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JP5810591B2 - Laminated body, antireflection article and water repellent article - Google Patents

Laminated body, antireflection article and water repellent article Download PDF

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JP5810591B2 JP2011085526A JP2011085526A JP5810591B2 JP 5810591 B2 JP5810591 B2 JP 5810591B2 JP 2011085526 A JP2011085526 A JP 2011085526A JP 2011085526 A JP2011085526 A JP 2011085526A JP 5810591 B2 JP5810591 B2 JP 5810591B2
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Description

本発明は、ナノ凹凸構造を表面に有する積層体ならびにこれを備えた反射防止物品および撥水性物品に関する。   The present invention relates to a laminate having a nano uneven structure on the surface, and an antireflection article and a water-repellent article provided with the same.

ナノ凹凸構造を表面に有する表層が形成された積層体は、ナノ凹凸構造において空気の屈折率から表層の材料の屈折率へと連続的に屈折率が変化することによって、反射防止性能を発現することが知られている。また、該積層体は、ナノ凹凸構造によるロータス効果によって、超撥水性能を発現することも可能である。   A layered product with a surface layer having a nano-concave structure on the surface exhibits antireflection performance by the refractive index continuously changing from the refractive index of air to the refractive index of the material of the surface layer in the nano-concave structure. It is known. The laminate can also exhibit super water-repellent performance due to the lotus effect due to the nano uneven structure.

該積層体が良好な反射防止性能を発現するためには、ナノ凹凸構造において隣り合う凸部または凹部の間隔が可視光線の波長以下である必要がある。しかし、このようなナノ凹凸構造を有する表層は、同じ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて形成された平滑なハードコート層等に比べて耐擦傷性に劣り、使用中の耐久性に問題がある。   In order for the laminate to exhibit good antireflection performance, it is necessary that the spacing between adjacent convex portions or concave portions in the nano-concave structure is not more than the wavelength of visible light. However, the surface layer having such a nano uneven structure is inferior in scratch resistance compared to a smooth hard coat layer formed using the same active energy ray-curable resin composition, and there is a problem in durability during use. There is.

ハードコート層の耐擦傷性を向上させる方法としては、ハードコート層にシリコーンオイルを含ませる方法が提案されている(特許文献1)。
また、耐擦傷性と耐衝撃性を両立させるために、ハードコート層を形成する基材に、ゴム粒子を分散させた(メタ)アクリル系樹脂を用いる方法が提案されている(特許文献2)。
As a method for improving the scratch resistance of the hard coat layer, a method of including a silicone oil in the hard coat layer has been proposed (Patent Document 1).
In order to achieve both scratch resistance and impact resistance, a method using a (meth) acrylic resin in which rubber particles are dispersed in a base material on which a hard coat layer is formed has been proposed (Patent Document 2). .

しかし、特許文献1、2に記載の方法は、耐擦傷性をある程度は向上できるものの、必ずしも十分なものではない。例えば、表層のナノ凹凸構造を構成する微細突起が折れたり曲がったりして、反射防止性能が損なわれる場合がある。そのため、ナノ凹凸構造を表面に有する積層体の用途が限定されてしまう。   However, although the methods described in Patent Documents 1 and 2 can improve the scratch resistance to some extent, they are not always sufficient. For example, the antireflection performance may be impaired due to bending or bending of the fine protrusions constituting the nano uneven structure of the surface layer. Therefore, the use of the laminated body which has a nano uneven structure on the surface will be limited.

特開2000−234073号公報JP 2000-234073 A 特開2007−030307号公報JP 2007-030307 A

本発明は、ナノ凹凸構造を表面に有するにも関わらず、高い耐擦傷性を示す積層体ならびにこれを備えた反射防止物品および撥水性物品を提供する。   The present invention provides a laminate exhibiting high scratch resistance despite having a nano uneven structure on the surface, and an antireflection article and a water-repellent article provided with the laminate.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構成の積層体が非常に優れた効果を奏することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の積層体は、(メタ)アクリレート系の活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物からなる光透過性基材と、該光透過性基材上に積層された、凸部または凹部の平均間隔が380nm以下であるナノ凹凸構造を表面に有する表層とを有する積層体であって、前記光透過性基材のtanδ(損失正接)が、20℃、1Hzにおいて0.15以上であることを特徴とする。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a laminate having a specific configuration exhibits a very excellent effect, and have completed the present invention.
That is, the laminate of the present invention comprises a light-transmitting base material comprising a cured product of a (meth) acrylate-based active energy ray-curable resin , and convex or concave portions laminated on the light-transmitting base material . A laminate having a surface with a nano-concave structure having an average interval of 380 nm or less on the surface, and the tan δ (loss tangent) of the light-transmitting substrate is 0.15 or more at 20 ° C. and 1 Hz It is characterized by.

記表層は、(メタ)アクリレート系樹脂からなることが好ましい。
本発明の反射防止物品は、本発明の積層体を備えたものであることを特徴とする。
本発明の撥水性物品は、本発明の積層体を備えたものであることを特徴とする。
Before Symbol surface layer is preferably made of (meth) acrylate resin.
The antireflection article of the present invention is characterized by comprising the laminate of the present invention.
The water-repellent article of the present invention is characterized by comprising the laminate of the present invention.

本発明の積層体ならびにこれを備えた反射防止物品および撥水性物品は、ナノ凹凸構造を表面に有するにも関わらず、高い耐擦傷性を示す。   The laminate of the present invention and the antireflection article and water-repellent article provided with the laminate exhibit high scratch resistance despite having a nano-concave structure on the surface.

本発明の積層体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the laminated body of this invention. 本発明の積層体の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the laminated body of this invention.

本明細書において、ナノ凹凸構造は、凸部または凹部の平均間隔(周期)が可視光線の波長以下、つまり380nm以下の構造を意味する。
また、光透過性は、光を透過することを意味する。
また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)、X線、α線、β線、γ線等を意味する。
また、可視光線は、波長が380〜780nmの光を意味する。
また、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
In this specification, the nano uneven structure means a structure in which the average interval (period) between the convex portions or the concave portions is equal to or less than the wavelength of visible light, that is, 380 nm or less.
Moreover, light transmittance means transmitting light.
Active energy rays mean visible rays, ultraviolet rays, electron beams, plasma, heat rays (infrared rays, etc.), X rays, α rays, β rays, γ rays and the like.
Visible light means light having a wavelength of 380 to 780 nm.
(Meth) acrylate means acrylate or methacrylate.

<積層体>
本発明の積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の少なくとも一方の表面に積層された、ナノ凹凸構造を表面に有する表層とを有する。
図1および図2は、本発明の積層体の一例を示す断面図である。積層体10は、光透過性基材11と、光透過性基材11上に積層された、ナノ凹凸構造を表面に有する表層12とを有する。
<Laminate>
The laminate of the present invention has a light-transmitting substrate and a surface layer having a nano uneven structure on the surface, which is stacked on at least one surface of the light-transmitting substrate.
1 and 2 are cross-sectional views showing an example of the laminate of the present invention. The laminate 10 includes a light transmissive substrate 11 and a surface layer 12 that is laminated on the light transmissive substrate 11 and has a nano uneven structure on the surface.

(光透過性基材)
光透過性基材11は、光を透過する成形体である。
光透過性基材11のtanδ(損失正接)は、20℃、1Hzにおいて0.15以上であり、0.4以上が好ましい。tanδが0.15以上であれば、積層体10の表面における摩擦等のエネルギーをうまく分散でき、表層12の傷付きを低減(耐擦傷性を向上)できる。tanδは、良好な耐擦傷性を得られる貯蔵弾性率と損失弾性率とのバランスの点から、2以下が好ましい。
(Light transmissive substrate)
The light transmissive substrate 11 is a molded body that transmits light.
The tan δ (loss tangent) of the light-transmitting substrate 11 is 0.15 or more at 20 ° C. and 1 Hz, and preferably 0.4 or more. If tan δ is 0.15 or more, energy such as friction on the surface of the laminate 10 can be dispersed well, and scratches on the surface layer 12 can be reduced (improved scratch resistance). The tan δ is preferably 2 or less from the viewpoint of the balance between the storage elastic modulus and the loss elastic modulus capable of obtaining good scratch resistance.

tanδは、貯蔵弾性率を損失弾性率で除した値であり、動的粘弾性測定によって求められる。具体的には、厚さ200μmの光透過性基材を、幅5mmの短冊状に打ち抜いた試験片について、市販の粘弾性測定装置を用い、引張モード、チャック間:2cm、測定周波数:1Hzにて、−50℃から100℃まで2℃/分の昇温速度で測定し、tanδを求め、20℃におけるtanδの値を判断に用いる。   tan δ is a value obtained by dividing the storage elastic modulus by the loss elastic modulus, and is obtained by dynamic viscoelasticity measurement. Specifically, with respect to a test piece obtained by punching a light-transmitting substrate having a thickness of 200 μm into a strip shape having a width of 5 mm, a commercially available viscoelasticity measuring device was used, and a tensile mode, an interval between chucks: 2 cm, and a measurement frequency: 1 Hz Then, the temperature is measured from −50 ° C. to 100 ° C. at a rate of temperature increase of 2 ° C./min, tan δ is obtained, and the value of tan δ at 20 ° C. is used for judgment.

