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JP5728065B2 - Laser processing machine - Google Patents

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JP5728065B2 JP2013234379A JP2013234379A JP5728065B2 JP 5728065 B2 JP5728065 B2 JP 5728065B2 JP 2013234379 A JP2013234379 A JP 2013234379A JP 2013234379 A JP2013234379 A JP 2013234379A JP 5728065 B2 JP5728065 B2 JP 5728065B2
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Description

本発明は、レーザ光を被加工物の任意の箇所に照射して加工を施すレーザ加工機に関する。   The present invention relates to a laser processing machine that performs processing by irradiating an arbitrary portion of a workpiece with laser light.

今日、入力手段としてタッチパネル装置が広く利用されている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上の接触位置を知得する制御回路、配線及びフレキシブルプリント基板を含んでなる。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit for obtaining a contact position on the touch panel sensor, wiring, and a flexible printed board.

タッチパネル装置は、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等の表示装置が組み込まれる様々な機器(携帯電話端末(特に、いわゆるスマートフォン)や携行可能な情報処理端末、ビデオゲーム機、ATM装置、発券機、自動販売機、家電製品等)に実装され、当該機器に対する直感的な入力手段として用いられている。タッチパネルセンサにおける、表示装置の画像表示領域に重なる領域は透明となっており、当該領域に対象物の接触位置を検出し得るアクティブエリアが構成される。   Touch panel devices include various devices (mobile phone terminals (especially so-called smartphones), portable information processing terminals, video game machines, ATM devices, ticket machines, vending machines, etc., in which display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays are incorporated. And is used as an intuitive input means for the device. An area of the touch panel sensor that overlaps the image display area of the display device is transparent, and an active area that can detect the contact position of the object is configured in the area.

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上の接触位置を検出する原理に応じて、種々の形式に区別され得る。近時では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、多点認識(マルチタッチ)への対応に適している点では投影型が有利である。   The touch panel device can be classified into various types according to the principle of detecting the contact position on the touch panel sensor. Recently, capacitive coupling type touch panel devices have been attracting attention for reasons such as being optically bright, having design properties, being easy in structure, and being excellent in function. The capacitive coupling method includes a surface type and a projection type, but the projection type is advantageous in that it is suitable for dealing with multipoint recognition (multitouch).

投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、その誘電体の両側に相異なるパターンで形成された第一センサ電極および第二センサ電極とを要素とする。第一センサ電極及び第二センサ電極は、これらセンサ電極を支持する基材におけるアクティブエリア外の領域に敷設された取出配線(取出用の導電体)を介して外部の制御回路に接続される。   A projected capacitively coupled touch panel sensor includes a dielectric and first and second sensor electrodes formed in different patterns on both sides of the dielectric. The first sensor electrode and the second sensor electrode are connected to an external control circuit via an extraction wiring (extraction conductor) laid in a region outside the active area in the base material supporting these sensor electrodes.

アクティブエリアに敷設される第一センサ電極及び第二センサ電極には透明導電材料が使用されるが、非アクティブエリアに敷設される取出配線は透明である必要はない。従来は、高い導電率を有する金属等の導電性材料からなる配線パターンを基材上にスクリーン印刷することで取出配線が形成されていた(以上、下記特許文献1を参照)。   A transparent conductive material is used for the first sensor electrode and the second sensor electrode laid in the active area, but the extraction wiring laid in the non-active area does not have to be transparent. Conventionally, a lead-out wiring is formed by screen-printing a wiring pattern made of a conductive material such as a metal having high conductivity on a base material (see Patent Document 1 below).

特開2013−033558号公報JP2013-033558A

昨今、表示装置の画像表示領域をさらに拡大し、及び/または、意匠性をより一層向上させる目的で、画像表示領域の周囲を取り囲んでいるいわゆる“額縁”領域を狭小化することが求められている。そのためには、タッチパネルセンサにおける非アクティブエリアを小面積化する必要がある。   Recently, in order to further expand the image display area of the display device and / or to further improve the design, it is required to narrow a so-called “frame” area surrounding the image display area. Yes. For this purpose, it is necessary to reduce the inactive area in the touch panel sensor.

非アクティブエリアに敷設される取出配線を十分に高精細化すれば、非アクティブエリア及び額縁領域を縮小することが可能になる。だが、現状のスクリーン印刷法では、高精細な配線パターンを形成することが難しい。   If the extraction wiring laid in the inactive area is made sufficiently high in definition, the inactive area and the frame area can be reduced. However, with the current screen printing method, it is difficult to form a high-definition wiring pattern.

基材の表面に導電性材料からなる導電層を製膜し、レーザ光を照射してこの導電層を切削し取出配線を形成するレーザ加工法を採用すれば、スクリーン印刷法では不可能な高精細な配線パターンを具現することが可能である。   If a laser processing method is adopted in which a conductive layer made of a conductive material is formed on the surface of a substrate, and this conductive layer is cut by irradiating a laser beam to form a lead-out wiring, it is impossible to achieve a high level that is impossible with screen printing. It is possible to implement a fine wiring pattern.

