[go: up one dir, main page]

JP5511320B2 - 薄膜太陽電池の製法 - Google Patents

薄膜太陽電池の製法 Download PDF

Info

Publication number
JP5511320B2
JP5511320B2 JP2009257844A JP2009257844A JP5511320B2 JP 5511320 B2 JP5511320 B2 JP 5511320B2 JP 2009257844 A JP2009257844 A JP 2009257844A JP 2009257844 A JP2009257844 A JP 2009257844A JP 5511320 B2 JP5511320 B2 JP 5511320B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light absorption
absorption layer
alkali metal
metal
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009257844A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010141307A (ja
Inventor
雅英 秋山
伸起 堀内
丈司 大隈
正人 福留
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2009257844A priority Critical patent/JP5511320B2/ja
Publication of JP2010141307A publication Critical patent/JP2010141307A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5511320B2 publication Critical patent/JP5511320B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

本発明は、一対の電極層間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法に関する。
図1は、一般的な薄膜太陽電池の基本構造を示している。この薄膜太陽電池は、図1に示すように、例えば、ソーダライムガラスからなる基板1上に裏面電極となる、例えば、Moからなる第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に化合物半導体薄膜からなる光吸収層3が形成され、その光吸収層3上にZnS、CdSなどからなるバッファ層4を介して、ZnOなどからなる透明の第2電極層5が形成されている。
化合物半導体からなる光吸収層3としては、高いエネルギー変換効率が得られるものとして、Cu(In,Ga)Seからなる化合物半導体薄膜が用いられている。
そして、従来、第1電極層2、光吸収層3、バッファ層4、第2電極層5は、通常、乾式法といわれる蒸着法やスパッタリング法によって形成されていた。
このような薄膜太陽電池は、ソーダライムガラスからなる基板1からのアルカリ金属が光吸収層3に拡散し、Cu(In,Ga)Seの結晶粒子を粒成長させ、これにより、エネルギー変換効率を向上することができる。
また、従来、第1電極層2にセレン化ナトリウムを蒸着法で析出させ、その上にスパッタリング法により光吸収層3を形成する製法が知られている(特許文献1参照)。さらに、Cu(In,Ga)Se等を蒸着する際に、NaSe、NaS等の化合物を同時に蒸着させた後、熱処理する製法も知られている(特許文献2参照)。
また、従来、スパッタリング法により第1電極層2を形成し、この第1電極層2上にアルカリ金属が溶解した溶液を塗布してアルカリ金属層を形成し、その表面にスパッタリング法により光吸収層3を形成した薄膜太陽電池の製法も知られている(特許文献3参照)。
さらに、スパッタリング法により第1電極層2、光吸収層3を形成した後、光吸収層3にアルカリ金属を含有した溶液を塗布してアルカリ金属層を形成し、この後、熱処理する製法も知られている(特許文献4参照)。
このような薄膜太陽電池の製法では、アルカリ金属層中のアルカリ金属が熱処理時に光吸収層3中に拡散し、光吸収層3中の結晶粒子を粒成長させることができる。
特開平8−222750号公報 特開平8−102546号公報 特開2003−282908号公報 WO2005/109525号の再公表特許公報