光透過性基材11の材料は、光透過性基材11のtanδが20℃、1Hzにおいて0.15以上となる材料であればよい。光透過性基材11の材料としては、(メタ)アクリレート系樹脂、ポリカーボネート、スチレン(共)重合体、(メタ)アクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸等)、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、これらの複合物(ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸との複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルとの複合物等)、ガラス等が挙げられる。   The material of the light transmissive substrate 11 may be any material that allows the tan δ of the light transmissive substrate 11 to be 0.15 or more at 20 ° C. and 1 Hz. Examples of the material of the light-transmitting substrate 11 include (meth) acrylate resin, polycarbonate, styrene (co) polymer, (meth) acrylate-styrene copolymer, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, and polyester. (Polyethylene terephthalate, polylactic acid, etc.), polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyurethane, and composites thereof (with polymethyl methacrylate) And a compound of polylactic acid, a compound of polymethyl methacrylate and polyvinyl chloride, etc.), glass and the like.

光透過性基材11の材料としては、透明性の点から、(メタ)アクリレート系樹脂が好ましく、tanδが0.15以上の材料を設計しやすい点から、後述する光透過性基材形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物がより好ましい。   As a material of the light transmissive substrate 11, a (meth) acrylate-based resin is preferable from the viewpoint of transparency, and a material having a tan δ of 0.15 or more can be easily designed. A cured product of the active energy ray-curable resin composition is more preferable.

光透過性基材11は、板状、シート状、フィルム状のいずれであってもよい。
光透過性基材11の表面は、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的に、コーティング、コロナ処理等が施されていてもよい。
光透過性基材11の厚さは、特に限定されない。なお、表層12を設ける工程の生産性、取り扱い性の観点からは、光透過性基材11は、曲げることが可能なフィルム状が好ましく、厚さが5μm以上500μm以下のものがより好ましい。
The light transmissive substrate 11 may be any of a plate shape, a sheet shape, and a film shape.
The surface of the light-transmitting substrate 11 may be subjected to coating, corona treatment, etc. for the purpose of improving properties such as adhesion, antistatic properties, scratch resistance, and weather resistance.
The thickness of the light transmissive substrate 11 is not particularly limited. In addition, from the viewpoint of productivity and handling in the step of providing the surface layer 12, the light-transmitting substrate 11 is preferably a bendable film, and more preferably has a thickness of 5 μm to 500 μm.

(表層)
表層12の表面は、図1および図2に示すように、反射防止性能や超撥水性能を発現するナノ凹凸構造を有する。具体的には、表層12の表面には、凸部13および凹部14が等間隔で形成されている。図1の凸部13の形状は、円錐状または角錐状であり、図2の凸部13の形状は釣鐘状である。なお、ナノ凹凸構造の凸部13の形状は、これらに限定されず、高さ方向と直交する方向の凸部13の断面積が最表面から深さ方向に連続的または断続的に増加するような形状とすることが好ましい。また、より微細な複数の突起が合一して1つの凸部13を形成していてもよい。すなわち、図1および図2における凸部13以外の形状であっても、空気の屈折率から表層12の材料の屈折率へと連続的または断続的に屈折率を増大し、低反射率と低波長依存性とを両立させた反射防止性能を示すような形状であればよい。
(Surface)
As shown in FIGS. 1 and 2, the surface of the surface layer 12 has a nano uneven structure that exhibits antireflection performance and super-water-repellent performance. Specifically, convex portions 13 and concave portions 14 are formed at equal intervals on the surface of the surface layer 12. The shape of the convex portion 13 in FIG. 1 is a conical shape or a pyramid shape, and the shape of the convex portion 13 in FIG. 2 is a bell shape. In addition, the shape of the convex part 13 of a nano uneven | corrugated structure is not limited to these, but the cross-sectional area of the convex part 13 of the direction orthogonal to a height direction seems to increase continuously or intermittently from the outermost surface to the depth direction. It is preferable to use a simple shape. A plurality of finer projections may be combined to form one convex portion 13. That is, even if the shape is other than the convex portion 13 in FIGS. 1 and 2, the refractive index increases continuously or intermittently from the refractive index of air to the refractive index of the material of the surface layer 12, and the low reflectance and low Any shape that exhibits antireflection performance that achieves both wavelength dependence and the like may be used.

隣り合う凸部13の間隔(図1では、隣り合う凸部13の中心点(頂点13a)の間隔w1である。)または隣り合う凹部14の間隔は、良好な反射防止性能を発現するためには、可視光線の波長以下、すなわち380nm以下である必要がある。w1が380nm以下であれば、可視光線の散乱を抑制できる。よって、積層体10を反射防止物品等の光学用途に好適に用いることができる。   The interval between the adjacent convex portions 13 (in FIG. 1, the interval w1 between the center points (vertices 13a) of the adjacent convex portions 13) or the interval between the adjacent concave portions 14 is to exhibit good antireflection performance. Needs to be shorter than the wavelength of visible light, that is, 380 nm or less. If w1 is 380 nm or less, the scattering of visible light can be suppressed. Therefore, the laminate 10 can be suitably used for optical applications such as antireflection articles.

凸部13の高さまたは凹部14の深さ(図1では、凹部14の中心点(底点14a)から凸部の中心点(頂点13a)までの垂直距離d1である。)は、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制する点から、60nm以上が好ましく、90nm以上がより好ましい。また、凸部13の高さまたは凹部14の深さの上限は、製造可能な範囲であればよく、特に制限されない。モールドを用い、モールドのナノ凹凸構造を転写する方法によって表層12のナノ凹凸構造を形成する場合、正確に転写が行われるためには、凸部13の高さまたは凹部14の深さは、2μm未満であることが好ましい。   The height of the convex portion 13 or the depth of the concave portion 14 (in FIG. 1, the vertical distance d1 from the central point (bottom point 14a) of the concave portion 14 to the central point (vertex 13a) of the convex portion is the lowest reflection. 60 nm or more is preferable and 90 nm or more is more preferable from the point which suppresses the raise of the rate and the reflectance of a specific wavelength. Moreover, the upper limit of the height of the convex part 13 or the depth of the recessed part 14 should just be the range which can be manufactured, and is not restrict | limited in particular. When the nano uneven structure of the surface layer 12 is formed by a method of transferring the nano uneven structure of the mold using a mold, the height of the convex portion 13 or the depth of the concave portion 14 is 2 μm for accurate transfer. It is preferable that it is less than.

ナノ凹凸構造において、凸部13の高さ/間隔で表されるアスペクト比(d1/w1)は、0.5以上が好ましく、1以上がより好ましく、2以上が最も好ましい。該アスペクト比が0.5以上であると、光反射の低減効果が良好に得られ、また入射角依存性を小さくできる。該アスペクト比の上限は、製造可能な範囲であればよく、特に制限されない。モールドを用い、モールドのナノ凹凸構造を転写する方法によって表層12のナノ凹凸構造を形成する場合、正確に転写が行われるためには、凸部13のアスペクト比は、5以下であることが好ましい。
良好な反射防止性能を発現するナノ凹凸構造の形状については、特開2009−031764公報等に記載されており、本発明においてもそれらと同様の形状を採用できる。
In the nano concavo-convex structure, the aspect ratio (d1 / w1) represented by the height / interval of the protrusions 13 is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more, and most preferably 2 or more. When the aspect ratio is 0.5 or more, the effect of reducing light reflection can be obtained satisfactorily, and the incident angle dependency can be reduced. The upper limit of the aspect ratio is not particularly limited as long as it can be produced. When forming the nano uneven structure of the surface layer 12 by a method using a mold and transferring the nano uneven structure of the mold, the aspect ratio of the convex portion 13 is preferably 5 or less in order to transfer accurately. .
The shape of the nano concavo-convex structure that exhibits good antireflection performance is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-031764, and the same shape can be adopted in the present invention.

表層12の材料としては、透明性の点から、(メタ)アクリレート系樹脂が好ましく、耐擦傷性の良好な表層12を形成しやすい点から、後述する表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物がより好ましい。   The material of the surface layer 12 is preferably a (meth) acrylate-based resin from the viewpoint of transparency, and an active energy ray-curable resin composition for forming a surface layer, which will be described later, from the viewpoint of easily forming the surface layer 12 with good scratch resistance. The cured product is more preferable.

表層12の厚さは、5〜30μmが好ましく、8〜20μmがより好ましい。表層12が適度に薄ければ、通常の紫外線照射で後述する表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が十分に進行し、良好な耐擦傷性が得られる。表層12が適度に厚ければ、表層12の破断を抑えることができる。   5-30 micrometers is preferable and, as for the thickness of the surface layer 12, 8-20 micrometers is more preferable. If the surface layer 12 is moderately thin, the curing of the active energy ray-curable resin composition for forming a surface layer, which will be described later, with normal ultraviolet irradiation proceeds sufficiently, and good scratch resistance is obtained. If the surface layer 12 is moderately thick, breakage of the surface layer 12 can be suppressed.

