかかるガラス基板表面清掃装置は、次の手順で操作される。
（１）最初に、ガラス基板５０の同一製造ロットからガラス基板上の異物発生状況検査の為、サンプリングを行い、サンプルについて、異物の存在個数、異物の外形寸法を調査し、異物に関する情報を得る。
ここで、異物発生状況検査としては、光学顕微鏡による検査、画像処理装置を用いての検査等で行うことができる。
（２）清掃ベルトの摺動方向（第二の方向）における異物の外形幅寸法の製造ロットにおける最大値を予測し、その値以上の溝幅を有する清掃ベルトを選択し、清掃装置に装着する。
（３）一番目のガラス基板を搬送装置上に配置した後、ガラス基板表面清掃の作業効率等を考慮して、搬送方向（第一の方向、図３中Ｍ）に対する清掃ベルトの摺動方向（第二の方向、図３中Ｎ）の交差条件を決める。
（４）清掃ベルトをガラス基板の長手方向端部に、密着させた後、ガラス基板を搬送方向（第一の方向、図３中Ｍ）に搬送するとともに、清掃ベルトを摺動方向（第二の方向、図３中Ｎ）に摺動させる。
（５）一番目のガラス基板のガラス基板表面の清掃終了後、二番目以降のガラス基板を搬送装置上に配置し、以下（３）（４）の工程を繰り返す。

次に、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。

（１）試験サンプル準備
１）実施例１、２
本発明にかかるガラス基板表面清掃方法用いるに適した三次元構造研磨材層を有する清掃ベルトを以下の方法で作製した。

表１の配合の研磨材塗液をナイフコーターにより高さ約０．５ｍｍ、１辺の長さ約２ｍｍの正方形の上部を有する切頭四角錐（四角錐台）の表面形状を有し、切頭四角錐（四角錐台）間の距離が約１．６ｍｍのパターンを形成するためのポリプロピレン製の賦形フィルム（２ＭＭ−３０−５００）上に塗布し、その上に裏面に炭酸カルシウム粒子とウレタン樹脂を含む滑り防止コーティングを有する厚さ１２５μｍの易接着処理ポリエステルフィルムをラミネートし紫外線を照射して接着剤を硬化させ、研磨フィルムと賦形フィルムとを分離した。この研磨フィルムを１１０℃で２４時間加熱処理した後、室温に冷却して研磨フィルムを作製した。尚、易接着処理としては、エチレンアクリル酸共重合体で下塗りしたものである。

２）実施例３、比較例１
住友スリーエム株式会社製 トライザクト（登録商標）ラッピングフィルム ５ミル ３ミクロン 酸化アルミニウム タイプ２

この研磨材は実施例１と同一のフィルム基材上に高さ約０．３５ｍｍ、１辺の長さ約１．３ｍｍの正方形の上面を有する切頭四角錐（四角錐台）の表面形状の研磨材層を有し、切頭四角錐（四角錐台）の距離が約０．５ｍｍであって平均粒径３μｍの酸化アルミニウムを砥粒として含む。
（２）評価試験方法と評価試験結果
１）ガラス基板を用意し、その上で同一のガラス板２枚のエッジ同士を擦らせてガラスカレットを発生させてガラス基板の上に落とし、しばらく放置して付着させた。ガラス基板を、ガラス基板に付着したガラスカレットの寸法（外形幅寸法）が１．５ｍｍ以下で０．５ｍｍ以上の群と０．５ｍｍ未満の群に分類して、試験に供した。

２）実施例１、２，３及び比較例１の研磨フィルムを幅約３０ｍｍ、長さ２０８０ｍｍのエンドレスベルトに加工し、清掃ベルトを作製した。この清掃ベルトを清掃装置に装着し、交差角度θ（図３）を、８０°設定し、ベルト摺動速度は、１００ｍ／分の速度で走行させ、その下方にカレットを付着させた表面が研磨材表面に当たるようにガラス基板を搬送速度約６ｍ／分で通過させた。このときベルトの背面から圧力約０．１ＭＰａで水を供給してベルトに荷重をかけ研磨材表面をガラス基板の表面に押し当て、ガラス基板の表面にさらに水を供給してカレットを付着させた表面を清掃した。清掃後のガラス表面のカレットの残存の程度を表２に示した。

１０ ガラス基板清掃機構
１１ 清掃ベルト
１２ 駆動ガイドプーリ
１３、１４，１５ 従動ガイドプーリ
１８ 駆動モータ
２０ ガラス基板支持搬送機構
２１ 搬入ローラシャフト
２２ 搬出ローラシャフト
２３ ガイド
３０ 荷重付加装置
５０ ガラス基板
６０ 溝
６２ 溝幅
７０ 三次元構造研磨材塗膜
７２ （三次元構造研磨材塗膜の）上部
７４ （三次元構造研磨材塗膜の）下部
８０ 三次元構造研磨材層
９０ バッキング層
１００ ガラス基板表面清掃装置
３００ 異物（主としてガラスカレット）

Claims (2)

1. ガラス基板支持搬送機構を用いて第一の方向にガラス基板を搬送する工程と、前記ガラス基板の表面に付着した異物を除去するためにガラス基板清掃機構が有する清掃ベルトを、前記ガラス基板の表面上で前記第一の方向に対し交差する第二の方向に摺動させる工程とを含み、前記清掃ベルトが、その表面に複数の三次元構造研磨材塗膜とそれら三次元構造研磨材塗膜の間の溝とを有する、ガラス基板表面清掃方法であって、
   同一製造ロットの複数のガラス基板について、それらガラス基板の表面に付着した異物の外形幅寸法を調査する工程と、
   調査した前記異物の外形幅寸法に基づき、前記製造ロットにおける前記異物の外形幅寸法の最大値を予測する工程と、
   前記溝の溝幅が、予測した前記異物の外形幅寸法の最大値以上である前記清掃ベルトを用意する工程と、
   を含むことを特徴とするガラス基板表面清掃方法。
2. 請求項１に記載のガラス基板表面清掃方法に使用される清掃ベルト。