しかしながら、特許文献1の製法のように、第1電極層2上に蒸着法またはスパッタリング法によってアルカリ金属層を形成する場合、Na等のアルカリ金属層が吸湿性を有しているため、アルカリ金属層を形成した後、積層プリカーサを形成するまでの間に、アルカリ金属層が大気に触れ、変質して、第1電極層2から剥離してしまうという問題があった。
特許文献2の製法では、アルカリ金属が吸湿性であるという問題に加え、蒸着装置の大型化やこれに伴う設備コストの増大という問題があった。このような特許文献1、2の問題は、蒸着法、スパッタリング法等の乾式法特有の問題であった。
一方、特許文献3、4の製法では、乾式法特有の問題は解決されるが、いずれも、アルカリ金属層を形成するため、熱処理時にアルカリ金属層から光吸収層3へのアルカリ金属の拡散を期待するしかなく、アルカリ金属の光吸収層3への拡散が不安定であり、アルカリ金属層の形成条件、熱処理条件等により、アルカリ金属の拡散状態が変化しやすいという問題があった。
本発明は、光吸収層へのアルカリ金属の拡散を確実にかつ十分に行うことができるとともに、製造コストが安価な薄膜太陽電池の製法を提供することを目的とする。
本発明の薄膜太陽電池の製法は、第1電極層と第2電極層との間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法であって、カルコゲン元素含有有機化合物とルイス塩基性有機溶剤とを含む溶媒に、元素としてCuを含む原料、III-B族金属を含む原料およびアルカリ金属を含む原料を溶解させて成る光吸収層溶液を作製する工程と、該光吸収層溶液を前記第1電極層上に塗布して乾燥させることにより前駆体を作製する工程と、該前駆体を還元雰囲気で熱処理し、前記第1電極層上に、元素としてCu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成する工程と、該光吸収層上に前記第2電極層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
本発明の薄膜太陽電池の製法では、元素としてCu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する光吸収層溶液を作製し、この光吸収層溶液を電極層上に塗布して乾燥し前駆体を作製し、還元雰囲気で熱処理して光吸収層を形成したので、光吸収層溶液中に、CuおよびIII-B族金属とともにアルカリ金属が溶解しており、アルカリ金属が光吸収層溶液中に均一に分散しているため、光吸収層溶液を塗布して乾燥することによりアルカリ金属の光吸収層内への拡散を確実にかつ十分に行うことができる。
これにより、熱処理する際に、光吸収層を構成する結晶粒子をアルカリ金属により均一にかつ十分に粒成長させることができ、場所によって粒成長ムラ等が生じることがなく、製品毎のエネルギー変換効率をほぼ同一に制御でき、これにより、製造歩留まりを向上することが可能となる。
また、Cu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する光吸収層溶液を用い、この光吸収層溶液を塗布、乾燥させて前駆体を作製し、これを熱処理して、光吸収層を作製するため、従来のように、光吸収層やアルカリ金属層を形成するために蒸着法またはスパッタリング法を用いることがないため、製造工程を簡略化でき、また、高価なガスや装置等を使用することがないため、製造コストも安価とできる。
また、本発明の薄膜太陽電池の製法では、前記還元雰囲気はSeを含有する雰囲気であり、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を
含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする。このような製法では、Cu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する前駆体を、Seを含有する雰囲気で熱処理することにより、光吸収層をセレン化し、Cu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する光吸収層を構成でき、アルカリ金属元素による粒成長をさらに促進することができ、エネルギー変換効率をさらに向上できる。
さらに、本発明の薄膜太陽電池の製法では、前記光吸収層溶液は元素としてSeを含有し、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする。このような製法では、前駆体中にCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有するため、還元雰囲気での熱処理による粒成長をさらに促進することができ、エネルギー変換効率をさらに向上できる。