表層12が後述する表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、表層12にナノ凹凸構造を良好に形成するためには、硬化物は、架橋密度が高く、高弾性とすることが好ましい。高架橋密度の硬化物では、引張伸度を出すことは難しく、引張破断伸度は5%以下である。そのため、表層12が薄すぎると、積層体10に加重を加えた際に表層12が引張破断してしまい、亀裂が目視で確認できる傷となって残ってしまう。一方、表層12が厚すぎると、積層体10に掛かる応力が光透過性基材11によってうまく分散されず、表層12が傷付いてしまう。   When the surface layer 12 is made of a cured product of an active energy ray-curable resin composition for forming a surface layer, which will be described later, in order to satisfactorily form a nano uneven structure on the surface layer 12, the cured product has a high crosslinking density, high elasticity and It is preferable to do. With a cured product having a high crosslinking density, it is difficult to obtain a tensile elongation, and the tensile elongation at break is 5% or less. For this reason, if the surface layer 12 is too thin, the surface layer 12 will be tensile-ruptured when a load is applied to the laminate 10, and the crack will remain as a scratch that can be visually confirmed. On the other hand, if the surface layer 12 is too thick, the stress applied to the laminate 10 is not well dispersed by the light-transmitting substrate 11, and the surface layer 12 is damaged.

光透過性基材11の変形に対して表層12が良好に追従するためには、光透過性基材11と表層12とが十分に密着していることが好ましい。また、光透過性基材11と表層12との密着が十分であれば、ずり変形による界面剥離が生じ難くなる。光透過性基材11と表層12との間は、明確な界面が存在しない混合状態とすることが好ましい。光透過性基材11の表面の硬化を不十分にすることや、表層12を構成する表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を光透過性基材11へ浸透させることによって、明確な界面を存在させず、良好な密着性を出すことができる。なお、明確な界面が存在しない場合の光透過性基材11および表層12の厚さは、光透過性基材11と表層12との間の混合部分の中間位置を界面として測定する。また、表層12を形成するときに熱をかけることによって、密着性を改善することもできる。   In order for the surface layer 12 to satisfactorily follow the deformation of the light-transmitting substrate 11, it is preferable that the light-transmitting substrate 11 and the surface layer 12 are sufficiently adhered. Further, if the light-transmitting base material 11 and the surface layer 12 are sufficiently adhered, interfacial peeling due to shear deformation is unlikely to occur. It is preferable that the light-transmitting substrate 11 and the surface layer 12 are in a mixed state in which no clear interface exists. By making the surface of the light transmissive substrate 11 insufficiently cured or by allowing the active energy ray-curable resin composition for forming the surface layer 12 constituting the surface layer 12 to penetrate into the light transmissive substrate 11, a clear interface is obtained. Good adhesion can be obtained without the presence of. In addition, the thickness of the light-transmitting base material 11 and the surface layer 12 when there is no clear interface is measured using the intermediate position of the mixed portion between the light-transmitting base material 11 and the surface layer 12 as an interface. Further, the adhesion can be improved by applying heat when forming the surface layer 12.

(作用効果)
以上説明した積層体10にあっては、光透過性基材11のtanδ(損失正接)が、20℃、1Hzにおいて0.15以上であるため、積層体10の表面における摩擦等のエネルギーをうまく分散でき、表層12の傷付きを低減できる。よって、ナノ凹凸構造を表面に有するにも関わらず、高い耐擦傷性を示す。
(Function and effect)
In the laminated body 10 described above, the tan δ (loss tangent) of the light-transmitting substrate 11 is 0.15 or more at 20 ° C. and 1 Hz, so that the energy such as friction on the surface of the laminated body 10 can be improved. It can disperse | distribute and the damage of the surface layer 12 can be reduced. Therefore, although it has a nano uneven structure on the surface, it exhibits high scratch resistance.

<積層体の製造方法>
積層体10は、例えば、下記の工程(I)〜(II)を有する方法によって製造できる。
(I)光透過性基材11を製造する工程。
(II)光透過性基材11上に表層12を形成する工程。
<Method for producing laminate>
The laminated body 10 can be manufactured, for example, by a method having the following steps (I) to (II).
(I) A step of manufacturing the light transmissive substrate 11.
(II) A step of forming the surface layer 12 on the light transmissive substrate 11.

〔工程(I)〕
光透過性基材11の製造方法は、特に限定されない。光透過性基材11の製造方法としては、例えば、射出成形法、押出成形法、カレンダー成形法、セルキャスト成形法、溶液流延法、熱硬化法、乾燥硬化法、紫外線硬化法等が挙げられる。
[Step (I)]
The manufacturing method of the light transmissive substrate 11 is not particularly limited. Examples of the method for producing the light transmissive substrate 11 include an injection molding method, an extrusion molding method, a calendar molding method, a cell cast molding method, a solution casting method, a thermosetting method, a dry curing method, and an ultraviolet curing method. It is done.

光透過性基材11が光透過性基材形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(以下、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)とも記す。)の硬化物である場合、光透過性基材11の製造方法としては、例えば、下記の方法が挙げられる。
光透過性基材11の形状に応じた型を用意し、必要に応じてガスケット等を介して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を型の間に挟み、型の片側または両側から活性エネルギー線を照射する方法。
When the light transmissive substrate 11 is a cured product of an active energy ray curable resin composition for forming a light transmissive substrate (hereinafter also referred to as an active energy ray curable resin composition (A)), the light transmissive property is obtained. As a manufacturing method of the base material 11, the following method is mentioned, for example.
A mold corresponding to the shape of the light-transmitting substrate 11 is prepared, and the active energy ray-curable resin composition (A) is sandwiched between the molds through a gasket or the like as necessary, from one side or both sides of the mold. A method of irradiating active energy rays.

具体的には、下記の方法(i)、(ii)等が挙げられる。
(i)連続するフィルムを型とし、フィルムの上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を流延し、その上にさらに別のフィルムを重ね、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)に活性エネルギー線を照射し、硬化物からシート状物を剥離する方法。
(ii)エンドレスベルトの上に後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を流延し、その上にエンドレスベルトと同一方向および同速度で移送されるフィルムを重ね、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)に活性エネルギー線を照射し、硬化物からフィルムを連続的に剥離するとともに、硬化物をエンドレスベルトから連続的に剥離する方法。
Specifically, the following methods (i) and (ii) are exemplified.
(I) A continuous film is used as a mold, the active energy ray-curable resin composition (A) is cast on the film, and another film is laminated thereon to obtain an active energy ray-curable resin composition (A ) Is irradiated with active energy rays, and the sheet is peeled off from the cured product.
(Ii) An active energy ray-curable resin composition (A), which will be described later, is cast on an endless belt, and a film that is transferred in the same direction and at the same speed as the endless belt is overlaid on the endless belt. A method of irradiating the resin composition (A) with active energy rays to continuously peel the film from the cured product and to continuously peel the cured product from the endless belt.

フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと記す。)フィルム等が挙げられる。PETフィルムの市販品としては、東洋紡エステルフィルムE5001(東洋紡績社製)、コスモシャインA4100(東洋紡績社製)等が挙げられる。フィルムの厚さは、通常、0.01〜3mmである。
エンドレスベルトとしては、ステンレス板等が挙げられる。
Examples of the film include a polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film. Examples of commercially available PET films include Toyobo Ester Film E5001 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and Cosmo Shine A4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.). The thickness of the film is usually 0.01 to 3 mm.
Examples of endless belts include stainless steel plates.

活性エネルギー線としては、装置のコスト、生産性等の点から、可視光線または紫外線が好ましく、紫外線がより好ましい。紫外線の照射量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)に含まれる活性エネルギー線重合開始剤の量に合わせて適宜決定すればよい。紫外線を照射する雰囲気は、酸素を含む雰囲気であってもよく、窒素雰囲気であってもよい。積算光量は、200〜4000mJ/cmが好ましい。
光透過性基材11を連続的に製造する場合、光透過性基材11は、紙管、プラスチックコア等のロールに巻いた状態にして回収できる。
The active energy ray is preferably visible light or ultraviolet light, more preferably ultraviolet light, from the viewpoint of the cost of the apparatus, productivity, and the like. What is necessary is just to determine suitably the irradiation amount of an ultraviolet-ray according to the quantity of the active energy ray polymerization initiator contained in an active energy ray curable resin composition (A). The atmosphere irradiated with ultraviolet rays may be an oxygen-containing atmosphere or a nitrogen atmosphere. The integrated light quantity is preferably 200 to 4000 mJ / cm 2 .
When the light-transmitting substrate 11 is continuously manufactured, the light-transmitting substrate 11 can be collected while being wound around a roll such as a paper tube or a plastic core.