レーザ加工法の欠点として、工程に要するタクトタイムが長いことが挙げられる。レーザ加工に際しては、基材上の所要の位置座標に精確にレーザ光を照射するべく、レーザ加工機に搬入した基材のレーザ光照射装置に対する相対的な位置関係を計測するアラインメント(または、キャリブレーション)が必須となる。アラインメント処理では、予め基材に印刷等により付されたアライメントマークの撮影を行うことが一般的である。 A disadvantage of the laser processing method is that the tact time required for the process is long. In laser processing, an alignment (or calibration) that measures the relative positional relationship of the base material loaded into the laser processing machine with respect to the laser light irradiation device in order to accurately irradiate the required position coordinates on the base material with laser light. Is required. In alignment process, it is common to perform photographing Arai down placement mark provided by printing or the like in advance substrate.

だが、加工対象となる基材は、複数個のタッチパネルセンサを内包する大判のフィルムまたは薄板である。そのような基材の全域をカメラで走査する都合上、レーザ加工前のアラインメントに長い時間を費やさざるを得ない不利がある。   However, the base material to be processed is a large film or thin plate containing a plurality of touch panel sensors. For the convenience of scanning the whole area of such a substrate with a camera, there is a disadvantage that a long time must be spent for alignment before laser processing.

さらに、スクリーン印刷であれば、基材の広い面積に一挙に配線パターンを塗工することができる。つまるところ、単位時間あたりの量産数量の点で、レーザ加工法はスクリーン印刷法よりも劣っているという問題があった。   Furthermore, if it is screen printing, a wiring pattern can be applied to the wide area of a base material at once. After all, there is a problem that the laser processing method is inferior to the screen printing method in terms of mass production quantity per unit time.

本発明は、レーザ加工機によるレーザ加工工程のタクトタイムを短縮することを所期の目的としている。   An object of the present invention is to shorten the tact time of a laser processing step by a laser processing machine.

本発明では、被加工物をそれぞれ配置可能な複数の配置領域を備え、ある配置領域に配置された被加工物と当該被加工物にレーザ光を照射するレーザ光照射装置との相対的な位置関係の計測を含むアラインメント(または、キャリブレーション)を実行するのと同時期に、他の配置領域に配置され既に前記アラインメントを終えている被加工物に対してレーザ光照射装置からレーザ光を照射する加工処理を実行するレーザ加工機を構成した。より具体的には、第一の配置領域における被加工物の搬出入場所及びアラインメント処理のために使用されるカメラセンサの設置場所、並びに第二の配置領域が順に一直線状に並んでおり、被加工物がそれらの間を直線的に移動するものとする。 In the present invention, a relative position between a workpiece disposed in a certain placement region and a laser beam irradiation apparatus that irradiates the workpiece with laser light, which includes a plurality of placement regions in which workpieces can be respectively disposed. At the same time when the alignment (or calibration) including the measurement of the relationship is executed, the laser beam is irradiated from the laser beam irradiation device to the workpiece that has been arranged in another arrangement area and has already finished the alignment. The laser processing machine which performs the processing which performs was comprised. More specifically, the workpiece loading / unloading location in the first arrangement area, the installation location of the camera sensor used for the alignment process, and the second arrangement area are arranged in a straight line in order . It is assumed that the workpiece moves linearly between them.

即ち、ある被加工物に対するレーザ加工処理を実行している間に、次にレーザ加工を施す被加工物についてのアラインメントを完遂するようにしたのである。このようなものであれば、レーザ加工機の稼働時間に占めるレーザ加工処理の時間の割合をより大きくできる。換言すれば、レーザ光照射装置が被加工物にレーザ光を照射していない無駄な時間を縮減することができる。ひいては、単位時間あたりのレーザ加工を施す被加工物の数量が増加する。   That is, while the laser processing for a certain workpiece is being executed, the alignment for the workpiece to be laser processed next is completed. If it is such, the ratio of the time of the laser processing processing which occupies for the operation time of a laser processing machine can be enlarged more. In other words, useless time when the laser beam irradiation apparatus does not irradiate the workpiece with the laser beam can be reduced. As a result, the number of workpieces subjected to laser processing per unit time increases.

レーザ加工機の具体的態様としては、被加工物の搬出入及び前記アラインメントの実行のための第一の配置領域と、前記加工処理の実行のための第二の配置領域と、前記第一の配置領域において前記アラインメントを終えた被加工物を前記第二の配置領域に移送する移送機構とを備えたものが挙げられる。   Specific embodiments of the laser processing machine include: a first arrangement area for carrying in and out a workpiece and the execution of the alignment; a second arrangement area for executing the processing; and the first arrangement area. What has the transfer mechanism which transfers the workpiece which finished the alignment in the arrangement area to the second arrangement area is mentioned.

前記レーザ光照射装置は、例えば、被加工物に照射するレーザ光の光軸の向きを変化させることのできるガルバノスキャナを用いてなる。   The laser beam irradiation apparatus includes, for example, a galvano scanner that can change the direction of the optical axis of the laser beam irradiated onto the workpiece.

本発明によれば、レーザ加工機によるレーザ加工工程のタクトタイムを短縮することが可能である。   According to the present invention, it is possible to shorten the tact time of the laser processing step by the laser processing machine.

