JP5821205B2 - 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真 - Google Patents

Description

本発明は、光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真に関する。詳しくは、凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置されてなる光学素子に関する。

従来より、ガラス、プラスチックなどの透光性基板を用いた光学素子においては、光の表面反射を抑えるための表面処理が行われているものがある。この種の表面処理として、光学素子表面に微細かつ緻密な凹凸（モスアイ；蛾の目）を形成するものがある（例えば非特許文献１参照）。

一般に、光学素子表面に周期的な凹凸形状を設けた場合、ここを光が透過するときには回折が発生し、透過光の直進成分が大幅に減少する。しかし、凹凸形状のピッチが透過する光の波長よりも短い場合には回折は発生せず、凹凸形状のピッチや深さなどに対応する単一波長の光に対して有効な反射防止効果を得ることができる。このような凹凸形状を形成するモスアイ構造体としては、釣鐘形状や楕円錐台形状などの種々の形状を有するものが提案されている（例えば特許文献１参照）。

「光技術コンタクト」 Vol.43, No.11 (2005), 630-637参照

国際公開第０８／０２３８１６号パンフレット

上述したようなモスアイ構造体は、表面に微細な凹凸をつけることにより屈折率を段階的に変化させ、反射を抑制するという原理を用いているため、指紋が構造体に付着した場合に、その汚れを乾拭きにより除去できるようにすることが望まれている。指紋に含まれる油分などの汚れによりモスアイ構造体間の凹部が埋まってしまうと、反射を抑制することができないからである。

モスアイ構造体に指紋が付着すると、指紋の模様のとおりに汚れが付着し、その後、付着した汚れが毛細管現象によって構造体間に染み込んでいく。このような状態にある表面を乾拭きしても、構造体間から汚れを取り出すこと難しい。

構造体の表面をフッ素等の低表面エネルギーの物質でコーティングすることで、構造体間への染み込みは多少抑制されるが、構造体間に染み込んだ汚れを乾拭きにより拭き取ることは困難である。これは乾拭きに使用する繊維よりも、構造体間の凹部の方が細いため、繊維が汚れを吸い取る力よりも、汚れが構造体間の凹部に留まる力の方が強いからである。

したがって、本発明の目的は、表面に付着した指紋などの汚れを拭き取ることができる光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真を提供することにある。

本発明者らは、従来技術が有する上述の課題を解決すべく、鋭意検討を行った。その結果、構造体を形成する材料の弾性率を１２００ＭＰａ以下とし、構造体に弾力性を持たせることで、拭き取り時に構造体を変形させ、構造体間に染み込んだ指紋などの汚れを押し出し拭き取ることができることを見出すに至った。
しかしながら、本発明者らの知見によれば、上述のように構造体に弾力性を持たせると、表面がべたついてしまうため、光学素子の表面の動摩擦係数が高く、隣接する構造体同士がくっ付いてしまい、反射特性が低下してしまうことがある。そこで、本発明者らは、このような反射特性の低下を抑制すべく鋭意検討を行った結果、光学素子の表面の動摩擦係数を０．８５以下し、表面のべたつきを抑制することで、隣接する構造体同士のくっ付きを抑え、反射特性の低下を抑制することができることを見出すに至った。
本発明は上述の検討により案出されたものである。

第１の発明は、
表面を有する基体と、
基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体と
を備え、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比（構造体の高さ／構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子である。

第２の発明は、
可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体を備え、
隣り合う構造体の下部同士が繋がっており、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比（構造体の高さ／構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子である。

第３の発明は、
原盤に対してエネルギー線硬化性樹脂組成物を密着させ、エネルギー線硬化性樹脂組成物に対してエネルギー線を照射して硬化する工程と、
硬化したエネルギー線硬化性樹脂組成物を原盤から剥離することにより、可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体を基体の表面に形成する工程と
を備え、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比（構造体の高さ／構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子の製造方法である。

第４の発明は、
原盤に対してエネルギー線硬化性樹脂組成物を密着させ、エネルギー線硬化性樹脂組成物に対してエネルギー線を照射して硬化する工程と、
硬化したエネルギー線硬化性樹脂組成物を原盤から剥離することにより、可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された複数の構造体を形成する工程と
を備え、
隣り合う構造体の下部同士が繋がっており、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比（構造体の高さ／構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子の製造方法である。

光学素子は、反射防止機能を有する光学素子であり、表示装置、情報入力装置、撮像装置、光学系などに適用して好適なものである。

本発明において、楕円、円（真円）、球体、楕円体などの形状には、数学的に定義される完全な楕円、円、球体、楕円体のみならず、多少の歪みが付与された楕円、円、球体、楕円体などの形状も含まれる。

本発明において、構造体は、凸状または凹状を有し、所定の格子状に配置されていることが好ましい。格子状としては、四方格子状もしくは準四方格子状、または六方格子状もしくは準六方格子状を用いることが好ましい。

本発明において、同一トラック内における構造体の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における構造体の配置ピッチＰ２よりも長いことが好ましい。このようにすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

本発明において、各構造体が、基体表面において六方格子パターン、または準六方格子パターンを形成している場合には、同一トラック内における構造体の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体の配置ピッチをＰ２としたとき、比率Ｐ１／Ｐ２が、１．００≦Ｐ１／Ｐ２≦１．１、または１．００＜Ｐ１／Ｐ２≦１．１の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

本発明において、各構造体が、基体表面において六方格子パターン、または準六方格子パターンを形成している場合には、各構造体は、トラックの延在方向に長軸方向を有し、中央部の傾きが先端部および底部の傾きよりも急峻に形成された楕円錐または楕円錐台形状であることが好ましい。このような形状にすることで、反射防止特性および透過特性を向上することができる。

本発明において、各構造体が、基体表面において六方格子パターン、または準六方格子パターンを形成している場合には、トラックの延在方向における構造体の高さまたは深さは、トラックの列方向における構造体の高さまたは深さよりも小さいことが好ましい。このような関係を満たさない場合には、トラックの延在方向の配置ピッチを長くする必要が生じるため、トラックの延在方向における構造体の充填率が低下する。このように充填率が低下すると、反射特性の低下を招くことになる。

本発明において、構造体が、基体表面において四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している場合には、同一トラック内における構造体の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における構造体の配置ピッチＰ２よりも長いことが好ましい。このようにすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

構造体が、基体表面において四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している場合には、同一トラック内における構造体の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体の配置ピッチをＰ２としたとき、比率Ｐ１／Ｐ２が、１．４＜Ｐ１／Ｐ２≦１．５の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

構造体が、基体表面において四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している場合には、各構造体は、トラックの延在方向に長軸方向を有し、中央部の傾きが先端部および底部の傾きよりも急峻に形成された楕円錐または楕円錐台形状であることが好ましい。このような形状にすることで、反射防止特性および透過特性を向上することができる。

構造体が、基体表面において四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している場合には、トラックに対して４５度方向または約４５度方向における構造体の高さまたは深さは、トラックの列方向における構造体の高さまたは深さよりも小さいことが好ましい。このような関係を満たさない場合には、トラックに対して４５度方向または約４５度方向における配置ピッチを長くする必要が生じるため、トラックに対して４５度方向または約４５度方向における構造体の充填率が低下する。このように充填率が低下すると、反射特性の低下を招くことになる。

本発明において、微細ピッチで基体表面に多数配設けられた構造体が、複数列のトラックをなしていると共に、隣接する３列のトラック間において、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしていることが好ましい。これにより、表面における構造体の充填密度を高くすることができ、これにより可視光の反射防止効率を高め、反射防止特性に優れた、透過率の高い光学素子を得ることができる。

本発明において、光ディスクの原盤作製プロセスとエッチングプロセスとを融合した方法を用いて光学素子を作製することが好ましい。光学素子作製用原盤を短時間で効率良く製造することができるとともに基体の大型化にも対応でき、これにより、光学素子の生産性の向上を図ることができる。また、構造体の微細配列を光入射面だけでなく光出射面にも設けた場合には、透過特性をより一層向上させることができる。

本発明では、可視光の波長以下の微細ピッチで複数の構造体を配置しているので、可視光の反射を抑制することができる。
構造体を形成する材料の弾性率を１ＭＰａ以上としているので、隣接する構造体同士の付着による反射特性の低下を抑制できるとともに、構造体を形成する材料の弾性率を１２００ＭＰａ以下としているので、構造体間に染み込んだ汚れなどを押し出し、拭き取ることができる。
構造体のアスペクト比を０．６以上としているので、反射特性および透過特性の低下を抑制できるとともに、構造体のアスペクト比を５以下としているので、構造体の転写性の低下を抑制することができる。
光学素子の表面の動摩擦係数を０．８５以下としているので、隣接する構造体同士の付着による反射特性の低下を抑制できる。

以上説明したように、本発明によれば、表面に付着した指紋などの汚れを拭き取ることができる。また、隣接する構造体同士の付着を抑え、反射特性の低下を抑制することができる。

図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｃは、図１ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図１Ｄは、図１ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。 図２Ａ〜図２Ｄは、光学素子の構造体の形状例を示す斜視図である。 図３Ａ〜図３Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の作用を説明するための模式図である。 図４Ａは、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。図４Ｃは、図４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図４Ｄは、図４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。 図５は、ロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。 図６Ａ〜図６Ｄは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図７Ａ〜図７Ｄは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図８Ａは、本発明の第２の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図８Ｂは、図８Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図８Ｃは、図８ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図８Ｄは、図８ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。 図９Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図９Ｂは、図９Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図９Ｃは、図９Ａに示したＡ−Ａ線に沿った断面図である。 図１０Ａは、本発明の第４の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１０Ｂは、図１０Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図１０Ｃは、図１０ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図１０Ｄは、図１０ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。 図１１Ａは、本発明の第５の実施形態に係る光学素子の構成の第１の例を示す断面図である。図１１Ｂは、本発明の第５の実施形態に係る光学素子の構成の第２の例を示す断面図である。図１１Ｃは、本発明の第５の実施形態に係る光学素子の構成の第３の例を示す断面図である。 図１２Ａ〜図１２Ｃは、柔軟性光学素子の作用を説明するための模式図である。 図１３Ａ〜図１３Ｃは、非柔軟性光学素子の作用を説明するための模式図である。 図１４Ａは、本発明の第６の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１４Ｂは、本発明の第６の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す断面図である。 図１５は、本発明の第７の実施形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す断面図である。 図１６は、本発明の第８の実施形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す断面図である。 図１７Ａは、本発明の第９の実施形態に係る情報入力装置を備える表示装置の構成の一例を示す分解斜視図である。図１７Ｂは、本発明の第９の実施形態に係る情報入力装置の構成の一例を示す断面図である。 図１８Ａは、本発明の第１０の実施形態に係る情報入力装置を備える表示装置の構成の一例を示す分解斜視図である。図１８Ｂは、本発明の第１０の実施形態に係る情報入力装置の構成の一例を示す断面図である。 図１９は、本発明の第１１の実施の形態に係る反射防止機能付き写真の構成の一例を示す断面図である。 図２０Ａは、サンプル７−１〜７−４の光学素子の引っ掻き試験の結果を示すグラフである。図２０Ｂは、サンプル８−２〜８−６の光学素子の引っ掻き試験の結果を示すグラフである。 図２１Ａは、サンプル９−１〜９−３の光学素子の引っ掻き試験の結果を示すグラフである。図２１Ｂは、サンプル１０−２〜１０−７の光学素子の引っ掻き試験の結果を示すグラフである。 図２２は、シミュレーションの光学フィルムの設定条件を説明するための模式図である。 図２３Ａは、試験例１−１〜１−１０のシミュレーション結果を示すグラフである。図２３Ｂは、試験例２−１〜２−４、試験例３−１〜３−４、試験例４−１〜４−４のシミュレーション結果を示すグラフである。 図２４は、シミュレーションの光学素子の設定条件を説明するための模式図である。 図２５Ａは、試験例６のシミュレーションの結果を示す図である。図２５Ｂは、試験例７のシミュレーションの結果を示すグラフである。 図２６は、試験例８−１〜８−８のシミュレーション結果を示すグラフである。

本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（凸状の構造体を六方格子状に配列した光学素子の例：図１Ｂ）
２．第２の実施形態（凸状の構造体を四方格子状に配列した光学素子の例：図８Ｂ）
３．第３の実施形態（凸状の構造体をランダムに配列した光学素子の例：図９Ｂ）
４．第４の実施形態（凹状の構造体を六方格子状に配列した光学素子の例：図１０Ｂ）
５．第５の実施形態（基体および構造体の両方が柔軟性を有する光学素子の例：図１１Ａ）
６．第６の実施形態（基体レスの光学素子の例：図１４Ｂ）
７．第７の実施形態（表示装置に対する光学素子の第１の適用例：図１５）
８．第８の実施形態（表示装置に対する光学素子の第２の適用例：図１６）
９．第９の実施形態（情報入力装置に対する光学素子の第１の適用例：図１７Ｂ）
１０．第１０の実施形態（情報入力装置に対する光学素子の第２の適用例：図１８Ｂ）
１１．第１１の実施形態（写真に対する光学素子の適用例：図１９）

＜１．第１の実施形態＞
［光学素子の構成］
図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｃは、図１ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図１Ｄは、図１ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。以下では、光学素子１の主面の面内で互いに直交する２方向をそれぞれＸ軸方向、およびＹ軸方向とし、その主面に垂直な方向をＺ軸方向と称する。

