JP5721420B2 - 計測方法及び計測装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 294
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 170
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 116
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 43
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 34
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 13
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 8
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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Description
<第1の実施形態>
図2は、計測装置100による第1の実施形態における計測処理を説明するためのフローチャートである。図2を参照するに、S202(第1のステップ)では、基準面11aの計測を行う。具体的には、既知の非球面形状を有する基準面11aを検出部9の検出面と共役な面に配置し、基準面11aで反射した光の角度(Vbx,Vby)を検出部9の検出面上の複数の座標(X,Y)のそれぞれで検出する。ここで、Vは、図3(a)に示すように、検出部9の検出面で検出される光線角度である。また、Vx及びVyのそれぞれは、図3(b)に示す角度であり、検出部9の検出面で計測される光線角度VのX方向の成分及びY方向の成分である。また、bは、基準面11aの計測を表す添字である。検出部9の検出面上の座標(X,Y)は、マイクロレンズの位置に相当する。
[式1]
ΔVx=arctan(tan(Vsx)−tan(Vbx))
ΔVy=arctan(tan(Vsy)−tan(Vby))
[式2]
vxm(x,y)=2×arctan(Qx(x−Δxm,y−Δym))
vym(x,y)=2×arctan(Qy(x−Δxm,y−Δym))
[式5]
rxmij=(tan(Vxm(X(i),Y(i)))−Ave(tan(Vxm(X(i),Y(i)))))/(tan(vxm(x(j),y(j)))−Ave(tan(vxm(x(j),y(j))))))
rymij=(tan(Vym(X(i),Y(i)))−Ave(tan(Vym(X(i),Y(i)))))/(tan(vym(x(j),y(j)))−Ave(tan(vym(x(j),y(j))))))
[式6]
σij=1/n×Σ((rxmij−Ave(rxmij))2+(rymij−Ave(rymij))2)
[式7]
αx(i)=X(i)/x(k)
αy(i)=Y(i)/y(k)
[式8]
x=X/αx
y=Y/αy
[式9]
βx(i)=Ave((Vxm(X(i),Y(i))−Ave(Vxm(X(i),Y(i))))/(vxm(x(k),y(k))−Ave(vxm(x(k),y(k)))))
βy(i)=Ave((Vym(X(i),Y(i))−Ave(Vym(X(i),Y(i))))/(vym(x(k),y(k))−Ave(vym(x(k),y(k)))))
なお、式9は、以下の2つの差の比(差(1)と差(2)との比)の平均を求めるための式である。
差(1):検出部9の検出面上の座標(X(i),Y(i))における光の角度Vxm(X(i),Y(i))及びVym(X(i),Y(i))のmについて平均した値からの差
差(2):基準面上の座標(x(k),y(k))における基準面11aの傾斜角vxm(x(k),y(k))及びvym(x(k),y(k))のmについて平均した値からの差
[式10]
βx(i)=Ave((tan(Vxm(X(i),Y(i)))−Ave(tan(Vxm(X(i),Y(i))))))/(tan(vxm(x(k),y(k)))−Ave(tan(vxm(x(k),y(k)))))
βx(i)=Ave((tan(Vym(X(i),Y(i)))−Ave(tan(Vym(X(i),Y(i))))))/(tan(vym(x(k),y(k)))−Ave(tan(vym(x(k),y(k)))))
[式11]
vx−Ave(vxm)=(Vx−Ave(Vxm))/βx
vy−Ave(vym)=(Vy−Ave(Vym))/βy
[式12]
tan(vx)−Ave(tan(vxm))=(tan(Vx)−Ave(tan(Vxm)))/βx
tan(vy)−Ave(tan(vym))=(tan(Vy)−Ave(tan(Vym)))/βy
第2の実施形態は、第1の実施形態と比較して、座標変換テーブル、角度変換テーブル及び検出部9の検出面上の座標における角度から被検面上の座標における角度への変換が異なる。特に、角度の変換では、X成分とY成分とではなく、メリジオナル面の成分とメリジオナル面とX軸とのなす角度の成分とに分解して変換する。従って、より厳密な角度の変換を行うことが可能となり、計測装置100の計測精度を向上させることができる。
[式12]
Vθ=arctan(√(tan2(Vx)+tan2(Vy)))
Vφ=arctan(tan(Vy)/tan(Vx))
[式13]
vθ=arctan(√(tan2(vx)+tan2(vy)))
vφ=arctan(tan(vy)/tan(vx))
[式14]