本発明の一実施形態に係るレーザ加工機を示す側面図。The side view which shows the laser beam machine which concerns on one Embodiment of this invention. 同レーザ加工機の背面図。The rear view of the laser processing machine. 同レーザ加工機の側面図。The side view of the laser beam machine. 同レーザ加工機におけるレーザ光照射装置の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the laser beam irradiation apparatus in the laser processing machine. 被加工物に付されるアラインメントマークの一例を示す図。The figure which shows an example of the alignment mark attached | subjected to a workpiece. 本発明に関連した参考例を模式的に示す側面図。The side view which shows typically the reference example relevant to this invention.

本発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。図1ないし図3に示すように、本実施形態のレーザ加工機は、水平なX軸方向に沿って被加工物9がそれぞれ配置される第一の配置領域3及び第二の配置領域4を備え、第一の配置領域3においてアラインメントを実行し、第二の配置領域4においてレーザ加工を実行することにより、別個の被加工物9に対するアラインメント(または、キャリブレーション)とレーザ加工とを同時に進行させることが可能なものである。   An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the laser processing machine according to the present embodiment includes a first arrangement area 3 and a second arrangement area 4 in which the workpieces 9 are arranged along the horizontal X-axis direction. And aligning (or calibration) and laser processing for separate workpieces 9 simultaneously by executing alignment in the first placement region 3 and performing laser processing in the second placement region 4 It is possible to make it.

作業に従事する作業者から見て、手前方が第一の配置領域3、奥方が第二の配置領域4である。第一の配置領域3には、アラインメント処理のために使用されるカメラセンサ2が配設される。カメラセンサ2は、例えば、X軸に対し直交する水平なY軸方向に沿って拡張した領域を一時に撮像することができるラインカメラ、または、X軸、Y軸両方向に拡張した二次元領域を一時に撮像することのできるエリアカメラとする。   When viewed from the worker engaged in the work, the front side of the hand is the first placement area 3 and the back is the second placement area 4. In the first arrangement area 3, a camera sensor 2 used for alignment processing is arranged. The camera sensor 2 is, for example, a line camera that can image a region expanded along the horizontal Y-axis direction orthogonal to the X-axis at once, or a two-dimensional region expanded in both the X-axis and Y-axis directions. It is assumed that the area camera can capture images at a time.

第一の配置領域3は、本レーザ加工機に対して被加工物9、例えばタッチパネル装置用の基材フィルムを搬出入するための作業の場所31を包含している。故に、第一の配置領域3は、第二の配置領域4と比較して、X軸方向に沿って広くなっている。搬出入場所31は、第一の配置領域3における最も手前側に位置する。カメラセンサ2は、搬出入場所31の最も奥方の端部近傍に配置してあり、被加工物9が搬出入場所31から奥方に進入するときにこれをX軸方向に走査する(即ち、カメラセンサ2が被加工物9に対して相対的にX軸方向に変位する)形で、当該被加工物9の表面の概ね全域の撮影を行う。 The first arrangement region 3 includes a work place 31 for carrying in and out a workpiece 9, for example, a base film for a touch panel device, with respect to the laser processing machine. Therefore, the first arrangement region 3 is wider along the X-axis direction than the second arrangement region 4. The carry-in / out place 31 is located on the most front side in the first arrangement region 3. The camera sensor 2 is disposed in the vicinity of the innermost end of the carry-in / out place 31 and scans the workpiece 9 in the X-axis direction when entering the back from the carry-in / out place 31 (that is, the camera The sensor 2 is displaced relative to the workpiece 9 in the X-axis direction), and the entire surface of the workpiece 9 is imaged.

第二の配置領域4には、被加工物9に対してレーザ光Lを照射するレーザ光照射装置1が配設される。レーザ光照射装置1は、例えば、被加工物9に照射するレーザ光Lの光軸の向きを変化させることのできるガルバノスキャナを用いてなる。   In the second arrangement region 4, the laser beam irradiation device 1 that irradiates the workpiece 9 with the laser beam L is disposed. The laser beam irradiation apparatus 1 includes, for example, a galvano scanner that can change the direction of the optical axis of the laser beam L irradiated to the workpiece 9.

より具体的に述べると、レーザ照射装置1は、図4に示すように、レーザ発振器14から供給されるレーザ光Lを反射させるガルバノスキャナ11、12と、ガルバノスキャナ11、12を経由したレーザ光Lを集光して被加工物9に照射する集光レンズ13とを要素とする。ガルバノスキャナ11、12は、レーザ光Lを反射するガルバノミラー112、122を、モータ(サーボモータ、ステッピングモータ等)111、121により回動させるものである。ガルバノミラー112、122の方向を変えることで、レーザ光Lの光軸を変位させることができる。本実施形態では、レーザ光Lの光軸をX軸方向に変化させるX軸ガルバノスキャナ11と、レーザ光Lの光軸をY軸方向に変化させるY軸ガルバノスキャナ12とを両備しており、被加工物9の表面におけるレーザ光Lの照射位置をX軸方向及びY軸方向の二次元に制御し得る。集光レンズ13は、例えばFθレンズとする。   More specifically, as shown in FIG. 4, the laser irradiation apparatus 1 includes a galvano scanner 11, 12 that reflects the laser light L supplied from the laser oscillator 14, and a laser beam that passes through the galvano scanner 11, 12. A condensing lens 13 that condenses L and irradiates the workpiece 9 is used as an element. The galvano scanners 11 and 12 rotate galvanometer mirrors 112 and 122 that reflect the laser beam L by motors (servo motors, stepping motors, and the like) 111 and 121, respectively. By changing the direction of the galvanometer mirrors 112 and 122, the optical axis of the laser light L can be displaced. In this embodiment, both an X-axis galvano scanner 11 that changes the optical axis of the laser light L in the X-axis direction and a Y-axis galvano scanner 12 that changes the optical axis of the laser light L in the Y-axis direction are provided. The irradiation position of the laser beam L on the surface of the workpiece 9 can be controlled in two dimensions in the X-axis direction and the Y-axis direction. The condenser lens 13 is, for example, an Fθ lens.

