JP5491261B2 - 基板保持具、縦型熱処理装置および熱処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板保持具に保持される際に自重で反りを生じる程度に厚さが薄いか、または始めから反りを有している被処理基板に適した基板保持具、縦型熱処理装置および熱処理方法に関するものである。

半導体装置の製造においては、被処理基板例えば半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ、アニール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程を実行するための熱処理装置の一つとして複数枚のウエハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用いられている（例えば、特許文献１参照）。

この縦型熱処理装置は、下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、この蓋体上に設けられ複数枚のウエハを上下方向に所定間隔で保持する基板保持具（ボートともいう）と、前記蓋体を昇降させて基板保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚のウエハを所定間隔で収納する収納容器（キャリアまたはカセットともいう）と前記ボートとの間でウエハの移載を行う移載板（フォークともいう）を有する移載機構とを備えている。

前記ボートは、図６ないし図７に示すように、底板４４と天板（図示省略）の間に設けられた左右一対の前側支柱４６と、左右一対の後側支柱４７とを有し、これら前側支柱４６および後側支柱４７にウエハｗを前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝４８，４９を形成して構成されている。前側支柱４６および後側支柱４７は、共に断面円形であり、これら前側支柱４６および後側支柱４７に断面半円形の溝４８，４９が形成されており、これら溝４８，４９上の支持面４８ａ，４９ａにウエハｗの周縁部が支持されるようになっている（例えば、特許文献２参照）。

この場合、前側支柱４６の支持面４８ａの先端におけるウエハｗの支持点６０，６０間の寸法Ｘ１は、前記後側支柱４７の支持面４９ａの先端におけるウエハｗの支持点６１，６１間の寸法Ｙ１よりも大きくされており、前側支柱４６の支持点６０，６０間の寸法Ｘ１と後側支柱４７の支持点６１，６１間の寸法Ｙ１とは異なっている。また、前側支柱４６の支持面４８ａの面積が小さいため、支持面４８ａにおけるウエハｗの乗り上げ寸法ｄ１も小さくなっている。

特開２００８−２２７４４３号公報 特開２００５−００５３７９号公報

ところで、ウエハｗにおいては、ウエハ表面に形成するパターンの微細化に伴い、ウエハ表面に形成する処理膜の厚さは薄膜化が要求されてきている。処理膜が薄膜であれば、従来のウエハ厚さである必要はなく、薄型のウエハが使用されてきている。この薄型ウエハをボートで支持した場合、ウエハが自重によって反るように撓んでしまうという問題がある。

また、従来の厚さのウエハに成膜処理を行い、ウエハ裏面を削って薄くした後、後工程の成膜処理を行う場合がある。この場合、成膜処理される膜が金属含有膜ほど反りが大きく発生することが発明者等によって知見されている。更に、ウエハの反りはすり鉢状に反るのではなく、ウエハの中心線ｃ１を対称に左右に反ることも知見されている。

このようなウエハｗを前記ボート９０に搭載した場合、前側支柱４６における支持点６０でのウエハｗの周縁部の反り量と、後側支柱４７における支持点６１でのウエハｗの周縁部の反り量が異なるため、図８に示すようにウエハｗが前方に向かって下降傾斜した状態に保持されてしまい、側方視でウエハｗを水平に保持することができない。このような保持状態では、上下で隣り合うウエハ間におけるフォーク５６の挿入可能な隙間Ｚ１が狭くなってしまうため、ボート９０の溝４８，４９のピッチＨ１を広げる必要があり、これによりウエハの搭載枚数の減少、すなわちウエハｗの処理枚数の減少を招くという問題がある。また、前述したように支持面４８ａにおけるウエハの乗り上げ寸法ｄ１が小さいことから、ボート９０の溝４８，４９上でのウエハｗの位置ずれや、ウエハｗの反り量にばらつきがある場合、これらウエハｗの位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができず、ボート９０の溝４８，４９からウエハｗが脱落する可能性がある。