Δvx=arctan(tan(Δvθ)cos(Δvφ))
Δvy=arctan(tan(Δvθ)sin(Δvφ))
[式15]
rθmij=(Vθm(X(i),Y(i))−Ave(Vθm(X(i),Y(i))))/(vθm(x(j),y(j))−Ave(vθm(x(j),y(j))))
rφmij=(Vφm(X(i),Y(i))−Ave(Vφm(X(i),Y(i))))/(vφm(x(j),y(j))−Ave(vφm(x(j),y(j))))
[式16]
σij=1/n×Σ((rθmij−Ave(rθmij))2+(rφmij−Ave(rφmij))2)
rθmij及びrφmijは、基準面11aを移動させたとき、検出部9の検出面上の座標(X(i),Y(i))における角度の変化量を、基準面上の座標(x(j),y(j))における基準面11aの傾斜角の変化量で割った値である。また、σijは、S1004及びS1006をn回繰り返すことで得られるrθmijとrφmijの分散の和である。
[式17]
αx(i)=X(i)/x(k)
αy(i)=Y(i)/y(k)
[式18]
βθ(i)=Ave((Vθm(X(i),Y(i))−Ave(Vθm(X(i),Y(i))))/(vθm(x(k),y(k))−Ave(vθm(x(k),y(k)))))
βφ(i)=Ave((Vφm(X(i),Y(i))−Ave(Vφm(X(i),Y(i))))/(vφm(x(k),y(k))−Ave(vφm(x(k),y(k)))))
なお、式18は、以下の2つの差の比(差(1)と差(2)との比)の平均を求めるための式である。
差(1):検出部9の検出面上の座標(X(i),Y(i))における光の角度Vθm(X(i),Y(i))及びVφm(X(i),Y(i))のmについて平均した値からの差
差(2):基準面上の座標(x(k),y(k))における基準面11aの傾斜角vθm(x(k),y(k))及びvφm(x(k),y(k))のmについて平均した値からの差
[式19]
vθ−Ave(vθm)=(Vθ−Ave(Vθm))/βθ
vφ−Ave(vφ)=(Vφ−Ave(Vφ))/βφ
なお、角度差ではなく、傾斜差又は検出部9で検出される角度を有する光をベクトルとしてベクトル成分の差を求め、かかるベクトル成分の差からθ、φの角度差を算出してもよい。また、φについては、βφ≒1となるため、vφ=Vφとしてもよい。
第1の実施形態及び第2の実施形態では、検出部9の検出面と被検面12aとが互いに共役な位置に配置されている場合について説明した。但し、実際には、検出部9の検出面と被検面12aとの位置関係が共役な位置関係からずれてしまう場合もある。第3の実施形態では、特に、被検面12aの面形状が基準面11aの既知の非球面形状と異なり、被検面12aで反射される光の角度が変化して検出部9の検出面に入射する光の位置が基準面11aで反射される光と異なる場合について説明する。
[式20]
δxm(i)=Fx(i)×(Vxm(i)―Ave(Vxm(i)))
δym(i)=Fy(i)×(Vym(i)―Ave(Vym(i)))
[式21]
xm(i)=X(i)/αx(i)+δxm(i)
ym(i)=Y(i)/αy(i)+δym(i)
[式22]
rxm(i)=(Vxm(X(i),Y(i))−Ave(Vxm(X(i),Y(i))))/(vxm(xm(i),ym(i))−Ave(vxm(xm(i),ym(i))))
rym(i)=(Vym(X(i),Y(i))−Ave(Vym(X(i),Y(i))))/(vym(xm(i),ym(i))−Ave(vym(xm(i),ym(i))))
[式23]
σx(i)=1/n×Σ(rxm(i)−Ave(rxm(i)))2
σy(i)=1/n×Σ(rym(i)−Ave(rym(i)))2
[式24]
βhx=Ave((Vxm(X(i),Y(i))−Ave(Vxm(X(i),Y(i))))/(vxm(xm(i),ym(i))−Ave(vxm(xm(i),ym(i)))))
βhy=Ave((Vym(X(i),Y(i))−Ave(Vym(X(i),Y(i))))/(vym(xm(i),ym(i))−Ave(vym(xm(i),ym(i)))))
[式25]
x=X/αx+Fx×ΔVx
y=Y/αy+Fy×ΔVy
[式26]
Δvx=ΔVx/βhx
Δvy=ΔVy/βhy
第4の実施形態では、座標変換テーブル及び角度変換テーブルを光線追跡によって求める場合について説明する。この場合、基準レンズ11(基準面11a)を複数の位置に位置決めし、かかる複数の位置のそれぞれにおいて基準面11aの計測を行う必要がなくなるため、より簡易に被検面12aの面形状を計測することができる。
[式27]
αx=X/x
αy=Y/y
[式28]
βx=(Vxtt−Vx)/(vxt−vx)
βy=(Vytt−Vy)/(vyt−vy)
なお、角度同士の差分は傾斜の差分演算又はベクトルと考え、ベクトルのx成分とy成分との差を求め、x方向及びy方向の角度を算出してもよい。
第5の実施形態では、検出部9の検出面と被検面12aとの位置関係が共役な位置関係からずれた場合における計測処理について説明する。図15は、検出部9の検出面と共役な面と被検面12a(基準面11a)の位置との位置関係の一例を示す概略図である。図15を参照するに、検出部9の検出面と共役な面の位置と被検面12a(基準面11a)の位置とが一致していない。このような場合には、光線追跡によって作成された座標変換テーブル及び角度変換テーブルを用いて、検出部9の検出面上の座標及び角度を検出面と共役な面での座標及び角度に変換する。そして、検出面と共役な面での座標及び角度を用いて基準面11aまでの光線追跡を行うことで被検面(基準面)上の座標及び角度を求める。従って、図15に示すような検出部9の検出面と被検面12aとの位置関係が共役な位置関係からずれた場合であっても、被検面12aの面形状を高精度に計測することができる。