光学素子１は、主面を有する基体２と、この基体２の主面に配置された複数の構造体３とを備える。構造体３と基体２とは、別成形または一体成形されている。構造体３と基体２とが別成形されている場合には、必要に応じて構造体３と基体２との間に基底層４をさらに備えるようにしてもよい。基底層４は、構造体３の底面側に構造体３と一体成形される層であり、構造体３と同様のエネルギー線硬化性樹脂組成物などを硬化してなる。光学素子１は可撓性を有していることが好ましい。これにより、表示面や入力面などの表面に対して光学素子１の適用が容易となるからである。
以下、光学素子１に備えられる基体２、および構造体３について順次説明する。

（基体）
基体２は、例えば、透明性を有する基体である。基体２の材料としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの透明性合成樹脂、ガラスなどを主成分とするものが挙げられるが、これらの材料に特に限定されるものではない。基体２としては、例えば、シート、プレート、ブロックなどを挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。基体２の形状は、特に限定されるものではないが、光学素子１が適用される表示面や入力面などの表面の形状に合わせて適宜選択することが好ましい。

（構造体）
構造体３は、例えば、基体２の表面に対して凸状を有している。構造体３を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である。１ＭＰａ未満であると、転写工程において隣接する構造体同士が付着し、構造体３の形状が所望の形状とは異なる形状となり、所望の反射特性が得られなくなる。１２００ＭＰａを超えると、拭き取り時に、隣接する構造体同士が接触しにくくなり、構造体間に染み込んだ汚れなどが押し出されなくなる。

複数の構造体３が形成された光学素子１の表面の動摩擦係数が、０．８５以下であることが好ましい。動摩擦係数が０．８５以下であると、表面のべたつきを抑制し、隣接する構造体同士のくっ付きを抑えることができる。したがって、反射特性の低下を抑制することができる。

構造体３が、シリコーンおよびウレタンを含んでいることが好ましい。具体的には、構造体３が、シリコーンアクリレートおよびウレタンアクリレートを含むエネルギー線硬化性樹脂組成物の重合体からなることが好ましい。構造体３がシリコーンを含むことで、隣接するモスアイ同士がくっ付くこと、動摩擦係数を低減することができる。構造体３がウレタンを含むことで、柔軟性のある構造体３を得られ、１ＭＰａ〜１２００ＭＰａの範囲の材料設計が可能となる。

複数の構造体３は、基体２の表面において複数列のトラックＴ１，Ｔ２，Ｔ３，・・・（以下総称して「トラックＴ」ともいう。）をなすような配置形態を有する。本発明において、トラックとは、構造体３が列をなして連なった部分のことをいう。トラックＴの形状としては、直線状、円弧状などを用いることができ、これらの形状のトラックＴをウォブル（蛇行）させるようにしてもよい。このようにトラックＴをウォブルさせることで、外観上のムラの発生を抑制できる。

トラックＴをウォブルさせる場合には、基体２上における各トラックＴのウォブルは、同期していることが好ましい。すなわち、ウォブルは、シンクロナイズドウォブルであることが好ましい。このようにウォブルを同期させることで、六方格子または準六方格子の単位格子形状を保持し、充填率を高く保つことができる。ウォブルしたトラックＴの波形としては、例えば、サイン波、三角波などを挙げることができる。ウォブルしたトラックＴの波形は、周期的な波形に限定されるものではなく、非周期的な波形としてもよい。ウォブルしたトラックＴのウォブル振幅は、例えば±１０μｍ程度に選択される。

構造体３は、例えば、隣接する２つのトラックＴ間において、半ピッチずれた位置に配置されている。具体的には、隣接する２つのトラックＴ間において、一方のトラック（例えばＴ１）に配列された構造体３の中間位置（半ピッチずれた位置）に、他方のトラック（例えばＴ２）の構造体３が配置されている。その結果、図１Ｂに示すように、隣接する３列のトラック（Ｔ１〜Ｔ３）間においてａ１〜ａ７の各点に構造体３の中心が位置する六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成するように構造体３が配置されている。

ここで、六方格子とは、正六角形状の格子のことをいう。準六方格子とは、正六角形状の格子とは異なり、歪んだ正六角形状の格子のことをいう。例えば、構造体３が直線上に配置されている場合には、準六方格子とは、正六角形状の格子を直線状の配列方向（トラック方向）に引き伸ばして歪ませた六方格子のことをいう。構造体３が蛇行して配列されている場合には、準六方格子とは、正六角形状の格子を構造体３の蛇行配列により歪ませた六方格子、または正六角形状の格子を直線状の配列方向（トラック方向）に引き伸ばして歪ませ、かつ、構造体３の蛇行配列により歪ませた六方格子のことをいう。

構造体３が準六方格子パターンを形成するように配置されている場合には、図１Ｂに示すように、同一トラック（例えばＴ１）内における構造体３の配置ピッチＰ１（例えばａ１〜ａ２間距離）は、隣接する２つのトラック（例えばＴ１およびＴ２）間における構造体３の配置ピッチ、すなわちトラックの延在方向に対して±θ方向における構造体３の配置ピッチＰ２（例えばａ１〜ａ７、ａ２〜ａ７間距離）よりも長くなっていることが好ましい。このように構造体３を配置することで、構造体３の充填密度の更なる向上を図れるようになる。

構造体３の具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球体状、半楕円体状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。頂部に凸状の曲面を有する錐体形状としては、放物面状などの２次曲面状などが挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。後述するロール原盤露光装置（図５参照）を用いてロール原盤を作製する場合には、構造体３の形状として、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状、または頂部が平坦な楕円錐台形状を採用し、それらの底面を形成する楕円形の長軸方向をトラックＴの延在方向と一致させることが好ましい。

反射特性の向上の観点からすると、図２Ａに示すように、頂部の傾きが緩やかで中央部から底部に徐々に急峻な傾きの錐体形状が好ましい。また、反射特性および透過特性の向上の観点からすると、図２Ｂに示すように、中央部の傾きが底部および頂部より急峻な錐形形状、または、図２Ｃに示すように、頂部が平坦な錐体形状であることが好ましい。構造体３が楕円錐形状または楕円錐台形状を有する場合、その底面の長軸方向が、トラックの延在方向と平行となることが好ましい。

構造体３は、図２Ａおよび図２Ｃに示すように、その底部の周縁部に、頂部から下部の方向に向かってなだらかに高さが低下する曲面部３ａを有することが好ましい。光学素子１の製造工程において光学素子１を原盤などから容易に剥離することが可能になるからである。なお、曲面部３ａは、構造体３の周縁部の一部にのみ設けてもよいが、上記剥離特性の向上の観点からすると、構造体３の周縁部の全部に設けることが好ましい。

構造体３の周囲の一部または全部に突出部５を設けることが好ましい。このようにすると、構造体３の充填率が低い場合でも、反射率を低く抑えることができるからである。突出部５は、成形の容易さの観点からすると、図２Ａ〜図２Ｃに示すように、隣り合う構造体３の間に設けることが好ましい。また、図２Ｄに示すように、細長い突出部５が、構造体３の周囲の全体またはその一部に設けるようにしてもよい。この細長い突出部５は、例えば、構造体３の頂部から下部の方向に向かって延びるものとすることができるが、特にこれに限られるものではない。突出部５の形状としては、断面三角形状および断面四角形状などを挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではなく、成形の容易さなどを考慮して選択することができる。また、構造体３の周囲の一部または全部の表面を荒らし、微細の凹凸を形成するようにしてもよい。具体的には例えば、隣り合う構造体３の間の表面を荒らし、微細な凹凸を形成するようにしてもよい。また、構造体３の表面、例えば頂部に微小な穴を形成するようにしてもよい。

なお、図１Ａ〜図２Ｄでは、各構造体３がそれぞれ同一の大きさ、形状および高さを有しているが、構造体３の形状はこれに限定されるものではなく、基体表面に２種以上の大きさ、形状および高さを有する構造体３が形成されていてもよい。

構造体３は、例えば、反射の低減を目的とする光の波長帯域以下の短い配置ピッチで規則的（周期的）に２次元配置されている。このように複数の構造体３を２次元配列することで、２次元的な波面を基体２の表面に形成するようにしてもよい。ここで、配置ピッチとは、配置ピッチＰ１および配置ピッチＰ２を意味する。反射の低減を目的とする光の波長帯域は、例えば、紫外光の波長帯域、可視光の波長帯域または赤外光の波長帯域である。ここで、紫外光の波長帯域とは１０ｎｍ〜３６０ｎｍの波長帯域、可視光の波長帯域とは３６０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長帯域、赤外光の波長帯域とは８３０ｎｍ〜１ｍｍの波長帯域をいう。具体的には、配置ピッチは、１７５ｎｍ以上３５０ｎｍ以下であることが好ましい。配置ピッチが１７５ｎｍ未満であると、構造体３の作製が困難となる傾向がある。一方、配置ピッチが３５０ｎｍを超えると、可視光の回折が生じる傾向がある。

トラックの延在方向における構造体３の高さＨ１は、列方向における構造体３の高さＨ２よりも小さいことが好ましい。すなわち、構造体３の高さＨ１、Ｈ２がＨ１＜Ｈ２の関係を満たすことが好ましい。Ｈ１≧Ｈ２の関係を満たすように構造体３を配列すると、トラックの延在方向の配置ピッチＰ１を長くする必要が生じるため、トラックの延在方向における構造体３の充填率が低下するためである。このように充填率が低下すると、反射特性の低下を招くことになる。

構造体３の高さは特に限定されず、透過させる光の波長領域に応じて適宜設定され、例えば２３６ｎｍ以上４５０ｎｍ以下、好ましくは４１５ｎｍ以上４２１ｎｍ以下の範囲内に設定される。

構造体３のアスペクト比（高さＨ／配置ピッチＰ）は、好ましくは０．６以上５以下、より好ましくは０．６以上４以下、最も好ましくは０．６以上１．５以下の範囲内である。アスペクト比が０．６未満であると、反射特性および透過特性が低下する傾向にある。一方、アスペクト比が５を超えると、原盤にフッ素コートなどを行い、転写樹脂にシリコーン系添加材、またはフッ素系添加材などの添加剤を添加するなどして、離型性を向上する処理を施した場合にも、転写性が低下する傾向がある。また、アスペクト比が４を超えた場合には、視感反射率に大きな変化がないため、視感反射率の向上と離型性の容易さとの両方の観点を考慮すると、アスペクト比を４以下とすることが好ましい。アスペクト比が１．５を超えると、上述したように離型性を向上する処理を施していない場合には、転写性が低下する傾向がある。

また、構造体３のアスペクト比は、反射特性をより向上させる観点からすると、０．９４以上１．４６以下の範囲内に設定することが好ましい。また、構造体３のアスペクト比は、透過特性をより向上させる観点からすると、０．８１以上１．２８以下の範囲内に設定することが好ましい。

なお、構造体３のアスペクト比は全て同一である場合に限らず、各構造体３が一定の高さ分布（例えばアスペクト比０．８３〜１．４６程度の範囲）をもつように構成されていてもよい。高さ分布を有する構造体３を設けることで、反射特性の波長依存性を低減することができる。したがって、優れた反射防止特性を有する光学素子１を実現することができる。

ここで、高さ分布とは、２種以上の高さを有する構造体３が基体２の表面に設けられていることを意味する。例えば、基準となる高さを有する構造体３と、この構造体３とは異なる高さを有する構造体３とが基体２の表面に設けるようにしてもよい。この場合、基準とは異なる高さを有する構造体３は、例えば基体２の表面に周期的または非周期的（ランダム）に設けられる。その周期性の方向としては、例えばトラックの延在方向、列方向などが挙げられる。

なお、本発明においてアスペクト比は、以下の式（１）により定義される。
アスペクト比＝Ｈ／Ｐ・・・（１）
但し、Ｈ：構造体の高さ、Ｐ：平均配置ピッチ（平均周期）
ここで、平均配置ピッチＰは以下の式（２）により定義される。
平均配置ピッチＰ＝（Ｐ１＋Ｐ２＋Ｐ２）／３ ・・・（２）
但し、Ｐ１：トラックの延在方向の配置ピッチ（トラック延在方向周期）、Ｐ２：トラックの延在方向に対して±θ方向（但し、θ＝６０°−δ、ここで、δは、好ましくは０°＜δ≦１１°、より好ましくは３°≦δ≦６°）の配置ピッチ（θ方向周期）

また、構造体３の高さＨは、構造体３の列方向の高さとする。構造体３のトラック延在方向（Ｘ方向）の高さは、列方向（Ｙ方向）の高さよりも小さく、また、構造体３のトラック延在方向以外の部分における高さは列方向の高さとほぼ同一であるため、サブ波長構造体の高さを列方向の高さで代表する。但し、構造体３が凹部である場合、上記式（１）における構造体の高さＨは、構造体の深さＨとする。

同一トラック内における構造体３の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体３の配置ピッチをＰ２としたとき、比率Ｐ１／Ｐ２が、１．００≦Ｐ１／Ｐ２≦１．１、または１．００＜Ｐ１／Ｐ２≦１．１の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体３の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

基体表面における構造体３の充填率は、１００％を上限として、６５％以上、好ましくは７３％以上、より好ましくは８６％以上の範囲内である。充填率をこのような範囲にすることで、反射防止特性を向上することができる。充填率を向上させるためには、隣接する構造体３の下部同士を接合もしくは重ね合わせる、または構造体底面の楕円率を調整などして構造体３に歪みを付与することが好ましい。

ここで、構造体３の充填率（平均充填率）は以下のようにして求めた値である。
まず、光学素子１の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてＴｏｐ Ｖｉｅｗで撮影する。次に、撮影したＳＥＭ写真から無作為に単位格子Ｕｃを選び出し、その単位格子Ｕｃの配置ピッチＰ１、およびトラックピッチＴｐを測定する（図１Ｂ参照）。また、その単位格子Ｕｃの中央に位置する構造体３の底面の面積Ｓを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチＰ１、トラックピッチＴｐ、および底面の面積Ｓを用いて、以下の式（３）より充填率を求める。
充填率＝（Ｓ（hex.）／Ｓ（unit））×１００ ・・・（３）
単位格子面積：Ｓ（unit）＝Ｐ１×２Ｔｐ
単位格子内に存在する構造体の底面の面積：Ｓ（hex.）＝２Ｓ

