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JP5491159B2 - Silica particle-containing condensation reaction product, resin composition, sealing resin, lens and underfill material - Google Patents

Silica particle-containing condensation reaction product, resin composition, sealing resin, lens and underfill material Download PDF

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JP5491159B2
JP5491159B2 JP2009286648A JP2009286648A JP5491159B2 JP 5491159 B2 JP5491159 B2 JP 5491159B2 JP 2009286648 A JP2009286648 A JP 2009286648A JP 2009286648 A JP2009286648 A JP 2009286648A JP 5491159 B2 JP5491159 B2 JP 5491159B2
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Description

本発明は、透明性を維持したままシロキサンとシリカとが縮合反応してなるシリカ粒子含有縮合反応物に関する。本発明は更に、該シリカ粒子含有縮合反応物を含み、光半導体素子の封止に有用な高耐熱性、高耐光性の硬化物を与える樹脂組成物、該樹脂組成物を含む封止樹脂、レンズ及びアンダーフィル材に関する。   The present invention relates to a silica particle-containing condensation reaction product obtained by condensation reaction of siloxane and silica while maintaining transparency. The present invention further includes a resin composition containing the silica particle-containing condensation reaction product and giving a cured product having high heat resistance and high light resistance useful for sealing an optical semiconductor element, a sealing resin containing the resin composition, The present invention relates to a lens and an underfill material.

LEDに代表される光半導体装置は、一般的に、発光部分であるチップ周辺部分を保護するため透明な封止樹脂で覆われた構造を有する。この封止樹脂は、蛍光体を分散させるための分散媒としての役割の他、外部からの衝撃、大気中の水分等から発光部分を保護する役割を担っている。また、封止樹脂は、取り出し効率向上及び集光コントロールの目的でレンズとしても使用される。   An optical semiconductor device typified by an LED generally has a structure covered with a transparent sealing resin in order to protect a chip peripheral portion which is a light emitting portion. In addition to the role as a dispersion medium for dispersing the phosphor, the sealing resin plays a role of protecting the light emitting portion from external impacts, moisture in the atmosphere, and the like. The sealing resin is also used as a lens for the purpose of improving the extraction efficiency and controlling light collection.

従来、このような封止樹脂として、主にエポキシ樹脂が使われていた。しかし、エポキシ樹脂では、近年のLEDの高輝度化に伴う発熱量の増大、並びに、蛍光体の励起波長及び発光波長の短波長化により、封止樹脂自体の黄変、クラックが生じることにより、輝度低下が生じたり、寿命が短くなっている。   Conventionally, an epoxy resin has been mainly used as such a sealing resin. However, in the epoxy resin, the increase in the amount of heat generated with the recent increase in brightness of the LED, and the shortening of the excitation wavelength and the emission wavelength of the phosphor cause yellowing of the sealing resin itself, and cracks occur. The brightness is reduced or the life is shortened.

封止樹脂の輝度や寿命の低下を防ぐ方法として、オルガノシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂が使用されている。その中でも、ヒドロシリル化を利用した付加硬化型のオルガノシロキサン樹脂は、耐熱・耐光性が高く、高輝度LEDにも使用されている。   As a method for preventing a decrease in luminance and life of the sealing resin, a silicone resin mainly composed of organosiloxane is used. Among these, addition-curing organosiloxane resins using hydrosilylation have high heat resistance and light resistance, and are also used in high-brightness LEDs.

例えば、特許文献1には、SiO4/2構造をMQレジン(4官能のSiO4/2成分と、1官能のSiO1/2成分とからなる構造)として導入しているオルガノシロキサン組成物が記載されている。また、例えば特許文献2では、無機材料をシリコーン樹脂に混合してなる組成物が報告されている。また、例えば特許文献3では、SiO4/2構造であるシリカ成分と、オルガノシロキサンとを混和し、加熱することでシリカ表面を修飾した組成物が報告されている。 For example, Patent Document 1, a SiO 4/2 structural MQ resin organosiloxane compositions introduced as (and SiO 4/2 component of the tetrafunctional structure consisting of a monofunctional SiO 1/2 component) Have been described. For example, Patent Document 2 reports a composition obtained by mixing an inorganic material with a silicone resin. For example, Patent Document 3 reports a composition in which a silica component having a SiO 4/2 structure and an organosiloxane are mixed and heated to modify the silica surface.

特開2000−198930号公報JP 2000-198930 A 特開2008−78521号公報JP 2008-78521 A 特開2009−120437号公報JP 2009-120437 A

しかし、特許文献1の技術では、硬化後の樹脂が軟質であるため、封止樹脂表面のタック性があり、埃の付着による輝度低下、加熱時の熱膨張による体積及び形状の変化といった課題がある。一方、特許文献2の技術では、樹脂の硬度を改善できる可能性があるが、十分な硬度を得ようとすると組成物の粘度及びチキソ性が高くなり、樹脂を混合する際の脱泡が困難になる。また、無機材料である蛍光体を組成物に混合する際にさらに増粘してしまう。十分な硬度を得られるだけの無機材料を導入してしまうと、増粘、あるいは硬化物の白濁等が生じてしまうという問題がある。そして、特許文献3の技術では、粘度及びチクソ性を改善できる可能性があるが、この組成物では、修飾後に、耐熱性の低い未修飾のオルガノシロキサンを除去する操作が必要となっている。このような未反応のシロキサンは、硬化前の封止樹脂中、又は硬化物中に残留していると、脱離成分となるため、封止樹脂の収縮の原因となり、クラックを発生させる恐れがあり、硬度という点においても十分ではない。このようなことから、耐熱性及び耐光性に優れ、かつタック性の無い高硬度な封止樹脂が強く望まれている。   However, in the technique of Patent Document 1, since the cured resin is soft, there is a tack property on the surface of the sealing resin, there is a problem such as a decrease in luminance due to adhesion of dust, a change in volume and shape due to thermal expansion during heating is there. On the other hand, in the technique of Patent Document 2, there is a possibility that the hardness of the resin can be improved. However, if sufficient hardness is obtained, the viscosity and thixotropy of the composition are increased, and defoaming when mixing the resin is difficult. become. Further, when the phosphor, which is an inorganic material, is mixed with the composition, the viscosity is further increased. If an inorganic material capable of obtaining sufficient hardness is introduced, there is a problem that thickening or white turbidity of a cured product occurs. In the technique of Patent Document 3, there is a possibility that the viscosity and thixotropy can be improved, but this composition requires an operation for removing unmodified organosiloxane having low heat resistance after modification. If such unreacted siloxane remains in the sealing resin before curing or in the cured product, it becomes a desorbing component, which may cause shrinkage of the sealing resin and cause cracks. Yes, it is not sufficient in terms of hardness. For these reasons, there is a strong demand for a high-hardness sealing resin that is excellent in heat resistance and light resistance and has no tackiness.

本発明は、高硬度でタック性が無く、耐熱黄変性及び耐光黄変性に優れた樹脂硬化物を与える樹脂組成物及び該樹脂組成物の材料を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a resin composition and a material for the resin composition that give a resin cured product having high hardness, no tackiness, and excellent heat yellowing resistance and light yellowing resistance.

[1] シラノール基を含有するポリシロキサン化合物(a)と、シリカ粒子(b)と、が縮合されてなる構造を少なくとも有し、
該ポリシロキサン化合物(a)と該シリカ粒子(b)とを少なくとも含む反応成分の縮合反応により得られ、
該ポリシロキサン化合物(a)が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる1つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、
該加水分解性基が、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基の少なくともいずれかであり、
該ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、該水酸基との直接結合、及び該加水分解性基との直接結合のいずれかを形成している結合手の合計数に対する、該水酸基との直接結合を形成している結合手の数の割合として定義されるシラノール基含有率が、1〜90mol%である、シリカ粒子含有縮合反応物。
[2] 上記ポリシロキサン化合物(a)が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有する、上記[1]に記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[3] 上記反応成分がシランカップリング剤を更に含み、
上記縮合反応が、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とを縮合させて得られる縮合生成物にシランカップリング剤を更に反応させること、又は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とシランカップリング剤とを同時に縮合させることにより行われたものである、上記[1]又は[2]に記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[4] 上記ポリシロキサン化合物(a)及び/又は上記シランカップリング剤が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有する、上記[3]に記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[5] 上記シランカップリング剤が、下記一般式(1):
1 n1SiX1 4-n1 (1)
{式中、n1は、1〜3の整数であり、R1は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、X1は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR1及びX1はそれぞれ同一でも異なっていても構わない}
で表されるシラン化合物である、上記[3]又は[4]に記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[6] 上記反応成分中の上記シリカ粒子(b)の含有率が1質量%以上70質量%以下である、上記「1」〜[5]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[7] 上記シリカ粒子(b)の平均一次粒子径が1nm以上120nm以下である、上記[1]〜[6]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[8] 上記ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、水酸基との直接結合、及び加水分解性基との直接結合をそれぞれ形成している結合手の合計数に対する、該シロキサン結合を形成している結合手の数の割合として定義される縮合率が、5mol%以上95mol%以下である、上記[1]〜[7]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[9] 上記シラノール基含有率が、5mol%以上90mol%以下である、上記[1]〜[8]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物。
[10] 上記[1]〜[9]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)とを含み、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)が不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有し、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ不飽和炭化水素基及びSiH基を含有する、樹脂組成物。
[11] 上記[1]〜[9]のいずれかに記載のシリカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)と、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有する成分(C)とを含み、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ不飽和炭化水素基及びSiH基を含有する、樹脂組成物。
[12] 樹脂組成物中の、全不飽和炭化水素基数Z1及び全SiH数Z2が、0.25≦Z1/Z2≦2を満たす、上記[10]又は[11]に記載の樹脂組成物。
[13] 上記[10]〜[12]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む、封止樹脂。
[14] 上記[10]〜[12]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む硬化性組成物を用いて形成されてなる、レンズ。
[15] 上記[10]〜[12]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む、アンダーフィル材。
[1] It has at least a structure in which the polysiloxane compound (a) containing a silanol group and the silica particles (b) are condensed,
Obtained by a condensation reaction of a reaction component containing at least the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b),
The polysiloxane compound (a) is a polymerization product of a silane compound having one or more groups selected from a hydroxyl group and a hydrolyzable group or a condensate thereof,
The hydrolyzable group is at least one of a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group;
In the polysiloxane compound (a), the hydroxyl group with respect to the total number of bonds forming any of a siloxane bond, a direct bond with the hydroxyl group, and a direct bond with the hydrolyzable group A silica particle-containing condensation reaction product, wherein the silanol group content defined as the ratio of the number of bonds forming direct bonds is 1 to 90 mol%.
[2] The silica particle-containing condensation reaction product according to [1], wherein the polysiloxane compound (a) has an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group.
[3] The reaction component further includes a silane coupling agent,
The above condensation reaction further causes a condensation product obtained by condensing the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) to further react with a silane coupling agent, or the polysiloxane compound (a) and the silica particles ( The silica particle-containing condensation reaction according to the above [1] or [2], which is performed by simultaneously condensing b) and a silane coupling agent.
[4] The silica particle-containing condensation reaction product according to [3], wherein the polysiloxane compound (a) and / or the silane coupling agent has an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group.
[5] The silane coupling agent is represented by the following general formula (1):
R 1 n1 SiX 1 4-n1 (1)
{Wherein n1 is an integer of 1 to 3, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. A group selected from a group and an acetoxy group, and when there are plural groups, R 1 and X 1 may be the same or different}
The silica particle-containing condensation reaction product according to the above [3] or [4], which is a silane compound represented by:
[6] The silica particle-containing condensation reaction product according to any one of [1] to [5], wherein the content of the silica particles (b) in the reaction component is 1% by mass or more and 70% by mass or less.
[7] The silica particle-containing condensation reaction product according to any one of [1] to [6], wherein the silica particles (b) have an average primary particle diameter of 1 nm to 120 nm.
[8] The siloxane bond with respect to the total number of bonds forming the silicon siloxane bond, the direct bond with the hydroxyl group, and the direct bond with the hydrolyzable group of silicon in the polysiloxane compound (a). The condensation reaction product containing silica particles according to any one of the above [1] to [7], wherein the condensation rate defined as a ratio of the number of bonds formed is 5 mol% or more and 95 mol% or less.
[9] The silica particle-containing condensation reaction product according to any one of [1] to [8], wherein the silanol group content is 5 mol% or more and 90 mol% or less.
[10] The silica particle-containing condensation reaction product (A) according to any one of the above [1] to [9] and a hydrosilylation catalyst (B), wherein the silica particle-containing condensation reaction product (A) is not Resin composition containing a saturated hydrocarbon group and / or SiH group, the content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) being 20% by mass or more, and containing an unsaturated hydrocarbon group and a SiH group .
[11] A component containing the silica particle-containing condensation reaction product (A) according to any one of [1] to [9], a hydrosilylation catalyst (B), an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. A resin composition containing (C), wherein the content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) is 20% by mass or more, and contains an unsaturated hydrocarbon group and a SiH group.
[12] The resin composition according to the above [10] or [11], wherein the total unsaturated hydrocarbon group number Z 1 and the total SiH number Z 2 satisfy 0.25 ≦ Z 1 / Z 2 ≦ 2. Resin composition.
[13] A sealing resin comprising the resin composition according to any one of [10] to [12].
[14] A lens formed using a curable composition containing the resin composition according to any one of [10] to [12].
[15] An underfill material comprising the resin composition according to any one of [10] to [12].

