JP5511320B2 - 薄膜太陽電池の製法 - Google Patents
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Description
含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする。このような製法では、Cu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する前駆体を、Seを含有する雰囲気で熱処理することにより、光吸収層をセレン化し、Cu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する光吸収層を構成でき、アルカリ金属元素による粒成長をさらに促進することができ、エネルギー変換効率をさらに向上できる。
安価にできる。
nSe2、Cu(In,Ga)Se2が挙げられる。I-III-VI族化合物半導体とは、I
−B族(11族ともいう)元素とIII-B族(13族ともいう)元素とVI-B族(16族と
もいう)元素との化合物半導体である。
場合、カルコゲン元素含有有機化合物としては、例えば、チオール、スルフィド、ジスルフィド、チオフェン、スルホキシド、スルホン、チオケトン、スルホン酸、スルホン酸エステルおよびスルホン酸アミド等が挙げられる。好ましくは、金属と錯体を形成して金属溶液を良好に作製できるという観点からは、チオール、スルフィド、ジスルフィド等が良い。特に塗布性を高めるという観点からは、フェニル基を有するものが好ましい。このようなフェニル基を有するものとしては、例えば、チオフェノール、ジフェニルスルフィド等およびこれらの誘導体が挙げられる。
るため、光吸収層3を構成する元素以外の成分が残存することを良好に抑制でき、好ましい。なお、SeまたはSe化合物の供給は、光吸収層溶液を塗布して得られた前駆体にSeまたはSe化合物を含むガスを接触させることにより行なってもよい。また、上記元素Se元素はS元素であってもよい。
駆体を作製し、この前駆体を還元雰囲気で熱処理し、第1電極層2上に光吸収層3を形成することができる。この光吸収層3の厚みは、例えば、1.0〜2.5μmとされている。
理することにより、光吸収層3中にSeを含有せしめることができ、これにより、アルカリ金属による粒成長をさらに促進することが可能となる。また、雰囲気中にSを含有させることにより、光吸収層3中にSを含有せしめることができる。
2・・・第1電極層
3・・・光吸収層
4・・・バッファー層
5・・・第2電極層
Claims (6)
- 第1電極層と第2電極層との間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法であって、
カルコゲン元素含有有機化合物とルイス塩基性有機溶剤とを含む溶媒に、元素としてCuを含む原料、III-B族金属を含む原料およびアルカリ金属を含む原料を溶解させて成る光吸収層溶液を作製する工程と、
該光吸収層溶液を前記第1電極層上に塗布して乾燥させることにより前駆体を作製する工程と、
該前駆体を還元雰囲気で熱処理し、前記第1電極層上に、元素としてCu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成する工程と、
該光吸収層上に前記第2電極層を形成する工程と
を具備することを特徴とする薄膜太陽電池の製法。 - 前記還元雰囲気はSeを含有する雰囲気であり、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池の製法。
- 前記光吸収層溶液は元素としてSeを含有し、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池の製法。
- 前記光吸収層溶液は、Cuを含有する溶液、III-B族金属を含有する溶液およびアルカリ金属を含有する溶液を作製し、これらの溶液を混合して作製されることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載の薄膜太陽電池の製法。
- 前記還元雰囲気が水分除去した雰囲気であることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載の薄膜太陽電池の製法。
- 前記光吸収層溶液は、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が、単体金属の状態またはこれらの合金の状態で直接溶解されて成ることを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池の製法。
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US20120313044A1 (en) * | 2011-06-10 | 2012-12-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Coating solution for forming light-absorbing layer, and method for producing coating solution for forming light-absorbing layer |
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Family Cites Families (9)
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US6126740A (en) * | 1995-09-29 | 2000-10-03 | Midwest Research Institute | Solution synthesis of mixed-metal chalcogenide nanoparticles and spray deposition of precursor films |
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JPH10183374A (ja) * | 1996-05-28 | 1998-07-14 | Matsushita Denchi Kogyo Kk | 光電変換素子用半導体層の製造方法 |
JPH10125941A (ja) * | 1996-10-23 | 1998-05-15 | Asahi Chem Ind Co Ltd | カルコパイライト型太陽電池 |
US6127202A (en) * | 1998-07-02 | 2000-10-03 | International Solar Electronic Technology, Inc. | Oxide-based method of making compound semiconductor films and making related electronic devices |
JP2001274176A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Central Glass Co Ltd | 化合物半導体膜の製造方法 |
JP2004111664A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Shinto Fine Co Ltd | 化合物半導体薄膜の形成方法 |
JP4471855B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2010-06-02 | 本田技研工業株式会社 | カルコパイライト型薄膜太陽電池の製造方法 |
CN101471394A (zh) * | 2007-12-29 | 2009-07-01 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法 |
-
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210122411A (ko) * | 2020-03-31 | 2021-10-12 | 인천대학교 산학협력단 | 알카리 원소 합금에 의한 고품위 광흡수 박막의 제조 방법 |
KR102379759B1 (ko) * | 2020-03-31 | 2022-03-29 | 인천대학교 산학협력단 | 알카리 원소 합금에 의한 고품위 광흡수 박막의 제조 방법 |
KR20220028381A (ko) * | 2020-08-28 | 2022-03-08 | 인천대학교 산학협력단 | 박막 태양전지 및 광흡수층에 대한 용액 기반 알카리 원소 후증착 처리 방법 |
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