図2に示すように、本実施形態では、レーザ光照射装置1を複数基(図示例では、二基)、Y軸方向に沿って配列している。各レーザ光照射装置1により、Y軸方向に沿って拡張した被加工物9の広範囲にレーザ加工を施すことができる。これらレーザ光照射装置1は、第二の配置領域4内でX軸方向に沿って伸びるように横架されたフレーム5に支持させてある。フレーム5は、駆動装置、例えばリニアモータによりY軸方向に沿って移動することが可能である。   As shown in FIG. 2, in this embodiment, a plurality of laser light irradiation devices 1 (two in the illustrated example) are arranged along the Y-axis direction. Each laser beam irradiation device 1 can perform laser processing on a wide range of the workpiece 9 expanded along the Y-axis direction. These laser light irradiation apparatuses 1 are supported by a frame 5 that is horizontally mounted so as to extend along the X-axis direction in the second arrangement region 4. The frame 5 can be moved along the Y-axis direction by a driving device such as a linear motor.

被加工物9は、移送機構6、7によって第一の配置領域3と第二の配置領域4との間を移動する。移送機構6、7は、被加工物9を支持する支持体61、71、例えば被加工物9を吸着することができるテーブル(または、ステージ)と、この支持体を少なくともX軸方向に移動させる駆動装置、例えばリニアモータとを要素とする。   The workpiece 9 is moved between the first arrangement area 3 and the second arrangement area 4 by the transfer mechanisms 6 and 7. The transfer mechanisms 6 and 7 support the workpieces 61 and 71 that support the workpiece 9, for example, a table (or stage) that can suck the workpiece 9, and move the support at least in the X-axis direction. A drive device, for example, a linear motor is used as an element.

特に、本実施形態では、互いに独立した第一の移送機構6及び第二の移送機構7を配備している。第一の移送機構6及び第二の移送機構7の支持体61、71は何れも、被加工物9を載置するのに十分なX軸方向寸法(幅寸法)及びY軸方向寸法(奥行寸法)を有しているが、第二の移送機構7の支持体71の幅寸法は第一の移送機構6の支持体61のそれよりもやや小さい。また、第二の移送機構7の支持体71は、その高さ位置を、例えば液圧シリンダやエアシリンダ等を介して変位させることができる。しかして、第一の移送機構6の下方は空間が空いており、第二の移送機構7の支持体71はこの空間を通過することができる。つまり、両支持体61、71は、それぞれ被加工物9を支持した状態で、互いにすれ違いながらX軸方向に沿って独立して移動することが可能となっている。   In particular, in this embodiment, the 1st transfer mechanism 6 and the 2nd transfer mechanism 7 which were mutually independent are arranged. The support bodies 61 and 71 of the first transfer mechanism 6 and the second transfer mechanism 7 both have dimensions in the X-axis direction (width dimension) and Y-axis direction dimensions (depth) sufficient to place the workpiece 9. However, the width of the support 71 of the second transfer mechanism 7 is slightly smaller than that of the support 61 of the first transfer mechanism 6. Further, the support 71 of the second transfer mechanism 7 can be displaced in height via, for example, a hydraulic cylinder or an air cylinder. The space below the first transfer mechanism 6 is empty, and the support 71 of the second transfer mechanism 7 can pass through this space. That is, both the supports 61 and 71 can move independently along the X-axis direction while passing each other while supporting the workpiece 9.

本レーザ加工機を用いたレーザ加工工程を、手順を追って述べる。まず、現時点で、図1に示すように、第一の移送機構6の支持体61が第一の配置領域3における搬出入場所31に所在し、第二の移送機構7の支持体71が第二の配置領域4に所在していると仮定する。作業者は、支持体61に支持されている、既にレーザ加工が完了した被加工物9を取り除き、その代わりにレーザ加工を行うべき新たな被加工物9を当該支持体に載置、吸着させる。   The laser processing process using this laser processing machine will be described step by step. First, as shown in FIG. 1, the support 61 of the first transfer mechanism 6 is present at the loading / unloading location 31 in the first arrangement region 3 and the support 71 of the second transfer mechanism 7 is Assume that it is located in the second arrangement region 4. The operator removes the workpiece 9 that has already been laser-processed and is supported by the support body 61, and places a new workpiece 9 to be laser-processed on the support body instead of the workpiece 9. .