本発明は、高硬度でタック性が無く、耐熱黄変性及び耐光黄変性に優れた樹脂硬化物を与える樹脂組成物及び該樹脂組成物の材料を提供することが可能となる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a resin composition and a material for the resin composition that give a resin cured product having high hardness and no tackiness and excellent in heat yellowing resistance and light yellowing resistance.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

[シリカ粒子含有縮合反応物]
本発明の一態様は、シラノール基を含有するポリシロキサン化合物(a)と、シリカ粒子(b)と、が縮合されてなる構造を少なくとも有し、該ポリシロキサン化合物(a)と該シリカ粒子(b)とを少なくとも含む反応成分の縮合反応により得られ、該ポリシロキサン化合物(a)が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる1つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、該加水分解性基が、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基の少なくともいずれかであり、該ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、該水酸基との直接結合、及び該加水分解性基との直接結合のいずれかを形成している結合手の合計数に対する、該水酸基との直接結合を形成している結合手の数の割合として定義されるシラノール基含有率が、1〜90%である、シリカ粒子含有縮合反応物を提供する。
[Silica particle-containing condensation reaction product]
One embodiment of the present invention has at least a structure in which a polysiloxane compound (a) containing a silanol group and silica particles (b) are condensed, and the polysiloxane compound (a) and the silica particles ( b) and a polymerization product of a silane compound or a condensate thereof obtained by a condensation reaction of a reaction component containing at least the polysiloxane compound (a) having one or more groups selected from a hydroxyl group and a hydrolyzable group The hydrolyzable group is at least one of a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group, and the silicon in the polysiloxane compound (a) is bonded to the siloxane bond and the hydroxyl group. Ratio of the number of bonds forming a direct bond with the hydroxyl group to the total number of bonds forming either a direct bond or a direct bond with the hydrolyzable group Silanol group content is defined by is 1 to 90% provides a silica particle-containing condensation reaction products.

本発明のシリカ粒子含有縮合生成物は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とが縮合してなる構造を少なくとも有する。本発明の縮合反応物を用いて形成される樹脂は、ポリシロキサン系樹脂の特徴である良好な耐熱黄変性及び耐光黄変性を有している。また、本発明においては、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とが縮合しているため、高硬度でタック性が低減された樹脂を形成できる一方で、シリカ粒子含有縮合反応物を含む樹脂組成物の粘度及びチクソ性を低く抑えることができる。   The silica particle-containing condensation product of the present invention has at least a structure formed by condensation of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b). The resin formed using the condensation reaction product of the present invention has good heat yellowing resistance and light yellowing resistance, which are characteristics of polysiloxane resins. In the present invention, since the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) are condensed, a resin having high hardness and reduced tackiness can be formed, while a silica particle-containing condensation reaction product is formed. The viscosity and thixotropy of the resin composition to be included can be kept low.

<ポリシロキサン化合物(a)>
本発明において用いるポリシロキサン化合物(a)は、上述で定義されるシラノール基含有率が1〜90mol%であるポリシロキサン化合物である。シラノール基はシリカ粒子(b)との縮合反応にあずかる。シラノール基含有率は、好ましくは5〜90mol%、より好ましくは10〜90mol%、さらに好ましくは10〜80mol%、さらに好ましくは10〜70mol%、さらに好ましくは15〜70mol%である。シラノール基含有率は、シリカ粒子(b)との結合のしやすさの観点から1mol%以上であり、分子量制御の観点から90mol%以下である。シラノール基含有率は29SiNMR分析、及びガスクロマトグラム分析により算出できる。
<Polysiloxane compound (a)>
The polysiloxane compound (a) used in the present invention is a polysiloxane compound having a silanol group content defined above of 1 to 90 mol%. The silanol group participates in the condensation reaction with the silica particles (b). The silanol group content is preferably 5 to 90 mol%, more preferably 10 to 90 mol%, still more preferably 10 to 80 mol%, still more preferably 10 to 70 mol%, still more preferably 15 to 70 mol%. The silanol group content is 1 mol% or more from the viewpoint of ease of bonding with the silica particles (b), and 90 mol% or less from the viewpoint of molecular weight control. The silanol group content can be calculated by 29 Si NMR analysis and gas chromatogram analysis.

ポリシロキサン化合物(a)は、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有することが好ましい。不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有することにより、より高硬度の樹脂硬化物が形成されるという利点が得られる。不飽和炭化水素基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキセニルエチル基、ノルボルネニルエチル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、スチレニル基等の非環式及び環式のアルケニル基、PhCH=CH−基等のアラアルケニル基、等が挙げられる。不飽和炭化水素基及び/又はSiH基の存在の有無は、1HNMR分析、フーリエ変換型赤外分光分析(FT−IR)等によって評価できる。 The polysiloxane compound (a) preferably has an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. By having an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group, there is an advantage that a hardened resin cured product is formed. As the unsaturated hydrocarbon group, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, cyclohexenylethyl group, norbornenylethyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, Examples thereof include acyclic and cyclic alkenyl groups such as a styrenyl group, araalkenyl groups such as a PhCH═CH— group, and the like. The presence or absence of unsaturated hydrocarbon groups and / or SiH groups can be evaluated by 1 HNMR analysis, Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), or the like.

<ポリシロキサン化合物(a)の合成>
ポリシロキサン化合物(a)は、水酸基及び加水分解性基から選ばれる1つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物である。ここで加水分解性基とは、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基の少なくともいずれかである。典型的には、ポリシロキサン化合物(a)は、例えば、下記一般式(2)、(3)及び(4)でそれぞれ表されるシラン化合物並びにこれらの縮合物から選ばれる1種以上の成分を加水分解(但し該成分がシラノール基を有する場合は必須ではない)及び縮合させることによって得ることができる。
<Synthesis of polysiloxane compound (a)>
The polysiloxane compound (a) is a polymerization product of a silane compound having one or more groups selected from a hydroxyl group and a hydrolyzable group or a condensate thereof. Here, the hydrolyzable group is at least one of a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an acetoxy group. Typically, the polysiloxane compound (a) includes, for example, one or more components selected from silane compounds represented by the following general formulas (2), (3), and (4) and condensates thereof. It can be obtained by hydrolysis (but not essential if the component has a silanol group) and condensation.

2 n23 n3SiX2 4-n2-n3 (2)
{式中、n2は、1〜3の整数であり、n3は、1≦n2+n3≦3を満たす整数であり、R2は、不飽和炭化水素を含有する1価の有機基であり、R3は、飽和炭化水素基及び芳香族基から選ばれる有機基であり、X2は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR2、R3及びX2はそれぞれ同一でも異なっていても構わない。}
n44 n5SiX3 4-n4-n5 (3)
{式中、n4は、1〜3の整数であり、n5は、1≦n4+n5≦3を満たす整数であり、R4は、1価の有機基であり、X3は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR4及びX3はそれぞれ同一でも異なっていても構わない。}
5 n6SiX4 4-n6 (4)
{式中、n6は、0〜3の整数であり、R5は、1価の有機基であり、X4は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR5及びX4はそれぞれ同一でも異なっていても構わない。}
R 2 n2 R 3 n3 SiX 2 4-n2-n3 (2)
{Wherein n2 is an integer of 1 to 3, n3 is an integer satisfying 1 ≦ n2 + n3 ≦ 3, R 2 is a monovalent organic group containing an unsaturated hydrocarbon, R 3 Is an organic group selected from a saturated hydrocarbon group and an aromatic group, and X 2 is a group selected from a hydroxyl group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an acetoxy group. R 2 , R 3 and X 2 may be the same or different. }
H n4 R 4 n5 SiX 3 4-n4-n5 (3)
{Wherein n4 is an integer of 1 to 3, n5 is an integer satisfying 1 ≦ n4 + n5 ≦ 3, R 4 is a monovalent organic group, X 3 is a hydroxyl group, a halogen atom, When R 4 and X 3 are a group selected from an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group, a plurality of R 4 and X 3 may be the same or different. }
R 5 n6 SiX 4 4-n6 (4)
{In the formula, n6 is an integer of 0 to 3, R 5 is a monovalent organic group, and X 4 is selected from a hydroxyl group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an acetoxy group. R 5 and X 4 in the case where a plurality of groups are present may be the same or different. }

一般式(2)中のR2は、不飽和炭化水素基を含んでいればよく、具体的には、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキセニルエチル基、ノルボルネニルエチル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、スチレニル基等の非環式及び環式のアルケニル基、PhCH=CH−基等のアラアルケニル基、等が挙げられる。中でも、耐熱性、耐光性の観点からビニル基が好ましい。不飽和炭化水素基は、ポリシロキサン化合物(a)中に不飽和炭化水素基を与え、樹脂硬化物の硬度の向上に寄与する。 R 2 in the general formula (2) may contain an unsaturated hydrocarbon group, and specifically includes a vinyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a cyclohexenyl group, and a cyclohexenylethyl group. Group, norbornenylethyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, styenyl group and other acyclic alkenyl groups, PhCH = CH- group and other araalkenyl groups. Among these, a vinyl group is preferable from the viewpoint of heat resistance and light resistance. The unsaturated hydrocarbon group gives an unsaturated hydrocarbon group in the polysiloxane compound (a) and contributes to the improvement of the hardness of the resin cured product.

3は、飽和炭化水素基及び芳香族基から選ばれ、複数存在する場合には互いに独立に選ばれる。R3として、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、iso−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、iso−ヘプチル基、n−オクチル基、iso−オクチル基、t―オクチル基、n−ノニル基、iso−ノニル基、n−デシル基、iso−デシル基等の非環式又は環式の脂肪族炭化水素基、ベンジル基、フェネチル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基等のアラルキル基、及びフェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基が挙げられる。中でも、炭素数1〜10の有機基が耐熱性の観点から好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基及びフェニル基である。 R 3 is selected from a saturated hydrocarbon group and an aromatic group, and when there are a plurality of R 3 s , they are independently selected from each other. As R 3 , specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neopentyl group , Cyclopentyl group, n-hexyl group, iso-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, iso-heptyl group, n-octyl group, iso-octyl group, t-octyl group, n-nonyl group, iso-nonyl Group, n-decyl group, iso-decyl group or the like acyclic or cyclic aliphatic hydrocarbon group, benzyl group, phenethyl group, 2-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, etc. And aryl groups such as a phenyl group, a tolyl group, and a xylyl group. Especially, a C1-C10 organic group is preferable from a heat resistant viewpoint, More preferably, they are a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

一般式(3)及び(4)中のR4及びR5は、それぞれ独立に1価の有機基であり、具体的には、R2について例示した不飽和炭化水素基並びにR3について例示した飽和炭化水素基及び芳香族基から選ばれる1種以上を含む有機基が挙げられる。中でも、炭素数1〜10の有機基が耐熱性の観点から好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基及びフェニル基である。 R 4 and R 5 in the general formulas (3) and (4) are each independently a monovalent organic group. Specifically, the unsaturated hydrocarbon groups exemplified for R 2 and R 3 are exemplified. Examples thereof include an organic group containing one or more selected from a saturated hydrocarbon group and an aromatic group. Especially, a C1-C10 organic group is preferable from a heat resistant viewpoint, More preferably, they are a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

2、X3及びX4は、それぞれ独立に、水酸基、並びに加水分解可能な置換基であるハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる。具体的には、例えば水酸基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のアルコキシ基、及びアセトキシ基等が挙げられる。この中でも塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基及びアセトキシ基は、ポリシロキサン化合物(a)合成時の縮合反応の反応性が高いため好ましい。 X 2 , X 3 and X 4 are each independently selected from a hydroxyl group, a halogen atom which is a hydrolyzable substituent, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group. Specifically, for example, a halogen atom such as a hydroxyl group, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an iso-propyloxy group, an n-butyloxy group, a t-butyloxy group, n -Alkoxy groups, such as a hexyloxy group and a cyclohexyloxy group, and an acetoxy group etc. are mentioned. Among these, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, and acetoxy group are preferable because of high reactivity of the condensation reaction during the synthesis of polysiloxane compound (a).