本発明は、前記事情を考慮してなされたものであり、被処理基板が反っていても水平に保持することができ、被処理基板の位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができる基板保持具、縦型熱処理装置および熱処理方法を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために、本発明は、左右一対の前側支柱と、左右一対の後側支柱とを有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具において、前側支柱の前記溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしたことを特徴とする。

下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に保温筒を介して設けられ、左右一対の前側支柱および左右一対の後側支柱を有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具と、前記蓋体を昇降させて基板保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理基板を所定間隔で収納可能な収納容器と前記基板保持具との間で被処理基板の移載を行う移載板を有する移載機構とを備えた縦型熱処理装置において、前記基板保持具の前側支柱の前記溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしたことを特徴とする。

前記被処理基板が、前記基板保持具に保持される際に自重で反りを生じる程度に厚さが薄いか、または始めから反りを有していることが好ましい。

前記被処理基板が、該被処理基板の中心線を対称に左右に反る状態に前記基板保持具に保持されることが好ましい。

前記被処理基板が、該被処理基板の中心線を対称に左右に反りを有しており、前記被処理基板の中心線と前記基板保持具の被処理基板の挿入方向とが平行になるように前記被処理基板の反りを合わせてから熱処理を行うことが好ましい。

左右一対の前側支柱と、左右一対の後側支柱とを有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具に複数枚の被処理基板を上下方向に所定の間隔で保持し、該基板保持具を熱処理炉内に搬入して被処理基板に所定の熱処理を施す熱処理方法において、前記被処理基板が、該被処理基板の中心線を対称に左右に反りを有しており、前記前側支柱の前記溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしておき、前記被処理基板の中心線と前記基板保持具の被処理基板の挿入方向とが平行になるように被処理基板の反りを合わせてから熱処理を行うことを特徴とする。

前記被処理基板は、該被処理基板の中心線と収納容器の被処理基板の挿入方向とが平行になるように予め反りを合わせて収納容器に収納されており、熱処理後に反りを合わせて前記処理容器に収納されることが好ましい。

本発明によれば、被処理基板が反っていても水平に保持することができ、被処理基板の位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができ、基板保持具から被処理基板が脱落するのを抑制することができる。

本発明の実施形態に係る縦型熱処理装置を概略的に示す図である。 本発明の実施形態に係るボートを概略的に示す正面図である。 図２のＸ−Ｘ線断面図である。 図３のＢ方向から見たボートにおけるウエハの支持状態を概略的に示す側面図である。 フォークを示す図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。 従来のボートを概略的に示す断面図である。 従来のボートを概略的に示す正面図である。 図６のＢ方向から見たボートにおけるウエハの支持状態を概略的に示す側面図である。

以下に、本発明を実施するための形態を添付図面に基いて詳述する。

図１に示すように、この縦型熱処理装置１は外郭を形成する筐体２を有し、この筐体２内の上方に被処理基板例えば薄板円板状の半導体ウエハｗを収容して所定の処理例えばＣＶＤ処理等を施すための縦型の熱処理炉３が設けられている。この熱処理炉３は、下部が炉口４として開口された縦長の処理容器例えば石英製の反応管５と、この反応管５の炉口４を開閉する昇降可能な蓋体６と、前記反応管５の周囲を覆うように設けられ、反応管５内を所定の温度例えば３００〜１２００℃に加熱制御可能なヒータ（加熱装置）７とから主に構成されている。

前記筐体２内には、熱処理炉３を構成する反応管５やヒータ７を設置するための例えばＳＵＳ製のベースプレート８が水平に設けられている。ベースプレート８には反応管５を下方から上方に挿入するための図示しない開口部が形成されている。