次に、当該支持体61を、第一の配置領域3内で、搬出入場所31から奥方に進入させる。このとき、当該支持体61がカメラセンサ2の直下を通過し、カメラセンサ2が当該支持体61に支持された被加工物9の表面を撮影するアラインメントが実行される。   Next, the support body 61 is advanced from the loading / unloading location 31 in the first arrangement region 3. At this time, the support 61 passes immediately below the camera sensor 2, and alignment is performed in which the camera sensor 2 images the surface of the workpiece 9 supported by the support 61.

アラインメントでは、被加工物9の表面に予め印刷等により付されているアラインメントマーク91、92を撮影し、その撮影画像中のアラインメントマーク91、92の位置座標を検出して、被加工物9がX軸方向及び/またはY軸方向にどの程度伸びたり縮んだりしているか、被加工物9が鉛直なZ軸方向回りにどの程度回転しているか、及び/または、被加工物9の表面上のアラインメントマーク92の印刷位置の誤差がどの程度であるか(被加工物9の寸法を一定と考えれば、被加工物9の四方の縁辺との関係で、または被加工物9の隅角に付されたアラインメントマーク91との関係で、アラインメントマーク92の印刷位置のずれを知得することが可能)等を計測する。   In the alignment, the alignment marks 91 and 92 previously attached to the surface of the workpiece 9 by printing or the like are photographed, and the position coordinates of the alignment marks 91 and 92 in the photographed image are detected. How much is extending or contracting in the X-axis direction and / or Y-axis direction, how much the workpiece 9 is rotated about the vertical Z-axis direction, and / or on the surface of the workpiece 9 The error of the printing position of the alignment mark 92 of the workpiece 9 (if the dimension of the workpiece 9 is assumed to be constant, the relationship with the four edges of the workpiece 9 or the corner angle of the workpiece 9) The deviation of the printing position of the alignment mark 92 can be known in relation to the attached alignment mark 91).

図5に、アラインメントマーク91、92を例示する。アラインメントマーク91、92は、被加工物9の隅角(特に、対角)に付されたり、被加工物9が包有する各セル(一個のセルが一個の製品(タッチパネル装置)に対応する)毎に付されたりする。   FIG. 5 illustrates alignment marks 91 and 92. The alignment marks 91 and 92 are attached to the corners (particularly diagonal) of the workpiece 9 or each cell included in the workpiece 9 (one cell corresponds to one product (touch panel device)). It is attached every time.

カメラセンサ2による計測の結果は、第二の配置領域4において実行するレーザ加工処理において、ガルバノスキャナ11、12により決定されるレーザ光Lの照射位置座標の補正に用いられる。また、支持体61、71がY軸方向に変位可能であったり、Z軸回りに水平回転可能であったりする場合には、その計測結果に応じて、被加工物9を支持している支持体61、71のレーザ光照射装置1に対する相対位置をY軸方向に沿って補正したり、Z軸回りに回転させて補正したりすることもあり得る。   The result of measurement by the camera sensor 2 is used to correct the irradiation position coordinates of the laser light L determined by the galvano scanners 11 and 12 in the laser processing performed in the second arrangement region 4. Further, when the supports 61 and 71 can be displaced in the Y-axis direction or can be horizontally rotated around the Z-axis, the support that supports the workpiece 9 according to the measurement result. The relative positions of the bodies 61 and 71 with respect to the laser beam irradiation apparatus 1 may be corrected along the Y-axis direction or may be corrected by rotating around the Z-axis.

第一の配置領域3における被加工物9の搬出入及びアラインメント中、第二の配置領域4では、第二の移送機構7の支持体71に支持された被加工物9に対してレーザ光Lを照射するレーザ加工を行っている。レーザ加工は、例えば、被加工物9に設けられた導電層93をレーザ光Lで切削して配線パターンを形成するものである。   During the loading / unloading and alignment of the workpiece 9 in the first arrangement region 3, the laser beam L is applied to the workpiece 9 supported by the support 71 of the second transfer mechanism 7 in the second arrangement region 4. Laser processing is performed. In the laser processing, for example, the conductive layer 93 provided on the workpiece 9 is cut with a laser beam L to form a wiring pattern.

アラインメント及びレーザ加工がともに完了した暁には、アラインメント済みの被加工物9を第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移送し、かつレーザ加工済みの被加工物9を第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移送する。即ち、第一の移送機構6の支持体61が第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移動し、第二の移送機構7の支持体71が第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移動する。この際、双方の支持体61、71を互いにすれ違わせる必要があるため、第二の移送機構7の支持体71の高さ位置を、図1に実線で示すレーザ光Lの焦点近傍の高さ位置から、図1に鎖線で示す第一の移送機構6の支持体61の下方を潜ることができる高さ位置まで降下させる。その上で、当該支持体71を第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移動させつつ、他方の支持体71を第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移動させる。   When both the alignment and the laser processing are completed, the aligned workpiece 9 is transferred from the first arrangement region 3 to the second arrangement region 4, and the laser processed workpiece 9 is transferred to the second arrangement region 4. Are transferred from the arrangement area 4 to the first arrangement area 3. That is, the support body 61 of the first transfer mechanism 6 moves from the first arrangement area 3 to the second arrangement area 4, and the support body 71 of the second transfer mechanism 7 moves from the second arrangement area 4 to the first arrangement area 4. Move to one placement area 3. At this time, since both the supports 61 and 71 need to pass each other, the height position of the support 71 of the second transfer mechanism 7 is set to a height near the focal point of the laser light L indicated by a solid line in FIG. From this position, it is lowered to a height position where it can dive below the support 61 of the first transfer mechanism 6 indicated by a chain line in FIG. Then, the support 71 is moved from the second placement area 4 to the first placement area 3 and the other support 71 is moved from the first placement area 3 to the second placement area 4. Let