以下、上記一般式(2)、(3)及び(4)で表されるシラン化合物及び/又はその縮合物を用いる場合を例にポリシロキサン化合物(a)の製造について説明するが、本発明はこれに限定するものではない。ポリシロキサン化合物(a)は、上述したようなシラン化合物及び/又はその縮合物に、水を添加することによって製造することが好ましい。水の添加量としては、上記一般式(2)で表されるシラン化合物のX2、上記一般式(3)で表されるシラン化合物のX3、及び上記一般式(4)で表されるシラン化合物のX4の合計モル数に対して0.1当量〜10当量(モル基準)の範囲が好ましく、更に好ましくは0.4当量〜8当量の範囲である。水の添加量が0.1当量以上であると、ポリシロキサン化合物(a)の分子量が上がるため好ましく、10当量以下であることは、縮合反応により得られるポリシロキサン化合物(a)生成物の溶液のポットライフを長くする観点から好ましい。 Hereinafter, the production of the polysiloxane compound (a) will be described by taking as an example the case of using the silane compound represented by the general formulas (2), (3) and (4) and / or the condensate thereof. However, the present invention is not limited to this. The polysiloxane compound (a) is preferably produced by adding water to the silane compound and / or the condensate thereof as described above. The amount of water added is represented by X 2 of the silane compound represented by the general formula (2), X 3 of the silane compound represented by the general formula (3), and the general formula (4). A range of 0.1 equivalents to 10 equivalents (molar basis) is preferable with respect to the total number of moles of X 4 of the silane compound, and a range of 0.4 equivalents to 8 equivalents is more preferable. When the amount of water added is 0.1 equivalent or more, the molecular weight of the polysiloxane compound (a) increases, and preferably 10 equivalents or less means a solution of the product of the polysiloxane compound (a) obtained by the condensation reaction. It is preferable from the viewpoint of extending the pot life.

ポリシロキサン化合物(a)を触媒の存在下での縮合反応により製造する場合、加水分解及び縮合の速度が速くなるため好ましい。   When the polysiloxane compound (a) is produced by a condensation reaction in the presence of a catalyst, it is preferable because the hydrolysis and condensation rates are increased.

触媒の種類としては、具体的には、酸触媒として無機酸及び有機酸が挙げられる。上記無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、ホウ酸等が挙げられる。上記有機酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、安息香酸、p−アミノ安息香酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸等が挙げられる。   Specifically as a kind of catalyst, an inorganic acid and an organic acid are mentioned as an acid catalyst. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, and boric acid. Examples of the organic acid include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, oxalic acid, maleic acid, methylmalonic acid, benzoic acid, and p-aminobenzoic acid. Examples include acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, formic acid, malonic acid, sulfonic acid, phthalic acid, fumaric acid, citric acid, tartaric acid, citraconic acid, malic acid, glutaric acid and the like.

これらの触媒は、1種で又は2種以上を混合して用いることができる。また使用される酸触媒の量が、ポリシロキサン化合物(a)を製造する際の反応系のpHを0.01〜6.0の範囲に調整する量である場合、ポリシロキサン化合物(a)の重量平均分子量を良好に制御できるため好ましい。   These catalysts can be used alone or in combination of two or more. When the amount of the acid catalyst used is an amount that adjusts the pH of the reaction system in the production of the polysiloxane compound (a) to a range of 0.01 to 6.0, the polysiloxane compound (a) It is preferable because the weight average molecular weight can be controlled well.

ポリシロキサン化合物(a)を製造するための縮合反応は、有機溶媒中で行うことができる。縮合反応に使用できる有機溶媒としては、例えばアルコール、エステル、ケトン、エーテル、脂肪族炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物、アミド化合物等が挙げられる。   The condensation reaction for producing the polysiloxane compound (a) can be performed in an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be used for the condensation reaction include alcohols, esters, ketones, ethers, aliphatic hydrocarbon compounds, aromatic hydrocarbon compounds, amide compounds, and the like.

上記アルコール類としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールのような一価アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオールのような多価アルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルのような多価アルコールのモノエーテル類等が挙げられる。   Examples of the alcohols include monohydric alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, and butyl alcohol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, and hexanetriol, and ethylene glycol. Monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, B propylene glycol monopropyl ether, mono-ethers of polyhydric alcohols such as propylene glycol monobutyl ether.

上記エステル類としては例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。ケトン類としては例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン等が挙げられる。   Examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and γ-butyrolactone. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, and the like.

上記エーテル類としては上記の多価アルコールのモノエーテル類の他に、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルのような多価アルコールの水酸基の全てをアルキルエーテル化した多価アルコールエーテル類、及び、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、アニソール等が挙げられる。   In addition to the above monoethers of polyhydric alcohols, for example, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol Examples include polyhydric alcohol ethers obtained by alkyl etherifying all hydroxyl groups of polyhydric alcohols such as dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, anisole, and the like. .

上記脂肪族炭化水素化合物としては例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic hydrocarbon compound include hexane, heptane, octane, nonane, decane, and the like.

上記芳香族炭化水素化合物としては例えばベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon compound include benzene, toluene, xylene and the like.

上記アミド化合物としては例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。   Examples of the amide compound include dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

以上の溶媒の中でもメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等が水と混合しやすく、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応時に、ポリシロキサン化合物(a)中にシリカ粒子(b)を分散させやすいため好ましい。   Among these solvents, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether Ether solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like are easily mixed with water, and in the polysiloxane compound (a) during the condensation reaction of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b). It is preferable because the silica particles (b) can be easily dispersed.

これらの溶媒は単独で使用してもよいし、複数の溶媒を組み合わせて使用しても構わない。また上記溶媒を用いずにバルク中で反応を行ってもよい。   These solvents may be used alone or in combination with a plurality of solvents. Moreover, you may react in a bulk, without using the said solvent.

ポリシロキサン化合物(a)を製造する際の反応温度は特に制限は無いが、好ましくは−50℃以上200℃以下、より好ましくは0℃以上150℃以下の範囲である。上記の範囲で反応を行うことにより、ポリシロキサン化合物(a)の分子量を良好に制御することができる。   Although there is no restriction | limiting in particular in the reaction temperature at the time of manufacturing a polysiloxane compound (a), Preferably it is -50 degreeC or more and 200 degrees C or less, More preferably, it is the range of 0 degreeC or more and 150 degrees C or less. By carrying out the reaction in the above range, the molecular weight of the polysiloxane compound (a) can be well controlled.

本発明においては、ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、水酸基との直接結合、及び加水分解性基との直接結合をそれぞれ形成している結合手の合計数に対する、該シロキサン結合を形成している結合手の数の割合として定義される縮合率が、5mol%以上95mol%以下であることが好ましく、10mol%以上95mol%以下であることが好ましく、より好ましくは20mol%以上90mol%以下であり、さらに好ましくは30mol%以上85mol%以下である。上記縮合率は、ポリシロキサン化合物(a)の分子量を上げる観点から5mol%以上であることが好ましく、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合のしやすさから5mol%以上、95mol%以下であることが好ましい。   In the present invention, the siloxane bond with respect to the total number of bonds forming the siloxane bond, the direct bond with the hydroxyl group, and the direct bond with the hydrolyzable group of silicon in the polysiloxane compound (a). The condensation rate, defined as the ratio of the number of bonds forming the bond, is preferably 5 mol% or more and 95 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 95 mol% or less, more preferably 20 mol% or more and 90 mol% or less. % Or less, and more preferably 30 mol% or more and 85 mol% or less. The condensation rate is preferably 5 mol% or more from the viewpoint of increasing the molecular weight of the polysiloxane compound (a), and is preferably 5 mol% or more from the ease of condensation between the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b). It is preferable that it is 95 mol% or less.

上記縮合率は、より典型的には、ポリシロキサン化合物(a)の製造に用いる上記一般式(2)、(3)及び(4)で表される成分におけるX2、X3及びX4のうち、Si−O−Si結合に変わったものの割合である。 The condensation rate is more typically represented by X 2 , X 3 and X 4 in the components represented by the general formulas (2), (3) and (4) used for the production of the polysiloxane compound (a). Of these, the ratio is changed to Si—O—Si bond.

上記縮合率は、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応生成物液から、50℃以下で真空ポンプを用いて溶媒を除去したものや、ポリシロキサン化合物(a)を重溶媒中で合成して得られた反応生成物液を、29SiNMRで分析することにより、M0、M1、D0、D1、D2、T0、T1、T2、T3、Q0、Q1、Q2、Q3、Q4成分を確認することによって算出できる。なお、(SiO1/2)成分のうち、Si−O−Si結合を持たない珪素原子のことをM0成分と表し、Si−O−Si結合を1つ持つ珪素原子のことをM1と表す。(SiO2/2)成分のうち、Si−O−Si結合を持たない珪素原子のことをD0成分と表し、Si−O−Si結合を1つ持つ珪素原子のことをD1成分と表し、Si−O−Si結合を2つ持つ珪素原子のことをD2成分と表す。(SiO3/2)成分のうち、Si−O−Si結合を持たない珪素原子のことをT0成分と表し、Si−O−Si結合を1つ持つ珪素原子のことをT1成分と表し、Si−O−Si結合を2つ持つ珪素原子のことをT2成分と表し、Si−O−Si結合を3つ持つ珪素原子のことをT3成分と表す。(SiO4/2)成分のうち、Si−O−Si結合を持たない珪素原子のことをQ0成分と表し、Si−O−Si結合を1つ持つ珪素原子のことをQ1成分と表し、Si−O−Si結合を2つ持つ珪素原子のことをQ2成分と表し、Si−O−Si結合を3つ持つ珪素原子のことをQ3成分と表し、Si−O−Si結合を4つ持つ珪素原子のことをQ4成分と表す。 The condensation rate is obtained by removing the solvent from the reaction product liquid containing the polysiloxane compound (a) using a vacuum pump at 50 ° C. or lower, or by synthesizing the polysiloxane compound (a) in a heavy solvent. The obtained reaction product liquid is analyzed by 29 SiNMR, and calculated by confirming M0, M1, D0, D1, D2, T0, T1, T2, T3, Q0, Q1, Q2, Q3, and Q4 components. it can. Of the (SiO 1/2 ) components, a silicon atom having no Si—O—Si bond is represented as an M0 component, and a silicon atom having one Si—O—Si bond is represented as M1. Of the (SiO 2/2 ) component, a silicon atom having no Si—O—Si bond is represented as a D0 component, a silicon atom having one Si—O—Si bond is represented as a D1 component, and Si A silicon atom having two —O—Si bonds is represented as a D2 component. Of the (SiO 3/2 ) component, a silicon atom having no Si—O—Si bond is represented as a T0 component, and a silicon atom having one Si—O—Si bond is represented as a T1 component, and Si A silicon atom having two —O—Si bonds is represented as a T2 component, and a silicon atom having three Si—O—Si bonds is represented as a T3 component. Of the (SiO 4/2 ) component, a silicon atom having no Si—O—Si bond is represented as a Q0 component, and a silicon atom having one Si—O—Si bond is represented as a Q1 component, and Si A silicon atom having two -O-Si bonds is represented as a Q2 component, a silicon atom having three Si-O-Si bonds is represented as a Q3 component, and silicon having four Si-O-Si bonds An atom is represented as a Q4 component.