(光透過性基材形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)は、活性エネルギー線を照射することで重合反応が進行し、硬化する樹脂組成物である。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)は、重合反応性モノマー成分、ポリマー成分、活性エネルギー線重合開始剤、必要に応じてその他の成分を含む。
(Active energy ray-curable resin composition for forming a light-transmitting substrate)
The active energy ray-curable resin composition (A) is a resin composition that cures by irradiating an active energy ray so that a polymerization reaction proceeds.
The active energy ray-curable resin composition (A) includes a polymerization-reactive monomer component, a polymer component, an active energy ray polymerization initiator, and other components as necessary.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)の粘度は、製造方法に合わせて最適な適宜調整すればよい。例えば、粘度が50mPa・s以下の場合は、グラビアコーティングで均一塗布できる。200mPa・s以上の場合は、上述した方法(i)、(ii)に適用できる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)の粘度は、25℃において回転式B型粘度計で測定される粘度である。
The viscosity of the active energy ray-curable resin composition (A) may be appropriately adjusted optimally according to the production method. For example, when the viscosity is 50 mPa · s or less, it can be uniformly applied by gravure coating. In the case of 200 mPa · s or more, it can be applied to the above-described methods (i) and (ii).
The viscosity of the active energy ray-curable resin composition (A) is a viscosity measured with a rotary B-type viscometer at 25 ° C.

(重合反応性モノマー成分)
重合反応性モノマー成分は、硬化反応によって硬化物からなる光透過性基材11を形成できるものであればよく、特に限定されない。重合反応性モノマー成分としては、例えば、単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(Polymerization reactive monomer component)
The polymerization reactive monomer component is not particularly limited as long as it can form the light-transmitting substrate 11 made of a cured product by a curing reaction. Examples of the polymerization reactive monomer component include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソ−プロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基含有(メタ)アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート;イソボルニル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−メチル−2アダマンチル(メタ)アクレート、2−エチル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。これらの中でも、透明性の点で、メチルメタクリレートが好ましい。   Examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and n-propyl (meth) ) Acrylate, iso-propyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate and other alkyl (meth) acrylates; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, Hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as 2-hydroxy (meth) acrylate and cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, (meth) acrylamide, dimethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) a Amyl group-containing (meth) acrylates such as rilamide and N-methylol (meth) acrylamide; Carboxyl group-containing (meth) acrylates such as (meth) acrylic acid; Aromatic compounds such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate ( (Meth) acrylate; isobornyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) acrylate, 2-methyl-2adamantyl (meth) acrylate, 2-ethyl-2 -Alicyclic (meth) acrylates, such as adamantyl (meth) acrylate, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl methacrylate is preferable in terms of transparency.

多官能(メタ)アクリレートとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ノナエチレングリコール、デカエチレングリコール、ウンデカエチレングリコール、ドデカエチレングリコール、トリデカエチレングリコール、テトラデカエチレングリコール、ペンタデカエチレングリコール、ヘキサデカエチレングリコール;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ペンタプロピレングリコール、ヘキサプロピレングリコール、ヘプタプロピレングリコール、オクタプロピレングリコール、ノナプロピレングリコール、デカプロピレングリコール、ウンデカプロピレングリコール、ドデカプロピレングリコール、トリデカプロピレングリコール;ブチレングリコール、ジブチレングリコール、トリブチレングリコール、テトラブチレングリコール、ペンタブチレングリコール、ヘキサブチレングリコール、ヘプタブチレングリコール、オクタブチレングリコール、ノナブチレングリコール、デカブチレングリコール、ウンデカブチレングリコール等のポリアルキレングリコール残基に(メタ)アクリル酸を付加してなるポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ポリアルキレングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等の低分子量ジオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テレフタル酸等の二塩基酸またはその無水物等の酸成分との反応物であるポリエステルジオール残基に(メタ)アクリル酸を付加してなるポリエステルジ(メタ)アクリレート;ポリアルキレングリコール、低分子量ジオールと、炭酸ジメチル等の炭酸エステルとの反応物であるポリカーボネートジオール残基に(メタ)アクリル酸を付加してなるポリカーボネートジ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の複数の重合性二重結合と水酸基を有するモノマー;多官能ウレタン(メタ)アクリレート、多官能エポキシ変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。これらの中でも、光透過性基材11のtanδ(損失正接)を20℃、1Hzにおいて0.15以上とする点から、ポリブチレングリコールジメタクリレートが好ましく、ノナブチレングリコールジメタクリレートがより好ましい。   Polyfunctional (meth) acrylates include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, hexaethylene glycol, heptaethylene glycol, octaethylene glycol, nonaethylene glycol, decaethylene glycol, undecaethylene glycol , Dodecaethylene glycol, tridecaethylene glycol, tetradecaethylene glycol, pentadecaethylene glycol, hexadecaethylene glycol; propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, pentapropylene glycol, hexapropylene glycol, heptapropylene Glycol, octapropylene glycol, Propylene glycol, decapropylene glycol, undecapropylene glycol, dodecapropylene glycol, tridecapropylene glycol; butylene glycol, dibutylene glycol, tributylene glycol, tetrabutylene glycol, pentabylene glycol, hexabutylene glycol, heptabylene glycol, octabutylene Polyalkylene glycol di (meth) acrylate obtained by adding (meth) acrylic acid to a polyalkylene glycol residue such as glycol, nonabutylene glycol, decabutylene glycol, and undecabutylene glycol; polyalkylene glycol, 1,5-pentane Low molecular weight diols such as diol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and adipine Polyester diester obtained by adding (meth) acrylic acid to a polyester diol residue that is a reaction product with an acid component such as dibasic acid such as succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid, terephthalic acid, or its anhydride. (Meth) acrylate; Polycarbonate di (meth) acrylate obtained by adding (meth) acrylic acid to a polycarbonate diol residue, which is a reaction product of polyalkylene glycol, low molecular weight diol and carbonate such as dimethyl carbonate; Pentaerythritol Monomers having a plurality of polymerizable double bonds and hydroxyl groups such as tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate; polyfunctional urethane (meth) acrylate, polyfunctional epoxy-modified (meth) acrylate and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, polybutylene glycol dimethacrylate is preferable, and nonabutylene glycol dimethacrylate is more preferable from the viewpoint that the tan δ (loss tangent) of the light-transmitting substrate 11 is 0.15 or more at 20 ° C. and 1 Hz.

多官能(メタ)アクリレートの市販品としては、アクリエステルPBOM(三菱レイヨン社製);ブレンマーPDE−600、ブレンマーPDP−700、ブレンマーPDT−650、ブレンマー40PDC1700B、ブレンマーADE−600(日油社製);NKエステルA−600、NKエステルA−1000、NKエステルAPG−700、NKエステル14G、NKエステル23G(新中村化学工業社製);Ebecryl(登録商標)シリーズ(ダイセル・サイテック社製);アロニックス(登録商標)シリーズ(東亞合成社製);KAYARAD(登録商標)シリーズ(日本化薬社製)等が挙げられる。   As a commercial product of polyfunctional (meth) acrylate, acrylate PBOM (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.); Blemmer PDE-600, Blemmer PDP-700, Blemmer PDT-650, Blemmer 40PDC1700B, Blemmer ADE-600 (manufactured by NOF Corporation) NK ester A-600, NK ester A-1000, NK ester APG-700, NK ester 14G, NK ester 23G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.); Ebecryl (registered trademark) series (manufactured by Daicel Cytec); Aronix (Registered trademark) series (manufactured by Toagosei Co., Ltd.); KAYARAD (registered trademark) series (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)の硬化物のTgを室温付近とすることにより、20℃、1Hzにおけるtanδを0.15以上とすることができる。具体的には、多官能(メタ)アクリレートの割合を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)(100質量%)のうち、50質量%以上100質量%以下とすることが好ましい。   By setting the Tg of the cured product of the active energy ray-curable resin composition (A) to around room temperature, tan δ at 20 ° C. and 1 Hz can be set to 0.15 or more. Specifically, the ratio of the polyfunctional (meth) acrylate is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less in the active energy ray-curable resin composition (A) (100% by mass).

(ポリマー成分)
ポリマー成分は、光透過性基材11の厚さ精度、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)の操作性、光透過性基材11の透明性等を向上させる成分である。
ポリマー成分は、重合反応性モノマー成分に溶解するものであれば、特に限定されない。ポリマー成分としては、例えば、単官能(メタ)アクリレートおよび/または多官能(メタ)アクリレートの共重合体;単官能(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートおよび/または共重合可能なコモノマーの(共)重合体等が挙げられる。
(Polymer component)
The polymer component is a component that improves the thickness accuracy of the light-transmitting substrate 11, the operability of the active energy ray-curable resin composition (A), the transparency of the light-transmitting substrate 11, and the like.
The polymer component is not particularly limited as long as it is soluble in the polymerization-reactive monomer component. As the polymer component, for example, a copolymer of monofunctional (meth) acrylate and / or polyfunctional (meth) acrylate; at least one (meth) acrylate selected from monofunctional (meth) acrylate and / or copolymerizable (Co) polymers of various comonomers.