[式29]
αx=X/xc
αy=Y/yc
[式30]
βx=(Vxtt−Vx)/(vxccc−vxc)
βy=(Vytt−Vy)/(vyccc−vyc)
なお、角度同士の差分は傾斜の差分演算、又は、光線をベクトルと考え、ベクトルのx成分、y成分、z成分の差を求め、x方向及びy方向の角度を算出してもよい。
[式31]
vbxc=vxc+Vbx/βx
vbyc=vyc+Vby/βy
vsxc=vxc+Vsx/βx
vsyc=vyc+Vsy/βy
[式32]
Δvx=vsbxc−vbxc
Δvy=vsbyc−vbyc
Claims (10)
- 光源からの光を用いて非球面を含む被検面を照明する第1の光学系と、前記被検面からの光を検出面を有する検出部に導く第2の光学系とを備えた計測装置を用いて、前記被検面の面形状を計測する計測方法であって、
既知の非球面形状を有する基準面を前記検出面と共役な面に配置し、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第1のステップと、
前記被検面を前記共役な面に配置し、前記被検面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第2のステップと、
座標変換テーブルを用いて、前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標を前記被検面上の座標に変換する第3のステップと、
角度変換テーブルを用いて、前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて、前記第1のステップで検出された角度と前記第2のステップで検出された角度との角度差を、前記検出面上の複数の座標のそれぞれに対応する前記被検面上の複数の座標における角度差に変換する第4のステップと、
前記第3のステップで変換された前記被検面上の座標と前記第4のステップで変換された前記被検面上の複数の座標における角度差を用いた積分演算によって前記被検面の面形状と前記既知の非球面形状との差分形状を求め、前記既知の非球面形状に前記差分形状を加えることで前記被検面の面形状を算出する第5のステップと、
を有することを特徴とする計測方法。 - 前記座標変換テーブルを作成するステップを更に有し、
前記座標変換テーブルを作成するステップは、
前記基準面を前記共役な面に直交する方向又は平行な方向に既知の量だけシフト又はチルトさせた複数の位置のそれぞれに位置決めし、前記複数の位置のそれぞれにおいて、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出するステップと、
前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて、前記基準面を前記複数の位置のそれぞれに位置決めする前後の前記検出部で検出された角度の変化量と前記基準面を前記既知の量だけシフト又はチルトさせる前後の前記既知の非球面形状の傾斜角度の変化量との比の分散が許容範囲となる前記被検面上の座標を求め、当該許容範囲となる前記被検面上の座標を前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標として特定するステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記角度変換テーブルを作成するステップを更に有し、
前記角度変換テーブルを作成するステップは、
前記基準面を前記共役な面に直交する方向又は平行な方向に既知の量だけシフト又はチルトさせた複数の位置のそれぞれに位置決めし、前記複数の位置のそれぞれにおいて、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出するステップと、
前記座標変換テーブルを用いて、前記基準面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標を前記基準面上の座標に変換するステップと、
前記基準面を前記複数の位置のそれぞれに位置決めする前後の前記検出部で検出された角度の変化量と、前記変換された前記基準面上の座標における前記基準面を前記既知の量だけシフト又はチルトさせる前後の前記既知の非球面形状の傾斜角度の変化量の2倍の量との比を求め、当該比に基づいて前記角度変換テーブルを作成するステップと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記角度変換テーブルは、前記検出面に入射する前記基準面からの光に対するメリジオナル方向及び前記メリジオナル方向と前記基準面の光軸に直交する方向とのなす角度の方向のそれぞれについて作成されていることを特徴とする請求項1に記載の計測方法。
- 前記基準面からの光の前記基準面上の位置が前記第1のステップで検出された角度と前記第2のステップで検出された角度との角度差に比例して変化するときの比例係数を求めるステップを更に有し、
前記第3のステップでは、前記座標変換テーブルと前記比例係数とを用いて、前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標を前記被検面上の座標に変換することを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記座標変換テーブルを作成するステップを更に有し、
前記座標変換テーブルを作成するステップは、