ポリシロキサン化合物(a)の縮合率は、29SiNMRの各珪素ピークの面積比より下記のように算出できる。
例えば、D1成分のピーク面積を(D1)と表す。
縮合した珪素面積:
{(M1)+(D1)+(D2)×2+(T1)+(T2)×2+(T3)×3+(Q1)+(Q2)×2+(Q3)×3+(Q4)×4}
全珪素面積:
{(M0)+(M1)}+{(D0)+(D1)+(D2)}×2+{(T0)+(T1)+(T2)+(T3)}×3+{(Q0)+(Q1)+(Q2)+(Q3)+(Q4)}×4
ポリシロキサン化合物(a)縮合率=(縮合した珪素面積)/(全珪素面積)×100
The condensation rate of the polysiloxane compound (a) can be calculated as follows from the area ratio of each silicon peak of 29 SiNMR.
For example, the peak area of the D1 component is represented as (D1).
Condensed silicon area:
{(M1) + (D1) + (D2) × 2 + (T1) + (T2) × 2 + (T3) × 3 + (Q1) + (Q2) × 2 + (Q3) × 3 + (Q4) × 4}
Total silicon area:
{(M0) + (M1)} + {(D0) + (D1) + (D2)} × 2 + {(T0) + (T1) + (T2) + (T3)} × 3 + {(Q0) + ( Q1) + (Q2) + (Q3) + (Q4)} × 4
Polysiloxane compound (a) condensation rate = (condensed silicon area) / (total silicon area) × 100

ポリシロキサン化合物(a)の合成に際して得られる、ポリシロキサン化合物(a)を含有する反応液を、ガスクロマトグラムで分析すると、加水分解により遊離したX2、X3、及びX4を検出することができる。遊離した加水分解基の質量は、例えば各成分の検量線を引くことで算出することができる。反応前のX2、X3及びX4の総モル数を(M1)[mol]、該ポリシロキサン化合物(a)を含有する反応液量を加味して算出された、遊離した加水分解基の総量を(M2)[mol]とすると、加水分解率は、下記のように算出することができる。
加水分解率=(M2)/(M1)×100
シラノール基含有率は、ポリシロキサン化合物(a)の縮合率、及び加水分解率から、下記のように算出することができる。
シラノール基含有率=(加水分解率)−(ポリシロキサン化合物(a)の縮合率)
When the reaction solution containing the polysiloxane compound (a) obtained in the synthesis of the polysiloxane compound (a) is analyzed by gas chromatogram, X 2 , X 3 and X 4 released by hydrolysis may be detected. it can. The mass of the liberated hydrolyzing group can be calculated, for example, by drawing a calibration curve for each component. Free hydrolyzable groups calculated by taking into account the total number of moles of X 2 , X 3 and X 4 before the reaction (M 1 ) [mol] and the amount of the reaction solution containing the polysiloxane compound (a). Assuming that the total amount of (M 2 ) [mol] is, the hydrolysis rate can be calculated as follows.
Hydrolysis rate = (M 2 ) / (M 1 ) × 100
The silanol group content can be calculated as follows from the condensation rate and hydrolysis rate of the polysiloxane compound (a).
Silanol group content = (hydrolysis rate)-(condensation rate of polysiloxane compound (a))

加水分解率は、好ましくは10〜100mol%、より好ましくは20〜100mol%、さらに好ましくは40〜100mol%、最も好ましくは50〜100mol%である。加水分解率は縮合反応のためのシラノール基を良好に供給する観点から10mol%以上であることが好ましい。   The hydrolysis rate is preferably 10 to 100 mol%, more preferably 20 to 100 mol%, further preferably 40 to 100 mol%, and most preferably 50 to 100 mol%. The hydrolysis rate is preferably 10 mol% or more from the viewpoint of satisfactorily supplying silanol groups for the condensation reaction.

<シリカ粒子(b)>
本発明において使用されるシリカ粒子(b)としては、例えばヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。
<Silica particles (b)>
Examples of the silica particles (b) used in the present invention include fumed silica and colloidal silica.

上記ヒュームドシリカは、珪素原子を含む化合物を気相中で酸素及び水素と反応させることによって得ることができる。原料となるケイ素化合物としては、例えばハロゲン化ケイ素(例えば塩化ケイ素等)等が挙げられる。   The fumed silica can be obtained by reacting a compound containing a silicon atom with oxygen and hydrogen in a gas phase. Examples of the silicon compound used as a raw material include silicon halide (for example, silicon chloride).

コロイダルシリカは、原料化合物を加水分解・縮合するゾルゲル法により合成することができる。コロイダルシリカの原料化合物としては、例えば、アルコキシケイ素(例えばテトラエトキシシラン等)、ハロゲン化シラン化合物(例えばジフェニルジクロロシラン等)等が挙げられる。中でも、金属やハロゲン等の不純物は少ないことが好ましいため、アルコキシケイ素から得られたコロイダルシリカがより好ましい。   Colloidal silica can be synthesized by a sol-gel method in which a raw material compound is hydrolyzed and condensed. Examples of the raw material compound for colloidal silica include alkoxy silicon (for example, tetraethoxysilane) and halogenated silane compounds (for example, diphenyldichlorosilane). Especially, since it is preferable that there are few impurities, such as a metal and a halogen, the colloidal silica obtained from alkoxy silicon is more preferable.

本発明のシリカ粒子含有縮合反応物は、ポリシロキサン化合物(a)と該シリカ粒子(b)とを少なくとも含む反応成分の縮合反応により得られる。ここで反応成分とは、シリカ粒子含有縮合反応物において縮合構造を形成することになる成分を意味する。反応成分中のシリカ粒子(b)の含有率は、1質量%以上70質量%以下であることが好ましい。上記含有率は、硬化膜の硬度向上の観点から、1質量%以上が好ましく、該縮合反応物の粘度の観点から、70質量%以下が好ましい。上記含有率は、より好ましくは、5質量%以上60質量%以下であり、さらに好ましくは10質量%以上50質量%以下である。反応成分中のシリカ粒子含有率は、例えば反応に使用した原料と、29SiNMR測定から算出することができる。反応に使用したD成分、T成分、Q成分、シリカ粒子は、使用した原料から算出し、M成分については、29SiNMR測定の面積比より、シリカ粒子含有縮合反応物中のM成分の存在比を算出することができる。シリカ粒子含有縮合反応物中のM成分、D成分、T成分、Q成分が持つ結合手は、全てSi−O−Si結合に使われたとして、反応成分中のシリカ粒子含有率を算出できる。内標を添加して、29SiNMRを測定することにより、算出することもできる。 The silica particle-containing condensation reaction product of the present invention is obtained by a condensation reaction of a reaction component containing at least the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b). Here, the reaction component means a component that forms a condensation structure in the silica particle-containing condensation reaction product. The content of the silica particles (b) in the reaction component is preferably 1% by mass or more and 70% by mass or less. The content is preferably 1% by mass or more from the viewpoint of improving the hardness of the cured film, and preferably 70% by mass or less from the viewpoint of the viscosity of the condensation reaction product. The content is more preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, and further preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less. The silica particle content in the reaction component can be calculated from, for example, the raw materials used in the reaction and 29 Si NMR measurement. The D component, T component, Q component, and silica particles used in the reaction are calculated from the raw materials used. For the M component, the abundance ratio of the M component in the silica particle-containing condensation reaction product is determined from the area ratio of 29 SiNMR measurement. Can be calculated. It is possible to calculate the silica particle content in the reaction component, assuming that all the bonds possessed by the M component, D component, T component, and Q component in the silica particle-containing condensation reaction product have been used for Si—O—Si bonds. It can also be calculated by adding an internal standard and measuring 29 Si NMR.

シリカ粒子の平均一次粒子径は、1nm以上120nm以下であることが好ましく、1nm以上40nm以下であることがより好ましい。上記平均一次粒子系が1nm以上である場合、硬度が向上するため好ましく、120nm以下である場合、硬化物の300nm以下の透明性が向上するため好ましい。   The average primary particle diameter of the silica particles is preferably 1 nm or more and 120 nm or less, and more preferably 1 nm or more and 40 nm or less. When the average primary particle system is 1 nm or more, it is preferable because the hardness is improved, and when it is 120 nm or less, it is preferable because the transparency of the cured product is 300 nm or less.

シリカ粒子の平均二次粒子径は、2nm以上250nm以下であることが好ましく、2nm以上80nm以下であることがより好ましい。上記平均二次粒子径が2nm以上である場合、硬度が向上するため好ましく、250nm以下である場合、硬化物の300nm以下の透明性が向上するため好ましい。   The average secondary particle diameter of the silica particles is preferably 2 nm or more and 250 nm or less, and more preferably 2 nm or more and 80 nm or less. When the average secondary particle diameter is 2 nm or more, it is preferable because the hardness is improved, and when it is 250 nm or less, it is preferable because the transparency of the cured product is 300 nm or less.

上記平均一次粒子径は、BETの比表面積から計算で求められる値であり、平均二次粒子径は、動的光散乱光度計で測定される値である。   The average primary particle diameter is a value obtained by calculation from the specific surface area of BET, and the average secondary particle diameter is a value measured by a dynamic light scattering photometer.

シリカ粒子(b)の形状は、球状、棒状、板状若しくは繊維状又はこれらの2種類以上が合体した形状であることができるが、好ましくは球状である。なお、ここでいう球状とは、真球状の他、回転楕円体や卵形等の略球状である場合も含むものである。   The shape of the silica particles (b) can be spherical, rod-shaped, plate-shaped or fibrous, or a shape in which two or more of these are combined, but is preferably spherical. The term “spherical” as used herein includes not only true spheres but also cases where the shape is substantially spherical, such as a spheroid or oval.

シリカ粒子(b)の比表面積は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応物の粘度と、硬化物の硬度との観点から、BET比表面積で、1,000m2/g以下であることが好ましく、800m2/g以下であることがより好ましい。上記BET比表面積は、N2分子の圧力とガス吸着量とから計算される方法で測定される値である。 The specific surface area of the silica particles (b) is 1,000 m 2 / B in terms of the BET specific surface area from the viewpoint of the viscosity of the condensation reaction product of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) and the hardness of the cured product. g or less is preferable, and 800 m 2 / g or less is more preferable. The BET specific surface area is a value measured by a method calculated from the pressure of N 2 molecules and the gas adsorption amount.

シリカ粒子(b)としては、上記の要件に適合するものを好ましく使用できるが、制限は無く、市販品を使用することもできる。   As the silica particles (b), those that meet the above requirements can be preferably used, but there is no limitation, and commercially available products can also be used.

市販品としては、コロイダルシリカとして、例えばLEVASILシリーズ(H.C.Starck(株)製)、メタノールシリカゾルIPA−ST、同MEK−ST、同NBA−ST、同XBA−ST、同DMAC−ST、同ST−UP、同ST−OUP、同ST−20、同ST−40、同ST−C、同ST−N、同ST−O、同ST−50、同ST−OL(以上、日産化学工業(株)製)、クオートロンP Lシリーズ(扶桑化学(株)製)、OSCALシリーズ(触媒化成工業(株)製)等;粉体状のシリカ粒子として、例えばアエロジル130、同300、同380、同TT600、同OX50(以上、日本アエロジル(株)製)、シルデックスH31、同H32、同H51、同H52、同H121、同H122(以上、旭硝子(株)製)、E220A、E220(以上、日本シリカ工業(株))、SYLYSIA470(富士シリシア(株)製)、SGフレーク(日本板硝子(株)製)等;粉体状のシリカ粒子として、例えばアエロジル130、同300、同380、同TT600、同OX50(以上、日本アエロジル(株)製)、シルデックスH31、同H32、同H51、同H52、同H121、同H122(以上、旭硝子(株)製)、E220A、E220(以上、日本シリカ工業(株)製)、SYLYSIA470(富士シリシア(株)製)、SGフレーク(日本板硝子(株)製)等が、それぞれ挙げられる。   As a commercially available product, as colloidal silica, for example, LEVASIL series (manufactured by HC Starck Co., Ltd.), methanol silica sol IPA-ST, same MEK-ST, same NBA-ST, same XBA-ST, same DMAC-ST, Same ST-UP, Same ST-OUP, Same ST-20, Same ST-40, Same ST-C, Same ST-N, Same ST-O, Same ST-50, Same ST-OL (Nissan Chemical Industries) (Manufactured by Co., Ltd.), Quatlon PL series (manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd.), OSCAL series (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.), etc .; TT600, OX50 (above, Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sildex H31, H32, H51, H52, H121, H122 (above, Asahi Glass Co., Ltd.) ), E220A, E220 (Nippon Silica Industry Co., Ltd.), SYLYSIA470 (Fuji Silysia Co., Ltd.), SG Flakes (Nihon Sheet Glass Co., Ltd.), etc .; 300, 380, TT600, OX50 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sildex H31, H32, H51, H52, H121, H122 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) , E220A, E220 (manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.), SYLYSIA470 (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd.), SG flake (manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) and the like.

<シリカ粒子含有縮合反応物の特性> <Characteristics of silica particle-containing condensation reaction product>

シリカ粒子含有縮合反応物においては、該縮合反応物中の珪素の、シロキサン結合、水酸基との直接結合、及び前述の加水分解性基との直接結合をそれぞれ形成している結合手の合計数に対する、該シロキサン結合を形成している結合手の数の割合として定義される、縮合反応物縮合率が、50mol%以上100mol%以下であることが好ましい。上記縮合反応物縮合率は、縮合構造形成による高硬度化及びタック性低減の効果を良好に得る観点から50mol%以上であることが好ましい。シランカップリング剤が用いられていないシリカ粒子含有縮合反応物(又は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合生成物にさらにシランカップリング剤を反応させる場合における該縮合生成物)においては、上記縮合反応物縮合率は、より好ましくは60mol%以上100mol%以下、さらに好ましくは70mol%以上100mol%以下である。また、シランカップリング剤が用いられているシリカ粒子含有縮合反応物においては、上記縮合反応物縮合率は、より好ましくは75mol%以上100mol%以下、さらに好ましくは85mol%以上100mol%以下である。   In the silica particle-containing condensation reaction product, the silicon in the condensation reaction product is based on the total number of bonds forming a siloxane bond, a direct bond with a hydroxyl group, and a direct bond with the hydrolyzable group. The condensation rate of the condensation reaction product, which is defined as the ratio of the number of bonds forming the siloxane bond, is preferably 50 mol% or more and 100 mol% or less. The condensation rate of the condensation reaction product is preferably 50 mol% or more from the viewpoint of obtaining good effects of increasing hardness and reducing tackiness by forming a condensed structure. Silica particle-containing condensation reaction product in which no silane coupling agent is used (or the condensation product in the case of further reacting the silane coupling agent with the condensation product of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b)) ), The condensation rate of the condensation reaction product is more preferably 60 mol% to 100 mol%, and still more preferably 70 mol% to 100 mol%. In the condensation reaction product containing silica particles in which a silane coupling agent is used, the condensation rate of the condensation reaction product is more preferably 75 mol% or more and 100 mol% or less, and still more preferably 85 mol% or more and 100 mol% or less.