また、本発明の薄膜太陽電池の製法では、前記光吸収層溶液は、Cuを含有する溶液、III-B族金属を含有する溶液およびアルカリ金属を含有する溶液を作製し、これらの溶液を混合して作製されることを特徴とする。
このような製法では、Cuを含有する溶液、III-B族金属を含有する溶液およびアルカリ金属を含有する溶液を作製し、混合するため、Cu、Inおよびアルカリ金属を均一溶解でき、また、アルカリ金属の混合ムラがなくなり、均一分散混合できるため、均一な結晶成長を実現して成膜の均一性をさらに向上できるとともに、結晶粒径をさらに大きくすることができる。
さらに、本発明の薄膜太陽電池の製法では、前記還元雰囲気が水分除去した雰囲気であることを特徴とする。このような製法では、水分を除去した還元雰囲気で熱処理するため、光吸収層中のアルカリ金属が水分を吸収することを抑制でき、光吸収層の変質を抑制することができる。
さらに、本発明の薄膜太陽電池の製法では、前記光吸収層溶液は、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が、単体金属の状態またはこれらの合金の状態で直接溶解されて成ることを特徴とする。
なお、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が、単体金属の状態で直接溶解されて成るというのは、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が単体金属の状態で直接、前記溶媒に溶解されていることをいう。また、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が合金の状態で直接溶解されて成るというのは、前記溶媒に、CuとIII-B族金属との合金またはIII-B族金属同士の合金が直接、前記溶媒に溶解されていることをいう。
このような製法では、CuやIII-B族金属を有機金属化合物や金属塩等に変換することなく、直接溶解しているため、光吸収層溶液に光吸収層を構成する成分以外の不純物が残存するのを良好に抑制することができる。また、有機金属化合物や金属塩等への変換が不要となり工程を簡略化できる。
本発明の薄膜太陽電池の製法によれば、光吸収層溶液中に、CuおよびInとともにアルカリ金属が溶解しており、アルカリ金属が光吸収層溶液中に均一に分散しているため、光吸収層溶液を塗布して乾燥することによりアルカリ金属の光吸収層内への拡散を確実にかつ十分に行うことができる。これにより、製品毎のエネルギー変換効率をほぼ同一に制御でき、製造歩留まりを向上することが可能となる。また、従来のように、光吸収層やアルカリ金属層の形成に蒸着法またはスパッタリング法等を用いることがないため、製造工程を簡略化でき、さらに、高価なガスや装置等を使用する必要がないため、製造コストも
安価にできる。
薄膜太陽電池の一例を示す断面図である。
本発明の製法により作製された薄膜太陽電池は、一対の電極層間に光吸収層を有する薄膜太陽電池であり、例えば、図1に示したように、基板1上に裏面電極となる第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に化合物半導体薄膜からなる光吸収層3が形成され、その光吸収層3上にバッファ層4を介して透明の第2電極層5が形成されている。
基板1としては、例えば、ソーダライムガラス基板、Mo、SUSなどの金属基板、ポリイミドなどの樹脂基板等を用いることができる。この基板1上には第1電極層2が形成され、この第1電極層2上に光吸収層3が形成されている。この光吸収層3上にバッファ層4を介して第2電極層5が形成され、光吸収層3は第1電極層2と第2電極層5により挟持されており、これにより、一対の第1、第2電極層2、5間に光吸収層3を有する薄膜太陽電池が構成されている。
尚、基板1、第1電極層2、光吸収層3、バッファ層4、第2電極層5を順次積層した例について説明したが、本発明では、一対の第1、第2電極層2、5間に光吸収層3を有する限り、上記層の間に種々の中間層を形成しても良い。また、本発明は基板1を有しないタイプ、言い換えれば、第1電極層2が基板として機能するタイプであっても良い。
化合物半導体からなる光吸収層3としては、高いエネルギー変換効率が得られるものとして、カルコパイライト構造からなる化合物半導体が用いられる。カルコパイライト構造からなる化合物半導体としては、I-III-VI族化合物半導体が用いられ、例えば、CuI
nSe、Cu(In,Ga)Seが挙げられる。I-III-VI族化合物半導体とは、I
−B族(11族ともいう)元素とIII-B族(13族ともいう)元素とVI-B族(16族と