反応管５の下端部には外向きのフランジ部が形成され、このフランジ部をフランジ保持部材にてベースプレート８に保持することにより、反応管５がベースプレート８の開口部を下方から上方に挿通された状態に設置されている。反応管５は、洗浄等のためにベースプレート８から下方に取外せるようになっている。反応管５には反応管５内に処理ガスやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガス導入管や反応管５内を減圧制御可能な真空ポンプや圧力制御弁等を有する排気管が接続されている（図示省略）。なお、反応管５の下端部には、ガス導入管や排気管を接続するガス導入ポートや排気ポートを有する円筒状のマニホールドが接続されていても良く、この場合、このマニホールドが炉口を形成することになる。

前記筐体２内におけるベースプレート８より下方には、蓋体６上に保温筒１２を介して載置されたボート（基板保持持具）９を熱処理炉３（すなわち反応管５）内に搬入（ロード）したり、熱処理炉３から搬出（アンロード）したり、或いはボート９に対するウエハｗの移載を行うためのローディングエリア（作業領域）１１が設けられている。このローディングエリア１１にはボート９の搬入、搬出を行うべく蓋体６を昇降させるための昇降機構１０が設けられている。なお、ボート９の詳細については後述する。

前記蓋体６は炉口４の開口端に当接して炉口４を密閉するように構成されている。蓋体６の上部には炉口４からの放熱を防止する手段である保温筒１２を介してボート９が載置されている。なお、蓋体６の上部には保温筒１２を載置して回転する図示しないターンテーブルが設けられ、蓋体６の下部にはそのターンテーブルを回転するための図示しない回転機構が設けられている。

筐体２の前部には、複数例えば２５枚程度のウエハを所定間隔で収納可能な収納容器１３を載置して筐体２内への搬入搬出を行うための載置台（ロードポート）１４が設置されている。収納容器１３は前面に図示しない蓋を着脱可能に備えた密閉型収納容器（フープともいう。）とされている。本実施形態では、収納容器内のウエハ反り方向を、ウエハ挿入方向と中心線ｃ１が平行になるように合わせている。ローディングエリア１１内の前後には収納容器１３の蓋を取外して収納容器１３内をローディングエリア１１内に連通開放するドア機構１５が設けられ、ローディングエリア１１には収納容器１３とボート９の間でウエハｗの移載を行うフォーク（移載板）１６を有する移載機構１７が設けられている。

ローディングエリア１１外の前部上側には、収納容器１３をストックしておくための保管棚部１８と、載置台１４から保管棚部１８へまたはその逆に収納容器１３を搬送するための図示しない搬送機構とが設けられている。なお、ローディングエリア１１の上方には蓋体６を開けた時に炉口４から高温の炉内の熱が下方のローディングエリア１１に放出されるのを抑制ないし防止するために炉口４を覆う（または塞ぐ）シャッター機構１９が設けられている。また、載置台１４の下方には移載機構１７により移載されたウエハｗの外周に設けられた切欠部（例えばノッチ）を一方向に揃えるための整列装置（アライナ）２０が設けられている。

移載機構１７は、昇降および旋回可能な基台２１を有している。具体的には、移載機構１７は、ボールネジ等により上下方向に移動可能（昇降可能）な昇降アーム２２を備え、この昇降アーム２２に箱型の基台２１が水平旋回可能に設けられている。この基台２１上には１枚のフォーク１６を前方へ移動可能とする移動体２３が水平方向である基台２１の長手方向に沿って進退移動可能に設けられている。なお、フォーク１６の詳細については後述する。

図２、図３ないし図４を用いてボートの詳細について説明する。前記ボート９は、例えば石英製であり、例えば直径が２００ｍｍで厚さが０．１６ｍｍのウエハｗを水平に上下方向に所定間隔Ｈ２例えば１２．５４ｍｍピッチで複数段に支持可能になっている。ウエハｗは、ウエハｗの中心線を対称に左右に反る状態でボート９に保持される。ウエハｗは、前記ボート９に保持される際に自重で反りを生じる程度に厚さが薄いか、または元々反りを有している。図示例のウエハは、厚さは薄いが剛性を有すると共に元々反りを有しており、ボート９に保持される際に自重で更に反りを生じるようなことはない。この場合、ウエハｗは、前方（図３の矢視Ａ方向）から見て左右両側部が前後方向の中心線ｃ１に対して上方に反っているが、側方（矢視Ｂ方向）から見て前部および後部が左右方向の中心線ｃ２に対して反っていない。