<シリカ粒子含有縮合反応物の製造>
本発明のシリカ粒子含有縮合反応物は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とを縮合反応させて得られる。縮合反応の際には、溶媒中に分散した状態でのシリカ粒子(b)をポリシロキサン化合物(a)と反応させることができる。溶媒としては、水若しくは有機溶媒又はこれらの混合溶媒を使用することができる。使用される有機溶媒の種類は、使用されるシリカ粒子(b)の分散媒によって変わる。使用されるシリカ粒子(b)の分散媒が水系の場合は、水及び/又はアルコール系溶媒をシリカ粒子(b)の水分散媒に加えてからシリカ粒子(b)をポリシロキサン化合物(a)と反応させてもよいし、シリカ粒子(b)の水溶液中の溶媒を一度アルコール系溶媒に置換してから、シリカ粒子(b)をポリシロキサン化合物(a)と反応させてもよい。使用できるアルコール系溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール等挙げられ、これらは、水と容易に混合するため好ましい。
<Production of silica particle-containing condensation reaction product>
The silica particle-containing condensation reaction product of the present invention is obtained by subjecting the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) to a condensation reaction. In the condensation reaction, the silica particles (b) dispersed in the solvent can be reacted with the polysiloxane compound (a). As the solvent, water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof can be used. The kind of organic solvent used varies depending on the dispersion medium of the silica particles (b) used. When the dispersion medium of the silica particles (b) used is aqueous, water and / or alcohol solvent is added to the aqueous dispersion medium of the silica particles (b), and then the silica particles (b) are added to the polysiloxane compound (a). Alternatively, the solvent in the aqueous solution of the silica particles (b) may be once substituted with an alcohol solvent, and then the silica particles (b) may be reacted with the polysiloxane compound (a). Examples of alcohol solvents that can be used include methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, methoxyethanol, ethoxyethanol, and the like, and these are preferable because they are easily mixed with water.

使用されるシリカ粒子(b)の分散媒がアルコール、ケトン、エステル、炭化水素等の溶媒である場合は、水又はアルコール、エーテル、ケトン、エステル等の溶媒を使用することができる。アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えばジメトキシエタンが挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エステル系溶媒としては、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。   When the dispersion medium of the silica particles (b) used is a solvent such as alcohol, ketone, ester or hydrocarbon, water or a solvent such as alcohol, ether, ketone or ester can be used. Examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, and n-butanol. Examples of the ether solvent include dimethoxyethane. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Examples of the ester solvent include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, ethyl formate, propyl formate, and γ-butyrolactone.

シリカ粒子(b)とポリシロキサン化合物(a)との縮合反応は、酸性雰囲気下で行われることが好ましい。酸触媒としてはポリシロキサン化合物(a)の製造に用いるものと同じ酸触媒を挙げることができる。ポリシロキサン化合物(a)の製造後に酸触媒を取り除く場合には、シリカ粒子(b)とポリシロキサン化合物(a)とを反応させる際に酸触媒を再度加える必要があるが、ポリシロキサン化合物(a)製造後に酸触媒を取り除かずそのままシリカ粒子(b)を反応させる場合は、酸触媒を再度加えなくても、ポリシロキサン化合物(a)を反応させる際に使用した酸触媒でポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との反応を行うことができる。しかし、この場合、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との反応時に改めて酸触媒を加えても構わない。   The condensation reaction between the silica particles (b) and the polysiloxane compound (a) is preferably performed in an acidic atmosphere. Examples of the acid catalyst include the same acid catalyst as that used in the production of the polysiloxane compound (a). When the acid catalyst is removed after the production of the polysiloxane compound (a), it is necessary to add the acid catalyst again when the silica particles (b) are reacted with the polysiloxane compound (a). ) When the silica particles (b) are reacted as they are without removing the acid catalyst after the production, the polysiloxane compound (a) is used with the acid catalyst used for reacting the polysiloxane compound (a) without adding the acid catalyst again. ) And silica particles (b). However, in this case, an acid catalyst may be added again during the reaction between the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b).

また、シリカ粒子(b)とポリシロキサン化合物(a)とを酸触媒で縮合反応させた後、さらに縮合を進めるために、塩基触媒を添加してもよい。塩基触媒としては、無機塩基及び有機塩基が挙げられる。無機塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ又はアルカリ土類金属炭酸塩、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸水素塩が挙げられる。有機塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等のトリアルキルアミン;N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン等の炭素数1〜4のN,N−ジアルキルアニリン誘導体;ピリジン、2,6−ルチジン等の、炭素数1〜4のアルキル置換基を有していてもよいピリジン誘導体等を挙げられる。   Further, after the silica particles (b) and the polysiloxane compound (a) are subjected to a condensation reaction with an acid catalyst, a base catalyst may be added for further condensation. Examples of the base catalyst include inorganic bases and organic bases. Examples of the inorganic base include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide, lithium carbonate, potassium carbonate, and carbonate. Examples thereof include alkali or alkaline earth metal carbonates such as sodium, metal hydrogen carbonates such as potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate. Examples of the organic base include trialkylamines such as triethylamine and ethyldiisopropylamine; N, N-dialkylaniline derivatives having 1 to 4 carbon atoms such as N, N-dimethylaniline and N, N-diethylaniline; pyridine, 2,6 -The pyridine derivative etc. which may have a C1-C4 alkyl substituent, such as lutidine, are mentioned.

ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応物を製造する際の反応温度は特に制限は無いが、好ましくは−50℃以上200℃以下、より好ましくは0℃以上150℃以下の範囲で行う。上記の範囲で反応を行うことにより、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合率(ポリシロキサン−シリカ縮合率)を制御することができる。   The reaction temperature for producing the condensation reaction product of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) is not particularly limited, but is preferably −50 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. Perform in the range. By performing the reaction in the above range, the condensation rate (polysiloxane-silica condensation rate) between the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) can be controlled.

ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)の縮合反応の際に使用される水は、上記から選ばれる溶媒を加えた後に、例えば蒸留等の方法によって取り除き、縮合反応物中における水分及び/又はアルコールを1質量%以下にすることが好ましい。水分及び/又はアルコールの含有量が上記範囲内であると、本発明のシリカ粒子含有縮合反応物を硬化させる際に、収縮が低減され、クラックが入りにくくなるために好ましい。   The water used in the condensation reaction of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) is removed by a method such as distillation after adding a solvent selected from the above, and water and / or Or it is preferable to make alcohol into 1 mass% or less. When the moisture and / or alcohol content is within the above range, the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention is preferably cured because shrinkage is reduced and cracks are less likely to occur.

本発明においては、ポリシロキサン化合物(a)合成時の縮合反応後、及び/又は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応後に、蒸留、抽出による洗浄、又はイオン交換等の方法により、触媒を取り除くことで、本発明のシリカ粒子含有縮合反応物のpHを6以上8以下に調整することが好ましい。pHが上記範囲内であると、本発明の縮合反応物のポットライフが長くなるため好ましい。   In the present invention, after the condensation reaction during synthesis of the polysiloxane compound (a) and / or after the condensation reaction of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b), washing by distillation, extraction, ion exchange, etc. It is preferable to adjust the pH of the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention to 6 or more and 8 or less by removing the catalyst by the above method. It is preferable for the pH to be within the above range since the pot life of the condensation reaction product of the present invention is prolonged.

<シランカップリング剤>
本発明のシリカ粒子含有縮合反応物は、シランカップリング剤を更に反応させて得られるものであることが好ましい。シランカップリング剤は、反応成分中に含有させることができる。この場合、縮合反応を、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とを縮合させて得られる縮合生成物(以下、これを単に縮合生成物ということもある)にシランカップリング剤を更に反応させることによって行ってもよいし、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応時にシランカップリング剤を共存させてこれらを同時に縮合させることにより行ってもよい。特に前者の場合には、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)の縮合生成物をシランカップリング剤モノマーで封止できる。この場合、具体的には、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応を終えた後に、反応系中にシランカップリング剤を添加して反応させることができる。
<Silane coupling agent>
The silica particle-containing condensation reaction product of the present invention is preferably obtained by further reacting with a silane coupling agent. A silane coupling agent can be contained in the reaction component. In this case, the condensation reaction is performed by adding a silane coupling agent to a condensation product obtained by condensing the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) (hereinafter, this may be simply referred to as a condensation product). You may carry out by making it react, and it may carry out by making a silane coupling agent coexist at the time of condensation reaction of a polysiloxane compound (a) and a silica particle (b), and condensing these simultaneously. In particular, in the former case, the condensation product of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) can be sealed with a silane coupling agent monomer. In this case, specifically, after finishing the condensation reaction of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b), a silane coupling agent can be added to the reaction system to cause the reaction.

シランカップリング剤は、シラノール基と反応してSi−O−Si結合を形成することができれば特に限定されないが、好ましい例としては、例えば、下記一般式(1)及び(5)に示す化合物が挙げられる。   Although a silane coupling agent will not be specifically limited if it can react with a silanol group and can form a Si-O-Si bond, As a preferable example, the compound shown to the following general formula (1) and (5) is mentioned, for example. Can be mentioned.

1 n1SiX1 4-n1 (1)
{式中、n1は、1〜3の整数であり、R1は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、X1は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR1及びX1はそれぞれ同一でも異なっていても構わない}
6 n77 n8Si−NX5−SiR6 n77 n8 (5)
{式中、n7は、0〜3の整数であり、n8は、n7+n8=3を満たす整数であり、R6は、水素原子又は、不飽和炭化水素を含有する1価の有機基であり、R7は、炭素数1〜10の飽和炭化水素基を有するか又は芳香族基を含有する1価の有機基であり、X5は、水素原子、Li、Na及びKから選ばれる原子である。}
R 1 n1 SiX 1 4-n1 (1)
{Wherein n1 is an integer of 1 to 3, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. A group selected from a group and an acetoxy group, and when there are plural groups, R 1 and X 1 may be the same or different}
R 6 n7 R 7 n8 Si- NX 5 -SiR 6 n7 R 7 n8 (5)
{In the formula, n7 is an integer of 0 to 3, n8 is an integer satisfying n7 + n8 = 3, R 6 is a hydrogen atom or a monovalent organic group containing an unsaturated hydrocarbon; R 7 is a monovalent organic group having a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or containing an aromatic group, and X 5 is an atom selected from a hydrogen atom, Li, Na and K. . }

上記シランカップリング剤は、1種で又は2種以上の組み合わせで使用できる。また上記シランカップリング剤は、ニートで加えてもよく、後述の活性水素を持たない溶媒中に希釈して加えてもよい。   The said silane coupling agent can be used by 1 type or in combination of 2 or more types. Moreover, the said silane coupling agent may be added neat and may be diluted and added in the solvent which does not have the active hydrogen mentioned later.

上記一般式(1)中のR1は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、例えば、具体的には、R2について例示した不飽和炭化水素基並びにR3について例示した飽和炭化水素基及び芳香族基から選ばれる1種以上を含む有機基が挙げられる。中でも、炭素数1〜10の有機基が耐熱性の観点から好ましく、より好ましくは、水素原子、ビニル基、メチル基、エチル基及びフェニル基である。 R 1 in the general formula (1) is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, for example, specifically, exemplified for the unsaturated hydrocarbon group and R 3 exemplified for R 2 Examples thereof include an organic group containing one or more selected from a saturated hydrocarbon group and an aromatic group. Especially, a C1-C10 organic group is preferable from a heat resistant viewpoint, More preferably, they are a hydrogen atom, a vinyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

上記一般式(1)中のX1は、水酸基、又は加水分解可能な置換基であり、X2、X3及びX4について前述で例示した置換基を用いることができる。中でもSi−O−Si結合の形成しやすさの観点から塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基及びアセトキシ基が好ましい。 X 1 in the general formula (1) is a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent, and the substituents exemplified above for X 2 , X 3 and X 4 can be used. Of these, halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, and acetoxy group are preferable from the viewpoint of easy formation of Si—O—Si bond.