前記基準面を前記共役な面に直交する方向又は平行な方向に既知の量だけシフト又はチルトさせた複数の位置のそれぞれに位置決めしたときに、前記複数の位置のそれぞれにおいて、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて光線追跡によって求めるステップと、
前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて、前記基準面を前記複数の位置のそれぞれに位置決めする前後の前記光線追跡によって求められた角度の変化量と前記基準面を前記既知の量だけシフト又はチルトさせる前後の前記既知の非球面形状の傾斜角度の変化量との比の分散が許容範囲となる前記被検面上の座標を求め、当該許容範囲となる前記被検面上の座標を前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標として特定するステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記角度変換テーブルを作成するステップを更に有し、
前記角度変換テーブルを作成するステップは、
前記基準面を前記共役な面に直交する方向又は平行な方向に既知の量だけシフト又はチルトさせた複数の位置のそれぞれに位置決めしたときに、前記複数の位置のそれぞれにおいて、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて光線追跡によって求めるステップと、
前記座標変換テーブルを用いて、前記基準面からの光が前記検出面に入射する位置を示す前記検出面上の座標を前記基準面上の座標に変換するステップと、
前記基準面を前記複数の位置のそれぞれに位置決めする前後の前記光線追跡によって求められた角度の変化量と、前記変換された前記基準面上の座標における前記基準面を前記既知の量だけシフト又はチルトさせる前後の前記既知の非球面形状の傾斜角度の変化量の2倍の量との比を求め、当該比に基づいて前記角度変換テーブルを作成するステップと、
を有することを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記座標変換テーブルを用いて前記基準面及び前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標から前記検出面と共役な面での座標をそれぞれ求め、
前記角度変換テーブルを用いて前記第1のステップで検出された角度と前記第2のステップで検出された角度からそれぞれ前記検出面と共役な面での角度を求め、
前記検出面と共役な面での座標と前記検出面と共役な面での角度から前記基準面と交差する前記基準面上の座標を光線追跡によって求めることを特徴とする請求項1に記載の計測方法。 - 前記検出部は、シャック・ハルトマンセンサを含むことを特徴とする請求項1に記載の計測方法。
- 非球面を含む被検面の面形状を計測する計測装置であって、
光源からの光を用いて前記被検面を照明する第1の光学系と、
前記被検面からの光を検出面を有する検出部に導く第2の光学系と、
前記検出部での検出結果に基づいて、前記被検面の面形状を求めるための処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理は、
既知の非球面形状を有する基準面を前記検出面と共役な面に配置し、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第1のステップと、
前記被検面を前記共役な面に配置し、前記被検面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第2のステップと、
座標変換テーブルを用いて、前記被検面からの光が前記検出面に入射した位置を示す前記検出面上の座標を前記被検面上の座標に変換する第3のステップと、
角度変換テーブルを用いて、前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて、前記第1のステップで検出された角度と前記第2のステップで検出された角度との角度差を、前記検出面上の複数の座標のそれぞれに対応する前記被検面上の複数の座標における角度差に変換する第4のステップと、
前記第3のステップで変換された前記被検面上の座標と前記第4のステップで変換された前記被検面上の複数の座標における角度差を用いた積分演算によって前記被検面の面形状と前記既知の非球面形状との差分形状を求め、前記既知の非球面形状に前記差分形状を加えることで前記被検面の面形状を算出する第5のステップと、
を含むことを特徴とする計測装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010282395A JP5721420B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 計測方法及び計測装置 |
KR1020110131481A KR101422101B1 (ko) | 2010-12-17 | 2011-12-09 | 계측 방법 및 계측 장치 |
US13/316,610 US9297646B2 (en) | 2010-12-17 | 2011-12-12 | Measurement method and measurement apparatus |