ボート９は、円板状または円環状の底板２４と、円板状または円環状の天板２５と、これら底板２４と天板２５の間に介設された左右一対の前側支柱２６および左右一対の後側支柱２７とから構成されている。前側支柱２６の後端部は左右方向の中心線ｃ２上に配置され、後側支柱２７は左右方向の中心線ｃ２よりも後方に配置されている。

前側支柱２６および後側支柱２７にはウエハｗの周縁部を支持するための溝２８，２９が上下方向に所定のピッチＨ２で複数設けられている。この場合、前側支柱２６の溝２８上の支持面（上面）２８ａが前後方向の中心線ｃ１に対して接近する斜め前方に延長され、互いに接近した前側支柱２６の支持面２８ａの先端におけるウエハｗの支持点３０，３０間の寸法Ｘ２が、前記後側支柱２７の溝２９上の支持面２９ａの先端におけるウエハｗの支持点３１，３１間の寸法Ｙ２と同じとされている。

具体的には、後側支柱２７は、左右方向の径ｒａよりも前後方向の径ｒｂが大きい断面長円形状であり、これら後側支柱２７には溝底（溝奥部）２９ｄが平面視でハの字状になるように溝２９が形成されている。前側支柱２６は、左右方向の中心線ｃ２上に後端部があり、該後端部から前方斜め内方寄り（前後方向の中心線ｃ１寄り）に平面視で逆ハの字状に前端部が延出された断面長円形状に形成されており、既存のボートの支柱とは異なる特殊な形状とされている。前側支柱２６には溝底（溝奥部）２８ｄが前後方向の中心線ｃ１と平行になるように溝２８が設けられている。

これにより、前側支柱２６の前記溝２８上の支持面２８ａは、左右両側から中心方向斜め前方に延長されており、互いに接近した前側支柱２６の溝２８上の支持面２８ａの先端におけるウエハｗの支持点３０，３０間の寸法Ｘ２が、前記後側支柱２７の支持面２９ａの先端におけるウエハｗの支持点３１，３１間の寸法Ｙ２と同じにされている。換言すれば、前側支柱２６の前端部間の寸法Ｘ２と、後側支柱２７の内側部間の寸法Ｙ２とが等しくなっており、ウエハｗの左側前後の支持点３０，３１を結ぶ直線（図示省略）と、右側前後の支持点３０，３１を結ぶ直線（図示省略）とが、ウエハの挿入方向（前後方向の中心線方向ｃ１）に対して平行になっている。従って、ウエハｗが両側に反りを有していたとしても、図４に示すようにウエハｗを側面視で水平状態で平行に支持することが可能となり、上下のウエハ間にフォーク１６の挿入隙間Ｚ２を大きく確保できるようになっている。また、前側支柱２６の前端部を中心方向前方に延出させたことにより、溝２８上の支持面２８ａにおけるウエハｗの乗り上げ寸法ｄ２が大きくなり、ボート９の溝２８，２９上でのウエハｗの位置ずれや、ウエハｗの反り量にばらつきがある場合にも、これらウエハの位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができ、ボート９の溝２８，２９からウエハが外れるのを抑制できるようになっている。なお、図２中、ｄｗはダミーウエハである。図３中、３２は前後で隣り合う前側支柱２６と後側支柱２７を高さ方向の適宜間隔位置で互いに連結して補強すべく設けられた連結補強部である。