シランカップリング剤として使用できる一般式(1)の化合物においては、シラノールとの反応性の観点から、X1がハロゲン原子であることが好ましく、特にCl原子であることが好ましい。 In the compound of the general formula (1) that can be used as a silane coupling agent, X 1 is preferably a halogen atom, particularly a Cl atom, from the viewpoint of reactivity with silanol.

1がCl(塩素)原子であるシランカップリング剤としては、具体的には、トリメチルクロロシラン、ジメチルクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルクロロシラン、ジクロロメチルシラン、トリクロロシラン等のアルキルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、ビニルトリクロロシラン等の不飽和炭化水素基含有クロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、フェニルメチルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等の芳香族基含有クロロシラン、ジメチルシクロヘキシルクロロシラン、ジシクロヘキシルメチルクロロシラン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、メチルシクロヘキシルジクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、ジメチルシクロペンチルクロロシラン、ジシクロペンチルメチルクロロシラン、ジシクロペンチルジクロロシラン、メチルシクロペンチルジクロロシラン、シクロペンチルトリクロロシラン等の脂肪族基含有クロロシラン等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent in which X 1 is a Cl (chlorine) atom include alkylchlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethylchlorosilane, methyltrichlorosilane, dimethylchlorosilane, dichloromethylsilane, and trichlorosilane, dimethylvinylchlorosilane, Unsaturated hydrocarbon group-containing chlorosilanes such as methylvinyldichlorosilane and vinyltrichlorosilane, triphenylchlorosilane, diphenylmethylchlorosilane, dimethylphenylchlorosilane, diphenyldichlorosilane, phenylmethyldichlorosilane, phenyltrichlorosilane and other aromatic group-containing chlorosilanes, Dimethylcyclohexylchlorosilane, dicyclohexylmethylchlorosilane, dicyclohexyldichlorosilane, methylcyclohexyldimethyl Roshiran, cyclohexyl trichlorosilane, dimethyl cyclopentyl chlorosilane, dicyclopentyl methylchlorosilanes, dicyclopentyldichlorosilane, methylcyclopentyl dichlorosilane, aliphatic group containing chlorosilane such as cyclopentyl trichlorosilane and the like.

一般式(5)中のR6は、水素原子又は、不飽和炭化水素を含有する1価の有機基である。不飽和炭化水素を含有する1価の有機基としては、具体的には、水素原子及びR2について例示した不飽和炭化水素含有基から選ばれる1種類以上を含む有機基が挙げられる。中でも、炭素数1〜10の有機基が耐熱性の観点から好ましく、より好ましくは、水素原子及びビニル基である。 R 6 in the general formula (5) is a hydrogen atom or a monovalent organic group containing an unsaturated hydrocarbon. Specific examples of the monovalent organic group containing an unsaturated hydrocarbon include a hydrogen atom and an organic group containing one or more types selected from the unsaturated hydrocarbon-containing groups exemplified for R 2 . Especially, a C1-C10 organic group is preferable from a heat resistant viewpoint, More preferably, they are a hydrogen atom and a vinyl group.

一般式(5)中のR7は、炭素数1〜10の飽和炭化水素基を有するか又は芳香族基を含有する1価の有機基であり、具体的にはR3について例示した飽和炭化水素基及び芳香族基から選ばれる1種以上を含む有機基が挙げられる。中でも、炭素数1〜10の有機基が耐熱性の観点から好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基及びフェニル基である。 R 7 in the general formula (5) is a monovalent organic group having a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or containing an aromatic group. Specifically, the saturated carbonization exemplified for R 3 Examples thereof include an organic group containing one or more selected from a hydrogen group and an aromatic group. Especially, a C1-C10 organic group is preferable from a heat resistant viewpoint, More preferably, they are a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

一般式(5)中のX5は、水素原子、Li、Na及びKから選ばれる原子であり、ポリマーの精製の観点から水素原子が好ましい。 X 5 in the general formula (5) is an atom selected from a hydrogen atom, Li, Na and K, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of polymer purification.

一般式(5)式で表されるシランカップリング剤としては、具体的には、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザンリチウム、テトラメチルジシラザンリチウム、ジビニルテトラメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、テトラメチルジシラザンナトリウム、ジビニルテトラメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム、テトラメチルジシラザンカリウム、ジビニルテトラメチルジシラザンカリウムが挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent represented by the general formula (5) include hexamethyldisilazane, tetramethyldisilazane, divinyltetramethyldisilazane, hexamethyldisilazane lithium, tetramethyldisilazane lithium, Examples include divinyltetramethyldisilazane lithium, hexamethyldisilazane sodium, tetramethyldisilazane sodium, divinyltetramethyldisilazane sodium, hexamethyldisilazane potassium, tetramethyldisilazane potassium, and divinyltetramethyldisilazane potassium.

シランカップリング剤の使用量は、ポリシロキサン化合物(a)(ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合時にシランカップリング剤も反応させる場合)、又は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合生成物(該縮合生成物に対してシランカップリング剤を更に反応させる場合)が持つシラノール含有量に対して(モル当量で)、好ましくは0.1倍〜10倍、より好ましくは0.5倍〜5倍、さらに好ましくは0.7倍〜2倍、最も好ましくは0.7倍〜1.5倍である。上記使用量は、耐熱性の観点から0.1倍以上であることが好ましく、収率の観点から10倍以下であることが好ましい。なお、上記シラノール含有量は下記の方法で測定できる。すなわちガスクロマトグラム分析により加水分解率を算出し、29SiNMR分析より縮合率を算出し、ポリシロキサン化合物(a)中、又はポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合生成物中に含まれるシラノール量(M3)molを算出する。 The amount of the silane coupling agent used is the polysiloxane compound (a) (when the silane coupling agent is also reacted during the condensation of the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b)) or the polysiloxane compound (a). With respect to the silanol content of the condensation product of the silica particles (b) (when the silane coupling agent is further reacted with the condensation product) (in molar equivalents), preferably 0.1 times to 10 times, more preferably 0.5 times to 5 times, further preferably 0.7 times to 2 times, and most preferably 0.7 times to 1.5 times. The amount used is preferably 0.1 times or more from the viewpoint of heat resistance, and preferably 10 times or less from the viewpoint of yield. The silanol content can be measured by the following method. That is, the hydrolysis rate is calculated by gas chromatogram analysis, the condensation rate is calculated by 29 Si NMR analysis, and in the polysiloxane compound (a) or the condensation product of the polysiloxane compound (a) and silica particles (b). The amount of silanol contained (M 3 ) mol is calculated.

シランカップリング剤が、アルコキシシランである場合は、上記ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との反応と同様の方法を用いてシランカップリング剤を縮合反応させることが出来る。   When the silane coupling agent is alkoxysilane, the silane coupling agent can be subjected to a condensation reaction using the same method as the reaction between the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b).

シランカップリング剤が、ハロゲン化シラン、ジシラザン誘導体等のように活性水素との反応性が高いものである場合は、シランカップリング剤の反応を、水、アルコール等の活性水素を持たない溶媒中で行うことが好ましい。好ましい溶媒としては、例えば、エステル、ケトン、エーテル、脂肪族炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物、アミド化合物等が挙げられる。   When the silane coupling agent is highly reactive with active hydrogen such as halogenated silane or disilazane derivative, the reaction of the silane coupling agent is carried out in a solvent that does not have active hydrogen such as water or alcohol. It is preferable to carry out with. Examples of preferable solvents include esters, ketones, ethers, aliphatic hydrocarbon compounds, aromatic hydrocarbon compounds, amide compounds, and the like.

上記エステル類としては例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。ケトン類としては例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン等が挙げられる。   Examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and γ-butyrolactone. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, and the like.

上記エーテル類としては例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルのような多価アルコールの水酸基の全てをアルキルエーテル化した多価アルコールエーテル類、多価アルコールの水酸基のすべてをアルキルエーテル化及び/又はエステル化した多価アルコールエステル類、並びに、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、アニソール等が挙げられる。   Examples of the ethers include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl. Polyhydric alcohol ethers obtained by alkyl etherifying all hydroxyl groups of a polyhydric alcohol such as ether, polyhydric alcohol esters obtained by alkyl etherifying and / or esterifying all hydroxyl groups of a polyhydric alcohol, and tetrahydrofuran, 1 , 4-dioxane, anisole and the like.

上記脂肪族炭化水素化合物としては例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic hydrocarbon compound include hexane, heptane, octane, nonane, decane, and the like.

上記芳香族炭化水素化合物としては例えばベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon compound include benzene, toluene, xylene and the like.

上記アミド化合物としては例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。   Examples of the amide compound include dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

これらの溶媒は単独で使用してもよいし、複数の溶媒を組み合わせて使用しても構わない。また上記溶媒を用いずにバルク中で反応を行ってもよい。   These solvents may be used alone or in combination with a plurality of solvents. Moreover, you may react in a bulk, without using the said solvent.

シランカップリング剤の反応は、水、アルコール等の活性水素を持つ溶媒の含有量が1質量%以下である反応系中で行うことが好ましい。低分子量成分のポリマー生成が少なく、耐熱性が良好な樹脂を得られる点で1質量%以下が好ましい。   The reaction of the silane coupling agent is preferably performed in a reaction system in which the content of a solvent having active hydrogen such as water or alcohol is 1% by mass or less. 1 mass% or less is preferable at the point from which the polymer production | generation of a low molecular-weight component is few and heat resistance is favorable.

シランカップリング剤の反応には、縮合速度の観点から、有機塩基を触媒として用いることが好ましい。   In the reaction of the silane coupling agent, an organic base is preferably used as a catalyst from the viewpoint of the condensation rate.

有機塩基としては、例えば、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、N,N−ジメチルアミン、N,N−ジエチルアミン、N,N−ジプロピルアミン、N,N−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。これらの有機塩基は、1種で又は2種以上を混合して使用できる。   Examples of the organic base include pyridine, pyrrole, piperazine, pyrrolidine, piperidine, picoline, monoethanolamine, diethanolamine, dimethylmonoethanolamine, monomethyldiethanolamine, triethanolamine, diazabicycloocrane, diazabicyclononane, diaza. Bicycloundecene, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, ammonia, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, N, N-dimethylamine, N, N- Diethylamine, N, N-dipropylamine, N, N-dibutylamine, trimethylamine, triethylamine , Tripropylamine, tributylamine, and the like. These organic bases can be used alone or in combination of two or more.

シランカップリング剤を反応させる際の反応温度には特に制限は無いが、好ましくは−78℃以上200℃以下、より好ましくは−20℃以上150℃以下の範囲で行う。   Although there is no restriction | limiting in particular in the reaction temperature at the time of making a silane coupling agent react, Preferably it is -78 degreeC or more and 200 degrees C or less, More preferably, it performs in -20 degreeC or more and 150 degrees C or less.

シランカップリング剤の反応後は、水洗、抽出、析出、イオン交換等の方法で、発生した塩酸塩、及び反応系中の有機塩基を除去、精製することが好ましい。これらの方法により、本発明のシリカ粒子含有縮合反応物のpHを6以上8以下に調整することが好ましい。pHが上記範囲内であると、本発明の縮合反応物のポットライフが長くなるため好ましい。   After the reaction of the silane coupling agent, it is preferable to remove and purify the generated hydrochloride and the organic base in the reaction system by methods such as washing with water, extraction, precipitation, and ion exchange. By these methods, it is preferable to adjust the pH of the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention to 6 or more and 8 or less. It is preferable for the pH to be within the above range since the pot life of the condensation reaction product of the present invention is prolonged.

シリカ粒子含有縮合反応物の精製の際には、上記から選ばれる溶媒を加えた後に蒸留する方法等によって系中の水を取り除くことが好ましい。   When purifying the silica particle-containing condensation reaction product, it is preferable to remove water in the system by a method such as distillation after adding a solvent selected from the above.

本発明のシリカ粒子含有縮合反応物中に含まれる水分は1質量%以下であることが好ましい。この場合、本発明の縮合反応物を硬化させる際に、収縮が低減され、クラックが入りにくくなるため好ましい。水分の含有量は、例えばカールフィッシャー法で測定できる。   The water content in the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention is preferably 1% by mass or less. In this case, when the condensation reaction product of the present invention is cured, shrinkage is reduced and cracks are less likely to occur. The water content can be measured, for example, by the Karl Fischer method.

また、本発明のシリカ粒子含有縮合反応物中に含まれる溶媒は1質量%以下であることが好ましい。この場合、本発明の縮合反応物を硬化させる際に、収縮が低減され、クラックが入りにくくなるため好ましい。溶媒の含有量は、例えばガスクロマトグラムを用いて測定できる。   Moreover, it is preferable that the solvent contained in the silica particle containing condensation reaction material of this invention is 1 mass% or less. In this case, when the condensation reaction product of the present invention is cured, shrinkage is reduced and cracks are less likely to occur. The content of the solvent can be measured using, for example, a gas chromatogram.