重合体は、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、溶液重合等の方法で製造される。重合時に重合開始剤、連鎖移動剤を用いてもよい。
重合開始剤としては、例えば、過酸化ベインゾイル、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等の有機過酸化物系重合開始剤;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系重合開始剤等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、n−ブチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン;αメチルスチレンダイマー等が挙げられる。
The polymer is produced by a method such as suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, or solution polymerization. You may use a polymerization initiator and a chain transfer agent at the time of superposition | polymerization.
Examples of the polymerization initiator include beanzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t- Organic peroxide polymerization initiators such as hexylperoxypivalate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2, Examples thereof include azo polymerization initiators such as 2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile).
Examples of the chain transfer agent include alkyl mercaptans such as n-butyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, and n-octyl mercaptan; α-methylstyrene dimer.

(活性エネルギー線重合開始剤)
活性エネルギー線重合開始剤は、活性エネルギー線を照射することで開裂して、重合反応性モノマー成分の重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物であればよく、特に限定されない。活性エネルギー線重合開始剤の種類や量は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)に活性エネルギー線を照射する雰囲気等に応じて適宜決定すればよい。
(Active energy ray polymerization initiator)
The active energy ray polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that is cleaved by irradiation with active energy rays and generates a radical that initiates the polymerization reaction of the polymerization reactive monomer component. What is necessary is just to determine suitably the kind and quantity of an active energy ray polymerization initiator according to the atmosphere etc. which irradiate an active energy ray curable resin composition (A), for example.

活性エネルギー線重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、メチルフェニルグリオキシレート、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−フェニル−1,2−プロパン−ジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、2−メチル[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2−クロロチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2−メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジメトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。   Examples of the active energy ray polymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, methylphenylglyoxylate, acetophenone, benzophenone, diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-phenyl-1,2-propane-dione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1 -Propanone, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphos In'okisaido, diphenylphosphine oxide, 2-methyl-benzoyl diphenyl phosphine oxide, benzoyl dimethoxy phosphine oxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

(溶媒)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)は、必要に応じて溶媒で希釈されていてもよい。特に、高粘度で均一塗布が難しい場合は、コーティング方法に適した粘度となるよう適宜調整することが好ましい。
溶媒は、乾燥方法等に応じて適当な沸点を有するものを選択すればよい。溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。
(solvent)
The active energy ray-curable resin composition (A) may be diluted with a solvent as necessary. In particular, when uniform application is difficult due to high viscosity, it is preferable to appropriately adjust the viscosity to be suitable for the coating method.
A solvent having an appropriate boiling point may be selected depending on the drying method and the like. Examples of the solvent include alcohols such as toluene, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and isopropyl alcohol. These may be used alone or in combination of two or more.

(その他の成分)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)は、必要に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤、近赤外線吸収剤等の添加剤を含んでいてもよい。
各種添加剤は、積層体10の表層12に添加してもよいが、経時的なブリードアウトによって、性能の低下が懸念される。光透過性基材11に添加することで、ブリードアウトを抑制、防止することが可能となる。
(Other ingredients)
The active energy ray-curable resin composition (A) is optionally composed of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a release agent, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, a light stabilizer, a flame retardant, a flame retardant aid, It may contain additives such as a polymerization inhibitor, a filler, a silane coupling agent, a colorant, a reinforcing agent, an inorganic filler, an impact modifier, and a near infrared absorber.
Various additives may be added to the surface layer 12 of the laminate 10, but there is a concern that the performance may deteriorate due to bleed-out over time. By adding to the light transmissive substrate 11, bleeding out can be suppressed and prevented.

帯電防止剤を添加することで、埃等が付着しにくい積層体10を得ることができる。帯電防止剤としては、例えば、ポリチオール系、ポリチオフェン系、ポリアニリン系等の導電性高分子、カーボンナノチューブ、カーボンブラック等の無機物微粒子、特開2007−070449号公報に例示されるようなリチウム塩、4級アンモニウム塩等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。これらの中でも、積層体10の透明性を損なわず、比較的安価で、安定した性能を発揮するパーフルオロアルキル酸リチウム塩が好ましい。
帯電防止剤の量は、光透過性基材原料中の重合反応性モノマー成分100質量部に対し、0.5〜20質量部が好ましく、1〜10質量部がより好ましい。帯電防止剤の量が0.5質量部以上であれば、積層体10の表面抵抗値を下げ、埃付着防止性能を発揮する。帯電防止剤の量が20質量部以下であれば、積層体10のコストを抑えることができる。
By adding the antistatic agent, it is possible to obtain the laminate 10 to which dust or the like is difficult to adhere. Examples of the antistatic agent include polythiol-based, polythiophene-based and polyaniline-based conductive polymers, inorganic fine particles such as carbon nanotubes and carbon black, lithium salts exemplified in JP-A-2007-070449, 4 Class ammonium salt etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a lithium perfluoroalkyl acid salt that does not impair the transparency of the laminate 10, is relatively inexpensive, and exhibits stable performance is preferable.
The amount of the antistatic agent is preferably 0.5 to 20 parts by mass and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization reactive monomer component in the light-transmitting base material. When the amount of the antistatic agent is 0.5 parts by mass or more, the surface resistance value of the laminate 10 is lowered, and the dust adhesion preventing performance is exhibited. If the amount of the antistatic agent is 20 parts by mass or less, the cost of the laminate 10 can be suppressed.

近赤外線吸収剤を添加することで、積層体10に断熱効果を付与できる。また、プラズマディスプレイ等に用いた場合、各種家電の赤外線リモコンの誤作動を防止できる。近赤外線吸収剤としては、例えば、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素、ジチオール系金属錯体系色素、置換ベンゼンジチオール金属錯体系色素、シアニン系色素、スクアリウム系色素等の有機系の近赤外線吸収剤;導電性アンチモン含有錫酸化物微粒子、導電性錫含有インジウム酸化物微粒子、タングステン酸化物微粒子、複合タングステン酸化物微粒子等の無機系の近赤外線吸収剤が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。   The heat insulation effect can be provided to the laminated body 10 by adding a near-infrared absorber. Moreover, when used for a plasma display or the like, it is possible to prevent malfunction of the infrared remote controller of various home appliances. Examples of the near infrared absorber include organic near infrared absorbers such as diimonium dyes, phthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, substituted benzenedithiol metal complex dyes, cyanine dyes, squalium dyes; Inorganic near-infrared absorbers such as conductive antimony-containing tin oxide fine particles, conductive tin-containing indium oxide fine particles, tungsten oxide fine particles, and composite tungsten oxide fine particles. These may be used alone or in combination of two or more.

〔工程(II)〕
表層12の形成方法としては、例えば、下記の方法が挙げられる。
(α)ナノ凹凸構造の反転構造を有するモールドと、光透過性基材11との間に表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(以下、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)とも記す。)を挟み、活性エネルギー線を照射することによって活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を硬化させ、その硬化物からモールドを剥離することによって、硬化物からなる、ナノ凹凸構造を表面に有する表層12を形成する方法。
(β)光透過性基材11上に活性エネルギー線硬化性組成物(B)をコーティングし、該コーティング層にモールドの転写面を圧接してナノ凹凸構造を転写し、離型した後、活性エネルギー線照射によりコーティング層を硬化させる方法。
[Process (II)]
Examples of the method for forming the surface layer 12 include the following methods.
(Α) An active energy ray-curable resin composition for surface layer formation (hereinafter referred to as an active energy ray-curable resin composition (B)) between the mold having an inverted structure of the nano uneven structure and the light-transmitting substrate 11 The active energy ray-curable resin composition (B) is cured by irradiating with active energy rays, and the mold is peeled off from the cured product, thereby forming a nano-concave structure made of the cured product on the surface. Forming the surface layer 12 of
(Β) The active energy ray-curable composition (B) is coated on the light-transmitting substrate 11, the nano-concave structure is transferred to the coating layer by pressing the transfer surface of the mold, and then released. A method of curing the coating layer by energy beam irradiation.

ナノ凹凸構造を表面に有する表層12の形成方法、モールドの製造方法等については、例えば、特開2009−031764号公報等に記載の公知技術を採用すればよい。
例えば、まず、表層12のナノ凹凸構造に対応する反転構造が形成されたモールドを製造し、該モールドを用いて、モールドの表面のナノ凹凸構造(反転構造)が転写された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の硬化物を形成する方法が好ましい。
About the formation method of the surface layer 12 which has a nano uneven | corrugated structure on the surface, the manufacturing method of a mold, etc., what is necessary is just to employ | adopt the well-known techniques as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-031764 etc., for example.
For example, first, a mold having an inverted structure corresponding to the nano uneven structure of the surface layer 12 is manufactured, and the active energy ray curability in which the nano uneven structure (inverted structure) on the surface of the mold is transferred using the mold. A method of forming a cured product of the resin composition (B) is preferable.

モールドにナノ凹凸構造を形成する方法としては、電子ビームリソグラフィ法やレーザ光干渉法によってナノ凹凸構造を形成する方法、アルミニウムの表面を陽極酸化して陽極酸化ポーラスアルミナを形成する等が挙げられる。モールドとしては、モールドの大面積化やロール形状のモールドを簡便に作製できるという点から、陽極酸化ポーラスアルミナからなるモールドが好ましい。   Examples of the method for forming the nano uneven structure in the mold include a method of forming the nano uneven structure by an electron beam lithography method or a laser beam interference method, and anodizing the surface of aluminum to form anodized porous alumina. As the mold, a mold made of anodized porous alumina is preferable from the viewpoint that the area of the mold can be increased and a roll-shaped mold can be easily produced.