上述した充填率算出の処理を、撮影したＳＥＭ写真から無作為に選び出された１０箇所の単位格子について行う。そして、測定値を単純に平均（算術平均）して充填率の平均率を求め、これを基体表面における構造体３の充填率とする。

構造体３が重なっているときや、構造体３の間に突出部４などの副構造体があるときの充填率は、構造体３の高さに対して５％の高さに対応する部分を閾値として面積比を判定する方法で充填率を求めることができる。

構造体３が、その下部同士を重ね合うようにして繋がっていることが好ましい。具体的には、隣接関係にある構造体３の一部または全部の下部同士が重なり合っていることが好ましく、トラック方向、θ方向、またはそれら両方向において重なり合っていることが好ましい。このように構造体３の下部同士を重なり合わせることで、構造体３の充填率を向上することができる。構造体同士は、屈折率を考慮した光路長で使用環境下の光の波長帯域の最大値の１／４以下の部分で重なり合っていることが好ましい。これにより、優れた反射防止特性を得ることができるからである。

配置ピッチＰ１に対する径２ｒの比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）が、８５％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上である。このような範囲にすることで、構造体３の充填率を向上し、反射防止特性を向上できるからである。比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）が大きくなり、構造体３の重なりが大きくなりすぎると反射防止特性が低減する傾向にある。したがって、屈折率を考慮した光路長で使用環境下の光の波長帯域の最大値の１／４以下の部分で構造体同士が接合されるように、比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）の上限値を設定することが好ましい。ここで、配置ピッチＰ１は、図２Ｂに示すように、構造体３のトラック方向の配置ピッチであり、径２ｒは、図２Ｂに示すように、構造体底面のトラック方向の径である。なお、構造体底面が円形である場合、径２ｒは直径となり、構造体底面が楕円形である場合、径２ｒは長径となる。

［光学素子の作用］
図３Ａ〜図３Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る光学素子の作用を説明するための模式図である。指などで触れた光学素子１の表面は、図３Ａに示すように、構造体３の間に指紋などによる汚れ６が付着した状態にある。このような状態にある光学素子１の表面を繊維７などで乾拭きすると、構造体３が弾力性に富むため、図３Ｂに示すように、構造体３が弾性変形し、隣接する弾性体３同士が接触し、構造体３の間に付着した汚れ６が構造体３の間から外部に押し出される。これにより、指紋などによる汚れ６が除去される。そして、乾拭き後は、構造体３は、図３Ｃに示すように、自らが有する弾性によって元の形状に復元される。

［ロールマスタの構成］
図４Ａは、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。図４Ｃは、図４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図４Ｄは、図４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。ロール原盤１１は、上述した基体表面に複数の構造体３を成形するための原盤である。ロール原盤１１は、例えば、円柱状または円筒状の形状を有し、その円柱面または円筒面が基体表面に複数の構造体３を成形するための成形面とされる。この成形面には複数の構造体１２が２次元配列されている。構造体１２は、例えば、成形面に対して凹状を有している。ロール原盤１１の材料としては、例えばガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。

ロール原盤１１の成形面に配置された複数の構造体１２と、上述の基体２の表面に配置された複数の構造体３とは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤１１の構造体１２の形状、配列、配置ピッチなどは、基体２の構造体３と同様である。

［露光装置の構成］
図５は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。

レーザー光源２１は、記録媒体としての原盤ロール１１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光１４を発振するものである。レーザー光源２１から出射されたレーザー光１４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）２２へ入射する。電気光学素子２２を透過したレーザー光１４は、ミラー２３で反射され、変調光学系２５に導かれる。

ミラー２３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２２を制御してレーザー光１４の位相変調を行う。

変調光学系２５において、レーザー光１４は、集光レンズ２６により、ガラス（ＳｉＯ₂）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Acousto-Optic Modulator）２７に集光される。レーザー光１４は、音響光学素子２７により強度変調され発散した後、レンズ２８によって平行ビーム化される。変調光学系２５から出射されたレーザー光１４は、ミラー３１によって反射され、移動光学テーブル３２上に水平かつ平行に導かれる。

移動光学テーブル３２は、ビームエキスパンダ３３、および対物レンズ３４を備えている。移動光学テーブル３２に導かれたレーザー光１４は、ビームエキスパンダ３３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ３４を介して、ロール原盤１１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤１１は、スピンドルモータ３５に接続されたターンテーブル３６の上に載置されている。そして、ロール原盤１１を回転させるとともに、レーザー光１４をロール原盤１１の高さ方向に移動させながら、レジスト層へレーザー光１４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光１４の移動は、移動光学テーブル３２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。

露光装置は、図１Ｂに示した六方格子または準六方格子の２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構３７を備えている。制御機構３７は、フォマッター２９とドライバ３０とを備える。フォマッター２９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光１４の照射タイミングを制御する。ドライバ３０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２７を制御する。

このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォマッター信号と回転コントロラーを同期させて信号を発生し、音響光学素子２７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。

［光学素子の製造方法］
次に、図６Ａ〜図７Ｃを参照しながら、本発明の第１の実施形態に係る光学素子１の製造方法について説明する。

（レジスト成膜工程）
まず、図６Ａに示すように、円柱状または円筒状のロール原盤１１を準備する。このロール原盤１１は、例えばガラス原盤である。次に、図６Ｂに示すように、ロール原盤１１の表面にレジスト層１３を形成する。レジスト層１３の材料としては、例えば有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。有機系レジストとしては、例えばノボラック系レジストや化学増幅型レジストを用いることができる。また、無機系レジストとしては、例えば、１種または２種以上含む金属化合物を用いることができる。

（露光工程）
次に、図６Ｃに示すように、ロール原盤１１の表面に形成されたレジスト層１３に、レーザー光（露光ビーム）１４を照射する。具体的には、図５に示したロール原盤露光装置のターンテーブル３６上に載置し、ロール原盤１１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）１４をレジスト層１３に照射する。このとき、レーザー光１４をロール原盤１１の高さ方向（円柱状または円筒状のロール原盤１１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光１４を間欠的に照射することで、レジスト層１３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光１４の軌跡に応じた潜像１５が、例えば可視光波長と同程度のピッチでレジスト層１３の全面にわたって形成される。

潜像１５は、例えば、ロール原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。潜像１５は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。

（現像工程）
次に、例えば、ロール原盤１１を回転させながら、レジスト層１３上に現像液を滴下して、レジスト層１３を現像処理する。これにより、図６Ｄに示すように、レジスト層１３に複数の開口部が形成される。レジスト層１３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光１４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、図６Ｄに示すように、潜像（露光部）１６に応じたパターンがレジスト層１３に形成される。開口部のパターンは、例えば六方格子パターンまたは準六方格子パターンなどの所定の格子パターンである。

（エッチング工程）
次に、ロール原盤１１の上に形成されたレジスト層１３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤１１の表面をエッチング処理する。これにより、図７Ａに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体１２を得ることができる。エッチングとしては、例えばドライエッチング、ウエットエッチングを用いることができる。このとき、エッチング処理とアッシング処理とを交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体１２のパターンを形成することができる。
以上により、目的とするロール原盤１１が得られる。

（転写工程）
次に、図７Ｂに示すように、ロール原盤１１と、基体２上に塗布された転写材料１６とを密着させた後、紫外線などのエネルギー線をエネルギー線源１７から転写材料１６に照射して転写材料１６を硬化させた後、硬化した転写材料１６と一体となった基体２を剥離する。これにより、図７Ｃに示すように、複数の構造体３を基体表面に有する光学素子１が作製される。

エネルギー線源１７としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、または高周波などエネルギー線を放出可能なものであればよく、特に限定されるものではない。

転写材料１６としては、エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。エネルギー線硬化性樹脂組成物が、必要に応じてフィラーや機能性添加剤などを含んでいてもよい。

エネルギー線硬化性樹脂組成物は、シリコーンアクリレート、ウレタンアクリレートおよび開始剤を含んでいることが好ましい。シリコーンアクリレートとしては、１分子中の側鎖、末端、あるいはその両方に２個以上のアクリレート系の重合性不飽和基を有するもの使用できる。アクリレート系の重合性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、および（メタ）アクリロイルオキシ基のうちの１種以上を用いることができる。但し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基、メタアクリロイル基の意味で用いる。

シリコーンアクリレート及び、メタクリレートしては、例えば、有機変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンが挙げられる。有機変性は、ポリエーテル変性、ポリエステル変性、アラキル変性、ポリエーテル／ポリエステル変性が挙げられる。具体例として、チッソ株式会社製サイラプレーンＦＭ７７２５、ダイセルサイテック株式会社ＥＢ３５０、ＥＢ１３６０、デグサ社ＥＧＯＲａｄ ２１００、ＴＥＧＯＲａｄ ２２００ Ｎ、ＴＥＧＯＲａｄ ２２５０、ＴＥＧＯＲａｄ ２３００、ＴＥＧＯＲａｄ ２５００、ＴＥＧＯＲａｄ ２７００が挙げられる。

ウレタンアクリレートとしては、１分子中の側鎖、末端、あるいはその両方に２個以上のアクリレート系の重合性不飽和基を有するもの使用できる。アクリレート系の重合性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、および（メタ）アクリロイルオキシ基のうちの１種以上を用いることができる。但し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基、メタアクリロイル基の意味で用いる。

ウレタンアクリレートとしては、例えば、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、脂肪族ウレタンメタクリレート、芳香族ウレタンアクリレート、芳香族ウレタンメタクリレート、例えばサートマー社製機能性ウレタンアクリレートオリゴマーＣＮシリーズ、ＣＮ９８０、ＣＮ９６５、ＣＮ９６２などを用いることができる。

開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどを挙げることができる。

フィラーとしては、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。無機微粒子としては、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。

機能性添加剤としては、例えば、レベリング剤、表面調整剤、消泡剤などを挙げることができる。基体２の材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラスなどが挙げられる。

基体２の成形方法は特に限定されず、射出成形体でも押し出し成形体でも、キャスト成形体でもよい。必要に応じて、コロナ処理などの表面処理を基体表面に施すようにしてもよい。

なお、高アスペクトの構造体３（例えば、アスペクトが１．５を超え５以下の構造体３を作製する場合には、ロールマスタ１１などの原盤の離型性向上のため、ロールマスタ１１などの原盤の表面にシリコーン系離型剤、またはフッ素系離型剤などの離型剤を塗布することが好ましい。さらに、転写材料１６にフッ素系添加材、またはシリコーン系添加材などの添加剤を添加することが好ましい。

第１の実施形態によれば、構造体３の弾性率を１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下としているので、隣接する構造体同士の付着による反射特性の低下を抑制できるとともに、構造体間に染み込んだ汚れなどを押し出し、拭き取ることができる。また、構造体３のアスペクト比を０．６以上５以下としているので、反射特性および透過特性の低下を抑制できるとともに、構造体３の転写性の低下を抑制することができる。また、複数の構造体３が設けられた光学素子表面の動摩擦係数を０．８５以下にしているので、隣接する構造体同士の付着による反射特性の低下を抑制できる。

＜２．第２の実施形態＞
［光学素子の構成］
図８Ａは、本発明の第２の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図８Ｂは、図８Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図８Ｃは、図８ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図８Ｄは、図８ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。

第２の実施形態に係る光学素子１は、複数の構造体３が、隣接する３列のトラックＴ間において四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。

ここで、四方格子とは、正四角形状の格子のことをいう。準四方格子とは、正四角形状の格子とは異なり、歪んだ正四角形状の格子のことをいう。例えば、構造体３が直線上に配置されている場合には、準四方格子とは、正四角形状の格子を直線状の配列方向（トラック方向）に引き伸ばして歪ませた四方格子のことをいう。構造体３が蛇行して配列されている場合には、準四方格子とは、正四角形状の格子を構造体３の蛇行配列により歪ませた四方格子をいう。または、正四角形状の格子を直線状の配列方向（トラック方向）に引き伸ばして歪ませ、かつ、構造体３の蛇行配列により歪ませた四方格子のことをいう。

同一トラック内における構造体３の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における構造体３の配置ピッチＰ２よりも長いことが好ましい。また、同一トラック内における構造体３の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体３の配置ピッチをＰ２としたとき、Ｐ１/Ｐ２が１．４＜Ｐ１／Ｐ２≦１．５の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体３の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。また、トラックに対して４５度方向または約４５度方向における構造体３の高さまたは深さは、トラックの延在方向における構造体３の高さまたは深さよりも小さいことが好ましい。

トラックの延在方向に対して斜となる構造体３の配列方向（θ方向）の高さＨ２は、トラックの延在方向における構造体３の高さＨ１よりも小さいことが好ましい。すなわち、構造体３の高さＨ１、Ｈ２がＨ１＞Ｈ２の関係を満たすことが好ましい。

構造体３が四方格子または準四方格子パターンを形成する場合には、構造体底面の楕円率ｅは、１５０％≦ｅ≦１８０％であることが好ましい。この範囲にすることで、構造体３の充填率を向上し、優れた反射防止特性を得ることができるからである。

基体表面における構造体３の充填率は、１００％を上限として、６５％以上、好ましくは７３％以上、より好ましくは８６％以上の範囲内である。充填率をこのような範囲にすることで、反射防止特性を向上することができる。