本発明においては、ポリシロキサン化合物(a)及び/又はシランカップリング剤が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有することが好ましい。特に、シランカップリング剤が上記一般式(1)で表されるシラン化合物であり、かつポリシロキサン化合物(a)及び/又はシランカップリング剤が不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有することが好ましい。これらの場合、より高硬度の樹脂硬化物が得られる。これらの場合の不飽和炭化水素基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキセニルエチル基、ノルボルネニルエチル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、スチレニル基等の非環式及び環式のアルケニル基、PhCH=CH−基等のアラアルケニル基、等が挙げられる。   In the present invention, the polysiloxane compound (a) and / or silane coupling agent preferably contains an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. In particular, the silane coupling agent is a silane compound represented by the general formula (1), and the polysiloxane compound (a) and / or the silane coupling agent contains an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. It is preferable. In these cases, a hardened resin cured product can be obtained. As unsaturated hydrocarbon groups in these cases, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, cyclohexenylethyl group, norbornenylethyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group And acyclic and alkenyl groups such as decenyl group and styryl group, and araalkenyl groups such as PhCH═CH— group.

特に、上記一般式(2)〜(4)でそれぞれ表されるシラン化合物及びその縮合物、並びに一般式(1)及び(5)でそれぞれ表されるシランカップリング剤のうち少なくともいずれかが不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有し、該不飽和炭化水素基及び/又はSiH基が結合している珪素原子の割合が、これらの成分に含まれる全珪素原子のうち5mol%以上80mol%以下であることが好ましく、より好ましくは10mol%以上70mol%以下であり、さらに好ましくは15mol%以上50mol%以下である。上記割合は、本発明の樹脂を用いた硬化物の硬度の観点から5mol%以上であることが好ましく、硬化物の耐熱性及び耐光性の観点から80mol%以下であることが好ましい。   In particular, at least one of the silane compounds represented by the general formulas (2) to (4) and the condensates thereof, and the silane coupling agents represented by the general formulas (1) and (5) is not suitable. The proportion of silicon atoms containing a saturated hydrocarbon group and / or SiH group to which the unsaturated hydrocarbon group and / or SiH group is bonded is 5 mol% or more and 80 mol of all silicon atoms contained in these components. % Or less, more preferably 10 mol% or more and 70 mol% or less, and further preferably 15 mol% or more and 50 mol% or less. The ratio is preferably 5 mol% or more from the viewpoint of the hardness of the cured product using the resin of the present invention, and preferably 80 mol% or less from the viewpoint of the heat resistance and light resistance of the cured product.

上記割合は、シリカ粒子含有縮合反応物を、溶液又は固体で1HNMR分析及び29SiNMR分析することによっても算出することができる。 The ratio can also be calculated by subjecting the silica particle-containing condensation reaction product to 1 HNMR analysis and 29 SiNMR analysis in solution or solid.

本発明のシリカ粒子含有縮合反応物中に含まれるQ成分は、ポットライフ及び粘度の観点から縮合率が高いものであることが好ましい。シリカ粒子含有縮合反応物のQ成分とは、シリカ粒子含有縮合反応物中の、シリカ粒子(b)、上記一般式(4)で表されるシラン化合物のうちn6=0であるもの、及び一般式(1)で表されるシラン化合物のうちn1=0であるもの、に由来する部分である。Q成分の縮合率は、溶液又は固体の29SiNMR分析よりシロキサン結合数が0〜4に相当する成分量を求めることによって評価できる。シリカ粒子含有縮合反応物のシロキサン結合数が0に相当する成分(Q0成分)、シロキサン結合数が1つに相当する成分(Q1成分)、シロキサン結合数が2つに相当する成分(Q2成分)、シロキサン結合数が3つに相当する成分(Q3成分)、及びシロキサン結合数が4つに相当する成分(Q4成分)のピーク強度のトータルに占めるQ4成分のピーク強度の割合が、50%以上であることが好ましく、より好ましくは60%以上であり、さらに好ましくは70%以上である。上記割合が上記範囲内であると、ヒドロシリル基、アルコキシ基等の末端基が少ないため、樹脂の硬化収縮率を小さくできるとともに、シリカ粒子含有縮合反応物のポットライフが長くなることから好ましい。なお、各Q成分のピーク強度はピーク面積から算出する。 The Q component contained in the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention preferably has a high condensation rate from the viewpoint of pot life and viscosity. The Q component of the silica particle-containing condensation reaction product refers to silica particles (b) in the silica particle-containing condensation reaction product, n6 = 0 among the silane compounds represented by the above general formula (4), and general It is a part derived from the silane compound represented by the formula (1) where n1 = 0. The condensation rate of the Q component can be evaluated by determining the amount of a component corresponding to 0 to 4 siloxane bonds from 29 Si NMR analysis of a solution or solid. In the silica particle-containing condensation reaction product, the component corresponding to zero siloxane bond (Q0 component), the component corresponding to one siloxane bond (Q1 component), and the component corresponding to two siloxane bonds (Q2 component) The ratio of the peak intensity of the Q4 component to the total peak intensity of the component corresponding to 3 siloxane bonds (Q3 component) and the component corresponding to 4 siloxane bonds (Q4 component) is 50% or more. Preferably, it is 60% or more, more preferably 70% or more. When the ratio is within the above range, since there are few terminal groups such as hydrosilyl groups and alkoxy groups, the curing shrinkage of the resin can be reduced, and the pot life of the silica particle-containing condensation reaction product is preferably increased. The peak intensity of each Q component is calculated from the peak area.

本発明のシリカ粒子含有縮合反応物の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)による標準ポリメチルメタクリレート換算での重量平均分子量は、好ましくは1,000以上200,000以下の範囲、更に好ましくは1,000以上100,000以下である。該縮合反応物の重量平均分子量が1,000以上であると、耐熱性、及びシリカ粒子含有縮合反応物のポットライフが長く、重量平均分子量が200,000以下であると、シリカ粒子含有縮合反応物の粘度が低くなるため好ましい。   The weight average molecular weight of the silica particle-containing condensation reaction product of the present invention in terms of standard polymethyl methacrylate by gel permeation chromatography (GPC) is preferably in the range of 1,000 to 200,000, more preferably 1,000. More than 100,000. When the weight average molecular weight of the condensation reaction product is 1,000 or more, the heat resistance and the pot life of the silica particle-containing condensation reaction product are long, and when the weight average molecular weight is 200,000 or less, the silica particle-containing condensation reaction. Since the viscosity of a thing becomes low, it is preferable.

本発明の別の態様は、上述した本発明のシリカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)とを含み、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)が不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有し、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ不飽和炭化水素基及びSiH基を含有する、樹脂組成物を提供する。   Another aspect of the present invention includes the silica particle-containing condensation reaction product (A) of the present invention described above and a hydrosilylation catalyst (B), and the silica particle-containing condensation reaction product (A) is an unsaturated hydrocarbon group. And / or a resin composition containing an SiH group, wherein the content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) is 20% by mass or more, and contains an unsaturated hydrocarbon group and an SiH group.

本発明の更に別の態様は、上述した本発明のシリカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)と、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有する成分(C)とを含み、該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ不飽和炭化水素基及びSiH基を含有する、樹脂組成物を提供する。   Still another embodiment of the present invention is the above-described silica particle-containing condensation reaction product (A) of the present invention, hydrosilylation catalyst (B), component (C) containing an unsaturated hydrocarbon group and / or SiH group. And a content ratio of the silica particle-containing condensation reaction product (A) is 20% by mass or more, and an unsaturated hydrocarbon group and a SiH group are provided.

本発明の樹脂組成物は、上記いずれの態様においても、不飽和炭化水素基とSiH基とを含有するため、加熱によってこれらが付加反応して樹脂組成物を硬化させることができる。すなわち、シリカ粒子含有縮合反応物(A)が不飽和炭化水素基及びSiH基を有する態様においては、これらの不飽和炭化水素基及びSiH基が付加反応できる。一方、樹脂組成物が、不飽和炭化水素基及びSiH基を含有する成分(C)を含有する場合には、該成分(C)中の不飽和炭化水素基及びSiH基が付加反応できる。なお、成分(C)を含有する樹脂組成物の態様において、更にシリカ粒子含有縮合反応物(A)が不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有していてもよい。   In any of the above embodiments, the resin composition of the present invention contains an unsaturated hydrocarbon group and a SiH group, so that they can undergo an addition reaction by heating to cure the resin composition. That is, in an embodiment in which the silica particle-containing condensation reaction product (A) has an unsaturated hydrocarbon group and an SiH group, these unsaturated hydrocarbon group and SiH group can undergo an addition reaction. On the other hand, when the resin composition contains a component (C) containing an unsaturated hydrocarbon group and a SiH group, the unsaturated hydrocarbon group and SiH group in the component (C) can undergo an addition reaction. In the embodiment of the resin composition containing the component (C), the silica particle-containing condensation reaction product (A) may further contain an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group.

成分(C)を構成する、不飽和炭化水素基を有する化合物、及び/又はSiH基を有する(すなわち珪素原子に直接結合した水素原子を含有する)化合物として、例えば、上記一般式(2)〜(4)でそれぞれ表されるシラン化合物から選ばれる1種以上を加水分解及び縮合してなるポリオルガノシロキサンを挙げることができる。これは、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)との縮合反応における未縮合のポリシロキサン化合物(a)であってもよい。樹脂組成物の好ましい例としては、シリカ粒子含有縮合反応物(A)、ヒドロシリル化触媒(B)、並びに成分(C)として、不飽和炭化水素を含有する化合物、及び/又は珪素原子に直接結合した水素原子を含有する化合物、からなる樹脂組成物が挙げられる。   Examples of the compound having an unsaturated hydrocarbon group and / or the compound having an SiH group (that is, containing a hydrogen atom directly bonded to a silicon atom) constituting the component (C) include those represented by the general formulas (2) to (2) to The polyorganosiloxane formed by hydrolyzing and condensing 1 or more types chosen from the silane compound each represented by (4) can be mentioned. This may be an uncondensed polysiloxane compound (a) in the condensation reaction between the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b). Preferred examples of the resin composition include silica particle-containing condensation reaction product (A), hydrosilylation catalyst (B), and as component (C), a compound containing an unsaturated hydrocarbon and / or a direct bond to a silicon atom. And a resin composition comprising a compound containing a hydrogen atom.

樹脂組成物においては、シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が、20質量%以上100質量%以下であることが好ましく、より好ましくは30質量%以上100質量%以下であり、さらに好ましくは40質量%以上100質量%以下である。上記含有率は、得られる硬化膜の硬度の観点から、20質量%以上100質量%以下であることが好ましい。   In the resin composition, the content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) is preferably 20% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 100% by mass or less, and still more preferably. Is 40 mass% or more and 100 mass% or less. It is preferable that the said content rate is 20 to 100 mass% from a viewpoint of the hardness of the cured film obtained.

樹脂組成物中の、全不飽和炭化水素基数Z1及び全SiH基数Z2が、0.25≦Z1/Z2≦2を満たすことが好ましく、より好ましくは0.5≦Z1/Z2≦1.5を満たし、さらに好ましくは0.7≦Z1/Z2≦1.5を満たす。Z1/Z2は、硬化物の透明性の観点から0.25以上、特に0.7以上であることが好ましく、収縮率の観点から2以下、特に1.5以下であることが好ましい。 It is preferable that the total number of unsaturated hydrocarbon groups Z 1 and the total number of SiH groups Z 2 in the resin composition satisfy 0.25 ≦ Z 1 / Z 2 ≦ 2, more preferably 0.5 ≦ Z 1 / Z. 2 ≦ 1.5 is satisfied, more preferably 0.7 ≦ Z 1 / Z 2 ≦ 1.5. Z 1 / Z 2 is preferably 0.25 or more, particularly 0.7 or more from the viewpoint of transparency of the cured product, and preferably 2 or less, particularly 1.5 or less from the viewpoint of shrinkage.