陽極酸化ポーラスアルミナは、アルミニウムの陽極酸化皮膜(アルマイト)のことであり、該酸化皮膜には多数の細孔が形成されている。
陽極酸化ポーラスアルミナは、例えば、下記工程(a)〜(e)を経て製造できる。工程(a)〜(b)は省略することもできるが、細孔の規則性向上のためには行う方が好ましい。
Anodized porous alumina is an anodic oxide film (alumite) of aluminum, and a large number of pores are formed in the oxide film.
Anodized porous alumina can be produced, for example, through the following steps (a) to (e). Steps (a) to (b) can be omitted, but it is preferable to perform the steps in order to improve the regularity of the pores.

(a)アルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)アルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)前記工程(c)と工程(d)を繰り返し行う工程。
(A) A step of forming an oxide film by anodizing aluminum in an electrolytic solution under a constant voltage.
(B) A step of removing the oxide film and forming pore generation points for anodic oxidation.
(C) A step of anodizing aluminum again in an electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(D) A step of enlarging the diameter of the pores.
(E) A step of repeatedly performing the step (c) and the step (d).

陽極酸化ポーラスアルミナからなるモールドの表面(転写面)は、硬化物との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン系ポリマーまたはフッ素ポリマーをコーティングする方法、フッ素化合物を蒸着する方法、フッ素系シランカップリング剤またはフッ素シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。   The surface (transfer surface) of the mold made of anodized porous alumina may be treated with a release agent so as to facilitate separation from the cured product. Examples of the treatment method include a method of coating a silicone polymer or a fluorine polymer, a method of depositing a fluorine compound, a method of coating a fluorine silane coupling agent or a fluorine silicone silane coupling agent, and the like.

陽極酸化ポーラスアルミナからなるモールドの形状は、平板状、円柱状、円筒形状等が挙げられる。円柱状または円筒形状のモールドは、円柱状または円筒形状のアルミニウム、または円柱状または円筒形状の支持体の表面にアルミニウム層を有する材料を母材として、上述の工程を行なって得られる。円柱状の場合はそのまま、円筒形状の場合は内部に軸心をはめ込んでより生産性が高いロール形状のモールドとして使用することができる。   Examples of the shape of the mold made of anodized porous alumina include a flat plate shape, a columnar shape, and a cylindrical shape. A columnar or cylindrical mold is obtained by performing the above-described steps using columnar or cylindrical aluminum or a material having an aluminum layer on the surface of a columnar or cylindrical support as a base material. The cylindrical shape can be used as it is, and the cylindrical shape can be used as a roll-shaped mold with a higher productivity by fitting the axis inside.

また、上述の工程により得られた陽極酸化ポーラスアルミナを原盤としてレプリカを作製し、該レプリカをモールドとして用いることもできる。レプリカの作製方法としては、例えば原盤上にニッケル、銀等による薄膜を無電界めっき、スパッタ法等により形成し、次にこの薄膜を電極として電気めっき法(電鋳法)等により例えばニッケルを堆積させた後、このニッケル層をマスタリング基板から剥離させてレプリカとする方法等がある。   Further, a replica can be produced using the anodized porous alumina obtained by the above-described process as a master, and the replica can be used as a mold. As a replica production method, for example, a thin film made of nickel, silver, or the like is formed on a master by electroless plating, sputtering, or the like, and then, for example, nickel is deposited by electroplating (electroforming) using the thin film as an electrode. Then, the nickel layer is peeled off from the mastering substrate to form a replica.

(表層形成用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)は、活性エネルギー線を照射することで重合反応が進行し、硬化する樹脂組成物である。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)は、重合反応性モノマー成分、活性エネルギー線重合開始剤、必要に応じてその他の成分を含む。
(Active energy ray-curable resin composition for surface layer formation)
The active energy ray-curable resin composition (B) is a resin composition that cures by irradiating an active energy ray so that a polymerization reaction proceeds.
The active energy ray-curable resin composition (B) includes a polymerization reactive monomer component, an active energy ray polymerization initiator, and other components as necessary.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の25℃における粘度は、モールドへ流し込んで硬化させる場合、その作業性を考慮すると、10000mPa・s以下が好ましく、5000mPa・s以下がより好ましく、2000mPa・s以下が特に好ましい。なお、粘度が10000mPa・s以上であっても、モールドへ流し込む際にあらかじめ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を加温して粘度を下げることが可能ならば、作業性を損なうことなく用いることができる。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の70℃における粘度は、5000mPa・s以下が好ましく、2000mPa・s以下がより好ましい。   The viscosity at 25 ° C. of the active energy ray-curable resin composition (B) is preferably 10,000 mPa · s or less, more preferably 5000 mPa · s or less, and more preferably 2000 mPa · s in view of the workability when poured into a mold and cured. Particularly preferred is s or less. Even if the viscosity is 10000 mPa · s or more, if the active energy ray-curable resin composition (B) can be heated in advance when pouring into the mold and the viscosity can be lowered, workability is not impaired. Can be used. The viscosity at 70 ° C. of the active energy ray-curable resin composition (B) is preferably 5000 mPa · s or less, and more preferably 2000 mPa · s or less.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の25℃における粘度は、ベルト状やロール状のモールドを用いて連続生産する場合、その作業性を考慮すると、100mPa・s以上が好ましく、150mPa・s以上がより好ましく、200mPa・s以上が特に好ましい。これら範囲には、モールドを押し当てる工程でモールドの幅を超えて脇へ漏れ難くしたり、その硬化物の厚さを任意に調整し易くしたりする点で意義がある。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の粘度は、所定の温度において回転式B型粘度計で測定される粘度である。
The viscosity at 25 ° C. of the active energy ray-curable resin composition (B) is preferably 100 mPa · s or more in consideration of workability when continuously produced using a belt-shaped or roll-shaped mold. The above is more preferable, and 200 mPa · s or more is particularly preferable. These ranges are meaningful in that it is difficult to leak to the side beyond the width of the mold in the process of pressing the mold, and the thickness of the cured product can be easily adjusted arbitrarily.
The viscosity of the active energy ray-curable resin composition (B) is a viscosity measured with a rotary B-type viscometer at a predetermined temperature.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の粘度は、重合反応性モノマー成分の種類や量を調節することで調整できる。具体的には、水素結合等の分子間相互作用を有する官能基や化学構造を含む重合反応性モノマー成分を多量に用いると、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の粘度は高くなる。また、分子間相互作用のない低分子量の重合反応性モノマー成分を多量に用いると、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の粘度は低くなる。   The viscosity of the active energy ray-curable resin composition (B) can be adjusted by adjusting the type and amount of the polymerization-reactive monomer component. Specifically, when a large amount of a polymerizable reactive monomer component containing a functional group having a molecular interaction such as a hydrogen bond or a chemical structure is used, the viscosity of the active energy ray-curable resin composition (B) increases. In addition, when a large amount of a low molecular weight polymerization-reactive monomer component having no intermolecular interaction is used, the viscosity of the active energy ray-curable resin composition (B) becomes low.

重合反応性モノマー成分や活性エネルギー線重合開始剤としては、公知の成分を採用できる。重合反応性モノマー成分としては、例えば、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。ラジカル重合性結合を有する単官能または多官能モノマー成分としては、各種の(メタ)アクリレートおよびその誘導体、カチオン重合性結合を有するモノマー成分としては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられる。ナノ凹凸構造を表面に有する表層12の形成に適した重合反応性モノマー成分や活性エネルギー線重合開始剤としては、例えば、特開2009−031764号公報の段落[0018]以降に記載の各種の化合物を採用できる。   Known components can be used as the polymerization reactive monomer component and the active energy ray polymerization initiator. Examples of the polymerization-reactive monomer component include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule. Monofunctional or polyfunctional monomer components having radical polymerizable bonds include various (meth) acrylates and derivatives thereof, and monomer components having cationic polymerizable bonds include epoxy groups, oxetanyl groups, oxazolyl groups, vinyloxy groups, and the like. The monomer which has is mentioned. Examples of the polymerization-reactive monomer component and active energy ray polymerization initiator suitable for forming the surface layer 12 having a nano uneven structure on the surface include various compounds described in paragraph [0018] and subsequent paragraphs of JP-A-2009-031764. Can be adopted.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)は、必要に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等の添加剤を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable resin composition (B) is optionally composed of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a release agent, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, a light stabilizer, a flame retardant, a flame retardant aid, It may contain additives such as a polymerization inhibitor, a filler, a silane coupling agent, a colorant, a reinforcing agent, an inorganic filler, and an impact modifier.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)の硬化物が柔らかいと、硬化物からモールドを剥離する際または剥離した後に、ナノ凹凸構造の凸部13同士が寄り添ってしまう場合がある。ナノの領域においては、マクロの領域においては問題にならないような表面張力でも顕著に働く。すなわち、表面自由エネルギーを下げようと、ナノ凹凸構造の凸部13同士で寄り添い、表面積を小さくしようとする力が働く。この力が硬化物の硬さを上回ると、凸部13同士が寄り添いくっついてしまう。そのようなナノ凹凸構造では、所望の反射防止性能や超撥水性能等を発揮できない場合がある。
以上の点から、硬化物の引張弾性率は、1GPa以上が好ましい。このような硬化物を形成できる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を用いれば、凸部13同士が寄り添うことを回避し易くなる。
If the cured product of the active energy ray-curable resin composition (B) is soft, the protrusions 13 of the nano uneven structure may come close to each other when or after the mold is removed from the cured product. In the nano region, even surface tension that does not cause a problem in the macro region works remarkably. That is, in order to lower the surface free energy, a force is applied to make the surface area smaller by closely approaching the protrusions 13 of the nano uneven structure. When this force exceeds the hardness of the cured product, the convex portions 13 are closely attached to each other. In such a nano uneven structure, there are cases where desired antireflection performance, super water repellency performance, and the like cannot be exhibited.
From the above points, the tensile elastic modulus of the cured product is preferably 1 GPa or more. If the active energy ray-curable resin composition (B) capable of forming such a cured product is used, it is easy to avoid the protrusions 13 from snuggling together.