図3に示すように、第一の移送機構6の支持体61が第二の配置領域4に移動し、当該支持体61及びこれに支持された被加工物9がレーザ光照射装置1の下方に位置付けられたならば、レーザ光照射装置1から当該被加工物9にレーザ光を照射するレーザ加工を開始する。既に述べた通り、レーザ加工の際には、当該被加工物9について実行したアラインメントにおける計測の結果を反映させ、ガルバノスキャナ11、12が指向するレーザ光Lの照射位置座標を補正する。及び/または、被加工物9を支持している支持体61のレーザ光照射装置1に対する相対位置を(Y軸方向に沿って、またはZ軸回りに回転させて)補正する。   As shown in FIG. 3, the support 61 of the first transfer mechanism 6 moves to the second arrangement region 4, and the support 61 and the workpiece 9 supported by the support 61 are below the laser light irradiation apparatus 1. If it is positioned, laser processing for irradiating the workpiece 9 with laser light from the laser light irradiation device 1 is started. As already described, at the time of laser processing, the measurement result in the alignment performed on the workpiece 9 is reflected, and the irradiation position coordinates of the laser light L directed by the galvano scanners 11 and 12 are corrected. And / or correct | amend the relative position with respect to the laser beam irradiation apparatus 1 of the support body 61 which is supporting the to-be-processed object 9 (it rotates around the Y-axis direction or the Z-axis).

翻って、第二の移送機構7の支持体が第一の配置領域3に移動し、当該支持体71及びこれに支持された被加工物9が搬出入場所31に到着したならば、作業者が、レーザ加工が完了した当該被加工物9を取り除き、その代わりにレーザ加工を行うべき新たな被加工物9を当該支持体71に載置、吸着させる。なお、搬出入場所31において、当該支持体71の高さ位置を、図3に鎖線で示すように、作業者が被加工物9の搬出入を行うために適した高さまで上昇させることを妨げない。   In turn, if the support body of the second transfer mechanism 7 moves to the first arrangement region 3 and the support body 71 and the workpiece 9 supported by the support body 71 arrive at the loading / unloading place 31, the operator However, the workpiece 9 for which laser processing has been completed is removed, and a new workpiece 9 to be subjected to laser processing is placed and adsorbed on the support 71 instead. In addition, in the carry-in / out place 31, as shown by a chain line in FIG. 3, the height of the support 71 is prevented from being raised to a height suitable for carrying the work-in / out of the workpiece 9. Absent.

次に、当該支持体71を、第一の配置領域3内で、搬出入場所31から奥方に進入させる。このとき、当該支持体71がカメラセンサ2の直下を通過し、カメラセンサ2が当該支持体71に支持された被加工物9の表面を撮影するアラインメントが実行される。   Next, the support 71 is advanced from the loading / unloading location 31 in the first arrangement region 3. At this time, the support 71 passes directly under the camera sensor 2, and the alignment is performed in which the camera sensor 2 images the surface of the workpiece 9 supported by the support 71.

第一の配置領域3における被加工物9の搬出入及びアラインメント中、第二の配置領域4では、第一の移送機構6の支持体61に支持された被加工物9に対してレーザ光Lを照射するレーザ加工を行っている。   During the loading / unloading and alignment of the workpiece 9 in the first arrangement region 3, the laser beam L is applied to the workpiece 9 supported by the support 61 of the first transfer mechanism 6 in the second arrangement region 4. Laser processing is performed.

アラインメント及びレーザ加工がともに完了した暁には、アラインメント済みの被加工物9を第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移送し、かつレーザ加工済みの被加工物9を第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移送する。即ち、第二の移送機構7の支持体71が第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移動し、第一の移送機構6の支持体61が第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移動する。この際、双方の支持体61、71を互いにすれ違わせる必要があるので、第一の配置領域3において第二の移送機構7の支持体71を上昇させていたならば、これを第一の移送機構6の支持体61の下方を潜ることができる高さ位置まで降下させる。その上で、当該支持体71を第一の配置領域3から第二の配置領域4へと移動させつつ、他方の支持体61を第二の配置領域4から第一の配置領域3へと移動させる。   When both the alignment and the laser processing are completed, the aligned workpiece 9 is transferred from the first arrangement region 3 to the second arrangement region 4, and the laser processed workpiece 9 is transferred to the second arrangement region 4. Are transferred from the arrangement area 4 to the first arrangement area 3. That is, the support 71 of the second transfer mechanism 7 moves from the first placement region 3 to the second placement region 4, and the support 61 of the first transfer mechanism 6 moves from the second placement region 4 to the second placement region 4. Move to one placement area 3. At this time, since both the supports 61 and 71 need to pass each other, if the support 71 of the second transfer mechanism 7 is raised in the first arrangement region 3, The transfer mechanism 6 is lowered to a height position where it can dive below the support 61. Then, the support body 71 is moved from the first placement area 3 to the second placement area 4 while the other support body 61 is moved from the second placement area 4 to the first placement area 3. Let