CN201110412315.3A CN102538701B (zh) | 2010-12-17 | 2011-12-13 | 测量方法和测量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010282395A JP5721420B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 計測方法及び計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012132682A JP2012132682A (ja) | 2012-07-12 |
JP5721420B2 true JP5721420B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=46235509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010282395A Expired - Fee Related JP5721420B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | 計測方法及び計測装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9297646B2 (ja) |
JP (1) | JP5721420B2 (ja) |
KR (1) | KR101422101B1 (ja) |
CN (1) | CN102538701B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102778210B (zh) * | 2012-07-13 | 2015-06-17 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种基于计算全息的非球面绝对检测方法 |
JP6095294B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2017-03-15 | キヤノン株式会社 | 測定方法および測定装置 |
CN102853780A (zh) * | 2012-09-07 | 2013-01-02 | 厦门大学 | 抛光工件表面轮廓各频段误差的分离方法 |
KR101397534B1 (ko) | 2012-12-27 | 2014-06-27 | 한국해양과학기술원 | 광학부재의 위치 오차 평가방법 |
JP6112909B2 (ja) * | 2013-02-27 | 2017-04-12 | キヤノン株式会社 | シャック・ハルトマンセンサーを用いた形状計測装置、形状計測方法 |
JP2015087198A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | キヤノン株式会社 | 計測装置及び計測方法 |
JP6532347B2 (ja) | 2014-08-14 | 2019-06-19 | キヤノン株式会社 | 形状計測方法および形状計測装置 |
CN105937886B (zh) * | 2015-03-04 | 2020-01-10 | 住友重机械工业株式会社 | 形状测量装置、加工装置及形状测量装置的校正方法 |
TWI553303B (zh) * | 2015-08-17 | 2016-10-11 | 財團法人工業技術研究院 | 高反光表面噴霧量測系統與方法 |
JP6489220B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2019-03-27 | 株式会社ニコン | 表面形状測定装置および表面形状測定プログラム |
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KR20170028092A (ko) * | 2015-09-03 | 2017-03-13 | 주식회사 이오테크닉스 | 물체의 두께 또는 높이 변화를 측정하는 장치 및 방법 |
CN107270832A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-10-20 | 望新(上海)科技有限公司 | 一种hud非球面反射镜面型检测光路及检测方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4264208A (en) * | 1978-10-25 | 1981-04-28 | Semperit Aktiengesellschaft | Method and apparatus for measuring the surface of an object |
JP3414368B2 (ja) * | 1994-09-16 | 2003-06-09 | 三菱電機株式会社 | 波面センサ |
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JP3309743B2 (ja) * | 1996-11-27 | 2002-07-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 形状測定方法及び装置 |
JPH10221029A (ja) | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 非球面形状測定装置 |
JPH10281736A (ja) | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Nikon Corp | 倍率校正装置および形状測定システム |
JP2000097663A (ja) | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 干渉計 |
