JP5689436B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。より詳しくは、１つの画素内で配向分割がなされ、開口率、広視野角の特性等を充分なものとしながら、露光回数を低減でき、簡便に得ることができる液晶表示装置に関するものである。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう。）は、軽量・薄型・低消費電力を実現することができる表示装置として大いに普及し、スマートフォン、タブレット端末等のモバイル用途や各種のモニター、大型テレビ等、日常生活やビジネスに欠かすことのできないものとなっている。このようなＬＣＤにおいては、視野角拡大、コントラスト向上を実現して表示品位を更に向上し、また、より多くの機能を持たすことができるようにする開発が進められている。

ところで、現行のＬＣＤは、電界印加により液晶分子の配列を制御し、液晶層を透過する光の偏光状態を変え、偏光板を通過する光の量を調節することによって表示を行っている。
ＬＣＤの表示性能は、電圧を印加した時の液晶分子の配列状態と、印加電界の大きさ及び方向により影響を受ける。このようなＬＣＤの表示モードとしては、電圧が印加されていない時の液晶分子の配列状態と、印加電界の方向とによって各種のものが存在している。

例えば、液晶分子がツイスト構造となる液晶表示素子として、ＴＮ(Twisted Nematic)モードがあり、低駆動電圧、低コストの液晶表示装置とすることが可能である。また、電圧無印加時の液晶配向が基板に垂直である縦電界方式の液晶表示素子は、ＶＡ(Vertical Alignment)モードと呼ばれている。ＶＡモードは、高コントラストを実現するのに有利な方式であり、その適用用途が拡大している。これら各種のモードにおいて、広視野角、高コントラスト及び高速応答等の全ての特性を満足させるための様々な工夫がなされている。中でも、この分野における近年の重要な技術の１つとして、液晶分子の配向方向を１つの画素内で異なるように画素内の領域を分ける配向分割の手法があり、これによって表示品位を向上させることができる。特に、そのような配向分割がなされて優れた広視野角の特性を満足できるＭＶＡ(Multi-Domain Vertical Alignment)モードが注目されている。

従来の配向分割されたＶＡモードの１つとして、第一基板と、前記第一基板上に形成されている第１信号線と、前記第一基板上に形成され、前記第１信号線と交差する第２信号線と、前記第一基板上に形成され、前記第１信号線及び前記第２信号線と接続されているスイッチング素子と、前記スイッチング素子上に形成され、溝、稜線、及び溝と稜線との間の傾斜面を形成する第１傾斜部材と、前記第１傾斜部材上に形成され、前記スイッチング素子に接続されている画素電極と、前記画素電極上に形成され、前記第一基板の表面に対して垂直方向に光配向されている第１配向膜と、前記第一基板と対向している第二基板と、前記第二基板上に形成されている共通電極と、前記第１配向膜と前記共通電極との間に挟持されている液晶層とを有する液晶表示装置が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。

この他、配向分割された垂直配向型の液晶表示装置等において、同様に光配向、又は、配向規制構造体を用いて液晶を配向させる液晶表示装置が開示されている（例えば、特許文献２〜６参照。）。

特開２００９−１９３０６６号公報 特開平１１−９５２２４号公報 特開２０００−１９３９７６号公報 特開２００２−２８７１５８号公報 特開２００９−８０１９７号公報 特開２００８−１９７６９１号公報

上述したように、配向分割がなされた液晶表示装置が注目され、種々の検討がなされている。ここで、従来技術では、配向膜を光配向により配向分割（配向ドメインの分割）し、４ドメインとする際、画素をそれぞれ長辺側、短辺側を２分割ずつし、貼り合わせて４ドメインとする（図７６〜図８２）。

図７６及び図７７は、従来の液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。図７８は、従来の液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。先ず、図７６に示されるように、画素の右半分をマスクしながら、画素の左半分に対してスキャン露光して、図７６中、上向きの黒矢印で示される方向に液晶分子を配向させる機能を付与する。次いで、図７７に示されるように、画素の左半分をマスクして、画素の右半分に対してスキャン露光して、図７７中、下向きの黒矢印で示される方向に液晶分子を配向させる機能を付与する。その結果、図７８に黒矢印で示される配向方向の配向領域をもつ第一基板が得られる。図７９及び図８０は、従来の液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。図８１は、従来の液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。同様に、図８１に黒矢印で示される配向方向の配向領域をもつ第二基板が得られる。図８２は、従来の液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。図７８に示した第一基板と図８１に示したと第二基板とを貼り合わせた結果、４通りの配向領域をもつ液晶表示装置を作製することができる。

このような従来の液晶表示装置を作製する際には、上下基板共に露光を複数回行うこととなる。更に、それに付随し、配向膜をスキャン露光等するための露光装置の価格が高額になり、露光装置の面積が破格に大きくなる。

ここで、上記特許文献１には、光配向用配向膜により液晶を配向させるための露光について、当該露光の回数を減らすための発明であって、光漏れも防ぐことが開示されていると評価できる。しかしながら、特許文献１に記載の発明では、露光は、マスクを用いず、垂直方向から基板全面に対して行う。各画素の液晶配向方向の分割は、リブ、スリットにより物理的に、又は、傾斜部をつけて電気力線の角度を分けることで行う。そして光配向は、構造物に関わらず液晶分子を垂直配向させるために行う。

上記特許文献１に記載の発明は、光配向を用いた液晶パネルにおける、配向膜の露光回数を減らすことの課題を、従来のリブやスリットではなく、液晶表示装置の基板に傾斜部材を付けて垂直露光することで解決することが開示されている。例えば、特許文献１の図１０Ｂに記載の共通電極表示板２００においては、光配向は無く、物理的配向（ＡＳＶ〔Advanced Super View〕等）をおこなうものであり、薄膜トランジスタ表示板１００においては、垂直に光配向をおこない、液晶配向方向の分割は傾斜部材の傾斜方向で行う。このように傾斜に関わらず液晶を基板主面に対して垂直配向させることで、光漏れを防ぐ、とされている。しかしながら、傾斜部材を用いている部分では、通電を行った場合、電気力線方向がパネル面水平方向から傾き、液晶も同方向に傾く。すなわち、図８３は、特許文献１に記載の液晶表示装置の液晶分子の配向方向を示す模式図であるが、図８３に示したように、液晶分子ＬＣがパネル面水平方向に傾かない。その結果、色のバランスがずれてしまうおそれがある。また、これを回避するためにセル厚を厚くすると、透過率が低下するおそれがある。なお、図８３中、点線は電気力線を示す。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、液晶表示装置において、光配向膜、及び、線状の配向制御構造体（リブ、スリット等）とを組み合わせて４ドメイン（以上）とする配向分割を行うことにより、広視野角の特性を満足でき、表示品位に優れるとともに、少ない露光回数で簡便に得られる液晶表示装置を提供することを目的とするものである。