一方、前記フォーク１６は、図５の（ａ），（ｂ）に示すように基端部（図の右側）から先端部（図の左側）に向って水平に延びた片持ち支持構造であり、フォーク１６の上面にはウエハｗの前部側および後部側を水平に支持する計４箇所の支持突起部３３，３４が設けられていると共に各支持突起部３３，３４に近接してウエハｗの水平方向の移動を規制する規制部３５が設けられている。ウエハｗの反り量に応じて支持突起部３３，３４の高さを高くすることで、ウエハとフォークの接触を防ぐことができる。この支持突起部３３，３４の高さは、従来では０．４５ｍｍであるのに対し、本実施形態では１．４ｍｍである。

前記フォーク１６は、例えばアルミナセラミックにより縦長薄板状に形成され中間部から先端部側が二股に分岐された平面略Ｕ字状に形成されており、その先端部上面の左右の２箇所に前部側の支持突起部３３が設けられ、基端部側の左右の２箇所に後部側の支持突起部３４が設けられている。

以上の構成からなるボートないし縦型熱処理装置によれば、左右一対の前側支柱２６と、左右一対の後側支柱２７とを有し、これら前側支柱２６および後側支柱２７にウエハｗを前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝２８，２９を形成しており、前側支柱２６の前記溝２８上の支持面２８ａを前後方向の中心線ｃ１に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱２６の支持面２８ａの先端におけるウエハｗの支持点３０，３０間の寸法Ｘ２を、前記後側支柱２７の支持面２９ａの先端におけるウエハｗの支持点３１，３１間の寸法Ｙ２と同じにしたので、前記ウエハｗが前記ボート９に保持される際に自重で反りを生じるか、または元々反りを有していたとしても、ウエハｗを水平に保持することができ、ウエハの位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができ、ボート９の溝２８，２９からウエハが脱落する虞はない。

前記ウエハｗが、該ウエハｗの中心線ｃ１を対称に左右に反りを有している場合、前記ウエハｗの中心線ｃ１と前記ボート９のウエハの挿入方向とが平行になるように前記ウエハｗの反りを合わせてから熱処理を行うため、ウエハｗが反りを有していたとしても、ウエハｗを水平に保持することができ、ウエハの位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができ、ボート９の溝２８，２９からウエハが脱落する虞はない。

すなわち、前側支柱２６の前記溝２８上の支持面２８ａを前後方向の中心線ｃ１に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱２６の支持面２８ａの先端におけるウエハｗの支持点３０，３０間の寸法Ｘ２を、前記後側支柱２７の支持面２９ａの先端におけるウエハｗの支持点３１，３１間の寸法Ｙ２と同じにしたので、ボート９上でのウエハｗの傾き（前傾）がなくなる。これによりボート９上のウエハｗが振動により前方にずれるようなことはなく、上下に隣接するウエハ間のフォーク挿入隙間Ｚ２は溝ピッチと同じ１２．５４ｍｍを確保することができ、ウエハｗの搬送を容易に行うことができる。

また、ボート９の溝２８におけるウエハｗの乗り上げ寸法ｄ２を従来に比して大きくすることができるため、ボート９の溝２８上でのウエハｗの位置ずれやウエハの反り量のばらつきを容易に吸収することが可能となり、ボート９の溝２８からのウエハｗの脱落を抑制することができる。

更に、熱処理方法によれば、前記ウエハｗが、該ウエハの中心線ｃ１を対称に左右に反りを有しており、前記前側支柱２６の前記溝２８上の支持面２８ａを前後方向の中心線ｃ１に対して接近すべく斜め前方に延長させ、互いに接近した前側支柱２６の支持面２８ａの先端におけるウエハｗの支持点３０，３０間の寸法Ｘ２を、前記後側支柱２７の支持面２９ａの先端におけるウエハｗの支持点３１，３１間の寸法Ｙ２と同じにしておき、前記ウエハｗの中心線ｃ１と前記ボート９のウエハｗの挿入方向とが平行になるようにウエハｗの反りを合わせてから熱処理を行うため、ウエハｗが反りを有していたとしても、ウエハｗを水平に保持することができ、ウエハの位置ずれや反り量のばらつきを吸収することができ、ボート９の溝２８，２９からウエハが脱落する虞はない。