図1に示すように、第二の移送機構7の支持体71が第二の配置領域4に移動し、当該支持体71及びこれに支持された被加工物9がレーザ光照射装置1の下方に位置付けられたならば、当該支持体71の高さ位置をレーザ光Lの焦点近傍の高さまで上昇させた上、レーザ光照射装置1から当該被加工物9にレーザ光を照射するレーザ加工を開始する。既に述べた通り、レーザ加工の際には、当該被加工物9について実行したアラインメントにおける計測の結果を反映させ、ガルバノスキャナ11、12が指向するレーザ光Lの照射位置座標を補正する。及び/または、被加工物9を支持している支持体71のレーザ光照射装置1に対する相対位置を(Y軸方向に沿って、またはZ軸回りに回転させて)補正する。   As shown in FIG. 1, the support 71 of the second transfer mechanism 7 moves to the second arrangement region 4, and the support 71 and the workpiece 9 supported by the support 71 are below the laser light irradiation apparatus 1. In this case, the height of the support 71 is raised to a height near the focal point of the laser beam L, and laser processing is performed to irradiate the workpiece 9 with the laser beam from the laser beam irradiation device 1. Start. As already described, at the time of laser processing, the measurement result in the alignment performed on the workpiece 9 is reflected, and the irradiation position coordinates of the laser light L directed by the galvano scanners 11 and 12 are corrected. And / or correct | amend the relative position with respect to the laser beam irradiation apparatus 1 of the support body 71 which is supporting the to-be-processed object 9 (it rotates around the Y-axis direction or the Z-axis).

翻って、第一の移送機構6の支持体61が第一の配置領域3に移動し、当該支持体61及びこれに支持された被加工物9が搬出入場所31に到着したならば、作業者が、レーザ加工が完了した当該被加工物9を取り除き、その代わりにレーザ加工を行うべき新たな被加工物9を当該支持体61に載置、吸着させる。   In turn, if the support 61 of the first transfer mechanism 6 moves to the first arrangement region 3 and the support 61 and the workpiece 9 supported by the support 61 arrive at the loading / unloading location 31, A person removes the workpiece 9 for which laser processing has been completed, and instead places and mounts a new workpiece 9 to be laser processed on the support 61.

以降、上述の手順を反復して、多数の被加工物9に順次レーザ加工を施すこととなる。   Thereafter, the above procedure is repeated to sequentially perform laser processing on a large number of workpieces 9.

本実施形態では、被加工物9をそれぞれ配置可能な複数の配置領域3、4を備え、ある配置領域3、4に配置された被加工物9と当該被加工物9にレーザ光を照射するレーザ光照射装置1との相対的な位置関係の計測を含むアラインメントを実行するのと同時期に、他の配置領域4、3に配置され既に前記アラインメントを終えている被加工物9に対してレーザ光照射装置1からレーザ光を照射する加工処理を実行するレーザ加工機を構成した。   In the present embodiment, a plurality of arrangement regions 3 and 4 each having a workpiece 9 can be arranged, and the workpiece 9 arranged in a certain arrangement region 3 and 4 and the workpiece 9 are irradiated with laser light. At the same time when the alignment including the measurement of the relative positional relationship with the laser beam irradiation apparatus 1 is executed, the workpiece 9 that has been arranged in the other arrangement regions 4 and 3 and has already finished the alignment is used. A laser processing machine that executes processing for irradiating laser light from the laser light irradiation apparatus 1 was configured.

本実施形態によれば、ある被加工物9に対するレーザ加工処理を実行している間に、次にレーザ加工を施す被加工物9についてのアラインメントを完遂できるため、レーザ加工機の稼働時間に占めるレーザ加工処理の時間の割合をより大きくできる。換言すれば、レーザ光照射装置1が被加工物9にレーザ光を照射していない無駄な時間を縮減することができる。ひいては、レーザ加工工程のタクトタイムを短縮することができ、単位時間あたりのレーザ加工を施す被加工物9の数量が増加する。   According to the present embodiment, while the laser processing for a certain workpiece 9 is being performed, the alignment for the workpiece 9 to be subjected to the next laser processing can be completed, and therefore the operating time of the laser processing machine is occupied. The ratio of time for laser processing can be increased. In other words, useless time during which the laser beam irradiation apparatus 1 does not irradiate the workpiece 9 with the laser beam can be reduced. As a result, the tact time of the laser processing step can be shortened, and the number of workpieces 9 to be subjected to laser processing per unit time increases.

なお、本発明は以上に詳述した実施形態に限られるものではない。特に、被加工物9を第一の配置領域3と第二の配置領域4との間で移送する移送機構は、上記実施形態におけるものには限定されない The present invention is not limited to the embodiment described in detail above. In particular, the transfer mechanism for transferring the workpiece 9 between the first arrangement region 3 and the second arrangement region 4 is not limited to that in the above embodiment .