本発明者は、光配向により一つの画素内で複数の配向分割が好適になされ、表示品位に優れた液晶表示装置を、低廉な費用及び小規模の露光装置で簡便に得ることができるようにする手法を種々検討したところ、先に述べた従来の液晶表示装置では、光配向のみにより各基板の画素を２ドメインに分割しているため、基板毎に２方向分の露光を行う必要があり、露光回数が増えるという課題があったことに着目した。そして、光配向膜、及び、線状の配向制御構造体（リブ、スリット等）の組み合わせを用いて４ドメイン以上とする配向分割を行うことを種々検討した。そして、各基板において、露光する画素の中に、光配向部と配向規制構造体による配向部を混在させることに着目した。そして、線状の配向制御構造体で画素が２分割してある基板を光配向するときに、マスクで画素の半分を隠し、線状の配向制御構造体が延びる方向と平行方向に、各基板一回ずつ光配向を行う構成に想到し、かかる構成により、表示品位を充分に優れたものとしながら４ドメイン以上の配向分割を行うとともに、露光を各基板の各画素当たり一方向のみとすることが可能となることを見いだした。これにより、低廉な費用及び小面積の露光装置で好適に液晶表示装置を得ることができることを見いだした。

また本発明者は、従来のＵＶ２Ａ（Ultra-violet induced multidomain Vertical Alignment）基板の暗線位置（画素の、互いに交わる長辺の垂直二等分線及び短辺の垂直二等分線からなる十字形状）と配向規制構造体の位置を等しくすれば、開口率の低減はないこと、言い換えれば、従来の暗線と配向規制構造体とが重畳するようにし、配向規制構造体の面積を暗線面積と同等以下とすれば、 開口率の低減はないことも見いだした。更に、配向規制構造体をスリット又は透明樹脂とすれば、開口率は上がることも見いだした。そして、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

なお、各画素の配向領域とは、各画素内の当該配向領域において液晶分子が同様の配向方向を示すように分けられた領域であり、視角方向が当該配向領域において同様となる領域である。配向領域は、各画素電極上でそれぞれ同一面積かつ対称であることが好ましい。これにより、視角均一性を確保できる。

ところで、特許文献１に記載の方法は、配向規制方法が各基板において、それぞれ配向規制構造体または光配向どちらかの単一の方法である。本発明においては、基板上で複数の配向規制方法（光配向と配向規制構造体両方）をとっている点で相違する。また、本発明においては、通常、基板主面に対しての垂直方向から角度をつけた露光を行うが（図７）、特許文献１に記載の発明は、露光回数を減らす手段を垂直露光によるものとしている。図８４は、特許文献１に記載の液晶表示装置の製造時における基板への紫外線の露光方向を示す模式図である。図８４中、白抜きの矢印が紫外線の露光方向を示す。

なお、本発明は、特許文献１に記載の発明のような傾斜部材が不要なので、色のバランスの変化も充分に抑制することができ、透過率低下の懸念もない。
また特許文献１に記載の発明は、その中の例で光配向での配向分割（配向ドメインの分割）を行う際、片側基板において光配向にて複数の配向方向のドメインを形成しなければならないが（特許文献１の図１１の上側基板を参照。）、本発明においては、光配向によりドメイン分割する際、当該光配向としては、片側基板において単一方向の光配向のみにて、配向分割がなされた液晶表示装置が成立する。

更に言えば、一方の基板にリブを縦方向（本願の図１等でいう、画素の短辺の垂直二等分線上）に設け、他方の基板にリブを横方向（本願の図２でいう、長辺の垂直二等分線上）に設けても、４通りに配向分割できる場合がある。しかしながら、このように配向規制構造体だけで配向分割する形態に対して、本願発明は、特に画素が大きい場合、透過率について有利である。例えば、画素が、３２型テレビ等に使用するような液晶パネルの画素における大きさのものであるとする。そして、貼り合わせる片方の基板を、配向規制構造体である線状構造物のみで配向分割させるとする。このとき、従来技術を考慮する場合、画素の一方向に対して線状構造物一本では、充分な視野角や応答速度を確保する上で、不足である。これは、配向規制力が充分に及ぶ範囲が、線状構造物の周囲の一定距離に限られているためである。よって、線状構造物は複数本必要となり、液晶を配向させる方向は２方向であっても、画素自体は２分割よりも多く分割され、その分透過率が有利なものではなくなる。

これに対し、光配向も採用する場合においては、画素の大きさに関わらず、配向方向を２方向とする際に、画素を２分割するだけで済む（なお、本願発明の場合、光配向するエリアは、第一基板と第二基板とに分かれる。）。これは、光配向したエリア全体が、均一な配向規制力を有するためである。よって、画素の大きさに関わらず、光の不透過面積（配向方向の異なる領域同士の境目の数）が変化することはなく、高透過率とすることができる。
以上を纏めると、特に画素が大きい場合において、配向規制構造体である構造物のみで構成する場合よりも、少なくとも光配向する領域においては透過率減少を回避することができるので、有利である。なお、２６型テレビ等の、画素がより小さくなるような、よりパネルの小さいテレビにおいても同質の効果を発揮することができ、メリットがある。

すなわち、本発明は、一対の基板及び該基板間に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、上記液晶表示装置は、光配向膜、及び、線状の配向制御構造体を備え、一対の基板の一方が備える光配向膜、及び、一対の基板の他方における線状の配向制御構造体により、閾値電圧未満で一つの画素内で４つ以上の液晶配向領域に配向分割がなされたものである液晶表示装置である。

本発明に係る光配向膜を得るための露光は、スキャン露光、スタンプ露光のいずれも可能である。そして、本発明の液晶表示装置に限定して表示装置の製造をおこなうのであれば、配向膜をスキャン等するための露光装置の価格、装置の面積は半減することができる見込みがある。

本発明の液晶表示装置は、基板主面を平面視したときに、一つの画素内で４つ以上の液晶配向領域（液晶配向方向）に配向分割がなされたものであればよい。上記４つ以上の液晶配向方向とは、液晶層厚み方向の中央付近の液晶配向方向を言う。

上記閾値電圧は、液晶層が光学的な変化を起こし、液晶表示装置において表示状態が変化することになる電場を生じる電圧値を意味する。例えば、明状態の透過率を１００％に設定したとき、５％の透過率を与える電圧値を意味する。

上記光配向膜により液晶分子を配向させる方向と、上記線状の配向制御構造体が延びる方向とは、基板主面を平面視したときに、垂直であることが好ましい。なお、垂直とは、本発明の効果を発揮できる限り、実質的に垂直であればよい。

上記一対の基板の一方が備える光配向膜、及び、一対の基板の他方における線状の配向制御構造体により、液晶分子が配向されるとき、該一対の基板の一方における光配向膜により液晶分子を配向させる領域と、該一対の基板の他方における配向制御構造体により液晶分子を配向させる領域とは、通常は重畳する。

上記一対の基板の少なくとも一方は、上記光配向膜により液晶分子を配向させる領域、及び、該光配向膜により液晶分子を配向させる領域とは異なる、上記線状の配向制御構造体により液晶分子を配向させる領域を有することが好ましい。より好ましくは、上記一対の基板の両方が、上記光配向膜により液晶分子を配向させる領域、及び、該光配向膜により液晶分子を配向させる領域とは異なる、配向制御構造体により液晶分子を配向させる領域を有することである。

上記光配向膜により液晶分子を配向させる方向は、一つの基板の一つの画素当たり一方向であることが好ましい。また、当該方向が、線状の配向制御構造体が延びる方向と平行方向であることが好ましい。更に、上記配向規制構造体により液晶分子を配向させる方向は、例えば、一つの基板の一つの画素当たり二方向であることが好ましい。

上記線状の配向制御構造体は、突起物であることが好ましい。例えば、上記配向制御構造体は、一対の基板のそれぞれに設けられたリブであることが本発明の一つの好ましい形態であり、上記配向制御構造体は、一対の基板の一方だけに設けられた柱状の構造体（リブ）であることが本発明のもう一つの好ましい形態である。本明細書中、一対の基板の他方における線状の配向制御構造体とは、該一対の基板の他方が備える線状の配向制御構造体であってもよいが、該一対の基板の他方が備える配向規制構造体と同等の液晶の配向規制機能を有して本発明の効果を発揮する限り、該一対の基板の他方が備える線状の配向制御構造体でなくてもよく、例えば、一対の基板の一方が備える柱状のリブであってもよい。更に、上記線状の配向制御構造体は、基板に設けられた電極の開口部であることもまた好ましい。

上記画素は、基板主面を平面視したときに、複数の視角方向が直交又は反対方向となるようにした形態が好ましい。これによって、視野角特性を有利なものとすることができる。

上記配向方向（視角方向）の相違としては、９０°、１８０°又は２７０°異なるようにすることが好ましい。なお、上記一つの画素内で４つ以上の配向領域に配向分割がなされるとは、一つの画素内で４種以上の配向方向の配向領域があるものであればよい。すなわち、一つの画素内で４つ以上の配向領域において、全ての配向領域の配向方向が異なる形態であってもよいが、少なくとも画素内で４つの異なる配向方向の配向領域があれば、同じ配向方向の配向領域が２つ以上あってもよい。本発明の好ましい形態の１つは、１つの画素内が４つの配向領域に配向分割されたいわゆる４ドメインの形態である。

本発明の好ましい形態としては、上記画素は、上記配向領域間で開口部の面積及び／又は可視光の透過率が等しい形態が挙げられる。通常は、画素電極は非線形素子の存在等で完全に上下左右対称ではないので、画素電極の開口部の面積を上下左右でほぼ等しくするか、実質的な可視光の透過率が分割された４領域以上でほぼ等しくなるように設定することが望ましい。このように配向領域間で開口部の面積及び／又は可視光の透過率が実質的に等しくなるように設定することにより、視角の均一性を更に優れたものとすることができる。
上記開口部の面積及び／又は可視光の透過率が等しいとは、液晶表示パネルの技術分野において一般的に開口部の面積及び／又は可視光の透過率が等しいと評価される程度に実質的に等しいものであればよい。なお、上記分割された４領域以上とは、互いに配向方向が異なる４領域以上である。この場合、画素内で配向方向が同じ領域が２つ以上に分割されて存在していてもよく、これを１領域として数えて互いに配向方向が異なる４領域以上が存在すればよい。

更に、上記液晶表示装置は、電圧無印加時に（閾値電圧未満で）液晶分子が基板主面に対して実質的に垂直方向に配向するものであることが好ましい。実質的に垂直方向とは、垂直配向（ＶＡ）型液晶表示装置として有効に機能することが可能な範囲であれば、垂直方向に対して角度を有する方向も含むものである。このような垂直配向モードは、通常は、負の誘電率異方性を持つネガ型液晶を用いて、閾値電圧未満（例えば、電圧無印加）のときに、液晶分子を基板面に対して実質的に垂直方向に配向させ、閾値以上の電圧を印加したときに、液晶分子を基板面に対して実質的に水平方向に倒す表示モードである。負の誘電率異方性を有する液晶分子とは、長軸方向よりも短軸方向の誘電率が大きい液晶分子をいう。本発明の液晶表示パネルにおいては、垂直配向モードとすることで、高いコントラスト比が得られる。

本発明の液晶表示装置は、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス方式の基板を備える形態が好ましい。これにより、液晶の配向規制力をより強固なものとすることができ、表示品位を向上できる。この場合、通常では、ゲート線（走査線）に接続されたゲート電極、ソース線（信号線）に接続されたソース電極、画素電極に接続されたドレイン電極、及び、補助容量電極といった電極が基板上に形成される。そして、通常は、ゲート線とソース線とが、互いに交差するように配置され、その交差する部分には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴともいう）と画素電極とが配置され、ＴＦＴは、ゲート線に接続されたゲート電極と、該ゲート電極と間隔を空けて対向する、ソース線に接続されたソース電極と、画素電極に接続されたドレイン電極及び島状（アイランド状）の半導体層から形成される、といった画素電極構造を取ることになる。

本発明の液晶表示装置の構成としては、上述した光配向膜、及び、線状の配向制御構造体を備え、一対の基板の一方が備える光配向膜、及び、一対の基板の他方における線状の配向制御構造体により、閾値電圧未満で一つの画素内で４つ以上の液晶配向領域に配向分割がなされたものであるという必須の構成要素や上述した好ましい構成要素以外にも、通常、液晶表示装置を構成するその他の構成要素を有することになる。このような他の構成要素については、特に限定されるものではない。

本発明の液晶表示装置によれば、広視野角の特性を満足でき、表示品位に優れるとともに、少ない露光回数で簡便に得られる液晶表示装置とすることができる。

実施形態１に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造時における基板への紫外線の露光方向を示す模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態３に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態３に係る液晶表示装置の第一基板の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態３に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態３に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態３に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態４に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態４に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態５に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態５に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態６に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態６に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態６に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態６に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。 従来の液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。 従来の液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。 特許文献１に記載の液晶表示装置の液晶分子の配向方向を示す模式図である。 特許文献１に記載の液晶表示装置の製造時における基板への紫外線の露光方向を示す模式図である。

実施形態において薄膜トランジスタ素子（ＴＦＴ）が配置される基板は、ＴＦＴ基板又はＴＦＴアレイ基板ともいう。実施形態においてカラーフィルタ（ＣＦ）が配置される基板は、ＣＦ基板ともいう。また、各実施形態におけるリブは、樹脂などによる突起物を言い、スリットは、透明電極にある開口部を言う。なお、開口率の観点からは、透明樹脂による突起物、スリットが好ましい。
以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。本明細書中、画素とは、特に明示しない限り、絵素（サブ画素）であってもよい。

（実施形態１）
液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に液晶を挟み、貼り合わせることで作製される。第一基板及び第二基板は、一方がＴＦＴ基板を指し、他方がＣＦ基板を指す。なお、ＴＦＴ基板においては、ガラス基板上に、ゲート配線とソース配線とが略直交するように設けられ、更に、ゲート配線とソース配線とで囲まれる領域ごとに画素電極及びＴＦＴが設けられている。
図３は、貼り合わされた基板における１つの画素を示す。
液晶の配向方向を、この図３では４通りに分けることで、視野角を拡大できるようにしている。なお、従来技術も４通りに分けること自体は同様である。
実施形態１では、その状態とするために、図１、及び、図２のような画素構成としている。

図１は、実施形態１に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。第一基板近傍の液晶の配向方向（図１中、左右方向の黒矢印で示す）ＲＡは、線状の配向規制構造体（構造物）であるリブ１５Ｒによる。配向膜により液晶が配向される方向（図１中、上方向の黒矢印で示す）ＬＡは、斜めからの光露光により得られた光配向膜による。破線は、配向領域の区切りであり、配向規制構造体等の構造物を示すものではない。なお、後述する図においても同様であり、左右方向の黒矢印は、構造物による基板近傍の液晶の配向方向であり、上下方向の黒矢印は、光露光により得られた光配向膜の配向方向であり、異なる黒矢印間を区切る破線は、配向領域の区切りである。図２は、実施形態１に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図２中、左右方向の黒矢印は、第二基板近傍の液晶の配向方向を示し、線状の配向規制構造体であるリブ２５Ｒによる。図２中、下方向の黒矢印は、配向膜の配向方向を示し、基板主面に対して斜めからの光露光により得られた光配向膜による。図３は、実施形態１に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態１に係る液晶表示装置は、図３に示すように、１つの画素内で４つの液晶配向領域に配向分割がなされている。図３中、４つの黒矢印は、液晶層厚み方向の中央付近の液晶配向方向を示す。なお、後述する図においても同様であり、斜め方向の黒矢印は、液晶層厚み方向の中央付近の液晶配向方向を示す。また、矩形の画素を十字に区切る光不透過部４５は、配向規制構造体等の構造物や配線により不透過となっている箇所を示す。実施形態１では、基板の暗線位置（画素の、互いに交わる長辺の垂直二等分線及び短辺の垂直二等分線からなる十字形状）と配向規制構造体の位置とが重畳している。また、実施形態１では、図３に示されるように、画素の短辺方向、及び、画素の長辺方向の両方に沿って、それぞれ複数（２つ）の配向領域に分割されている。

図４は、実施形態１に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図４中、第一基板１０に線状の配向規制構造体としてリブ１５Ｒが設けられ、第二基板２０にも線状の配向規制構造体としてリブ２５Ｒが設けられている。第一基板１０と、第二基板２０が、液晶層３０を挟持する。両基板に設けられている電極、配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。なお、例えば、第二基板には電極が設けられていなくてもよい。

本発明に係る第一基板、第二基板共に、画素の中央部に線状の配向規制構造体としてリブを作ることにより、液晶を配向できるようにしておく。なお、後述するように、リブの代わりにスリット等の配向規制構造体を設けてもよい。更に、画素の半分をマスクで覆い、斜め方向からの露光によって、配向膜の光配向を行っている。
第一基板の光配向位置（領域）及び光配向方向と、第二基板の光配向位置（領域）及び光配向方向とは、配向規制構造体の垂直二等分線を対称軸として線対称となるようにする。

図５及び図６は、実施形態１に係る液晶表示装置の第一基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。図５に示した第一基板が、液晶層を挟持する場合は、線状の配向規制構造体であるリブ１５Ｒにより、図５に示した黒矢印の方向に第一基板近傍の液晶が配向する。図６は、マスク（フォトマスク）Ｍで画素の下半分を覆い、マスクＭで覆われていない画素の上半分に対して紫外光を基板主面に対して斜め方向で露光を行った後の図である。上側向きの黒矢印は、斜めからの光露光により得られた光配向膜の配向方向を示す。すなわち、実施形態１に係る液晶表示装置の製造工程では、例えば図６に示した画素においては点線で囲んだ箇所に対して、基板毎に単一方向の露光をおこなうだけでよい。この場合、画素の上半分においては、線状の配向規制構造体であるリブ１５Ｒによる左右向きの配向の影響は、無視できる程小さくなる。なお、図７は、実施形態１に係る液晶表示装置の製造時における基板への紫外線の露光方向を示す模式図である。図７中、白抜きの矢印が紫外線の露光方向を示す。以下の実施形態においても、同様の斜め方向の露光（基板垂線方向と、鋭角をなす方向での露光）をおこなっている。

図８及び図９は、実施形態１に係る液晶表示装置の第二基板の画素の製造工程中の一形態を示す平面模式図である。図８に示した第二基板が、液晶層を挟持する場合は、線状の配向規制構造体であるリブ２５Ｒにより、図８に示した黒矢印の方向に第二基板近傍の液晶が配向する。図９は、マスクＭで画素の上半分を覆い、マスクＭで覆われていない画素の下半分に対して紫外光を基板主面に対して斜め方向で露光を行った後の図である。下側向きの黒矢印は、斜め方向の露光により得られた光配向膜の配向方向を示す。この場合も、画素の下半分においては、線状の配向規制構造体であるリブ２５Ｒによる左右向きの配向の影響は、無視できる程小さくなる。同様に、以下の実施形態においても、斜め方向の露光により得られた光配向膜により、当該光配向膜が設けられた領域における線状の配向規制構造体による液晶の配向への影響は、無視できるほど小さくなる。

なお、実施形態１及び後述するその変形例では、線状の配向規制構造体が延びる方向は、図１、図２、図１０、図１１、図１３、図１４、図１７、図１８では画素の長辺に平行であるが、画素の短辺に平行でもあってもよい。後述する実施形態においても同様である。
スキャン露光の場合、スキャン方向（基板長手方向かどうか）を第一基板と第二基板とで異なるものとする必要も無い。

本発明では、片側基板の単一画素における光配向方向が一方向のみとなっており、露光は片側基板当たり一回のみでよい。
それを可能としている点は、単一画素における配向手段が２通りとなっている点である。すなわち、配向手段の１つは配向規制構造体による配向であり、もう１つは光配向による配向である。基板が貼り合わされると、画素の全体が、光配向によるものと配向規制構造体によるものとの、両方の手段により液晶配向規制を受けることとなる。

実施形態１においては、片側基板において各画素の露光回数が一回のみで良いという効果がある。後述する実施形態においても同様である。
先ず、従来のＵＶ２Ａ液晶パネルは、貼り合わされている第一基板の画素と第二基板の画素が、互いに９０°ずれて液晶配向を規制するようになっている（図７８、図８１）。その組み合わせを１つの画素上で複数通り（例えば４通り）持たせることで、液晶配向方向の領域を複数に分けている（図８２）。それにより、高い視野角となっている。
実施形態１及び後述する実施形態においても、第一基板の画素の配向領域の配向方向と、第二基板の画素の配向領域の配向方向とが互いに９０°ずれて液晶配向を規制するが、その配向規制手段は上述したように従来のものと相違する。なお、両配向方向が９０°ずれることが好ましいが、本発明の効果を発揮する限り、略直交するものであればよい。

すなわち、それぞれの配向領域において、両基板の内の片方を光配向による配向規制、他方を配向規制構造体による配向規制とする。線状の配向規制構造体等の構造物は、その両側に各一方向ずつの配向方向を持たせることができる。これだけで、画素の配向領域は１８０°ずれた２通りになる。更に、その２つの配向領域の両方共と垂直な配向規制方向をもつ基板が２通りある。
これら２通り同士を貼り合わせることにより、４通りの配向領域を持たせることができる。
このとき、線状の配向規制構造体等の構造物由来の配向方向と垂直な２通りの配向は、光配向によって行う。その際、第一基板と第二基板とを貼り合わせるときに互いに逆方向へ（１８０°ずれて）配向するようにする。すると、互いに光配向による配向は１方向同士で、両基板を貼り合わせた後の液晶表示装置の画素を４通りの配向領域とすることができる。

実質的には、各基板の画素は３方向（光配向１方向＋配向規制構造体２方向）ずつの配向規制方向を持ち、それらを貼り合わせて４通りの配向領域を実現する。言い換えれば、一方の基板において配向規制構造体による２つの配向領域と光配向による１つの配向領域とがあり、他方の基板においても配向規制構造体による２つの配向領域と光配向による１つの配向領域とがある。ここで、一方の基板における配向規制構造体による２つの配向領域が他方の基板における光配向による１つの配向領域と重畳するようにし、一方の基板における光配向による１つの配向領域が他方の基板における配向規制構造体による２つの配向領域と重畳するようにこれらを組み合わせることにより、表示に好適な４通りの液晶配向分割を実現している。

画素内の配向方向は、互いに対称的であり、その面積はほぼ等しいことが望ましい。言い換えれば、画素は、画素内の配向領域間で開口部の面積及び可視光の透過率が等しくなるように設定することが好ましい。一画素内の各配向領域面積がほぼ一定に保たれることになり、いずれの視角からの表示品位にも大きな影響なく表示が可能である。

垂直に配向した液晶分子に対し、一定方向に若干の傾きを持たせる方法としては、光配向を利用した方法が現時点で最も実用的で表示品位に優れたものである。この方法でマスクを用いて偏光されたＵＶ光（紫外光）をスキャンしながら露光することで領域ごとの液晶分子の傾き方向が一定になるよう好適に制御することができる。なお、ＴＦＴアレイ基板上の配向膜においても、カラーフィルタ基板上の配向膜においても、同様に光配向法による配向分割を行うことができる。

実施形態１に係る配向分割された液晶表示装置を得るための方法としては、一対の基板の一方の画素基板（例えば、ＴＦＴアレイ基板）と、該画素基板に対向する対向基板（例えば、ＣＦ基板）と、該一対の基板間に設けられた液晶層と、該画素基板の液晶層側の表面に設けられた第１配向膜と、該対向基板の液晶層側の表面に設けられた第２配向膜とを備える液晶表示装置の製造方法であって、該製造方法は、第１配向膜及び／又は第２配向膜に対して複数の画素にわたる基板主面に対して斜め方向の露光を行う工程を含み、該露光は、両基板の各画素内に液晶分子を配向膜表面に対して一方向に配向させる領域を形成するものである形態が好適な形態として挙げられる。ここで、上記液晶表示装置の製造方法は、一方の基板の光配向膜の配向方向と他方の基板の光配向膜の配向方向とが１８０°反転するように露光並びに第一基板及び第二基板の貼り合わせを行うことが好ましい。

なお、実施形態１の液晶表示パネルは、少なくとも一方の基板上にアクティブマトリクス素子アレイが形成された２枚の基板間に液晶を挟持した液晶表示装置に関するものである。液晶材料は、例えば、負の誘電異方性を有し、一定の温度範囲でネマティック層を示すものである。また、実施形態１の液晶表示装置は、液晶表示パネルの回路基板の背面に、バックライトを備える。バックライトの光は、例えば、偏光板、回路基板、液晶、ＣＦ側の基板、及び、偏光板をこの順に通過し、液晶の配向制御により光の通過・非透過を制御する。

（実施形態１の第１変形例）
図１０は、実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図１１は、実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図１２は、実施形態１の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態１の第１変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態１の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態１と同様の作用効果を発揮することができる。その断面図は、図４に示したのと同様である。

（実施形態１の第２変形例）
図１３は、実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図１４は、実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図１５は、実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態１の第２変形例の構成は、第一基板及び第二基板における線状の配向規制構造体としてリブ１５Ｒ、２５Ｒの代わりに透明電極のスリット１５Ｓ、２５Ｓを設けた以外は、実施形態１の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態１と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態１の第２変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。
図１６は、実施形態１の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図１６中、第一基板１０のガラス基板１１の液晶層３０側に線状の配向規制構造体として透明電極１３の開口部１５Ｓが設けられ、第二基板２０にもガラス基板２１の液晶層側に線状の配向規制構造体として透明電極２３の開口部であるスリット２５Ｓが設けられている。第一基板１０と、第二基板２０が、液晶層３０を挟持する。両基板に設けられている配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態１の第３変形例）
図１７は、実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図１８は、実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図１９は、実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態１の第３変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態１の第２変形例の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態１及びその上述した変形例と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態１の第３変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。また、実施形態１の第３変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図１６に示したのと同様である。

（実施形態２）
図２０は、実施形態２に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図２１は、実施形態２に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図２２は、実施形態２に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。
実施形態１と異なる点は、線状の配向規制構造体としてのリブ（リブ２１５Ｒ、リブ２２５Ｒ）が設けられる範囲が異なることである。すなわち、図２０、図２１に示すように、光配向により液晶を配向させる光配向部には配向規制構造体は必要ないため、当該領域に配向規制構造体を設けず、配向規制構造体による配向部（図２０における画素の下半分、及び、図２１における画素の上半分）を配向させるための配向規制構造体を当該配向部に設ける構成である。実施形態２では、当該領域に配向規制構造体を設けていない構成を示すが、光配向部に長さは任意の部分的な配向規制構造体があってもよい。
実施形態２が実施形態１と異なる点は、このように線状の配向規制構造体が光配向部全体に構成されていない点である。配向規制構造体が無い分、光配向による配向規制の安定性は増し、好ましい。その他の構成、効果は、上述した実施形態１と同様である。なお、実施形態２に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図４に示したのと同様である。

（実施形態２の第１変形例）
図２３は、実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図２４は、実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図２５は、実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態２の第１変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態２の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態２と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態２の第１変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図４に示したのと同様である。

（実施形態２の第２変形例）
図２６は、実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図２７は、実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図２８は、実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態２の第２変形例の構成は、第一基板及び第二基板における線状の配向規制構造体としてリブ２１５Ｒ、２２５Ｒの代わりに透明電極のスリット２１５Ｓ、２２５Ｓを設けた以外は、実施形態２の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態２と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態２の第２変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。なお、実施形態２の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図１６に示したのと同様である。

（実施形態２の第３変形例）
図２９は、実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図３０は、実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図３１は、実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態２の第３変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態２の第２変形例の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態２及びその上述したその変形例と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態２の第３変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。なお、実施形態２の第３変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図１６に示したのと同様である。

実施形態２及びその変形例に係る液晶表示装置を得るための方法は、配向規制構造体を設ける領域を変更する以外は、上述した実施形態１に係る液晶表示装置を得るための方法と同様である。

（実施形態３）
図３２は、実施形態３に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図３３は、実施形態３に係る液晶表示装置の第一基板の画素の断面を示す断面模式図である。図３４は、実施形態３に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図３５は、実施形態３に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。図３６は、実施形態３に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図３３及び図３５に示すように、実施形態３では、線状の配向規制構造体として柱状のリブ（配向規制構造体）４１５Ｃを設ける。実施形態３及びその変形例で用いられる柱状のリブは、基板を貼り合わせたときに対向基板と接する形状である。なお、実施形態３及びその変形例以外の実施形態及びその変形例で用いられるリブは、基板を貼り合わせたときに対向基板と接しない形状である。

実施形態１、実施形態２と異なる点は、片方の基板（第二基板）に配向規制構造体が設けられていない点である。一方、もう片方の基板（第一基板）に設けられた配向規制構造体は柱状である。
実施形態３において第一基板に設けられるリブは、第一基板及び第二基板が貼り合わされることで、配向規制構造体の設けられていない基板側の液晶層にも、配向規制構造体による配向規制を与える。図３４において、点線で示した矢印は、両基板を貼り合わせしたときに、第一基板に設けられた柱状のリブにより発現する配向方向を示す。その他の構成、効果は、上述した実施形態１と同様である。
実施形態３のような一対の基板の一方に柱状の配向規制構造体を備える形態であっても、図３４に点線で示された矢印を記載した領域が、一対の基板の他方における配向制御構造体により液晶分子を配向させるものに該当する。

（実施形態３の変形例）
図３７は、実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図３８は、実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図３９は、実施形態３の変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態３の変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態３の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態３と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態３の変形例に係る第一基板の画素の断面図、液晶表示装置の画素の断面図は、それぞれ、図３３、図３６に示したのと同様である。

実施形態３及びその変形例に係る液晶表示装置を得るための方法は、リブを柱状となるようにしたうえで第一基板だけに形成する以外は、上述した実施形態１に係る液晶表示装置を得るための方法と同様である。

（実施形態４）
図４０は、実施形態４に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図４１は、実施形態４に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図４２は、実施形態４に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。
実施形態４の実施形態１と異なる点は、マスキングの方向である。実施形態１は、光配向をスキャン露光で行う場合、スキャン方向（光配向膜の液晶配向規制方向）と垂直に配向領域を区切るよう、マスキングする。一方、実施形態４は、スキャン方向と平行に配向領域を区切るようマスキングする。言い換えれば、線状の配向規制構造体と平行に配向領域を区切るようマスキングする。それに伴い、線状の配向規制構造体（リブ６１５Ｒ、６２５Ｒ）の位置も異なる。画素の中心線（画素の短辺の垂直二等分線）から半分（図４０では、左半分。図４１では、右半分。）を光配向領域とし、他方の半分（図４０では、右半分。図４１では、左半分。）を配向規制構造体由来の配向規制領域とする。配向規制構造体は、画素中心線と画素端（画素の長辺）の中心線上に設ける。実施形態４では、図４２に示されるように、画素の長辺方向に沿っては、複数方向（４方向）に配向領域が分割され、画素の短辺方向に沿っては、配向領域が分割されていない。なお、画素の短辺方向に沿っては、複数方向（４方向）に配向領域が分割され、画素の長辺方向に沿っては、配向領域が分割されていない形態であってもよい。

実施形態４においても、マスキングし、各基板を一回ずつ斜め方向からの露光によって、配向膜の光配向を行っている。配向規制構造体の方向は、長辺または短辺どちらに平行でも良い。
スキャン露光の場合、スキャン方向（基板長手方向かどうか）を第一基板と第二基板で分ける必要も無い。
光配向による配向方向と垂直に分割する形でマスキングする必要が無いため、一般的に使用されているスキャン露光装置の多くで実行可能な形となる。
実施形態１と異なる点は、マスキングの方向、及び、それに伴う線状の配向規制構造体の位置である。その他の構成、効果は、上述した実施形態１と同様である。

図４３は、実施形態４に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図４３中、第一基板６１０に線状の配向規制構造体としてリブ６１５Ｒが設けられ、第二基板６２０にも線状の配向規制構造体としてリブ６２５Ｒが設けられている。第一基板６１０と、第二基板６２０が、液晶層６３０を挟持する。両基板に設けられている電極、配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態４の第１変形例）
図４４は、実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図４５は、実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図４６は、実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態４の第１変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態４の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態４と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態４の第１変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図４３に示したのと同様である。

（実施形態４の第２変形例）
図４７は、実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図４８は、実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図４９は、実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態４の第２変形例の構成は、第一基板及び第二基板における線状の配向規制構造体としてリブ６１５Ｒ、６２５Ｒの代わりに透明電極のスリット６１５Ｓ、６２５Ｓを設けた以外は、実施形態４の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態４と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態４の第２変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。
図５０は、実施形態４の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図５０中、第一基板６１０のガラス基板６１１の液晶層６３０側に線状の配向規制構造体として透明電極６１３のスリット６１５Ｓが設けられ、第二基板６２０にもガラス基板６２１の液晶層側に線状の配向規制構造体として透明電極６２３のスリット６２５Ｓが設けられている。第一基板６１０と、第二基板６２０が、液晶層６３０を挟持する。両基板に設けられている配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態４の第３変形例）
図５１は、実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図５２は、実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図５３は、実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態４の第３変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態４の第２変形例の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態４及びその上述した変形例と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態４の第３変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。なお、実施形態４の第３変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図５０に示したのと同様である。

実施形態４及びその変形例に係る液晶表示装置を得るための方法は、マスキングの方向（配置）、及び、それに伴う線状の配向規制構造体の位置を変更する以外は、上述した実施形態１に係る液晶表示装置を得るための方法と同様である。

（実施形態５）
図５４は、実施形態５に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図５５は、実施形態５に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図５６は、実施形態５に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。
実施形態４と異なる点は、光配向部、配向規制構造体による配向規制部を分割している点である。それに伴い、配向規制構造体の位置も異なる。
配向規制構造体は、画素中央部（中心線）に加え、画素の１／４部（画素中心線と画素端との間）にもつくる。光配向部は、画素内にて２つに分かれているが、配向方向は１つである。
実施形態５においても、マスキングし、各基板一回ずつ斜め方向からの露光によって、配向膜の光配向を行っている。配向規制構造体の方向は、長辺または短辺どちらに平行でも良い。
スキャン露光の場合、スキャン方向（基板長手方向かどうか）を第一基板と第二基板で分ける必要も無い。
光配向による配向方向と垂直に分割する形でマスキングする必要が無いため、一般的に使用されているスキャン露光装置の多くで実行可能な形となる。

実施形態５は、実施形態４と同様に、各画素の露光回数が一回のみで良いという効果がある。

配向規制構造体を２本にすることにより、配向規制方向は２通りのまま、領域としては４つできることになる。ここで、２本の配向規制構造体であるリブ８１５Ｒの間の領域と、画素端から１／４画素までの領域（図５４では、画素を二等分する位置〔画素の短辺の垂直二等分線〕から画素端までの領域であって、画素を二等分する位置以外に配向規制構造体であるリブ８１５Ｒが無い方の当該領域）とを、基板主面を平面視したときに、配向規制構造体による配向規制方向と垂直な配向方向（線状の配向規制構造体と平行な配向方向）を持たせるように露光する。すると、そのエリアの配向方向は配向規制構造体による配向方向と異なる配向規制方向を持つようになる。その際、第一基板と第二基板を貼り合わせるときに互いに逆方向へ（１８０°ずれて）配向するようにする。
片方ずつの基板を、光配向による配向方向１つ、領域２つとし、配向規制構造体のみによる配向方向２つ、領域２つとする。これら同士を貼り合わせることにより、４方向の配向領域を持たせることができる。

図５７は、実施形態５に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図５７中、第一基板８１０に線状の配向規制構造体としてリブ８１５Ｒが設けられ、第二基板８２０にも線状の配向規制構造体としてリブ８２５Ｒが設けられている。第一基板８１０と、第二基板８２０が、液晶層８３０を挟持する。両基板に設けられている電極、配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態５の第１変形例）
図５８は、実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図５９は、実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図６０は、実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態５の第１変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態５の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態５と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態５の第１変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図５７に示したのと同様である。

（実施形態５の第２変形例）
図６１は、実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図６２は、実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図６３は、実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態５の第２変形例の構成は、第一基板及び第二基板における線状の配向規制構造体としてリブ８１５Ｒ、８２５Ｒの代わりに透明電極のスリット８１５Ｓ、８２５Ｓを設けた以外は、実施形態５の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態５と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態５の第２変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。

図６４は、実施形態５の第２変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図６４中、第一基板８１０のガラス基板８１１の液晶層８３０側に線状の配向規制構造体として透明電極８１３のスリット８１５Ｓが設けられ、第二基板８２０にもガラス基板８２１の液晶層側に線状の配向規制構造体として透明電極８２３のスリット８２５Ｓが設けられている。第一基板８１０と、第二基板８２０が、液晶層８３０を挟持する。両基板に設けられている配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態５の第３変形例）
図６５は、実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図６６は、実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図６７は、実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態５の第３変形例の構成は、第一基板及び第二基板における光配向膜の光配向方向を逆方向へ変更した以外は、実施形態５の第２変形例の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態５及びその上述した変形例と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態５の第３変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。なお、実施形態５の第３変形例に係る液晶表示装置の画素の断面図は、図６４に示したのと同様である。

実施形態５及びその変形例に係る液晶表示装置を得るための方法は、マスキングの配置、及び、それに伴う線状の配向規制構造体の位置を変更する以外は、上述した実施形態１に係る液晶表示装置を得るための方法と同様である。

（実施形態６）
図６８は、実施形態６に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図６９は、実施形態６に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図７０は、実施形態６に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。
実施形態４と異なる点は、基板同士で配向規制構造体の位置が異なる点である。
片方の基板においては、配向規制構造体を２本とし、画素の両端から１／４画素ずつの距離（画素中心線と画素端との間）にそれぞれつくる。他方の基板においては、画素中央部に配向規制構造体を設ける。
光配向部は、画素内にて１つのみ、または２つに分かれているが、配向方向は一つである。
配向規制構造体が２本の方の基板は、画素の光配向領域を配向規制構造体と配向規制構造体との間、配向規制構造体が１本の方の基板は、画素の両端から１／４画素ずつの位置（画素中心線と画素端との間）とする（露光領域を逆にした場合、配向規制構造体が１本のほうの画素の両端から１／４画素の位置までの配向規制ができなくなる）。
実施形態６においても、マスキングし、各基板一回ずつ斜め方向からの露光によって、配向膜の光配向を行っている。配向規制構造体の方向は、長辺または短辺どちらに平行でも良い。スキャン露光の場合、スキャン方向（基板長手方向かどうか）を第一基板と第二基板で異なるものとする必要も無い。

光配向による配向方向と垂直に分割する形でマスキングする必要が無いため、一般的に使用されているスキャン露光装置の多くで実行可能な形となる。
実施形態４と異なる点は、基板同士で配向規制構造体の位置が異なる点である。
片側の第一基板にて、配向規制構造体を２本にすることにより、配向規制方向は２通りのまま、領域としては４つできることになる。ここで、配向規制構造体であるリブ１０１５Ｒの片側のみを含む領域（図６８では、画素の中央寄りの領域）を、配向規制構造体による配向規制方向と垂直な配向方向（線状の配向規制構造体と平行な配向方向）を持たせるように露光する。すると、そのエリアの配向方向は配向規制構造体による配向方向と異なる、当該方向と垂直な配向規制方向を持つようになる。

他方の第二基板において、配向規制構造体を１本にすることで、配向規制方向を２通りとし、領域としても２つできることになる。
ここで、画素の両端から図６９中横方向で１／４ずつまでの領域を、配向規制構造体による配向規制方向と垂直な配向方向（線状の配向規制構造体と平行な配向方向）を持たせるように露光する。すると、そのエリアの配向方向は配向規制構造体による配向方向と異なる、当該方向と垂直な配向規制方向を持つようになる。

第一基板と第二基板を貼り合わせるときには、光配向した方向が互いに逆方向となる（１８０°ずれる）ようにする。片方の第二基板を、光配向による配向方向１つ、領域２つとし、配向規制構造体のみによる配向方向２つ、領域２つとする。他方の第一基板を、光配向による配向方向１つ、領域１つとし、配向規制構造体のみによる配向方向２つ、領域２つとする。これら同士を貼り合わせることにより、４方向の配向領域を持たせることができる。

図７１は、実施形態６に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図７１中、第一基板１０１０に線状の配向規制構造体としてリブ１０１５Ｒが設けられ、第二基板１０２０にも線状の配向規制構造体としてリブ１０２５Ｒが設けられている。第一基板１０１０と、第二基板１０２０が、液晶層１０３０を挟持する。両基板に設けられている電極、配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

（実施形態６の変形例）
図７２は、実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の第一基板の画素を示す平面模式図である。図７３は、実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の第二基板の画素を示す平面模式図である。図７４は、実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の画素を示す平面模式図である。実施形態６の変形例の構成は、第一基板及び第二基板における線状の配向規制構造体としてリブ１０１５Ｒ、１０２５Ｒの代わりに透明電極のスリット１０１５Ｓ、１０２５Ｓを設けた以外は、実施形態６の構成と同様である。このような配向領域（配向方向）の組み合わせでもよく、実施形態６と同様の作用効果を発揮することができる。なお、実施形態６の変形例では、両基板が透明電極のスリットを有することから、両基板がそれぞれ透明電極を有する。

図７５は、実施形態６の変形例に係る液晶表示装置の画素の断面を示す断面模式図である。図７５中、第一基板１０１０のガラス基板１０１１の液晶層１０３０側に線状の配向規制構造体として透明電極１０１３のスリット１０１５Ｓが設けられ、第二基板１０２０にもガラス基板１０２１の液晶層側に線状の配向規制構造体として透明電極１０２３のスリット１０２５Ｓが設けられている。第一基板１０１０と、第二基板１０２０が、液晶層１０３０を挟持する。両基板に設けられている配向膜、偏光板、その他の通常液晶表示装置に用いられる部材については、図示を省略している。

実施形態６及びその変形例に係る液晶表示装置を得るための方法は、マスキングの配置、及び、それに伴う線状の配向規制構造体の位置を変更する以外は、上述した実施形態１に係る液晶表示装置を得るための方法と同様である。

（その他の実施形態）
また、上述した各実施形態では、線状の配向規制構造体として、樹脂からなるリブ、透明電極に開口されたスリットを用いたが、配向規制構造体が延びる方向と垂直な２方向に液晶を配向させて本発明の効果を発揮できる限り、その他の線状の配向規制構造体を適宜用いることができる。また、本発明の効果を発揮できる限り、線状の配向規制構造体に加えて、線状の配向規制構造体以外の配向規制構造体を適宜用いてもよい。

上述した各実施形態は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板で液晶層を挟持するものであるが、第一基板、第二基板がそれぞれどちらの基板なのかは指定していない。すなわち、第一基板がＴＦＴ基板であり、第二基板がＣＦ基板であってもよいし、第一基板がＣＦ基板であり、第二基板がＴＦＴ基板であってもよい。また、ＴＦＴ基板にカラーフィルタが設けられ、その対向基板にカラーフィルタが設けられていない形態であってもよい。

上述した各実施形態は、各基板の画素が３方向の配向規制方向（光配向が１方向、配向規制構造体による配向が２方向）をもち、液晶表示装置の画素が４つの配向方向に分割されたものであったが、本発明の効果が発揮される限り、これら配向規制方向の数は、それぞれより多いものであってもよい。

また、上述した各実施形態は、配向規制構造体が画素の配向領域を区切るように画素を横断して配置されるものであったが、本発明の効果が発揮される限り、基板主面を平面視したときに、画素の長辺又は短辺と重畳するように配置されるものであってもよい。

更に、上述した各実施形態は、線状の配向規制構造体の数が、両基板で１本ずつ、１本と２本との組み合わせ、２本ずつのいずれかであり、それぞれが本発明の１つの好ましい形態であるが、配向規制力の調整に伴い、配向規制構造体の数は任意で良い。

また本実施形態の液晶表示装置は、透過型であってもよく、反射型であってもよく、半透過型であってもよい。

なお、上述した各実施形態において、液晶表示装置は基本的に閾値電圧未満で液晶が垂直配向するものであるが、本発明の効果を発揮できる限り、その他の表示モードを適宜選択することができる。

１０、４１０、６１０、８１０、１０１０、１１１０：第一基板
２０、４２０、６２０、８２０、１０２０：第二基板
３０、４３０、６３０、８３０、１０３０：液晶層
１１、２１、６１１、６２１、８１１、８２１、１０１１、１０２１：ガラス基板
１３、２３、６１３、６２３、８１３、８２３、１０１３、１０２３：透明電極
１５Ｓ、２５Ｓ、１１５Ｓ、１２５Ｓ、２１５Ｓ、２２５Ｓ、３１５Ｓ、３２５Ｓ、６１５Ｓ、６２５Ｓ、７１５Ｓ、７２５Ｓ、８１５Ｓ、８２５Ｓ、９１５Ｓ、９２５Ｓ、１０１５Ｓ、１０２５Ｓ：スリット
１５Ｒ、２５Ｒ、１１５Ｒ、１２５Ｒ、２１５Ｒ、２２５Ｒ、３１５Ｒ、３２５Ｒ、６１５Ｒ、６２５Ｒ、７１５Ｒ、７２５Ｒ、８１５Ｒ、８２５Ｒ、９１５Ｒ、９２５Ｒ、１０１５Ｒ、１０２５Ｒ：リブ
４５、１４５、２４５、３４５、４４５、５４５、６４５、７４５、８４５、９４５、１０４５、１１４５：光不透過部
４１５Ｃ、５１５Ｃ：柱状のリブ
ＬＡ：配向膜により液晶が配向される方向
ＬＣ：液晶分子
Ｍ：マスク
ＲＡ：基板近傍の液晶の配向方向

Claims (5)

1. 一対の基板及び該基板間に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、
   該液晶表示装置は、光配向膜、及び、線状の配向制御構造体を備え、一対の基板の一方が備える光配向膜、及び、一対の基板の他方における線状の配向制御構造体により、閾値電圧未満で一つの画素内で４つ以上の液晶配向領域に配向分割がなされたものであり、
   該一対の基板の少なくとも一方は、該光配向膜により液晶分子を配向させる領域、及び、該光配向膜により液晶分子を配向させる領域とは異なる、該線状の配向制御構造体により液晶分子を配向させる領域を有する
   ことを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記光配向膜により液晶分子を配向させる方向と、前記線状の配向制御構造体が延びる方向とは、基板主面を平面視したときに、垂直である
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記光配向膜により液晶分子を配向させる方向は、一つの基板の一つの画素当たり一方向である
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
4. 前記線状の配向制御構造体は、突起物である
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。
5. 前記線状の配向制御構造体は、基板に設けられた電極の開口部である
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。

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