ここで、構造体３の充填率（平均充填率）は以下のようにして求めた値である。
まず、光学素子１の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてＴｏｐ Ｖｉｅｗで撮影する。次に、撮影したＳＥＭ写真から無作為に単位格子Ｕｃを選び出し、その単位格子Ｕｃの配置ピッチＰ１、およびトラックピッチＴｐを測定する（図８Ｂ参照）。また、その単位格子Ｕｃに含まれる４つの構造体３のいずれかの底面の面積Ｓを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチＰ１、トラックピッチＴｐ、および底面の面積Ｓを用いて、以下の式（４）より充填率を求める。
充填率＝（Ｓ（tetra）／Ｓ（unit））×１００ ・・・（４）
単位格子面積：Ｓ（unit）＝２×（（Ｐ１×Ｔｐ）×（１／２））＝Ｐ１×Ｔｐ
単位格子内に存在する構造体の底面の面積：Ｓ（tetra）＝Ｓ

上述した充填率算出の処理を、撮影したＳＥＭ写真から無作為に選び出された１０箇所の単位格子について行う。そして、測定値を単純に平均（算術平均）して充填率の平均率を求め、これを基体表面における構造体３の充填率とする。

配置ピッチＰ１に対する径２ｒの比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）が、６４％以上、好ましくは６９％以上、より好ましくは７３％以上である。このような範囲にすることで、構造体３の充填率を向上し、反射防止特性を向上できるからである。ここで、配置ピッチＰ１は、構造体３のトラック方向の配置ピッチ、径２ｒは、構造体底面のトラック方向の径である。なお、構造体底面が円形である場合、径２ｒは直径となり、構造体底面が楕円形である場合、径２ｒは長径となる。

第２の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜第３の実施形態＞
図９Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図９Ｂは、図９Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図９Ｃは、図９Ｂに示したＡ−Ａ線に沿った断面図である。

第３の実施形態に係る光学素子１は、複数の構造体３がランダム（不規則）に２次元配列されている点において、第１の実施形態とは異なっている。また、構造体２１の形状、大きさおよびは高さの少なくとも１つをさらにランダムに変化させるようにしてもよい。
この第３の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
この光学素子１を作製するための原盤は、例えばアルミニウム基材の表面を陽極酸化する方法を用いることができるが、この方法に限定されるものではない。

第３の実施形態では、複数の構造体３をランダムに２次元配列しているので、外観上のムラの発生を抑制できる。

＜４．第４の実施形態＞
図１０Ａは、本発明の第４の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１０Ｂは、図１０Ａに示した光学素子の一部を拡大して表す平面図である。図１０Ｃは、図１０ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図１０Ｄは、図１０ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。

第４の実施形態に係る光学素子１は、凹部である構造体３が基体表面に多数配列されている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。この構造体３の形状は、第１の実施形態における構造体３の凸形状を反転して凹状としたものである。なお、上述のように構造体３を凹状とした場合、凹状である構造体３の開口部（凹部の入り口部分）を下部、基体２の深さ方向の最下部（凹部の最も深い部分）を頂部と定義する。すなわち、非実体的な空間である構造体３により頂部、および下部を定義する。また、第４の実施形態では、構造体３が凹状であるため、式（１）などにおける構造体３の高さＨは、構造体３の深さＨとなる。
この第４の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。

この第４の実施形態では、第１の実施形態における凸形状の構造体３の形状を反転して凹形状としているので、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜５．第５の実施形態＞
第５の実施形態に係る光学素子１は、基体２および構造体３の両方が柔軟性を有している点において、第１の実施形態とは異なっている。構造体３を形成する材料の弾性率は、第１の実施形態において説明したように、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である。

構造体３を形成する材料の伸び率が、好ましくは５０％以上、より好ましくは５０％以上１５０％以下の範囲内である。５０％以上であると、密着または接触に伴う樹脂の変形で構造体３の破断が起きないため、拭き取り前後で反射率変化を抑制できる。また、構造体３を形成する材料の伸び率が上昇するにつれて、拭き取り時のすべり性が悪くなり、拭き取り性が低下する傾向があるが、１５０％以下であると、表面のすべり性の悪化を抑制しやすくなる。

基体２を形成する材料の伸び率が、好ましくは２０％以上、より好ましくは２０％以上８００％以下の範囲内である。２０％以上であると、塑性変形を抑止することができる。８００％以下であると、材料選定が比較的容易になる。例えばウレタンフィルムの場合、無黄変グレードの選定が可能となる。

図１１Ａは、第５の実施形態に係る光学素子１の第１の例を示す断面図である。光学素子１は、個別に成形された構造体３と基体２とを備え、これらの間に界面が形成されている。したがって、基体２と構造体３とを形成する材料を必要に応じて異なったものとすることができる。すなわち、基体２と構造体３との弾性率を異なったものとすることができる。

基体２を形成する材料の弾性率が、好ましくは１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下、より好ましくは１ＭＰａ以上１５００ＭＰａ、更に好ましくは１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の範囲内である。１ＭＰａ以下であると、弾性率の低い樹脂は一般的に表面のべたつきが大きい特性上、扱いにくくなる。一方、３０００ＭＰａ以下であると、塑性変形の発生を抑え、その視認を殆どなくすことができる。また、基体２および構造体３を形成する材料の伸び率を一致またはほぼ一致させることが好ましい。基体２と構造体３との間における界面での剥離を抑制することができるからである。ここで、伸び率のほぼ一致とは、基体２および構造体３を形成する材料の伸び率の差が±２５％の範囲内であることをいう。ここで、基体２および構造体３の弾性率を必ずしも一致させる必要はなく、両者の弾性率を上記数値範囲において異なって設定してもよい。

基体２を形成する材料の弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲内である場合、基体２の厚さＤは、好ましくは６０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上２０００μｍ以下の範囲内である。６０μｍ以上であると、塑性変形および凝集破壊の発生を抑え、それらの視認を殆どなくすことができる。一方、２０００μｍ以下であると、ロールtoロールプロセスで連続転写できる。

図１１Ｂは、第５の実施形態に係る光学素子の第２の例を示す断面図である。光学素子１は、複数の構造体３と、これらの構造体３に隣接して形成された基底層４と、この基底層４と隣接して形成された基体２とを備える。基底層４は、例えば、構造体３の底面側に構造体３と一体成形された層であり、基底層４と基体２との間に界面が形成される。基体２の材料としては、伸縮性を有し、かつ弾性を有するものを用いることが好ましく、このような材料としては、例えば、ポリウレタン、透明シリコーン樹脂、ポリ塩化ビニルなどが挙げられる。また、基体２の材料は透明性を有するものに特に限定されず、黒色などの有色のものも用いることも可能である。基体２の形状としては、例えば、シート状、プレート状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。

基底層４を形成する材料の弾性率が、好ましくは１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下、より好ましくは１ＭＰａ以上１５００ＭＰａ、更に好ましくは１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の範囲内である。構造体３と、基底層４が同時に転写される場合、１ＭＰａ未満であると、転写工程において隣接する構造体同士が付着し、構造体３の形状が所望の形状とは異なる形状となり、所望の反射特性が得られなくなる。また、拭き取り時のすべり性が悪くなり、拭き取り性が低下する傾向がある。一方、３０００ＭＰａ以下であると、塑性変形の発生を抑え、その視認を殆どなくすことができる。

基体２および基底層４を形成する材料の弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲内である場合、基体２および基底層４の総厚が、好ましくは６０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上２０００μｍ以下の範囲内である。６０μｍ以上であると、塑性変形および凝集破壊の発生を抑え、それらの視認を殆どなくすことができる。一方、２０００μｍ以下であると、ロールtoロールプロセスで連続転写できる。ここで、構造体３、基体２および基底層４の弾性率を必ずしも一致させる必要はなく、これらの弾性率を上記数値範囲において異なって設定してもよい。

基底層４を形成する材料の弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲内であるのに対して、基体２を形成する材料の弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲外である場合、基底層４の厚さｄは、好ましくは６０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上２０００μｍ以下の範囲内である。６０μｍ以上であると、基体２の材料、すなわち基体２の弾性率に依らず、塑性変形および凝集破壊の発生を抑え、それらの視認を殆どなくすことができる。一方、２０００μｍ以下であると、紫外線硬化樹脂を効率よく硬化させることができる。

図１１Ｃは、第５の実施形態の係る光学素子１の第３の例を示す断面図である。光学素子１は、一体成形された構造体３と基体２とを備える。このように構造体３と基体２とが一体成形されているため、両者の間に界面が存在しない。

基体２を形成する材料の弾性率が、好ましくは１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下、より好ましくは１ＭＰａ以上１５００ＭＰａ、更に好ましくは１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であることが好ましい。構造体３と、基体２が同時に転写される場合、１ＭＰａ未満であると、転写工程において隣接する構造体同士が付着し、構造体３の形状が所望の形状とは異なる形状となり、所望の反射特性が得られなくなる。また、拭き取り時のすべり性が悪くなり、拭き取り性が低下する傾向がある。一方、３０００ＭＰａ未満であると、塑性変形の発生を抑え、その視認を殆どなくすことができる。

構造体３と基体２とを一体成形する場合、製造を容易にする観点からすると、両者の材料の弾性率を同一の値、具体的には１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下の範囲内で同一の値とすることが好ましい。構造体３と基体２とを一体成形し、両者の弾性率を異なる値とすることも可能である。このような光学素子１を形成する方法としては、例えば以下のような方法が挙げられる。すなわち、弾性率の異なる、樹脂の多層塗布を行う。このとき、樹脂が高粘度であることが望ましく、具体的には５００００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。樹脂の混ざりが少なくヤング率のグラデーションを得ることができるからである。

基体２を形成する材料の弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲内である場合、基体２の厚さＤは、好ましくは６０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上２０００μｍ以下である。６０μｍ以上であると、塑性変形および凝集破壊の発生を抑え、それらの視認を殆どなくすことができる。一方、２０００μｍ以下であると、紫外線硬化樹脂を効率よく硬化させることができる。

図１２Ａ〜図１３Ｃは、柔軟性光学素子と、非柔軟性光学素子との作用の違いを、塑性変形の観点から説明するための模式図である。ここで、柔軟性光学素子とは、構造体３と基体２との両方が柔軟性を有する光学素子のことをいい、非柔軟性光学素子とは、構造体３は柔軟性を有するのに対して、基体２は柔軟性を有していない光学素子のことをいう。

図１２Ａに示すように、柔軟性光学素子の表面に対して力Ｆを加えること、基体２が柔軟性を有するため、図１２Ｂに示すように、柔軟性光学素子の表面に加わる力Ｆが分散する。このため、図１２Ｃに示すように、力Ｆを開放すると、柔軟性光学素子の表面は元の平坦な状態に戻る。

一方、図１３Ａに示すように、柔軟性光学素子の表面に対して力Ｆを加えること、基体２が固いため、図１３Ｂに示すように、柔軟性光学素子の表面に加わる力Ｆが分散しない。このため、図１３Ｃに示すように、力Ｆを開放すると、柔軟性光学素子の表面に、塑性変形や凝集剥離が発生する。

＜６．第６の実施形態＞
図１４Ａは、本発明の第６の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す平面図である。図１４Ｂは、本発明の第６の実施形態に係る光学素子の構成の一例を示す断面図である。図１４Ａおよび図１４Ｂに示すように、この光学素子１は、基体２を備えていない点において、第１の実施形態とは異なっている。光学素子１は、可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部からなる複数の構造体３を備え、隣り合う構造体３の下部同士が繋がっている。下部同士が接合された複数の構造体３が、全体として網目状を有していてもよい。

第６の実施形態によれば、光学素子２が基体２を備えていないので、優れた可撓性を実現することができる。したがって、光学素子２を３次元的な曲面に貼り付けることができる。また、粘着剤なしで光学素子１を被着体に貼り付けることも可能である。

＜７．第７の実施形態＞
［液晶表示装置の構成］
図１５は、本発明の第７の実施形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す。図１５に示すように、この液晶表示装置は、光を出射するバックライト１０３と、バックライト１０３から出射された光を時間的空間的に変調して画像を表示する液晶表示素子１０１とを備える。液晶表示素子１０１の両面にはそれぞれ、光学部品である偏光子１０１ａ、１０１ｂが設けられている。液晶表示素子１０１の表示面側に設けられた偏光子１０１ｂには、光学素子１が設けられている。ここでは、光学素子１が設けられた偏光子１０１ｂを反射防止機能付き偏光子１０２と称する。この反射防止機能付き偏光子１０２は、反射防止機能付き光学部品の一例である。

以下、液晶表示装置を構成するバックライト１０３、液晶表示素子１０１、偏光子１０１ａ、１０１ｂ、および光学素子１について順次説明する。

（バックライト）
バックライト１０３としては、例えば直下型バックライト、エッジ型バックライト、平面光源型バックライトを用いることができる。バックライト１０３は、例えば、光源、反射板、光学フィルムなどを備える。光源としては、例えば、冷陰極蛍光管（Cold Cathode Fluorescent Lamp：ＣＣＦＬ）、熱陰極蛍光管（Hot Cathode Fluorescent Lamp：ＨＣＦＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（Organic ElectroLuminescence：ＯＥＬ）、無機エレクトロルミネッセンス（ＩＥＬ：Inorganic ElectroLuminescence）および発光ダイオード(Light Emitting Diode：ＬＥＤ)などが用いられる。