熱処理前の前工程におけるボートまたは収納容器は、ウエハの挿入方向に対して左右対称にウエハを支持する構造（構成）であることが好ましい。自重で反りが発生するウエハの場合、中心線ｃ１に対して左右対称となり、収納容器内のウエハの反りの方向は常に一定となる。これに対し、基板を薄く削る工程で発生する反りのように反りを有するウエハの場合、該ウエハは、ウエハの中心線ｃ１と収納容器のウエハの挿入方向とが平行になるように予め反り（の方向）を合わせて収納容器に収納されていることが好ましい。収納容器と基板保持具との間の基板搬送は移載機構によって行われるため、基板保持具のウエハ挿入方向とウエハ中心線ｃ１が平行となり、熱処理後にも反り方向を合わせて収納容器に収納できる。なお、ウエハの反りを自動で合わせることが困難である場合には、作業者が手動で反りを合わせるようにしてもよい。

以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更が可能である。

ｗ ウエハ（被処理基板）
３ 熱処理炉
４ 炉口
６ 蓋体
９ ボート（基板保持具）
１０ 昇降機構
１２ 保温筒
１３ 収納容器
２６ 前側支柱
２７ 後側支柱
２８，２９ 溝
２８ａ，２９ａ 支持面
３０，３１ 支持点

Claims (8)

1. 左右一対の前側支柱と、左右一対の後側支柱とを有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具において、
   前側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、
   後側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線と平行に前方に延長させ、
   互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしたことを特徴とする基板保持具。
2. 前記後側支柱が、左右方向の径よりも前後方向の径を長くした断面長円状に形成された請求項１記載の基板保持具。
3. 前記前側支柱と前記後側支柱とを互いに連結して補強する連結補強部材をさらに備える請求項１または２記載の基板保持具。
4. 下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に保温筒を介して設けられ、左右一対の前側支柱および左右一対の後側支柱を有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具と、前記蓋体を昇降させて基板保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理基板を所定間隔で収納可能な収納容器と前記基板保持具との間で被処理基板の移載を行う移載板を有する移載機構とを備えた縦型熱処理装置において、
   前記基板保持具の前側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、
   後側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線と平行に前方に延長させ、
   互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしたことを特徴とする縦型熱処理装置。
5. 前記後側支柱が、左右方向の径よりも前後方向の径を長くした断面長円状に形成された請求項４記載の縦型熱処理装置。
6. 前記前側支柱と前記後側支柱とを互いに連結して補強する連結補強部材をさらに備える請求項４または５記載の縦型熱処理装置。
7. 左右一対の前側支柱と、左右一対の後側支柱とを有し、これら前側支柱および後側支柱に被処理基板を前方から挿入可能で且つ上下方向に所定の間隔で保持可能な複数の溝を形成してなる基板保持具に複数枚の被処理基板を上下方向に所定の間隔で保持し、該基板保持具を熱処理炉内に搬入して被処理基板に所定の熱処理を施す熱処理方法において、
   前記被処理基板が、該被処理基板の中心線を対称に左右に反りを有しており、
   前記前側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線に対して接近すべく斜め前方に延長させ、
   後側支柱の溝上の支持面を前後方向の中心線と平行に前方に延長させ、
   互いに接近した前側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法を、前記後側支柱の支持面の先端における被処理基板の支持点間の寸法と同じにしておき、
   前記被処理基板の中心線と前記基板保持具の被処理基板の挿入方向とが平行になるように被処理基板の反りを合わせてから熱処理を行うことを特徴とする熱処理方法。
8. 前記被処理基板は、該被処理基板の中心線と収納容器の被処理基板の挿入方向とが平行になるように予め反りを合わせて収納容器に収納されており、熱処理後に反りを合わせて前記処理容器に収納されることを特徴とする請求項７記載の熱処理方法。

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