図6は参考例であり、被加工物9がロール(または、リール)81に幾重にも巻き回されたフィルム状をなすものである場合には、当該ロール81から繰り出された被加工物9を別のロール82で巻き取るようにして被加工物9を変位させるとともに、当該被加工物9の各部分を順次第一の配置領域3及び第二の配置領域4に送り込み、第一の配置領域3にてアラインメントを行い、第二の配置領域4にてレーザ加工を行う態様をとることができる。本参考例においても、上記実施形態と同様、第一の配置領域3に所在する被加工物9の部分がアラインメントの対象となっているのと同時期に、第二の配置領域4に所在する被加工物9の部分がレーザ加工を受ける。第二の配置領域4に送り込まれた被加工物9の部分は、既に第一の配置領域3においてアラインメント処理が完了した部分である。 FIG. 6 is a reference example. When the workpiece 9 is in the form of a film wound around a roll (or reel) 81, the workpiece 9 fed out from the roll 81 is shown. The workpiece 9 is displaced so as to be wound by another roll 82, and each part of the workpiece 9 is sequentially fed into the first arrangement region 3 and the second arrangement region 4, and the first arrangement A mode in which alignment is performed in the region 3 and laser processing is performed in the second arrangement region 4 can be employed. Also in the present reference example , as in the above-described embodiment, the portion of the workpiece 9 located in the first placement area 3 is located in the second placement area 4 at the same time as the alignment target. A portion of the workpiece 9 undergoes laser processing. The part of the workpiece 9 sent to the second arrangement area 4 is the part where the alignment process has already been completed in the first arrangement area 3.

本参考例では、繰出ロール81及び巻取ロール82が移送機構の構成主体となる。これらロール81、82は、被加工物9たるフィルムを進行方向に沿って所定寸法づつピッチ送り移動させる機能を発揮する。 In the present reference example , the feeding roll 81 and the take-up roll 82 are constituents of the transfer mechanism. These rolls 81 and 82 exhibit a function of moving the film as the work piece 9 by a predetermined dimension along the traveling direction.

その他各部の具体的構成は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。   Other specific configurations of each part can be variously modified without departing from the spirit of the present invention.

本発明は、レーザ光を被加工物の任意の箇所に照射して加工を施すレーザ加工機に適用することができる。   The present invention can be applied to a laser processing machine that performs processing by irradiating an arbitrary portion of a workpiece with laser light.

1…レーザ光照射装置
11、12…ガルバノスキャナ
2…カメラセンサ
3…第一の配置領域
4…第二の配置領域
6、7、81、82…移送機構
9…被加工物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser beam irradiation apparatus 11, 12 ... Galvano scanner 2 ... Camera sensor 3 ... 1st arrangement | positioning area | region 4 ... 2nd arrangement | positioning area 6, 7, 81, 82 ... Transfer mechanism 9 ... Workpiece

Claims (3)

被加工物をそれぞれ配置可能な複数の配置領域を備え、
第一の配置領域に配置された被加工物に対して、レーザ光を照射するレーザ光照射装置の照射位置座標を補正することと、被加工物を支持している支持体のレーザ光照射装置に対する相対位置を補正することとのうち少なくとも一つを行うための、支持体に支持された被加工物の表面のカメラセンサによる撮影を含むアラインメントを実行するのと同時期に、第二の配置領域に配置され既に前記アラインメントを終えている被加工物に対してレーザ光照射装置からレーザ光を照射する加工処理を実行するレーザ加工機であり、
第一の配置領域における被加工物の搬出入場所及びアラインメント処理のために使用されるカメラセンサの設置場所、並びに第二の配置領域が順に一直線状に並んでおり、被加工物がそれらの間を直線的に移動するレーザ加工機。
Provided with multiple placement areas where work pieces can be placed respectively,
Correction of irradiation position coordinates of a laser beam irradiation apparatus that irradiates a laser beam to a workpiece arranged in the first arrangement region, and a laser beam irradiation apparatus of a support that supports the workpiece A second arrangement at the same time as performing an alignment including imaging by a camera sensor on the surface of the work piece supported by the support to perform at least one of correcting the relative position with respect to A laser processing machine that executes a processing process of irradiating a laser beam from a laser beam irradiation device to a workpiece that is arranged in a region and has already finished the alignment;
The workpiece loading / unloading location in the first arrangement area, the installation location of the camera sensor used for alignment processing, and the second arrangement area are arranged in a straight line in order , and the workpiece is between them. Laser processing machine that moves linearly.
前記第一の配置領域において前記アラインメントを終えた被加工物を前記第二の配置領域に移送する移送機構を備えている請求項1記載のレーザ加工機。 The laser processing machine according to claim 1, further comprising a transfer mechanism configured to transfer a work piece that has finished the alignment in the first arrangement area to the second arrangement area. 前記レーザ光照射装置が、被加工物に照射するレーザ光の光軸の向きを変化させることのできるガルバノスキャナを用いたものである請求項1または2記載のレーザ加工機。 The laser beam machine according to claim 1 or 2, wherein the laser beam irradiation device uses a galvano scanner capable of changing the direction of the optical axis of the laser beam irradiated to the workpiece.
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