もいう)元素との化合物半導体である。
本発明の薄膜太陽電池の製法について説明する。先ず、例えば、ソーダライムガラスからなる基板1を準備する。この基板1に第1電極層2を形成する。この第1電極層2は、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、クロム(Cr)、ポリシリコン(SiO)、メタルシリサイド、またはアルミニウム(Al)等のうちいずれかの電極材料を用いることが望ましい。第1電極層2は、蒸着法、スパッタリング法、塗布法などで形成することができる。
次に、第1電極層2上に光吸収層3を形成する。先ず、光吸収層3を形成するための光吸収層溶液を作製する。この光吸収層溶液は、カルコゲン元素含有有機化合物とルイス塩基性有機溶剤とを含む溶媒(以下、混合溶媒Sという)に、元素としてCuを含む原料、III-B族金属を含む原料およびアルカリ金属を含む原料を溶解させて成る。これにより、カルコゲン元素含有有機化合物およびルイス塩基性有機溶剤がCu、III-B族金属およびアルカリ金属と安定な錯体を形成することができ、原料を高濃度に溶解することができる。よって、光吸収層溶液の粘度を高めて、厚くて原料が均一に分布した良好な前駆体を形成することができる。なお、III-B族金属とは、GaやInなどのIII-B族(13族ともいう)金属である。III-B族金属は1種の元素であってもよく、2種以上の元素であってもよい。光吸収層溶液は、Cu、In、Gaおよびアルカリ金属が溶解した溶液であることが望ましい。さらには、Cu、In、Ga、Seおよびアルカリ金属が溶解した溶液であることが望ましい。以下、光吸収層溶液が、Cu、In、Gaおよびアルカリ金属を含有する場合について説明する。
カルコゲン元素含有有機化合物とは、カルコゲン元素を含む有機化合物である。カルコゲン元素とは、VI-B族元素のうちのS、Se、Teをいう。カルコゲン元素がSである
場合、カルコゲン元素含有有機化合物としては、例えば、チオール、スルフィド、ジスルフィド、チオフェン、スルホキシド、スルホン、チオケトン、スルホン酸、スルホン酸エステルおよびスルホン酸アミド等が挙げられる。好ましくは、金属と錯体を形成して金属溶液を良好に作製できるという観点からは、チオール、スルフィド、ジスルフィド等が良い。特に塗布性を高めるという観点からは、フェニル基を有するものが好ましい。このようなフェニル基を有するものとしては、例えば、チオフェノール、ジフェニルスルフィド等およびこれらの誘導体が挙げられる。
カルコゲン元素がSeである場合、カルコゲン元素含有有機化合物としては、例えば、セレノール、セレニド、ジセレニド、セレノキシド、セレノン等が挙げられる。好ましくは、金属と錯体を形成して金属溶液を良好に作製できるという観点からは、セレール、セレニド、ジセレニド等が良い。特に塗布性を高めるという観点からは、フェニル基を有するものが好ましい。このようなフェニル基を有するものとしては、例えば、フェニルセレノール、フェニルセレナイド、ジフェニルジセレナイド等およびこれらの誘導体が挙げられる。
カルコゲン元素がTeである場合、カルコゲン元素含有有機化合物としては、例えば、テルロール、テルリド、ジテルリド、等が挙げられる。
ルイス塩基性有機溶剤とは、CuやIII-B族金属に対して、ルイス塩基となり得る有機溶剤である。ルイス塩基性有機溶剤としては、ピリジン、アニリン、トリフェニルフォスフィン等およびこれらの誘導体が挙げられる。特に塗布性を高めるという観点からは、沸点が100℃以上であるものが好ましい。
混合溶媒Sは、取り扱い性の観点からは、室温で液状となるような組み合わせであることが好ましい。カルコゲン元素含有有機化合物のmol数は、ルイス塩基性有機溶剤のmol数に対して0.1〜10倍であるのがよい。これにより、光吸収層3を形成するための原料であるCuやIII-B族金属が、カルコゲン元素含有有機化合物およびルイス塩基性有機溶剤と良好に配位結合等の化学結合をすることができ、高濃度の光吸収層溶液を得ることができる。
混合溶媒Sに、CuやIII-B族金属を溶解させて光吸収層溶液を作製する方法としては、混合溶媒SにCuまたはIII-B族金属を、単体金属の状態で直接溶解するか、あるいは、混合溶媒SにCuとIII-B族金属との合金またはIII-B族金属同士の合金を直接溶解させることが好ましい。このような製法では、CuやIII-B族金属を有機金属化合物や金属塩等に変換することなく、直接溶解しているため、光吸収層溶液に光吸収層3を構成する成分以外の不純物が残存するのを良好に抑制することができる。また、有機金属化合物や金属塩等への変換が不要となり工程を簡略化できる。
III-B族金属は1種の元素であってもよく、2種以上の元素であってもよい。2種以上の元素である場合、混合溶媒Sに、III-B族金属を溶解させて溶液を作製する方法としては、上記混合溶媒Sに2種以上のIII-B族金属の混合物を一度に溶解させてもよい。あるいは、各元素のIII-B族金属をそれぞれ上記混合溶媒Sに溶解させた後、これらを混合してもよい。
混合溶媒Sに光吸収層3を構成するための原料としてSeまたはSe化合物を溶解させておいてもよい。混合溶媒Sを用いる場合、Seの金属単体を直接溶解させることができ
るため、光吸収層3を構成する元素以外の成分が残存することを良好に抑制でき、好ましい。なお、SeまたはSe化合物の供給は、光吸収層溶液を塗布して得られた前駆体にSeまたはSe化合物を含むガスを接触させることにより行なってもよい。また、上記元素Se元素はS元素であってもよい。
光吸収層溶液は、銅化合物、インジウム化合物、ガリウム化合物およびアルカリ金属化合物を、上記したルイス塩基性有機溶媒としての含窒素溶媒とカルコゲン元素含有有機化合物との混合溶媒Sに溶解して構成されている。銅化合物としては、例えば、銅、セレン化銅、硫化銅があり、インジウム化合物としては、例えば、インジウム、セレン化インジウム、硫化インジウムがあり、ガリウム化合物としては、例えば、ガリウム、セレン化ガリウム、硫化ガリウムが用いられる。尚、銅は銅化合物ではないが、便宜上、本願明細書中では、銅を銅化合物として記載した。インジウム化合物中のインジウム、ガリウム化合物中のガリウムも同様である。
含窒素溶媒としては、例えば、アンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、エタノールアミン、アリルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびアニリンのうち少なくとも一種を用いることができる。
アルカリ金属化合物は、有機酸アルカリ金属塩、有機アルカリ金属塩、セレン化アルカリ金属塩のうちの少なくとも1種を用いることができる。
有機酸アルカリ金属塩としては、酢酸リチウム(CHCOOLi)、酢酸ナトリウム(CHCOONa)、酢酸カリウム(CHCOOK)などを用いることが望ましい。有機アルカリ金属塩としては、メチルリチウム、メチルナトリウム、メチルカリウム、エチルリチウム、エチルナトリウム、エチルカリウムなどを用いることができる。セレン化アルカリ金属塩としては、セレン化リチウム(LiSe)、セレン化ナトリウム(NaSe)、セレン化カリウム(KSe)を用いることができる。硫化リチウム(LiS)、テルル化リチウム(LiTe)、硫化ナトリウム(NaS)、テルル化ナトリウム(NaTe)、硫化カリウム(KS)、テルル化カリウム(KTe)をも用いることが可能である。
光吸収層溶液は、例えば、銅化合物を含窒素溶媒に溶解した溶液、インジウム化合物を含窒素溶媒に溶解した溶液、ガリウム化合物を含窒素溶媒に溶解した溶液、さらに、上記アルカリ金属化合物を含窒素溶媒に溶解した溶液の4種の溶液を混合することにより作製できる。これにより、Cu、In、Gaおよびアルカリ金属が有機溶媒に均一に溶解した光吸収層溶液を調合することができる。
アルカリ金属化合物は、有機酸アルカリ金属塩、有機アルカリ金属塩、セレン化アルカリ金属塩等を用い、これを有機溶媒に溶解させることにより、アルカリ金属を均一に分散混合することができる。さらに、アルカリ金属化合物が溶解する有機溶媒として、Cu、In、Gaが溶解した有機溶媒と同一種のものを用いることが望ましい。これにより、アルカリ金属が溶解した溶液を、Cu、InおよびGaを含有する溶液に混合し易くすることができるとともに、混合時の再析出の問題をなくすことができる。
光吸収層溶液は、Cu、InおよびGaを含有する一つの溶液に、有機酸アルカリ金属塩、有機アルカリ金属塩およびセレン化アルカリ金属塩のうち少なくとも1種を有機溶媒に溶解した溶液を、添加混合して作製することもできる。
そして、この光吸収層溶液を、上記した基板1の第1電極層2上に塗布し、乾燥して前
駆体を作製し、この前駆体を還元雰囲気で熱処理し、第1電極層2上に光吸収層3を形成することができる。この光吸収層3の厚みは、例えば、1.0〜2.5μmとされている。
第1電極層2上への光吸収層溶液の塗布は、スピンコータ、スクリーン印刷、ディッピング、スプレー、ダイコータなどを用いることが望ましい。乾燥は、還元雰囲気下で行うことが望ましい。乾燥時の温度は、例えば、50〜300℃で行う。
光吸収層溶液は、有機溶媒または配位子のC、H、N等とCu、In、Gaとが結合したものと、Cu、In、Gaと結合していないC、H、N等が存在しているが、乾燥することにより得られる前駆体は、C、H、N等とCu、In、Gaとが結合したもので構成されている。
熱処理は、還元雰囲気下で行うことが望ましい。これにより、CuInSe、Cu(In,Ga)Se等からなる光吸収層が得られる。特には、窒素雰囲気、フォーミングガス雰囲気および水素雰囲気のうちいずれかであることが望ましい。熱処理時の還元雰囲気は、吸湿剤を通して水分除去した還元雰囲気であることが望ましい。吸湿剤は、水分を除去できるものであれば特に制限はないが、モレキュラーシーブなどが好適に用いられる。熱処理温度は、例えば、400℃〜600℃とされている。
光吸収層3の形成後に、表面のCuSeなどからなる高抵抗層をKCN水溶液でエッチングし、除去することが望ましい。
この後、光吸収層3の上にヘテロ接合のためのn型のバッファ層4を形成する。バンドギャップが小さくて、短波長側の光を透過しにくい、CdS、ZnS、ZnSe、ZnMgO、ZnS/ZnMgO、ZnO、InS、InSe、In(OH)、ZnInSe、ZnInS、ZnSSe、CuI、Mg(OH)などの材料が用いられる。これらは、浸漬塗布法、CBD法(溶液成長法)等により光吸収層まで形成した基板を水溶液に浸して微粒子を堆積させるように作製することができる。
次に、バッファ層4上にITO、ZnOからなる透明の第2電極層5を形成する。この第2電極層は、スパッタ、スプレー、コーティングにより形成することができる。バッファ層4の厚みは、例えば、10〜200nmとされ、第2電極層5の厚みは、例えば、0.5〜3.0μmとされている。
本発明の薄膜太陽電池の製法では、光吸収層溶液中に、Cu、III-B族金属とともにアルカリ金属が溶解しており、この光吸収層溶液を塗布して乾燥することによりアルカリ金属の光吸収層内への拡散を確実かつ十分に行うことができる。従って、熱処理する際に、光吸収層3を構成する粒子をアルカリ金属により均一に粒成長させることができ、場所によって粒成長ムラ等が生じることがなく、製品毎のエネルギー変換効率をほぼ同一に制御でき、これにより、製造歩留まりを向上できる。
また、Cu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する光吸収層溶液を作製し、塗布し熱処理して、光吸収層3を作製するため、従来のように、光吸収層3の形成やアルカリ金属層の形成に蒸着法またはスパッタリング法を用いることがないため、製造工程を簡略化でき、また、高価なガスや装置等を使用することがないため、製造コストも安価とできる。
尚、上記例では、Cu、In、Gaおよびアルカリ金属からなる光吸収層3について説明したが、本発明では、熱処理時に、雰囲気中にSeを含有させ、セレン化雰囲気で熱処
理することにより、光吸収層3中にSeを含有せしめることができ、これにより、アルカリ金属による粒成長をさらに促進することが可能となる。また、雰囲気中にSを含有させることにより、光吸収層3中にSを含有せしめることができる。
さらに、光吸収層溶液中に、Cu、In、Ga、アルカリ金属のみならず、Seも含有させることによっても、光吸収層3中にSeを含有せしめることができ、この場合でも、アルカリ金属による粒成長をさらに促進することが可能となる。Seは、セレン化合物が、上記した含窒素溶媒に溶解して構成されており、セレン化合物としては、例えば、セレン、硫化セレンがあり、これをCu、In、Ga、アルカリ金属の溶液と混合した光吸収層溶液を用いて作製できる。また、銅化合物としてセレン化銅、またはインジウム化合物としてセレン化インジウム、またはガリウム化合物としてセレン化ガリウム、またはアルカリ金属化合物としてセレン化アルカリ金属を用いることにより、光吸収層中にSeを含有せしめることもできる。
上記例では、含窒素溶媒中にセレン化銅などの金属カルコゲナイドを溶解させ、この溶液を塗布焼成する方法で説明したが、銅、インジウム、ガリウム、さらにセレン、硫黄を一つの分子中に含有させた単一源前駆体を含窒素化合物、例えばアンモニア、ヒドラジン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、エタノールアミン、アリルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、アニリン、ピリジン、さらにアルコール類、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テルピネオール、プロピレングリコール、さらにアセトン、アセトニトリル、トルエン、キシレンなどに溶(解させ、塗布焼成したものでも良い。
1・・・基板
2・・・第1電極層
3・・・光吸収層
4・・・バッファー層
5・・・第2電極層

Claims (6)

  1. 第1電極層と第2電極層との間に光吸収層を有する薄膜太陽電池の製法であって、
    カルコゲン元素含有有機化合物とルイス塩基性有機溶剤とを含む溶媒に、元素としてCuを含む原料、III-B族金属を含む原料およびアルカリ金属を含む原料を溶解させて成る光吸収層溶液を作製する工程と、
    該光吸収層溶液を前記第1電極層上に塗布して乾燥させることにより前駆体を作製する工程と、
    該前駆体を還元雰囲気で熱処理し、前記第1電極層上に、元素としてCu、III-B族金属およびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成する工程と、
    該光吸収層上に前記第2電極層を形成する工程と
    を具備することを特徴とする薄膜太陽電池の製法。
  2. 前記還元雰囲気はSeを含有する雰囲気であり、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池の製法。
  3. 前記光吸収層溶液は元素としてSeを含有し、熱処理することにより、元素としてCu、III-B族金属、Seおよびアルカリ金属を含有する前記光吸収層を形成することを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池の製法。
  4. 前記光吸収層溶液は、Cuを含有する溶液、III-B族金属を含有する溶液およびアルカリ金属を含有する溶液を作製し、これらの溶液を混合して作製されることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載の薄膜太陽電池の製法。
  5. 前記還元雰囲気が水分除去した雰囲気であることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載の薄膜太陽電池の製法。
  6. 前記光吸収層溶液は、前記溶媒にCuまたはIII-B族金属が、単体金属の状態またはこれらの合金の状態で直接溶解されて成ることを特徴とする請求項記載の薄膜太陽電池の製法。
JP2009257844A 2008-11-11 2009-11-11 薄膜太陽電池の製法 Active JP5511320B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009257844A JP5511320B2 (ja) 2008-11-11 2009-11-11 薄膜太陽電池の製法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008288341 2008-11-11
JP2008288341 2008-11-11
JP2009257844A JP5511320B2 (ja) 2008-11-11 2009-11-11 薄膜太陽電池の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010141307A JP2010141307A (ja) 2010-06-24
JP5511320B2 true JP5511320B2 (ja) 2014-06-04