JP4007473B2 (ja) | 1999-03-24 | 2007-11-14 | フジノン株式会社 | 波面形状測定方法 |
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JP2003322590A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Canon Inc | 面形状測定装置 |
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US7623251B2 (en) * | 2006-04-07 | 2009-11-24 | Amo Wavefront Sciences, Llc. | Geometric measurement system and method of measuring a geometric characteristic of an object |
JP5358898B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2013-12-04 | 株式会社リコー | 光学面の形状測定方法および装置および記録媒体 |
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JP5366379B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2013-12-11 | キヤノン株式会社 | 撮影システム |
JP5084398B2 (ja) | 2007-08-24 | 2012-11-28 | キヤノン株式会社 | 測定装置、測定方法、及び、プログラム |
KR100939537B1 (ko) | 2007-12-14 | 2010-02-03 | (주) 인텍플러스 | 표면 형상 측정 시스템 및 그를 이용한 측정 방법 |
JP5084558B2 (ja) | 2008-02-28 | 2012-11-28 | キヤノン株式会社 | 表面形状計測装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
CN101970980B (zh) * | 2008-03-11 | 2014-04-09 | 株式会社尼康 | 基准球检测装置、基准球位置检测装置和三维坐标测量装置 |
JP2010192470A (ja) | 2009-02-13 | 2010-09-02 | Canon Inc | 計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP5317901B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2013-10-16 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
JP5442122B2 (ja) * | 2010-07-15 | 2014-03-12 | キヤノン株式会社 | 被検面の形状を計測する計測方法、計測装置及び光学素子の製造方法 |
JP5679793B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2015-03-04 | キヤノン株式会社 | 形状測定装置及び方法 |
US8692999B1 (en) * | 2011-06-23 | 2014-04-08 | Exelis, Inc. | Crosstalk cancellation for a simultaneous phase shifting interferometer |
-
2010
- 2010-12-17 JP JP2010282395A patent/JP5721420B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-12-09 KR KR1020110131481A patent/KR101422101B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-12 US US13/316,610 patent/US9297646B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-13 CN CN201110412315.3A patent/CN102538701B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101422101B1 (ko) | 2014-07-23 |
US20120158357A1 (en) | 2012-06-21 |
JP2012132682A (ja) | 2012-07-12 |
CN102538701A (zh) | 2012-07-04 |
US9297646B2 (en) | 2016-03-29 |
KR20120068702A (ko) | 2012-06-27 |
CN102538701B (zh) | 2014-08-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150223 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150324 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5721420 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |