JP5570225B2 - 照明光学系、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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まず、本発明の第1実施形態に係る照明光学系の構成について説明する。以下、本実施形態の照明光学系は、例えば、露光装置に搭載されるものであり、光源からの光を照射対象物であるパターンが形成されたマスク(原版)へ導くための装置である。図1は、本実施形態に係る照明光学系の構成を示す概略図である。照明光学系10は、第1光学系11と、インテグレータ13と、第2光学系15と、第3光学系17とを備える。
W=pr/(1−f+rf) (1)
ここで、一例として、r=0.2、f=0.6として(1)式に代入すると、照明光学系10では、照明効率を約2倍にすることができる。
次に、本発明の第2実施形態に係る照明光学系の構成について説明する。図2は、本実施形態に係る照明光学系の構成を示す概略図である。照明光学系30は、第1光学系31と、フライアイレンズ光学系32と、第2光学系33と、第3光学系35とを備える。第1光学系31は、光源36から照射された光をフライアイレンズ光学系32の入射面に導く光学系であり、フライアイレンズ光学系32の入射面が、後述の光源36のランプ部37の実質的にフーリエ変換面となるように配置されている。なお、第1光学系31は、説明上1つの光学素子としているが、複数の光学素子で構成される場合もある。また、本実施形態の照明光学系30に適用される光源36は、例えば、水銀ランプや、キセノン−水銀ランプを使用する。光源36は、ランプ部37と集光ミラー38とで構成され、ランプ部37としては、水銀ランプ等を採用し、集光ミラー38としては、例えば、楕円集光ミラーを採用する。ランプ部37から発生した光は、集光ミラー38により集光され、第1光学系31を経てフライアイレンズ光学系32に導かれる。
W=p(r+fg−rfg) (2)
ここで、一例として、r=0.2、f=0.5、g=0.5として(2)式に代入すると、照明光学系30では、照明効率を約2倍にすることができる。
次に、本発明の第3実施形態に係る照明光学系の構成について説明する。図5は、本実施形態に係る照明光学系の構成を示す概略図である。照明光学系60は、第1光学系61と、第2光学系62と、フライアイレンズ光学系63と、第3光学系64と、スリット板65と、第4光学系66とを備える。まず、第1光学系61は、2箇所の光源67a、67bから照射された光を第2光学系62に導く光学系であり、2箇所のミラー68a、68bと、該ミラー68a、68bへ光源67a、67bからの光を導く1つまたは複数の光学素子69a、69bとを備える。2箇所のミラー68a、68bは、1つのミラーが一方向から導入される光を他方向へ導出させる三角柱として形成され、かつ、後述の第4光学系66からの光を通過させるように光路を挟んで両側に設置される。第2光学系62は、2箇所のミラー68a、68bからの光を集光する光学系である。なお、第2光学系62は、説明上1つの光学素子としているが、複数の光学素子で構成される場合もある。また、本実施形態の照明光学系60に適用される光源67a、67bは、第2実施形態と同様に、例えば、水銀ランプや、キセノン−水銀ランプを使用する。
W=pr/(1−f+rf) (3)
ここで、一例として、r=0.2、f=0.6として(3)式に代入すると、照明光学系60では、照明効率を約2倍にすることができる。
次に、本発明の照明光学系を採用した露光装置について説明する。図8は、本発明の実施形態である露光装置の構成を示す概略図である。露光装置の露光方式は、レンズ、若しくは鏡を用いてマスク(原版)のパターンを基板上に投影露光するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。一般に、プロジェクション方式は、プロキシミティ方式と比較して、パターン解像性能や基板の倍率補正等の精度が高く、生産に適している。そこで、本実施形態では、ガラス基板に対する反射型投影光学系を用いたプロジェクション方式の露光装置を採用するものとして説明する。露光装置90は、マスクMに形成されたパターン(例えば、TFT回路)を、感光剤が塗布された基板P上へ投影転写するものである。この露光装置90は、光源91からの光を導入する照明光学系92と、該照明光学系92からの光をマスクM上に導く光学系93と、マスクMを載置する原版ステージ94と、投影光学系95と、基板Pを載置する基板ステージ96とを備える。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
11 第1光学系
12 第1照射面
13 インテグレータ
14 二次光源面
15 第2光学系
16 第2照射面
17 第3光学系
18 光源
90 露光装置
91 光源
92 照明光学系
94 原版ステージ
96 基板ステージ
Claims (7)
- 光源から導入した光を照射対象物に照射する照明光学系であって、
インテグレータを有し、前記光源からの光を前記インテグレータを介して前記照射対象物に照射する第1光学系と、
前記インテグレータから出射して前記第1光学系における前記照射対象物と共役な面に入射した光の一部の前記第1光学系から取り出された光を、前記照射対象物と共役な面である前記インテグレータの入射面に導く、前記第1光学系とは異なる循環光学系とを有し、
前記循環光学系から前記インテグレータに入射した光を前記第1光学系における前記照射対象物と共役な面に導くことを特徴とする照明光学系。 - 前記循環光学系は、前記照射対象物と共役な面に設けられ、前記照射対象物と共役な面に入射した光の一部を反射して前記第1光学系から取り出す反射部を有し、
前記反射部で反射された光を前記照射対象物と共役な面に導くことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。 - 前記第1光学系は、前記照射対象物と共役な面に配置された、前記照射対象物の照明領域を規定する視野絞りを有し、
前記循環光学系は、前記視野絞りの非透過領域に入射して前記第1光学系から取り出された光を前記第1光学系に入射させ、
前記循環光学系から前記第1光学系に入射した光を前記視野絞りに導くことを特徴とする請求項1又は2に記載の照明光学系。 - 前記第1光学系は、前記照射対象物と共役な第1照射面と、前記第1照射面より前記照射対象物側であって前記第1照射面と共役な第2照射面とを有し、
前記第1照射面は、前記インテグレータの入射面であり、
前記第2照射面は、前記インテグレータの射出面とフーリエ変換の関係となる面であり、
前記循環光学系は、前記第2照射面に入射した光の一部の前記第1光学系から取り出された光を、前記第1光学系とは別の光路を通して、前記第1照射面より前記光源側にある前記第1光学系の光学素子に入射させ、
前記循環光学系から前記第1光学系の前記光学素子に入射した光を前記第1照射面に導くことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。 - 前記循環光学系は、前記第2照射面に入射した光の一部を前記第1光学系から取り出して前記第1照射面に導くファイバーを有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学系。
- 光源からの光で原版を照明する照明光学系と、前記原版からの光を基板に導く投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系であることを特徴とする露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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