<用途>
本発明の積層体は、表層にナノ凹凸構造を有する機能性物品として最適である。そのような機能性物品としては、例えば、本発明の積層体を備えた反射防止物品や撥水性物品が挙げられる。特に、本発明の積層体を備えたディスプレイや自動車用部材が、機能性物品として好適である。
本発明の積層体は、上述した用途以外にも、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学用途や、細胞培養シートの用途にも適用できる。
<Application>
The laminate of the present invention is optimal as a functional article having a nano uneven structure on the surface layer. Examples of such functional articles include antireflection articles and water-repellent articles provided with the laminate of the present invention. In particular, a display or an automobile member provided with the laminate of the present invention is suitable as a functional article.
In addition to the uses described above, the laminate of the present invention can also be applied to optical uses such as optical waveguides, relief holograms, lenses, and polarization separation elements, and uses of cell culture sheets.

機能性物品において、積層体を貼り付ける部分が立体形状である場合は、あらかじめそれに応じた形状の光透過性基材を用い、その光透過性基材の上に表層を形成して積層体を得た後、この積層体を機能性物品の所定部分に貼り付ければよい。
また、機能性物品が画像表示装置である場合は、その表面に限らず、その前面板に対して本発明の積層体を貼り付けてもよいし、前面板そのものを本発明の積層体から構成してもよい。
In the functional article, when the part to which the laminate is pasted is a three-dimensional shape, a light-transmitting substrate having a shape corresponding to that is used in advance, and a surface layer is formed on the light-transmitting substrate to form the laminate. After being obtained, this laminate may be attached to a predetermined part of the functional article.
In addition, when the functional article is an image display device, the laminate of the present invention may be attached to the front plate, not limited to the surface thereof, and the front plate itself is composed of the laminate of the present invention. May be.

(反射防止物品)
本発明の反射防止物品は、本発明の積層体を備える。この反射防止物品は、高い耐擦傷性および良好な反射防止性能を発現する。反射防止物品としては、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等の画像表示装置、レンズ、ショーウィンドー、眼鏡レンズ等の対象物の表面に、本発明の積層体を貼り付けたものが挙げられる。
(Anti-reflective article)
The antireflection article of the present invention comprises the laminate of the present invention. This antireflection article exhibits high scratch resistance and good antireflection performance. As the antireflection article, for example, an image display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an electroluminescence display, and a cathode ray tube display device, a surface of an object such as a lens, a show window, a spectacle lens, etc. One with a body attached is mentioned.

(撥水性物品)
本発明の撥水性物品は、本発明の積層体を備える。この撥水性物品は、高い耐擦傷性および良好な撥水性を有するとともに、優れた反射防止性能を発現する。撥水性物品としては、例えば、窓材、屋根瓦、屋外照明、カーブミラー、車両用窓、車両用ミラーの表面に、本発明の積層体を貼り付けたものが挙げられる。
(Water repellent article)
The water-repellent article of the present invention includes the laminate of the present invention. The water-repellent article has high scratch resistance and good water repellency, and exhibits excellent antireflection performance. Examples of the water-repellent article include those in which the laminate of the present invention is attached to the surfaces of window materials, roof tiles, outdoor lighting, curved mirrors, vehicle windows, and vehicle mirrors.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本実施例において、特に断りがない限り「部」は「質量部」を意味する。また、各種測定および評価方法は以下の通りである。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In this example, “part” means “part by mass” unless otherwise specified. Various measurements and evaluation methods are as follows.

(1)モールドの細孔の測定:
陽極酸化ポーラスアルミナからなるモールドの一部の縦断面に、白金を1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて加速電圧:3.00kVで観察し、隣り合う細孔の間隔(周期)および細孔の深さを測定した。具体的にはそれぞれ10点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
(1) Measurement of mold pores:
Platinum is deposited on a longitudinal section of a part of a mold made of anodized porous alumina for 1 minute, and observed at an acceleration voltage of 3.00 kV using a field emission scanning electron microscope (JSM-7400F, manufactured by JEOL Ltd.). The interval (period) between adjacent pores and the depth of the pores were measured. Specifically, 10 points were measured for each, and the average value was taken as the measured value.

(2)ナノ凹凸構造の凹凸の測定:
積層体の縦断面に、白金を10分間蒸着し、(1)の場合と同じ装置および条件にて、隣り合う凸部または凹部の間隔および凸部の高さを測定した。具体的にはそれぞれ10点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
(2) Measurement of unevenness of nano uneven structure:
Platinum was vapor-deposited on the longitudinal section of the laminate for 10 minutes, and the distance between adjacent convex portions or concave portions and the height of the convex portions were measured using the same apparatus and conditions as in (1). Specifically, 10 points were measured for each, and the average value was taken as the measured value.

(3)光透過性基材の粘弾性測定:
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を光硬化させて厚さ200μmのフィルムに成形し、このフィルムを幅5mmの短冊状に打ち抜いたものを試験片とし、粘弾性測定装置(セイコーインスツルメンツ社製、DMS110)を用い、引張モード、チャック間:2cm、測定周波数:1Hzにて、−50〜100℃まで2℃/分の昇温速度で測定し、tanδを求めた。
(3) Viscoelasticity measurement of light-transmitting substrate:
The active energy ray-curable resin composition (A) is photocured and formed into a film having a thickness of 200 μm, and this film is punched into a strip shape having a width of 5 mm, and a viscoelasticity measuring device (Seiko Instruments Inc.) is used. Tan δ was determined by using a DMS110), tensile mode, between chucks: 2 cm, measurement frequency: 1 Hz, from −50 to 100 ° C. at a rate of 2 ° C./min.

(4)耐擦傷性の評価:
磨耗試験機(新東科学社製、HEIDON)に1cm四方のキャンバス布を装着し、100gの荷重をかけて、往復距離:50mm、ヘッドスピード:60mm/sの条件にて積層体の表層側の表面を1000回擦傷した。その後、外観を目視にて観察し、以下の基準により評価した。
「○」:4本以下の傷が確認される。
「×」:5本以上の傷が確認される。
(4) Evaluation of scratch resistance:
Attach a 1cm square canvas cloth to an abrasion tester (made by Shinto Kagaku Co., Ltd., HEIDON), apply a load of 100 g, reciprocating distance: 50 mm, head speed: 60 mm / s. The surface was scratched 1000 times. Thereafter, the appearance was visually observed and evaluated according to the following criteria.
“◯”: Four or less scratches are confirmed.
“×”: 5 or more scratches are confirmed.

(5)密着性の評価
JIS K 5400に準拠し、碁盤目剥離試験を行い、密着性を評価した。基盤には厚さ2mmのアクリル板を用いた。碁盤目は10×10の100マスによって行い、100マス中で剥離が起こらなかった数を評価した。
(5) Evaluation of adhesion According to JIS K 5400, a cross-cut peel test was performed to evaluate adhesion. An acrylic plate having a thickness of 2 mm was used as the base. The grid was made with 100 squares of 10 × 10, and the number where peeling did not occur in 100 squares was evaluated.

〔製造例〕
純度99.99%のアルミニウム板を、羽布研磨および過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨し、鏡面化した。
工程(a):
このアルミニウム板を、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30分間陽極酸化した。
工程(b):
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
[Production example]
An aluminum plate having a purity of 99.99% was mirror polished by feather polishing and electrolytic polishing in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
Step (a):
This aluminum plate was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 minutes under the conditions of DC: 40 V and temperature: 16 ° C.
Step (b):
The aluminum plate on which the oxide film was formed was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours to remove the oxide film.

工程(c):
酸化皮膜を除去したアルミニウム板を、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30秒間陽極酸化した。
工程(d):
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程(e):
工程(c)および工程(d)を合計で5回繰り返し、平均間隔:100nm、深さ:180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
Step (c):
The aluminum plate from which the oxide film was removed was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 seconds under the conditions of DC: 40 V and temperature: 16 ° C.
Step (d):
The aluminum plate on which the oxide film was formed was immersed in 5% by mass phosphoric acid at 32 ° C. for 8 minutes to carry out pore diameter expansion treatment.
Step (e):
Step (c) and step (d) were repeated 5 times in total to obtain anodized porous alumina having pores having a substantially conical shape with an average interval of 100 nm and a depth of 180 nm.

得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、次いで表面の水分をエアーブローで除去し、フッ素系剥離材(ダイキン工業社製、オプツールDSX)を固形分0.1質量%になるように希釈剤(ハーベス社製、HD−ZV)で希釈した溶液に10分間浸漬し、20時間風乾して、細孔が表面に形成されたモールドを得た。   The obtained anodized porous alumina is washed with deionized water, and then water on the surface is removed by air blow so that the fluorine-based release material (Daikin Kogyo Co., Ltd., OPTOOL DSX) has a solid content of 0.1% by mass. Was immersed in a solution diluted with a diluent (HD-ZV, manufactured by Harves Co., Ltd.) for 10 minutes and air-dried for 20 hours to obtain a mold having pores formed on the surface.

〔調製例〕
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステルATM−4E)の80部、シリコーンジアクリレート(信越化学工業社製、x−22−1602)の15部、2−ヒドロキシエチルアクリレートの5部、活性エネルギー線重合開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(日本チバガイギー社製、DAROCURE 1173)の0.5部および2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(日本チバガイギー社製、DAROCURE TPO)の0.5部を混合して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を得た。
[Preparation Example]
80 parts of ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester ATM-4E), 15 parts of silicone diacrylate (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., x-22-1602), 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts, 0.5 part of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (Nippon Ciba Geigy, DAROCURE 1173) as active energy ray polymerization initiator and 2,4,6-trimethylbenzoyl- 0.5 parts of diphenyl-phosphine oxide (manufactured by Ciba Geigy Japan, DAROCURE TPO) was mixed to obtain an active energy ray-curable resin composition (B).

〔実施例1〕
(工程(I))
冷却管、温度計および撹拌機を備えた反応器に、ポリブチレングリコールジメタクリレート(三菱レイヨン社製、アクリエステルPBOM)(以下、PBOMと記す。)の20部、メチルメタクリレート(以下、MMAと記す。)の80部および連鎖移動剤としてn−オクチルメルカプタン(関東化学社製)(以下、n−OMと記す。)の1部を仕込み、撹拌しながら加熱を開始した。
反応器内の温度が80℃になった時点で、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製、V−65)(以下、V−65と記す。)の0.018部を添加した。
次いで、反応器内の温度を100℃に昇温して120分間保持した後、多量の氷水によって室温まで急冷して、ポリマー成分を得た。
[Example 1]
(Process (I))
In a reactor equipped with a condenser, a thermometer and a stirrer, 20 parts of polybutylene glycol dimethacrylate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., acrylate PBOM) (hereinafter referred to as PBOM), methyl methacrylate (hereinafter referred to as MMA) ) And 1 part of n-octyl mercaptan (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) (hereinafter referred to as n-OM) as a chain transfer agent, and heating was started while stirring.
When the temperature in the reactor reaches 80 ° C., 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, V-65) as a polymerization initiator (hereinafter referred to as V- 0.018 parts of 65.) was added.
Next, the temperature in the reactor was raised to 100 ° C. and held for 120 minutes, and then rapidly cooled to room temperature with a large amount of ice water to obtain a polymer component.

得られたポリマー成分の50部とPBOMの50部とからシラップ組成物を調製した。シラップ組成物の100部に対して離型剤としてスルホ琥珀酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム500ppmを添加し、活性エネルギー線重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの0.3部を添加し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を得た。表1に配合量を示す。   A syrup composition was prepared from 50 parts of the resulting polymer component and 50 parts of PBOM. To 100 parts of the syrup composition, 500 ppm of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate is added as a release agent, and 0.3 part of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is added as an active energy ray polymerization initiator. This was added to obtain an active energy ray-curable resin composition (A). Table 1 shows the blending amounts.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(A)を、厚さ188μmのPETフィルム(東洋紡績社製、コスモシャインA4100)の上に流延した後に、流延された活性エネルギー線重合性組成物(A)の表面をもう一枚のPETフィルムで挟み込んでケミカルランプの下を0.13m/分で通過させ、ピーク照度:4.0mW/cm、積算光量:3700mJ/cmで光を照射して硬化させた。硬化物をPETフィルムから剥離し、65℃の空気炉で3分熱処理して熱重合させ、厚さ200μmの光透過性基材を得た。 The active energy ray-curable resin composition (A) was cast on a PET film (Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm, and then cast into the active energy ray-polymerizable composition (A ) Is sandwiched between another PET film and passed under a chemical lamp at 0.13 m / min, and irradiated with light at a peak illuminance of 4.0 mW / cm 2 and an integrated light amount of 3700 mJ / cm 2. Cured. The cured product was peeled from the PET film, heat-treated for 3 minutes in an air furnace at 65 ° C., and thermally polymerized to obtain a light-transmitting substrate having a thickness of 200 μm.

(工程(II))
モールドの細孔側の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を流し込み、その上に光透過性基材を押し広げながら重ねた。光透過性基材の側から高圧水銀灯を用いて積算光量:2000mJ/cmで紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(B)を硬化した。その後、硬化物からモールドを剥離して、ナノ凹凸構造を表面に有する積層体を得た。
(Process (II))
The active energy ray-curable resin composition (B) was poured onto the surface of the mold on the pore side, and the light transmissive base material was spread and spread thereon. The active energy ray-curable resin composition (B) was cured by irradiating ultraviolet rays at an integrated light amount of 2000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp from the light-transmitting substrate side. Then, the mold was peeled from the cured product to obtain a laminate having a nano uneven structure on the surface.

この積層体の表面には、モールドのナノ凹凸構造が転写されており、図1に示すような、隣り合う凸部13の間隔w1が100nm、凸部13の高さd1が180nmである略円錐形状のナノ凹凸構造が形成されていた。得られた積層体は高い耐擦傷性および高い密着性を示した。結果を表2に示す。   On the surface of this laminate, the nano-concave structure of the mold is transferred, and as shown in FIG. 1, a substantially cone having an interval w1 between adjacent convex portions 13 of 100 nm and a height d1 of convex portions 13 of 180 nm. A nano-concave structure having a shape was formed. The obtained laminate exhibited high scratch resistance and high adhesion. The results are shown in Table 2.

〔比較例1〕
光透過性基材としてPETフィルム(東洋紡績社製、コスモシャインA4100)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4100) was used as the light transmissive substrate. The results are shown in Table 2.

〔比較例2〕
PBOM、MMA、n−OM、V−65の配合量および重合時間を表1に示す配合量および時間とした以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。結果を表2に示す。
[Comparative Example 2]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amounts and polymerization times of PBOM, MMA, n-OM, and V-65 were changed to the blending amounts and times shown in Table 1. The results are shown in Table 2.

Figure 0005810591
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Figure 0005810591
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本発明の積層体は、ナノ凹凸構造を表面に有する場合であっても、優れた耐擦傷性を有しており、壁、屋根等の建材用途;家屋、自動車、電車、船舶等の窓材や鏡;人が手で触れうるディスプレイ等に利用可能であり、工業的に極めて有用である。   The laminate of the present invention has excellent scratch resistance even when it has a nano uneven structure on the surface, and is used for building materials such as walls and roofs; window materials for houses, automobiles, trains, ships, etc. It can be used for a display that can be touched by human hands, and is extremely useful industrially.

10 積層体
11 光透過性基材
12 表層
13 凸部
13a 凸部の頂点
14 凹部
14a 凹部の底点
w1 隣り合う凸部の間隔
d1 凹部の底点から凸部の頂点までの垂直距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laminate 11 Light-transmitting base material 12 Surface layer 13 Convex part 13a Apex of convex part 14 Concave part 14a Bottom point of concave part w1 Spacing of adjacent convex part d1 Vertical distance from bottom point of concave part to apex of convex part

Claims (4)

(メタ)アクリレート系の活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物からなる光透過性基材と、
該光透過性基材上に積層された、凸部または凹部の平均間隔が380nm以下であるナノ凹凸構造を表面に有する表層と
を有する積層体であって、
前記光透過性基材のtanδ(損失正接)が、20℃、1Hzにおいて0.15以上で
ある、積層体。
A light-transmitting substrate comprising a cured product of a (meth) acrylate-based active energy ray-curable resin ;
A laminate having a nano-concavo-convex structure on the surface and having an average interval of convex portions or concave portions of 380 nm or less laminated on the light-transmitting substrate,
The laminated body whose tan (delta) (loss tangent) of the said light-transmissive base material is 0.15 or more in 20 degreeC and 1 Hz.
記表層が、(メタ)アクリレート系樹脂からなる、請求項1に記載の積層体。 Before Symbol surface layer, consisting of (meth) acrylate resin laminate of claim 1. 請求項1または2に記載の積層体を備えた、反射防止物品。   An antireflection article comprising the laminate according to claim 1. 請求項1または2に記載の積層体を備えた、撥水性物品。   A water repellent article comprising the laminate according to claim 1.
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