（液晶表示素子）
液晶表示素子１０１としては、例えば、ツイステッドネマチック（Twisted Nematic：ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（Super Twisted Nematic：ＳＴＮ）モード、垂直配向（Vertically Aligned：ＶＡ）モード、水平配列（In-Plane Switching：ＩＰＳ）モード、光学補償ベンド配向（Optically Compensated Birefringence：ＯＣＢ）モード、強誘電性（Ferroelectric Liquid Crystal：ＦＬＣ）モード、高分子分散型液晶（Polymer Dispersed Liquid Crystal：ＰＤＬＣ）モード、相転移型ゲスト・ホスト（Phase Change Guest Host：ＰＣＧＨ）モードなどの表示モードのものを用いることができる。

（偏光子）
液晶表示素子１０１の両面には、例えば偏光子１０１ａ、１０１ｂがその透過軸が互いに直交するようにして設けられる。偏光子１０１ａ、１０１ｂは、入射する光のうち直交する偏光成分の一方のみを通過させ、他方を吸収により遮へいするものである。偏光子１０１ａ、１０１ｂとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたものを用いることができる。偏光子１０１ａ、１０１ｂの両面には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムなどの保護層を設けることが好ましい。このように保護層を設ける場合、光学素子１の基体２が保護層を兼ねる構成とすることが好ましい。このような構成とすることで、反射防止機能付き偏光子１０２を薄型化できるからである。

（光学素子）
光学素子１としては、例えば、上述の第１〜第６の実施形態に係る光学素子のうちの１つを用いることができる。

第８の実施形態によれば、液晶表示装置の表示面に光学素子１を設けているので、液晶表示装置の表示面の反射防止機能を向上することができる。したがって、液晶表示装置の視認性を向上することができる。

＜８．第８の実施形態＞
図１６は、本発明の第８の実施形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す。この液晶表示装置は、液晶表示素子１０１の前面側に前面部材１０４を備え、液晶表示素子１０１の前面、前面部材１０４の前面および裏面の少なくとも１つの面に、光学素子１を備える点において、第７の実施形態のものとは異なっている。図１６では、液晶表示素子１０１の前面、ならびに前面部材１０４の前面および裏面のすべての面に、光学素子１を備える例が示されている。液晶表示素子１０１と前面部材１０４との間には、例えば空気層が形成されている。上述の第７の実施形態と同様の部分には同一の符号を付して説明を省略する。ここで、前面とは表示面となる側の面、すなわち観察者側となる面を示し、裏面とは表示面と反対となる側の面を示す。

前面部材１０４は、液晶表示素子１０１の前面（観察者側）に機械的、熱的、および耐候的保護や、意匠性を目的として用いるフロントパネルなどである。前面部材１０４は、例えば、シート状、フィルム状、または板状を有する。前面部材１０４の材料としては、例えば、ガラス、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などを用いることができるが、特にこれらの材料に限定されるものではなく、透明性を有する材料であれば用いることができる。

第９の実施形態によれば、第８の実施形態と同様に、液晶表示装置の視認性を向上することができる。

＜９．第９の実施形態＞
図１７Ａは、本発明の第９の実施形態に係る情報入力装置を備える表示装置の構成の一例を示す分解斜視図である。図１７Ｂは、本発明の第９の実施形態に係る情報入力装置の構成の一例を示す断面図である。図１７Ａおよび１７Ｂに示すように、情報入力装置２０１が表示装置２０２上に設けられ、情報入力装置２０１と表示装置２０２とは、例えば貼合層２１２により貼り合わされている。

情報入力装置２０１は、いわゆるタッチパネルであり、指などにより情報を入力するための情報入力面を有する情報入力素子２１１と、情報入力面上に設けられた光学素子１とを備える。情報入力装置２０１と光学素子１とは、例えば貼合層２１３を介して貼り合わされている。情報入力装置２０１としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、超音波方式などのタッチパネルを用いることができる。光学素子１としては、例えば、上述の第１〜第７の実施形態に係る光学素子１のうちの１つを用いることができる。

なお、図１７Ｂでは、基体２を有する光学素子１を情報入力素子２１１上に設ける例が示されているが、基体２のない光学素子１、すなわち複数の構造体３を情報入力素子２１１上に直接設けるようにしてもよい。また、基体２が情報入力素子２１１の上部電極の基材を兼ねるようにしてもよい。

表示装置２０１としては、例えば、液晶ディスプレイ、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置を用いることができる。

第９の実施形態では、情報入力装置２０１の情報入力面に光学素子１を設けているので、情報入力装置２０１の情報入力面の反射防止機能を向上することができる。したがって、情報入力装置２０１を有する表示装置２０２の視認性を向上することができる。

＜１０．第１０の実施形態＞
図１８Ａは、本発明の第１０の実施形態に係る情報入力装置を備える表示装置の構成の一例を示す分解斜視図である。図１８Ｂは、本発明の第１０の実施形態に係る情報入力装置の構成の一例を示す断面図である。図１８Ａおよび図１８Ｂに示すように、情報入力装置２０１が、情報入力素子２１１の情報入力面上に前面部材２０３をさらに備え、この前面部材２０３の前面に光学素子１を備える点において、第９の実施形態とは異なっている。情報入力素子２１１と前面部材２０３とは貼合層２１３により貼り合わされ、前面部材２０３と光学素子１とは、例えば貼合層２１４により貼り合わされる。

第１０の実施形態では、前面部材２０３上に光学素子１を備えているので、第９の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜１１．第１１の実施形態＞
図１９は、本発明の第１１の実施形態に係る反射防止機能付き写真の構成の一例を示す断面図である。反射防止機能付き写真は、写真３１０と、この写真３１０上に貼合層２１３を介して貼り合わされた光学素子１とを備える。

写真３１０は、いわゆるインクジェット用写真紙であり、支持体３０２と、この支持体３０２上に設けられたインク吸収層３１１とを備え、この写真には予め所定の写真が印刷されている。支持体３０２としては、例えば、ポリオレフィン樹脂を基紙に塗布したポリオレフィン樹脂被覆紙等の樹脂被覆型の支持体を用いることができる。インク吸収層３１１としては、例えば、シリカ微粒子、二酸化チタン微粒子等の無機顔料微粒子等を含む多孔質セラミックスを用いることができる。なお、写真はインクジェット用写真紙に限定されるものではなく、例えばハロゲン化銀写真印画紙等を用いることも可能である。

（光学素子）
光学素子１としては、例えば、上述の第１〜第６の実施形態に係る光学素子のうちの１つを用いることができる。

第１１の実施形態によれば、写真３１０上に光学素子１を設けているので、写真表面での光の反射を抑制し、写真の視認性を向上することができる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

（実施例１−１）
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラス原盤の表面に以下のようにしてレジストを着膜した。すなわち、シンナーでフォトレジストを１／１０に希釈し、この希釈レジストをディップによりガラスロール原盤の円柱面上に厚さ１３０ｎｍ程度に塗布することにより、レジストを着膜した。次に、記録媒体としてのガラス原盤を、図５に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジストを露光することにより、１つの螺旋状に連なるとともに、隣接する３列のトラック間において準六方格子パターンをなす潜像がレジストにパターニングされた。

具体的には、準六方格子パターンが形成されるべき領域に対して、前記ガラスロール原盤表面まで露光するパワー０．５０ｍＷ／ｍのレーザー光を照射し凹形状の準六方格子パターンを形成した。なお、トラック列の列方向のレジスト厚さは１２０ｎｍ程度、トラックの延在方向のレジスト厚さは１００ｎｍ程度であった。

次に、ガラスロール原盤上のレジストに現像処理を施して、露光した部分のレジストを溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジストを現像した。これにより、レジストが準六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。

次に、ドライエッチングによって、エッチング処理とアッシング処理を交互に行うことにより、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状の凹部が得られた。このときのパターンでのエッチング量（深さ）はエッチング時間によって変化させた。最後に、Ｏ₂アッシングにより完全にフォトレジストを除去することにより、凹形状の準六方格子パターンのモスアイガラスロールマスタが得られた。列方向における凹部の深さは、トラックの延在方向における凹部の深さより深かった。

次に、下記の材料を配合して紫外線硬化樹脂組成物（転写材料）（紫外線樹脂組成物Ａ）を調製した。
ウレタンアクリレートブレンド ９２質量％
（東亞合成株式会社 アロニックスＭ−１６００ ４０質量％＋日本合成化学工業株式会社 紫光 ＵＶ−６１００Ｂ ６０質量％）
光重合開始剤 ３質量％
（ＢＡＳＦジャパン製、商品名：Irgacure １８４）
変性シリコーン ５質量％
（アクリル基を有するポリジメチルシロキサン）

次に、厚さ４００μｍのウレタンフィルム（シーダム社製）を基材として準備した。このウレタンフィルムを形成する樹脂の弾性率は、５ＭＰａであった。次に、ウレタンフィルム上に下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を数μｍの厚さで塗布した後、この塗布面に対してモスアイガラスロールマスタを密着させ、紫外線を照射し硬化させながら剥離することにより、光学素子を作製した。この際、塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とウレタンフィルムとの間の基底層を形成した。この硬化後の基底層を形成する樹脂の弾性率は、２０ＭＰａであった。

次に、作製した光学素子の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscope）により観察を行った。次に、ＡＦＭの断面プロファイルから構造体のピッチとアスペクト比を求めた。その結果、ピッチは２５０ｎｍ、アスペクト比は０．８であった。

（実施例１−２）
ウレタンアクリレートブレンドの配合量を９５．７５質量％、変性シリコーンの配合量を１．２５質量％とする以外のことは実施例１−１と同様にして、光学素子を作製した。

（実施例１−３）
ウレタンアクリレートブレンドの配合量を９６．３７５質量％、変性シリコーンの配合量を０．０６２５質量％とする以外のことは実施例１−１と同様にして、光学素子を作製した。

（実施例１−４）
ウレタンアクリレートブレンドの配合量を９６．６８７５質量％、変性シリコーンの配合量を０．０３１２５質量％とする以外のことは実施例１−１と同様にして、光学素子を作製した。

（比較例１）
ウレタンアクリレートブレンドの配合量を９７質量％、変性シリコーンの配合量を０質量％とする以外のことは実施例１−１と同様にして、光学素子を作製した。

（比較例２）
下記の材料を配合して紫外線硬化樹脂組成物（転写材料）（紫外線硬化樹脂組成物Ｂ）を調製する以外のことは実施例１−１と同様にして、光学素子を作製した。
ハードコート剤
光硬化型樹脂（東亞合成株式会社製、商品名：アロニックス Ｍ−３０５） ９２質量％
光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン製、商品名：Irgacure １８４） ３質量％
フッ素系モノマー（共栄社化学、商品名：ＦＡ−１０８） ５質量％

（弾性率測定と伸び率測定）
（弾性率測定）
光学素子の作製に用いた紫外線硬化樹脂組成物で平坦膜を作製し（ＵＶ硬化）、ＪＩＳ Ｋ７３１１に規定されたダンベル状試験片（有効資料幅５ｍｍ）を作製し、株式会社 島津製作所製 精密万能試験機オートグラフ ＡＧ−５ｋＮＸで測定した。その結果を表１に示す。上記試料を得られない小型試料の場合は、微小硬度計、例えば、株式会社フィッシャー・インストルメンツ社製のＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ−５００を用いて測定することも可能である。

また、モスアイパターンを形成した光学素子の弾性率を、表面皮膜物性試験機（（株）フィッシャー・インスツルメンツ社製、商品名：フィッシャースコープＨＭ−５００）を用いて測定した。その結果、表面皮膜物性試験機により計測した弾性率の値と、引っ張り試験機を用いて測定した材料固有の弾性率の値とは、ほぼ同一の値であった。

（伸び率測定）
また、弾性率と同時に伸び率も測定した。

（動摩擦係数測定）
新東科学株式会社製のＨＥＩＤＯＮ ＳＵＲＦＡＣＥ ＰＲＯＰＥＲＴＹ ＴＥＳＴＥＲ ＴＹＰＥ：１４ＤＲを用いて、作製した光学素子と、滑り片を密着させ、動摩擦係数の測定をした。
法力線は、φ７．５ｍｍの球形滑り片によって生じさせた。均一な圧力分布をかけるために、滑り片を興和株式会社製１０００天上ネルで覆った。滑り片の全質量は、２００ｇとした。摩擦を引き起こす運動には、振動があってはならず、１２０ｍｍ／ｍｉｎとし、３０ｍｍの区間で動摩擦係数の測定を行った。その評価結果を表２および表３に示す。

（摩耗試験）
テスター産業株式会社製 ＡＢ−３０１ 学振型摩擦堅牢度試験機を用いて、作製した光学素子と、滑り片を密着させ、摩耗試験を行った。
法力線は、５ｃｍ角の滑り片によって生じさせた。均一な圧力分布をかけるために、滑り片を興和株式会社製１０００天上ネルで覆った。滑り片の全質量は、１００ｇとした。摩耗を引き起こす運動は、１分間に３０往復、計５０００回とした。
試験後、目と試料の間隔を３０ｃｍ離し、透過光で傷を確認した。次に、裏面に黒色塗料を塗り、距離を５ｃｍとし反射光で摩耗を確認した。その評価結果を表２および表３に示す。なお、表２および表３中において、「○」印、「△」印、および「×」印は以下の評価結果を示す。
○：離面を黒く塗り、反射光を間近で観察しても摩耗が確認されない。
△：反射光での確認では摩耗が確認できるが、３０ｃｍ離して透過光観察しても摩耗が確認されない。
×：摩耗が目立つ。
なお、裏面を黒くした場合の反射光による確認で５ｃｍの巾の中に、傷に見える摩耗が１０本以下であると、反射光での確認では摩耗が確認できるが、３０ｃｍ離して透過光観察しても摩耗が確認されなくない傾向がある（「△」印にて示した評価結果）。
また、実使用の観点では、目と試料の間隔を３０ｃｍ離し、透過光で傷が確認されなければ、実用の範囲内であることが、実験からわかっている。