Family

ID=42351124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009257844A Active JP5511320B2 (ja) 2008-11-11 2009-11-11 薄膜太陽電池の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5511320B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210122411A (ko) * 2020-03-31 2021-10-12 인천대학교 산학협력단 알카리 원소 합금에 의한 고품위 광흡수 박막의 제조 방법
KR20220028381A (ko) * 2020-08-28 2022-03-08 인천대학교 산학협력단 박막 태양전지 및 광흡수층에 대한 용액 기반 알카리 원소 후증착 처리 방법

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8277894B2 (en) * 2009-07-16 2012-10-02 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Selenium ink and methods of making and using same
JP2012138477A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Kyocera Corp 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法
JP2012156239A (ja) * 2011-01-25 2012-08-16 Kyocera Corp 半導体形成用化合物の製造方法、半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法
JP2012227377A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Kyocera Corp 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法
US20120313044A1 (en) * 2011-06-10 2012-12-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Coating solution for forming light-absorbing layer, and method for producing coating solution for forming light-absorbing layer
JP5618942B2 (ja) * 2011-08-18 2014-11-05 京セラ株式会社 光電変換装置の製造方法
KR101273175B1 (ko) * 2011-09-20 2013-06-18 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
KR101410968B1 (ko) 2011-11-28 2014-06-25 금호전기주식회사 씨아이지에스 박막태양전지 제조방법
KR101328560B1 (ko) * 2011-11-30 2013-11-12 주식회사 아바코 Cigs 태양전지의 제조방법
JP6054062B2 (ja) * 2012-02-20 2016-12-27 株式会社アルバック 量子ドット増感型太陽電池の製造方法
JP6373124B2 (ja) * 2014-08-21 2018-08-15 東京応化工業株式会社 塗布液、太陽電池用光吸収層および太陽電池、ならびにその製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6126740A (en) * 1995-09-29 2000-10-03 Midwest Research Institute Solution synthesis of mixed-metal chalcogenide nanoparticles and spray deposition of precursor films
JPH09181000A (ja) * 1995-12-26 1997-07-11 Toshiba Corp 化合物半導体薄膜形成方法および太陽電池の製造方法
JPH10183374A (ja) * 1996-05-28 1998-07-14 Matsushita Denchi Kogyo Kk 光電変換素子用半導体層の製造方法
JPH10125941A (ja) * 1996-10-23 1998-05-15 Asahi Chem Ind Co Ltd カルコパイライト型太陽電池
US6127202A (en) * 1998-07-02 2000-10-03 International Solar Electronic Technology, Inc. Oxide-based method of making compound semiconductor films and making related electronic devices
JP2001274176A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Central Glass Co Ltd 化合物半導体膜の製造方法
JP2004111664A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Shinto Fine Co Ltd 化合物半導体薄膜の形成方法
JP4471855B2 (ja) * 2005-01-25 2010-06-02 本田技研工業株式会社 カルコパイライト型薄膜太陽電池の製造方法
CN101471394A (zh) * 2007-12-29 2009-07-01 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210122411A (ko) * 2020-03-31 2021-10-12 인천대학교 산학협력단 알카리 원소 합금에 의한 고품위 광흡수 박막의 제조 방법
KR102379759B1 (ko) * 2020-03-31 2022-03-29 인천대학교 산학협력단 알카리 원소 합금에 의한 고품위 광흡수 박막의 제조 방법
KR20220028381A (ko) * 2020-08-28 2022-03-08 인천대학교 산학협력단 박막 태양전지 및 광흡수층에 대한 용액 기반 알카리 원소 후증착 처리 방법
KR102524637B1 (ko) 2020-08-28 2023-04-21 인천대학교 산학협력단 박막 태양전지 및 광흡수층에 대한 용액 기반 알카리 원소 후증착 처리 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010141307A (ja) 2010-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5511320B2 (ja) 薄膜太陽電池の製法
JP5259178B2 (ja) 太陽電池製造のための半導体の薄層を堆積する方法および装置
TWI654771B (zh) 附加著鉀之薄膜光電裝置的製造
JP4680183B2 (ja) カルコパイライト型薄膜太陽電池の製造方法
US20120115312A1 (en) Thin films for photovoltaic cells
US8501524B2 (en) Method of manufacturing thin-film light-absorbing layer, and method of manufacturing thin-film solar cell using the same
WO2007056224A2 (en) Technique and apparatus for depositing layers of semiconductor for solar cell and module fabrication
WO2011013657A1 (ja) 化合物半導体の製造方法および光電変換装置の製造方法ならびに半導体形成用溶液
JP2011129631A (ja) Cis系薄膜太陽電池の製造方法
JP6302546B2 (ja) 高いクラックフリー限界を有するcigsナノ粒子インキ調製物
EP2610363B1 (en) Method for modifying light absorption layer
US10090424B1 (en) Roll-to-roll solution process method for fabricating CIGS solar cells and system for the same
US11276796B2 (en) Photovoltaic structures having multiple absorber layers separated by a diffusion barrier
KR101353618B1 (ko) 광흡수층 박막의 제조방법 및 이를 이용한 박막 태양전지의 제조방법
JP2010129648A (ja) 薄膜太陽電池の製法
JP5305862B2 (ja) 薄膜太陽電池の製法
JP2000174306A (ja) 化合物半導体薄膜の製造方法
US8894889B1 (en) Compound semiconductor precursor ink composition, method for forming a chalcogenide semiconductor film, and method for forming a photovoltaic device
KR101317834B1 (ko) 고체 확산법을 이용한 cig 박막의 셀렌화 및 황산화 방법
JP2010129658A (ja) 化合物半導体薄膜の製法および薄膜太陽電池の製法
KR101723096B1 (ko) 태양전지용 SnS 박막 형성 방법 및 이를 이용한 태양전지의 제조방법
KR101311384B1 (ko) 태양광 흡수층의 제조를 위한 무기박막의 제조 방법
JP5464984B2 (ja) 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法
KR102165789B1 (ko) 유연기판용 czts계 단일 광흡수층 제조 방법
JP2017011128A (ja) 半導体薄膜形成用分散液、太陽電池、及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120918

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130723

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130912

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140325

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5511320

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150