（指紋拭き取り試験）
光学素子のモスアイパターンの形成側の面に指紋を付着した後、コットンシーガル（千代田製紙（株）製）を用いて、１８ｋＰａ程度の圧力で５秒間、１０往復の乾拭きを行った。拭き取り性の評価は、指紋を付着させる前と乾拭きした後での反射率を比較することにより行い、反射率が指紋を付着させる前と乾拭きした後で同一の値であった場合を乾拭き可能とみなした。なお、表中では、乾拭き可能とみなす場合を○、乾拭き可能でない場合を×とする。

（視感反射率）
まず、サンプルとしての光学素子の裏面側に対して、黒色テープを貼り合わせることにより、光学素子の裏面からの反射をカットする処理を施した。次に、紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製、商品名：Ｖ−５００）を用いて、反射スペクトルを測定した。測定の際には、正反射５°ユニットを使用した。次に、測定した反射スペクトルから視感反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１−１９８２に準拠して求めた。

表１は、実施例１−１〜１−４、比較例１の光学素子の作製に用いた紫外線硬化樹脂組成物の弾性率測定および伸び率測定の結果を示す。

表２は、実施例１−１〜１−４、比較例１の光学素子の動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験の結果、実施例１−２および比較例１の視感反射率を示す。

表３は、比較例２の光学素子の動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験の結果、視感反射率を示す。

表１〜表３から以下のことがわかる。
動摩擦係数が０．８５以下であると、傷が視認されにくくなる傾向がある。
動摩擦係数が０．８以下であると、摩耗が発生しくなる傾向がある。

動摩擦係数が０．８５以下である実施例１−２では、摩擦試験前後の視感反射率の変化が抑制されて、０．００７％という極めて小さい値になっている。これに対して、動摩擦係数が０．８５を超える比較例１、２では、摩擦試験前後の視感反射率の変化が大きく、２．９６％という大きな値になっている。

上述したサンプル間での視感反射率変化の違いは、以下の点に起因するものと考えられる。すなわち、動摩擦係数が０．８５以下である実施例１−２では、構造体表面のべたつきが抑制されて、隣接する構造体同士のくっ付きを抑えられているため、構造体（モスアイ）の反射防止機能が殆ど損なわれていないと考えられる。これに対して、動摩擦係数が０．８５を超える比較例１、２では、構造体表面のべたつきが抑制されず、隣接する構造体同士がくっ付いてしまうため、構造体（モスアイ）の反射防止機能が損なわれていると考えられる。

（実施例２−１〜２−４、比較例３）
構造体のピッチを２５０ｎｍ、構造体のアスペクト比を０．７５とする以外は実施例１−１〜実施例１−４、比較例１と同様にして光学素子を作製した。

（実施例３−１〜３−３、比較例４〜５）
構造体のピッチを２５０ｎｍ、構造体のアスペクト比を１．２とする以外は実施例１−１〜実施例１−４、比較例１と同様にして光学素子を作製した。

（動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験）
上述のようにして作製した光学素子の動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験を実施例１−１〜１−４、比較例１〜２と同様にして行った。その結果を表４に示す。

表４は、実施例２−１〜２−４、比較例３の光学素子の動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験の結果を示す。表５は、実施例３−１〜３−３、比較例４〜５の光学素子の動摩擦係数測定、摩耗試験および指紋拭き取り試験の結果を示す。

表４および表５から、摩耗試験および拭き取り性試験の結果は、構造体のアスペクト比に依存しないことがわかる。

（実施例４）
実施例１−２の光学素子の転写（作製）を繰り返し、所定の転写回数（作製回数）にて作製された光学素子について、動摩擦係数測定、接触角測定、指紋拭き取り試験および摩耗試験を行った。その結果を表６に示す。
なお、動摩擦係数測定、指紋拭き取り試験および摩耗試験は、実施例１−１〜２−４、比較例１〜５と同様にして行った。
接触角測定は以下のようにして行った。

（接触角測定）
接触角計（協和界面化学社製、製品名ＣＡ−ＸＥ型）で、光学素子のモスアイパターン形成側の面の接触角を測定した。接触角を測定する液体には、オレイン酸を用いた。

（比較例６）
比較例２と同様の材料を配合して紫外線硬化樹脂組成物（転写材料）を調製する以外のことは実施例４と同様にして、所定の転写回にて動摩擦係数測定、接触角測定、指紋拭き取り試験および摩耗試験を行った。その結果を表７に示す。

表６は、１回目および６３回目の転写により作製された実施例４の光学素子の動摩擦係数測定、接触角測定、指紋拭き取り試験および摩耗試験の結果を示す。

表７は、１回目および６３回目の転写により作製された比較例６の光学素子の動摩擦係数測定、接触角測定、指紋拭き取り試験および摩耗試験の結果を示す。

表６および表７から以下のことがわかる。
シリコーン系添加剤を用いた実施例４では、６３回転写した後でも摩耗が抑制されているのに対して、フッ素系添加剤を用いた比較例６では、６３回転写した後では摩耗が目立つようになる。
シリコーン添加剤を用いた系においては、転写１回目と６３回目のレプリカは、動摩擦係数、オレイン酸接触角、指紋拭き取り性は変化なかった。しかし、フッ素系添加剤を用いた系においては、１回目の転写と６３回目の転写で、得られる物性が異なった。原因は転写を重ねる毎に、原盤の離型剤が劣化し、フッ素系添加剤をモスアイ表面にだすことができなくなったためである。
したがって、紫外線硬化性樹脂組成物としては、連続転写の観点からすると、シリコーン系添加剤を添加した紫外線硬化性樹脂組成物が好ましいことがわかる。

（サンプル１−１）
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラス原盤の表面に以下のようにしてレジストを着膜した。すなわち、シンナーでフォトレジストを１／１０に希釈し、この希釈レジストをディップによりガラスロール原盤の円柱面上に厚さ１３０ｎｍ程度に塗布することにより、レジストを着膜した。次に、記録媒体としてのガラス原盤を、図５に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジストを露光することにより、１つの螺旋状に連なるとともに、隣接する３列のトラック間において準六方格子パターンをなす潜像がレジストにパターニングされた。

具体的には、六方格子パターンが形成されるべき領域に対して、前記ガラスロール原盤表面まで露光するパワー０．５０ｍＷ／ｍのレーザー光を照射し凹形状の準六方格子パターンを形成した。なお、トラック列の列方向のレジスト厚さは１２０ｎｍ程度、トラックの延在方向のレジスト厚さは１００ｎｍ程度であった。

次に、ガラスロール原盤上のレジストに現像処理を施して、露光した部分のレジストを溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジストを現像した。これにより、レジストが準六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。

次に、ドライエッチングによって、エッチング処理とアッシング処理を交互に行うことにより、楕円錐形状の凹部が得られた。このときのパターンでのエッチング量（深さ）はエッチング時間によって変化させた。最後に、Ｏ₂アッシングにより完全にフォトレジストを除去することにより、凹形状の準六方格子パターンのモスアイガラスロールマスタが得られた。列方向における凹部の深さは、トラックの延在方向における凹部の深さより深かった。

上記モスアイガラスロールマスタと下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を数μｍの厚さで塗布したポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）製シートを密着させ、紫外線を照射し硬化させながら剥離することにより、光学素子を作製した。

次に、光学素子のモスアイパターンが形成された面に、フッ素系処理剤（ダイキン化成品販売株式会社製 商品名オプツールＤＳＸ）をディップコーティングすることにより、フッ素処理を行った。以上により、サンプル１−１の光学素子が作製された。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー ８０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
低粘度モノアクリレートオリゴマー ２０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ１５２）
光重合開始剤 ４ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）
なお、光重合開始剤の添加量（４ｗｔ％）は、紫外線樹脂組成物を１００ｗｔ％とした場合の添加量である。（以下のサンプル１−２〜６−３においても同様）

（サンプル１−２）
１トラック毎に極性反転フォマッター信号の周波数と、ロールの回転数と、適切な送りピッチとを調整して、レジスト層をパターニングすることにより、サンプル１−１とピッチおよびアスペクト比が異なる準六方格子パターンをレジスト層に記録した。これ以外のことは、サンプル１−１と同様にしてサンプル１−２の光学素子を作製した。

（サンプル１−３）
１トラック毎に極性反転フォマッター信号の周波数と、ロールの回転数と、適切な送りピッチとを調整して、レジスト層をパターニングすることにより、サンプル１−１とピッチおよびアスペクト比が異なる準六方格子パターンをレジスト層に記録した。これ以外のことは、サンプル１−１と同様にして光学素子を作製した。

（サンプル２−１〜サンプル２−３）
下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を用いた点以外は、サンプル１−１〜サンプル１−３のそれぞれと同様にして、サンプル２−１〜サンプル２−３の光学素子を作製した。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー ３０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
２官能アクリレート ７０質量部
（大阪有機化学工業株式会社製、商品名ビスコート３１０ＨＰ）
光重合開始剤 ４ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

（サンプル３−１〜サンプル３−３）
下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を用いた点以外は、サンプル１−１〜サンプル１−３のそれぞれと同様にして、サンプル３−１〜サンプル３−３の光学素子を作製した。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー １５質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
２官能アクリレート ８５質量部
（大阪有機化学工業株式会社製、商品名ビスコート３１０ＨＰ）
光重合開始剤 ４ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

（サンプル４−１〜サンプル４−３）
下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を用いた点以外は、サンプル１−１〜サンプル１−３のそれぞれと同様にして、サンプル４−１〜サンプル４−３の光学素子を作製した。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー ５質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
２官能アクリレート ９５質量部
（大阪有機化学工業株式会社製、商品名ビスコート３１０ＨＰ）
光重合開始剤 ４ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

（サンプル５−１〜サンプル５−３）
下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を用いた点以外は、サンプル１−１〜サンプル１−３のそれぞれと同様にして、サンプル５−１〜サンプル５−３の光学素子を作製した。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
２官能アクリレート ８０質量部
（大阪有機化学工業株式会社製、商品名ビスコート３１０ＨＰ）
５官能ウレタンアクリレート ２０質量部
（共栄社化学株式会社製、商品名ＵＡ５１０Ｈ）
光重合開始剤 ４ｗｔ％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

（サンプル６−１〜サンプル６−３）
光学素子のモスアイパターンが形成された面に、フッ素処理をする工程を省略する点以外は、サンプル１−１〜サンプル１−３のそれぞれと同様にして、サンプル６−１〜サンプル６−３の光学素子を作製した。

（形状の評価）
作製したサンプル１−１〜サンプル６−３の光学素子について、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscope）により観察を行った。そして、ＡＦＭの断面プロファイルから各サンプルの構造体のピッチとアスペクト比を求めた。その結果を表８に示す。

（接触角の測定）
接触角計（協和界面化学社製 製品名ＣＡ−ＸＥ型）で、光学素子のモスアイパターン形成側の面の接触角を測定した。接触角を測定する液体には、オレイン酸を用いた。

（拭き取り性の評価）
光学素子のモスアイパターンの形成側の面に指紋を付着した後、コットンシーガル（千代田製紙（株）製）を用いて、１８ｋＰａ程度の圧力で５秒間、１０往復の乾拭きを行った。拭き取り性の評価は、指紋を付着させる前と乾拭きした後での反射率を比較することにより行い、反射率が指紋を付着させる前と乾拭きした後で同一の値であった場合を乾拭き可能とみなした。なお、表８では、乾拭き可能を「○」と表記し、乾拭き不可能を「×」と表記する。反射率は、評価装置（日本分光社製 商品名Ｖ−５５０）を用いて、波長５３２ｎｍの可視光の反射率を測定した。その結果を表８に示す。

（弾性率の測定）
（引っ張り試験機による測定）
光学素子の作製に用いた紫外線硬化樹脂組成物と同様の材料で平坦膜を作製し（ＵＶ硬化）、幅１４ｍｍ長さ５０ｍｍ厚さ約２００μｍの形状のフィルム試料に切り出して使用した。このフィルム試料の弾性率を、ＪＩＳ Ｋ７１２７に則って、引っ張り試験機（株式会社島津製作所製 製品名ＡＧ-Ｘ）を用いて測定した。その結果を表８に示す。

なお、モスアイパターンを形成した光学素子の弾性率を、表面皮膜物性試験機（（株）フィッシャー・インスツルメンツ社製：フィッシャースコープＨＭ−５００）を用いて測定した。その結果、微小硬度計により計測した弾性率の値および引っ張り試験機を用いて測定した材料固有の弾性率の値は、ほぼ同一であった。

［評価］
表８に示すように、サンプル５−１〜サンプル５−３では、拭き取り性評価において、乾拭きが不可能であった。これは、光学素子の弾性率が、５ＭＰａ〜１２００ＭＰａから外れているからである。
また、サンプル１−１〜サンプル１−３と、サンプル６−１〜サンプル６−３との比較によれば、サンプル１−１〜サンプル１−３では、拭き取り性評価において、コットンシーガルがすべりやすく、指紋が拭き取りやすかった。一方、サンプル６−１〜サンプル６−３では、コットンシーガルがすべりにくく、指紋がつくと、指紋がついた場所よりも大きく染み広がった。これは、サンプル１−１〜サンプル１−３では、光学素子のモスアイパターン形成面にフッ素コートを行っており、サンプル６−１〜サンプル６−３では、フッ素コートを行っていないからである。

以下のサンプルにおいて、基体、基材および基底層の厚さは以下のようにして測定した。
光学素子を切断し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：scanning electron microscope）にて撮影し、撮影したＳＥＭ写真から、基体、基材または基底層の厚さを測定した。

また、以下のサンプルにおいて、基体、基材および基底層の弾性率は以下のようにして測定した。
JIS K7311に規定されたダンベル状試験片（有効試料幅5mm）を作製し、株式会社 島津製作所製 精密万能試験機オートグラフAG-5kNXで測定した。上記試料を得られない小型試料場合は、微小硬度計、例えばFischer インストルメンツ PICODENTOR HM500を用いて測定することも可能である。また、さらに小型の場合はAFMによる測定も可能である（共立出版株式会社発行、高分子ナノ材料P.81-P.111参照）。

（サンプル７−１）
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラス原盤の表面に以下のようにしてレジストを着膜した。すなわち、シンナーでフォトレジストを１／１０に希釈し、この希釈レジストをディップによりガラスロール原盤の円柱面上に厚さ１３０ｎｍ程度に塗布することにより、レジストを着膜した。次に、記録媒体としてのガラス原盤を、図５に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジストを露光することにより、１つの螺旋状に連なるとともに、隣接する３列のトラック間において準六方格子パターンをなす潜像がレジストにパターニングされた。

具体的には、六方格子パターンが形成されるべき領域に対して、前記ガラスロール原盤表面まで露光するパワー０．５０ｍＷ／ｍのレーザー光を照射し凹形状の準六方格子パターンを形成した。なお、トラック列の列方向のレジスト厚さは１２０ｎｍ程度、トラックの延在方向のレジスト厚さは１００ｎｍ程度であった。

次に、ガラスロール原盤上のレジストに現像処理を施して、露光した部分のレジストを溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジストを現像した。これにより、レジスト層が準六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。

次に、ドライエッチングによって、エッチング処理とアッシング処理を交互に行うことにより、楕円錐形状の凹部が得られた。このときのパターンでのエッチング量（深さ）はエッチング時間によって変化させた。最後に、Ｏ₂アッシングにより完全にフォトレジストを除去することにより、凹形状の準六方格子パターンのモスアイガラスロールマスタが得られた。列方向における凹部の深さは、トラックの延在方向における凹部の深さより深かった。

次に、厚さ４００μｍのウレタンフィルム（シーダム社製）を基材として準備した。このウレタンフィルムを形成する樹脂の弾性率は、１０ＭＰａであった。次に、ウレタンフィルム上に下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を数μｍの厚さで塗布した後、この塗布面に対してモスアイガラスロールマスタを密着させ、紫外線を照射し硬化させながら剥離することにより、光学素子を作製した。この際、塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とウレタンフィルムとの間に２０ｎｍの基底層を形成した。この硬化後の基底層を形成する樹脂の弾性率は、２０ＭＰａであった。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー ８０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
低粘度モノアクリレートオリゴマー ２０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ１５２）
光重合開始剤 ４質量％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

次に、光学素子のモスアイパターンが形成された面に、フッ素系処理剤（ダイキン化成品販売株式会社製 商品名オプツールＤＳＸ）をディップコーティングすることにより、フッ素処理を行った。以上により、下記の構成を有するサンプル７−１の光学素子が作製された。

＜モスアイ構成＞
構造体の配列：準六方格子
高さ：２５０
ピッチ：２５０
アスペクト比：１

（サンプル７−２）
ウレタンフィルムの塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とウレタンフィルムとの間に厚さ６０μｍの基底層を形成した以外は、サンプル７−１と同様にして、サンプル７−２の光学素子を作製した。

（サンプル７−３）
ウレタンフィルムの塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とウレタンフィルムとの間に厚さ１２０μｍの基底層を形成した以外は、サンプル７−１と同様にして、サンプル７−３の光学素子を作製した。

（サンプル７−４）
ウレタンフィルムの塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とウレタンフィルムとの間に厚さ１５０μｍの基底層を形成した以外は、サンプル７−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−１）
ウレタンフィルムの厚さを２０μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−２）
ウレタンフィルムの厚さを４０μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−３）
ウレタンフィルムの厚さを８０μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−４）
ウレタンフィルムの厚さを１２０μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−５）
ウレタンフィルムの厚さを２００μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（サンプル８−６）
ウレタンフィルムの厚さを４００μｍとした以外は、サンプル８−１と同様にして、サンプル７−４の光学素子を作製した。

（引っ掻き試験）
まず、作製したサンプル７−１〜７−４、８−１〜８−６について、JISK5600-5-4の試験方法に準拠して引っ掻き試験を行った。具体的には、手押し式引掻き硬度試験機（株式会社安田精機製作所製、商品名：NO.553-S）を用いて、２Ｈの鉛筆でサンプル表面を引掻いた。次に、鉛筆の引いた痕を柔らかい布でふき取り、鉛筆の粉を除去した後、目視にてサンプル表面を観察した。次に、微細形状測定装置（KLA-Tencor社製、商品名Alpha-Step500）で塑性変形深さを測定した。それらの結果を表９、表１０および図２０Ａ、図２０Ｂに示す。なお、表９、表１０中の「塑性変形」および「凝集破壊」における「○」印、「△」印、および「×」印は以下の評価結果を示す。

（塑性変形）
◎：塑性変形の深さが０ｎｍ以上３５０ｎｍ未満であり、反射性能に変化がなく、目視で窪みが全く観察されない。
○：塑性変形の深さが３５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満であり、反射性能に変化がなく、目視で窪みが殆ど観察されない。
×：塑性変形の深さが１０００ｎｍ以上であり、反射性能が低下し、目視で窪みが明らかに観察される。

（凝集破壊）
◎：反射性能に変化がなく、目視で傷および剥離が全く観察されない。
○：反射性能に変化がなく、目視で傷および剥離が殆ど観察されない。
×：反射性能が低下し、目視で傷および剥離が明らかに観察される。

表９は、サンプル７−１〜７−４の引っ掻き試験の結果を示す。

表１０は、サンプル８−１〜８−６の引っ掻き試験の結果を示す。なお、サンプル８−１の塑性変形の窪みの深さは測定範囲外であったため、測定値の記載が省略されている。

表９、表１０および図２１Ａ、図２１Ｂから以下のことがわかる。
基材と基底層との総厚を６０μｍ以上にすると、塑性変形および凝集破壊の視認を抑制することができる。

（サンプル９−１）
基材として厚さ４００μｍのウレタンフィルムに代えて厚さ１５０μｍのＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート）フィルムを用いた以外は、サンプル７−１と同様にして、サンプル９−１の光学素子を作製した。なお、ＰＭＭＡフィルムの材料の弾性率は、３３００ＭＰａであった。

（サンプル９−２）
ウレタンフィルムの塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とＰＭＭＡフィルムとの間に厚さ６０μｍの基底層を形成した以外は、サンプル９−１と同様にして、サンプル９−２の光学素子を作製した。

（サンプル９−３）
ウレタンフィルムの塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とＰＭＭＡフィルムとの間に厚さ１２０μｍの基底層を形成した以外は、サンプル９−１と同様にして、サンプル９−３の光学素子を作製した。

（引っ掻き試験）
作製したサンプル９−１〜９−３について、上述のサンプル７−１〜７−４と同様の引っ掻き試験を行い、サンプル表面の観察、および塑性変形深さの測定を行った。その結果を表１１および図２１Ａに示す。

表１１は、サンプル９−１〜９−３の引っ掻き試験の結果を示す。

表１１および図２１Ａから以下のことがわかる。
基材として弾性率が１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下の範囲から外れるものを用いた場合には、基底層の厚さを６０μｍ以上とすることで、塑性変形および凝集破壊の発生を抑制することができる。

（サンプル１０−１）
まず、成形面となる領域が一様に窪んだ、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備した。次に、このガラスロール原盤を用いた以外はサンプル７−１と同様にして、準六方格子パターンのモスアイガラスロールマスタを得た。次に、シクロオレフィン系フィルム上に下記の組成を有する紫外線硬化樹脂組成物を塗布した後、この塗布面に対してモスアイガラスロールマスタを密着させ、紫外線を照射し硬化させながら剥離することにより、光学素子を作製した。この際、塗布面に対するモスアイガラスロールマスタの圧力を調整することにより、構造体とシクロオレフィン系フィルムとの間に、基体となる２０μｍの樹脂層を形成した。

＜紫外線硬化樹脂組成物＞
ポリエステルアクリレートオリゴマー ８０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ２２７１Ｅ）
低粘度モノアクリレートオリゴマー ２０質量部
（サートマー社製、商品名ＣＮ１５２）
光重合開始剤 ４質量％
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）

次に、シクロオレフィン系フィルムを樹脂層から剥離することにより、光学素子が得られた。次に、光学素子のモスアイパターンが形成された面に、フッ素系処理剤（ダイキン化成品販売株式会社製 商品名オプツールＤＳＸ）をディップコーティングすることにより、フッ素処理を行った。以上により、厚さ２０μｍの基体上に多数の構造体が形成された、サンプル１０−１の光学素子が作製された。

（サンプル１０−２）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを６０μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（サンプル１０−３）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを１２０μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（サンプル１０−４）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを２５０μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（サンプル１０−５）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを５００μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（サンプル１０−６）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを７５０μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（サンプル１０−７）
基体と構造体とを一体成形し、基体の厚さを１０００μｍとする以外はサンプル７−１と同様にして、サンプル１０−１の光学素子を作製した。

（引っ掻き試験）
作製したサンプル１０−１〜１０−７について、上述のサンプル７−１〜７−４と同様の引っ掻き試験を行い、サンプル表面の観察、および塑性変形深さの測定を行った。その結果を表１２および図２１Ｂに示す。

表１２は、サンプル１０−１〜１０−７の引っ掻き試験の結果を示す。なお、サンプル１０−１の塑性変形の窪みの深さは測定範囲外であったため、測定値の記載が省略されている。

表１２および図２１Ｂから以下のことがわかる。
構造体と基体とを一体成形した場合には、基体の厚さを６０μｍ以上とすることで、塑性変形および凝集破壊の発生を抑制することができる。

（試験例１−１〜１−１０）
シミュレーションにより、光学フィルム表面を鉛筆により押圧したときの塑性変形領域の深さを、以下のようにして求めた。
まず、図２２に示す２層構造の光学フィルムを設定した。この光学フィルムの物性値の設定条件を以下に示す。なお、プログラムとしては、ANSYS Structural（ANSYS,INC.製）を用いた。
基材
厚さＤ：４０μｍ
弾性率：０〜１００００ＭＰａ
表面層
厚さｄ：２０μｍ
弾性率：２０ＭＰａ

次に、図２２に示す斜線の領域に対して鉛筆を押圧したときの塑性変形領域の深さを求めた。以下に押圧の条件を示す。
押圧の加重：０．７５ｋｇ
押圧の面積（斜線領域の面積）：２ｍｍ×０．５ｍｍ

図２３Ａは、試験例１−１〜１−１０のシミュレーション結果を示すグラフである。表１３は、試験例１−１〜１−１０のシミュレーション結果を示すグラフである。なお、表１３中の「塑性変形」および「凝集破壊」における「○」印、「△」印、および「×」印は以下の評価結果を示す。

（塑性変形）
◎：塑性変形の深さが０ｎｍ以上３５０ｎｍ未満である。なお、塑性変形の深さをこの範囲にすることで、反射性能に変化がなく、目視で窪みが全く観察されなくなる。
○：塑性変形の深さが３５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である。なお、塑性変形の深さをこの範囲にすることで、反射性能に変化がなく、目視で窪みが殆ど観察されなくなる。
×：塑性変形の深さが１０００ｎｍ以上である。なお、塑性変形の深さがこの範囲になると、反射性能が低下し、かつ、目視で窪みが観察されるようになってしまう。

なお、モスアイ構造体の高さは基底層の厚さに比べて十分小さいので、上記シミュレーションでは光学フィルムの表面を平坦面として近似している。このように平坦面により近似したシミュレーションの結果は、モスアイ構造体が形成された光学フィルムの塑性変形の実測結果とほぼ一致する。

表１３および図２３Ａから以下のことがわかる。
基材の弾性率を３０００ＭＰａ以下にすることとで、塑性変形の深さを３５０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の範囲内とすることができる。すなわち、反射性能の低下を抑制し、かつ、目視による窪みの観察を防ぐことができる。
また、基材の弾性率を１５００ＭＰａ以下にすることで、塑性変形の深さを０ｎｍ以上３５０ｎｍ未満の範囲内にすることができる。すなわち、反射性能の低下を抑制し、目視による窪みの観察を更に防ぐことができる。

（試験例２−１〜２−４）
シミュレーションにより、光学フィルム表面を鉛筆により押圧したときの塑性変形領域の深さを、以下のようにして求めた。
まず、図２２に示す２層構造の光学フィルムを設定した。この光学フィルムの物性値の設定条件を以下に示す。なお、プログラムとしては、ANSYS Structural（ANSYS,INC.製）を用いた。
基材
厚さＤ：４００μｍ
弾性率：２０ＭＰａ
表面層
厚さｄ：２０μｍ、６０μｍ、１２０μｍ、２００μｍ
弾性率：２０ＭＰａ

次に、図２２に示す斜線の領域に対して鉛筆を押圧したときの塑性変形領域の深さを求めた。以下に押圧の条件を示す。
押圧の加重：０．７５ｋｇ
押圧の面積（斜線領域の面積）：２ｍｍ×０．５ｍｍ

（試験例３−１〜３−４）
光学フィルムの物性値の設定条件を以下のようにした以外は試験例２−１〜２−４と同様にして、シミュレーションを行った。
基材
厚さＤ：４００μｍ
弾性率：４０ＭＰａ
表面層
厚さｄ：２０μｍ、６０μｍ、１２０μｍ、２００μｍ
弾性率：２０ＭＰａ

（試験例４−１〜４−４）
光学フィルムの物性値の設定条件を以下のようにした以外は試験例２−１〜２−４と同様にして、シミュレーションを行った。
基材
厚さＤ：１３５μｍ
弾性率：３０００ＭＰａ
表面層
厚さｄ：２０μｍ、６０μｍ、１２０μｍ、２００μｍ
弾性率：２０ＭＰａ

図２３Ｂは、試験例２−１〜２−４、試験例３−１〜３−４、試験例４−１〜４−４のシミュレーション結果を示すグラフである。なお、モスアイ構造体の高さは基底層の厚さに比べて十分小さいので、上記シミュレーションでは光学フィルムの表面を平坦面として近似している。このように平坦面により近似したシミュレーションの結果は、モスアイ構造体が形成された光学フィルムの塑性変形の実測結果とほぼ一致する。

図２３Ｂから以下のことがわかる。
基材の弾性率に依らず、表面層の厚さを６０μｍ以上にすることにより、塑性変形の発生を抑制することができる。したがって、光学素子（モスアイフィルム）の基底層の厚さを６０μｍ以上とすることにより、塑性変形の発生を抑制することができる。

（試験例５）
シミュレーションにより、光学フィルム表面を鉛筆により押圧したときの伸び率を、以下のようにして求めた。
まず、図２２に示す２層構造の光学フィルムを設定した。この光学フィルムの物性値の設定条件を以下に示す。なお、プログラムとしては、ANSYS Structural（ANSYS,INC.製）を用いた。
基材
厚さＤ：４００μｍ
弾性率：１ＭＰａ
表面層
厚さｄ：２０μｍ
弾性率：１ＭＰａ

次に、図２２に示す斜線の領域に対して鉛筆を押圧したときの光学フィルムの伸び率を求めた。以下に押圧の条件を示す。
押圧の加重：０．７５ｋｇ
押圧の面積（斜線領域の面積）：２ｍｍ×０．５ｍｍ

上記シミュレーションの結果から、鉛筆で加圧されたことによる変形が原因の基材および表面層の伸び率が２０％未満の範囲であることがわかった。したがって、基材の破断を防ぐため、基材および表面層を形成する材料の伸び率を２０％以上に設定することが好ましい。

（試験例６）
シミュレーションにより、構造体同士が密着するための伸び率を以下のようにして求めた。
まず、図２４に示す光学素子を設定した。この光学素子の設定条件を以下に示す。なお、プログラムとしては、ANSYS Structural（ANSYS,INC.製）を用いた。
基体
厚さ：７５０ｎｍ
弾性率：１００ＭＰａ
ナノ構造体
形状：放物面状
高さ：２５０ｎｍ
ピッチ：２００ｎｍ
アスペクト：１．２５
構造体の個数：３個

次に、図２４に示す３つの構造体のうち、中央に位置する構造体に対して加重を加え、この構造体の頂部を、隣接する構造体の側面に接触させたときの伸び率を求めた。加重は、中央の構造体の一方の側面のうち、高さ２００ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲の領域に対して、７．５ＭＰａの圧力が加わるように調整した。この際、底面は固定した。

図２５Ａは、試験例６のシミュレーションの結果を示す図である。
シミュレーションの結果から、中央の構造体の頂部を、隣接する構造体の側面に接触させたきの伸び率の最大値は５０％であることがわかった。
したがって、隣接する構造体同士を接触または密着させるためには、構造体の材料の伸び率を５０％以上とすることが好ましい。

（試験例７）
シミュレーションにより、ピッチＰに対する構造体頂点の変位量ΔＸの変化率（（ΔＸ／Ｐ）×１００）［％］を以下のようにして求めた。
まず、図２４に示す光学素子を設定した。この光学素子の設定条件を以下に示す。なお、プログラムとしては、ANSYS Structural（ANSYS,INC.製）を用いた。
基体
厚さＤ：７５０ｎｍ
弾性率：１００ＭＰａ
ナノ構造体
高さ：２５０ｎｍ
ピッチ：１２５ｎｍ〜３１２．５ｎｍ
アスペクト：０．８〜２．０
構造体の個数：３個

次に、図２４に示す３つの構造体のうち、中央に位置する構造体に対して加重を加えた。具体的には、中央の構造体の一方の側面のうち、高さ２００ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲の領域に対して、７．５ＭＰａの圧力を加えて、ピッチＰに対する構造体頂点の変位量ΔＸの変化率（（ΔＸ／Ｐ）×１００）［％］を求めた。この際、底面は固定した。ここで、構造体の変位量ΔＸは、構造体頂点のＸ軸方向（図２４参照）への変化量のことをいう。

図２５Ｂは、試験例７のシミュレーションの結果を示すグラフである。図２５Ｂにおいて、横軸は、拭き取り性（Ａ．Ｒ．（アスペクトレシオ）依存性）であり、縦軸は、ピッチＰに対する構造体頂点の変位量ΔＸの変化率である。

図２５Ｂから、ピッチＰに対する構造体頂点の変位量ΔＸの変化率の増加に伴って、拭き取り性が向上することがわかる。例えば、Ａ．Ｒ．＝１．２では、Ａ．Ｒ．＝０．８に対して拭き取り性が１．６倍向上する。

上記拭き取り性向上の原因は以下の点にあるものと考えられる。
（１）高アスペクト化により、構造体の高さに対する構造体のピッチ幅が相対的に狭くなり、わずかなナノ構造体の変形でも効果的に油の押し出しが可能となるため、拭き取り性が向上したものと考えられる。
（２）高アスペクト化により、より小さい力でナノ構造体を変形することが可能となったため、拭き取り性が向上したものと考えられる。

（試験例８−１〜８−８）
ＲＣＷＡ法による光学シミュレーションにより、光学素子の視感反射率を求めた。
以下に、シミュレーションの条件を示す。
構造体の形状：放物面状
構造体の配置パターン：準六方格子
構造体の高さ：１２５〜１２５０ｎｍ
構造体の配置ピッチ：２５０ｎｍ
構造体のアスペクト比：０．５〜５

図２６は、試験例８−１〜８−８のシミュレーション結果を示すグラフである。表１４は、試験例８−１〜８−８のシミュレーション結果を示す表である。なお、図２６および表１４には、試験例７のシミュレーションの結果（拭き取り性）も示す。

図２６および表１４から、光学特性および拭き取り性を向上するためには、０．６未満であると反射特性および透過特性が低下する傾向にあり、アスペクト比を０．６以上とすることが好ましいことがわかる。但し、本発明者らが実験により得た知見によれば、原盤にフッ素コートを行い、転写樹脂にもシリコーン系添加材や、フッ素系添加材を添加し、離型性を向上させた状態において、転写時の離型性を考慮すると、アスペクト比を５以下に設定することが好ましい。更に、アスペクト比が４を超えた場合には、視感反射率に大きな変化がないことから、アスペクト比を０．６以上４以下の範囲内とすることが好ましい。

（実施例５）
厚さ１２５μｍの原紙の表面に、レジンコート層として例えばポリエチレンテレフタレート１００質量部に対して二酸化チタン（粒径０．３μｍ）を分散させた表面上に、インク受容層として、多孔質のセラミックコート剤が塗布されているインクジェット用紙を用意した。そして、これに対して、静止画を印刷後、基材厚５０μｍのＴＡＣフィルム上にモスアイを転写したフィルムを粘着剤で貼り合わせた。以上により、反射防止機能付き写真を作製した。

（視認性評価）
上述のように得られた実施例５の反射防止機能付き写真を蛍光灯下にて観察した。また、光学素子が貼合されていない写真も同様に観察した。その結果、反射防止機能付き斜視では、蛍光灯の光の反射が防止され、視認性が大きく向上していることがわかった。

以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。

また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、上述の実施形態では、本発明を液晶表示装置に適用する場合を例として説明したが、本発明は液晶表示装置以外の各種表示装置に対しても適用可能である。例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置に対しても本発明は適用可能である。また、本発明はタッチパネルにも適用することができる。具体的には例えば、タッチパネルなどに備えられる基材として、上述の実施形態に係る光学素子を用いることができる。

また、上述の実施形態において、構造体のピッチを適宜変更することで正面から斜めの方向に回折光を発生させることにより、覗き込み防止機能を光学素子に付与するようにしてもよい。

また、上述の実施形態において、構造体が形成された基体表面上に、低屈折率層をさらに形成するようにしてもよい。低屈折率層は、基体および構造体を構成する材料より低い屈折率を有する材料を主成分としていることが好ましい。このような低屈折率層の材料としては、例えばフッ素系樹脂などの有機系材料、またはＬｉＦ、ＭｇＦ₂などの無機系の低屈折率材料が挙げられる。

また、上述の実施形態では、感光性樹脂により光学素子を製造する場合を例として説明したが、光学素子の製造方法はこの例に限定されるものでない。例えば、熱転写や射出成形により光学素子を製造するようにしてもよい。

また、上述の実施形態では、円柱状または円筒状の原盤の外周面に凹状または凸状の構造体を形成する場合を例として説明したが、原盤が円筒状である場合には、原盤の内周面に凹状または凸状の構造体を形成するようにしてもよい。

また、上述の実施形態において、構造体を形成する材料の弾性率を１ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下とし、構造体のアスペクト比を０．２以上０．６未満としてもよい。この場合にも、光学素子表面に付着した指紋などの汚れを拭き取ることができる。

また、上述の実施形態では、光学素子に対して本発明を適用する場合を例として説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、光学素子以外の微細構造体に対しても本発明は適用可能である。光学素子以外の微細構造体としては、細胞培養足場、ハスの葉効果を利用したはっ水性のあるガラスなどに適用可能である。

また、上述の実施形態において、基材、基底層および構造体の弾性率がそれらの内部において変化するようにしてもよい。例えば基材の厚さ方向、基底層の厚さ方向、または構造体の高さ方向にそれらの弾性率が分布を有するようにしてもよい。この場合、弾性率の変化は連続的または不連続的とすることが可能である。

１ 光学素子
２ 基体
３ 構造体
３ａ 曲面部
４ 基底層
５ 突出部
８ 表面処理層
１１ ロール原盤
１２ 構造体
１３ レジスト層
１４ レーザー光
１５ 潜像
１６ 転写材料
１７ エネルギー線源

Claims (21)

1. 表面を有する基体と、
   上記基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体と
   を備え、
   上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
   上記構造体のアスペクト比（上記構造体の高さ／上記構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
   上記複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子。
2. 上記構造体が、シリコーンおよびウレタンを含んでいる請求項１記載の光学素子。
3. 上記構造体は、シリコーンアクリレートおよびウレタンアクリレートを含むエネルギー線硬化性樹脂組成物の重合体からなる請求項１記載の光学素子。
4. 上記基体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１から３のいずれか１項に記載の光学素子。
5. 上記基体の厚さが、６０μｍ以上である請求項４記載の光学素子。
6. 上記複数の構造体と上記基体との間に基底層をさらに備え、
   上記基底層の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１から３のいずれか１項に記載の光学素子。
7. 上記基底層の厚さが、６０μｍ以上である請求項６記載の光学素子。
8. 上記複数の構造体と上記基体との間に基底層をさらに備え、
   上記基底層および上記基体の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１から３のいずれか１項に記載の光学素子。
9. 上記基底層と上記基体との総厚が、６０μｍ以上である請求項８記載の光学素子。
10. 上記構造体を形成する材料の伸び率が、５０％以上である請求項１から９のいずれか１項に記載の光学素子。
11. 上記基体を形成する材料の伸び率が、２０％以上である請求項１から９のいずれか１項に記載の光学素子。
12. 上記構造体上に形成された表面処理層をさらに備え、
    上記表面処理層は、フッ素、およびケイ素のうちの少なくとも一種を含む請求項１から１１のいずれか１項に記載の光学素子。
13. 上記複数の構造体は、上記基体の表面において複数列をなすように配置され、
    上記構造体は、上記列の延在方向に長軸方向を有する楕円錐または楕円錐台形状である請求項１から１２のいずれか１項に記載の光学素子。
14. 上記複数の構造体は、上記基体の表面において複数列をなすように配置され、
    上記列が、直線状、または円弧状を有する請求項１から１２のいずれか１項に記載の光学素子。
15. 上記列が、蛇行している請求項１４記載の光学素子。
16. 可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体を備え、
    隣り合う上記構造体の下部同士が繋がっており、
    上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
    上記構造体のアスペクト比（上記構造体の高さ／上記構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
    上記複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子。
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載された光学素子を備える表示装置。
18. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載された光学素子を備える情報入力装置。
19. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載された光学素子を備える写真。
20. 原盤に対してエネルギー線硬化性樹脂組成物を密着させ、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物に対してエネルギー線を照射して硬化する工程と、
    硬化した上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を原盤から剥離することにより、可視光の波長以下の微細ピッチで配置された複数の構造体を基体の表面に形成する工程と
    を備え、
    上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
    上記構造体のアスペクト比（上記構造体の高さ／上記構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
    上記複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子の製造方法。
21. 原盤に対してエネルギー線硬化性樹脂組成物を密着させ、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物に対してエネルギー線を照射して硬化する工程と、
    硬化した上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を原盤から剥離することにより、可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された複数の構造体を形成する工程と
    を備え、
    隣り合う上記構造体の下部同士が繋がっており、
    上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、
    上記構造体のアスペクト比（上記構造体の高さ／上記構造体の平均配置ピッチ）が、０．６以上５以下であり、
    上記複数の構造体が形成された光学素子の表面の動摩擦係数が、０．８５以下である、反射防止機能を有する光学素子の製造方法。