ヒドロシリル化触媒(B)は、不飽和炭化水素基における不飽和炭化水素と、SiH基における珪素原子に直接結合した水素原子との付加反応を促進するための触媒であり、周知のヒドロシリル化触媒を使用できる。具体的には、白金(白金黒を含む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体;H2PtCl4・nH2O、H2PtCl6・nH2O、NaHPtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2O、K2PtCl4・nH2O、PtCl4・nH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・nH2O(上式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0又は6である。)等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩;アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明細書参照);塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス(米国特許第3,159,601号明細書、同第3,159,662号明細書、同第3,775,452号明細書参照);白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの;ロジウム−オレフィンコンプレックス;クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒);塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、例えば、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体、ビニル基含有環状シロキサンとのコンプレックス等が挙げられる。これらのヒドロシリル化触媒は、1種類で用いてもよいし、2種以上のヒドロシリル化触媒を混合して用いてもよい。ヒドロシリル化触媒(B)は有効量用いればよく、通常、樹脂組成物の合計量に対し、白金族金属の質量換算で、0.01〜1000ppm、好ましくは0.2〜100ppmである。硬化速度の観点から、0.01ppm以上が好ましく、硬化物の透明性の観点から1000ppm以下が好ましい。 The hydrosilylation catalyst (B) is a catalyst for promoting the addition reaction between the unsaturated hydrocarbon in the unsaturated hydrocarbon group and the hydrogen atom directly bonded to the silicon atom in the SiH group. Can be used. Specifically, platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium, palladium, etc .; H 2 PtCl 4 · nH 2 O, H 2 PtCl 6 · nH 2 O, NaHPtCl 6 · nH 2 O, KHPtCl 6 NH 2 O, Na 2 PtCl 6 · nH 2 O, K 2 PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · nH 2 O (where n is 0 to 0) An integer of 6, preferably 0 or 6), such as platinum chloride, chloroplatinic acid and chloroplatinate; alcohol-modified chloroplatinic acid (see US Pat. No. 3,220,972); Platinum acid and olefin complex (see US Pat. Nos. 3,159,601, 3,159,662, and 3,775,452); platinum black, palladium, etc. Platinum group metals such as alumina, silica, Supported on a carrier such as carbon; rhodium-olefin complex; chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson catalyst); platinum chloride, chloroplatinic acid or chloroplatinate and vinyl group-containing siloxane such as divinyltetramethyl Examples thereof include a disiloxane platinum complex and a complex with a vinyl group-containing cyclic siloxane. These hydrosilylation catalysts may be used alone or in combination of two or more hydrosilylation catalysts. The hydrosilylation catalyst (B) may be used in an effective amount, and is usually 0.01 to 1000 ppm, preferably 0.2 to 100 ppm in terms of the mass of the platinum group metal with respect to the total amount of the resin composition. From the viewpoint of curing speed, 0.01 ppm or more is preferable, and from the viewpoint of transparency of the cured product, 1000 ppm or less is preferable.

本発明の樹脂組成物には、各種支持基材との接着性を向上させる目的で、接着補助剤を添加してもよい。接着補助剤としては、シランカップリング剤、より具体的には、例えば珪素原子に直接結合した水素原子を含有するアルコキシシラン、エポキシ基を含有するアルコキシシラン、ビニル基等の不飽和結合を含有するアルコキシシラン等の有機アルコキシシラン化合物、並びに、これらの有機アルコキシシラン化合物の一部又は全てのアルコキシシランが加水分解された化合物、及びその縮合物が挙げられる。   An adhesive aid may be added to the resin composition of the present invention for the purpose of improving the adhesion to various supporting substrates. As an adhesion assistant, a silane coupling agent, more specifically, for example, an alkoxysilane containing a hydrogen atom directly bonded to a silicon atom, an alkoxysilane containing an epoxy group, an unsaturated bond such as a vinyl group, etc. Examples thereof include organic alkoxysilane compounds such as alkoxysilane, compounds obtained by hydrolyzing some or all of these organic alkoxysilane compounds, and condensates thereof.

上記シランカップリング剤の添加量は、本発明の樹脂組成物100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下が好ましく、0.05質量部以上5質量部以下がより好ましい。シランカップリング剤の添加量は、接着性が向上する観点から0.01質量部以上が好ましく、保存安定性の観点から10質量部以下が好ましい。   The addition amount of the silane coupling agent is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin composition of the present invention. The addition amount of the silane coupling agent is preferably 0.01 parts by mass or more from the viewpoint of improving adhesiveness, and preferably 10 parts by mass or less from the viewpoint of storage stability.

本発明の樹脂組成物に、無機フィラーを添加してもよい。無機フィラーは、光透過性への悪影響を避けるため、目的の用途において使用する波長以下の平均粒子径を有するものが好ましく、平均粒子径は、より好ましくは100nm以下である。無機フィラーは、樹脂において、例えば機械的物性を改善する場合及び熱伝導性を向上させる場合がある。無機フィラーの平均粒子径の下限は特に限定はないが、樹脂組成物の粘度が低く良好な成形性を有するため、0.1nm以上であることが好ましい。なお上記平均粒子径は、BETの比表面積から計算で求められる値である。無機フィラーの添加量は、目的に応じて選択できるが、樹脂組成物100質量部に対して、例えば1〜60質量部、より好ましくは5〜60質量部、さらに好ましくは5〜40質量部であることができる。   An inorganic filler may be added to the resin composition of the present invention. In order to avoid an adverse effect on light transmittance, the inorganic filler preferably has an average particle diameter equal to or smaller than the wavelength used in the intended application, and the average particle diameter is more preferably 100 nm or less. In the inorganic filler, in the resin, for example, mechanical properties may be improved and thermal conductivity may be improved. The lower limit of the average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.1 nm or more because the resin composition has a low viscosity and good moldability. The average particle diameter is a value obtained by calculation from the specific surface area of BET. Although the addition amount of an inorganic filler can be selected according to the objective, it is 1-60 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions, More preferably, it is 5-60 mass parts, More preferably, it is 5-40 mass parts. Can be.

本発明の樹脂組成物には、発光波長の色を変換させる目的で、蛍光体又は燐光体を添加することもできる。これらの材料は公知の方法、例えば遠心分離等を用いて樹脂組成物及び任意の他の成分と混合し、得られた混合物を公知の方法、例えば真空脱泡等で泡抜きすることが好ましい。   In the resin composition of the present invention, a phosphor or a phosphor can be added for the purpose of converting the color of the emission wavelength. These materials are preferably mixed with the resin composition and any other components using a known method such as centrifugation, and the resulting mixture is preferably defoamed by a known method such as vacuum defoaming.

本発明の樹脂組成物は公知の方法を用いて硬化させることができる。具体的には、加熱によって硬化させる方法、及び紫外線(UV)を照射することによって硬化させる方法が挙げられる。加熱により硬化させる際の温度は、20〜200℃の範囲が好ましい。   The resin composition of the present invention can be cured using a known method. Specifically, a method of curing by heating and a method of curing by irradiating ultraviolet rays (UV) can be mentioned. The temperature for curing by heating is preferably in the range of 20 to 200 ° C.

前記の硬化反応は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、又は低級飽和炭化水素系ガス若しくは空気等の雰囲気下、減圧下又は加圧下で行うことができる。これらのガスは、1種又は2種以上の混合ガスとして用いることができる。   The curing reaction can be carried out under an atmosphere of inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, lower saturated hydrocarbon gas or air, under reduced pressure or under pressure. . These gases can be used as 1 type, or 2 or more types of mixed gas.

本発明の別の態様は、上述した本発明の樹脂組成物を含む封止樹脂を提供する。封止樹脂は、典型的には、上述の本発明の樹脂組成物に、任意に、蛍光体、密着補助剤等を添加したものである。該封止樹脂は、発光素子を封止して発光ダイオードを形成するために特に有用である。   Another aspect of the present invention provides a sealing resin containing the above-described resin composition of the present invention. The sealing resin is typically obtained by arbitrarily adding a phosphor, an adhesion aid, or the like to the above-described resin composition of the present invention. The sealing resin is particularly useful for sealing a light emitting element to form a light emitting diode.

使用される発光素子の具体例としては、例えば、基板上に半導体材料を積層して形成した発光素子を例示することができる。この場合、半導体材料としては、例えば、GaAs、GaP、GaAlAs、GaAsP、AlGaInP、GaN、InN、AlN、InGaAlN、SiC等が挙げられる。   As a specific example of the light emitting element to be used, for example, a light emitting element formed by stacking semiconductor materials on a substrate can be exemplified. In this case, examples of the semiconductor material include GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN, and SiC.

本発明の樹脂組成物を含む本発明の封止樹脂で発光素子を封止する方法としては、例えば、モールド型枠中に封止樹脂を予め注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレーム等を浸漬した後に該封止樹脂を硬化させる方法、発光素子を挿入した型枠中に封止樹脂を注入した後、該封止樹脂を硬化させる方法等が挙げられる。この際、封止樹脂を注入する方法としては、ディスペンサーによる注入、トランスファー成形、射出成形等が挙げられる。さらに、その他の封止方法としては、封止樹脂を発光素子上へ滴下、孔版印刷、スクリーン印刷、又は、マスクを介して塗布して硬化させる方法、低部に発光素子を配置したカップ等に封止樹脂をディスペンサー等により注入し、硬化させる方法等が挙げられる。   As a method of sealing a light emitting element with the sealing resin of the present invention containing the resin composition of the present invention, for example, a lead frame in which a sealing resin is previously injected into a mold mold and the light emitting element is fixed thereto For example, a method of curing the sealing resin after dipping the sealing resin, a method of curing the sealing resin after injecting the sealing resin into a mold with the light emitting element inserted, and the like. In this case, examples of the method for injecting the sealing resin include injection by a dispenser, transfer molding, injection molding, and the like. Further, as other sealing methods, a sealing resin is dropped onto a light emitting element, stencil printing, screen printing, or a method of applying and curing through a mask, a cup having a light emitting element arranged in a lower part, etc. Examples include a method of injecting a sealing resin with a dispenser or the like and curing.

封止部分の形状としては、例えば、凹レンズ形状、凸レンズ形状、砲弾形状、板状、薄膜状等が挙げられる。   Examples of the shape of the sealing portion include a concave lens shape, a convex lens shape, a shell shape, a plate shape, and a thin film shape.

本発明の別の態様は、上述した本発明の樹脂組成物を含む硬化性組成物を用いて形成されてなるレンズを提供する。このような硬化性組成物を従来公知の方法で硬化させてレンズを形成できる。   Another aspect of the present invention provides a lens formed using a curable composition containing the above-described resin composition of the present invention. Such a curable composition can be cured by a conventionally known method to form a lens.

また、本発明の樹脂組成物を含む硬化性組成物は、発光素子をリード端子又はパッケージに固定するダイボンド材、発光素子上のパッシベーション膜、パッケージ基板等の材料として用いることもできる。   The curable composition containing the resin composition of the present invention can also be used as a material such as a die bond material for fixing a light emitting element to a lead terminal or a package, a passivation film on the light emitting element, and a package substrate.

本発明の別の態様は、上述した本発明の樹脂組成物を含むアンダーフィル材を提供する。このようなアンダーフィル材は、例えば応力緩和及び接合補強の目的でチップ−基板間に挿入し、従来公知の方法により硬化させることができる。   Another aspect of the present invention provides an underfill material comprising the above-described resin composition of the present invention. Such an underfill material can be inserted between a chip and a substrate for the purpose of stress relaxation and joint reinforcement, for example, and can be cured by a conventionally known method.

本発明の樹脂組成物を用いて得られた発光ダイオードは、従来公知の方法で性能の向上を図ることができる。性能の向上方法としては、例えば、発光素子背面に光の反射層又は集光層を設ける方法、補色着色部を底部に形成する方法、主発光ピークより短波長の光を吸収する層を発光素子上に設ける方法、発光素子を封止した後さらに硬質材料でモールディングする方法、発光ダイオードを貫通孔に挿入して固定する方法、発光素子をフリップチップ接続等によってリード部材等と接続して基板方向から光を取り出す方法等が挙げられる。   The performance of the light-emitting diode obtained using the resin composition of the present invention can be improved by a conventionally known method. As a method for improving the performance, for example, a method of providing a light reflecting layer or a condensing layer on the back surface of the light emitting device, a method of forming a complementary colored portion on the bottom, and a layer that absorbs light having a wavelength shorter than the main light emitting peak Method of providing on top, Method of molding light emitting element after sealing with hard material, Method of inserting light emitting diode into through hole and fixing, Light emitting element connected to lead member etc. by flip chip connection etc. And a method of extracting light from the light source.

本発明の樹脂組成物を用いて得られた発光ダイオードは、例えば、液晶ディスプレイ等のバックライト、照明、各種センサー、プリンター、コピー機等の光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等として有用である。   The light-emitting diode obtained by using the resin composition of the present invention includes, for example, a backlight such as a liquid crystal display, illumination, various sensors, a light source such as a printer and a copying machine, an instrument light source for vehicles, a signal lamp, a display lamp, and a display device It is useful as a light source for a planar light emitter, a display, a decoration, various lights, and the like.

以下、実施例及び比較例により本発明の実施の形態を詳細に説明する。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to these.

実施例1〜実施例10、製造例1〜製造例4、比較例1〜比較例2によるサンプルについて、(1)〜(5)についての測定を行った。   About the sample by Example 1- Example 10, Manufacturing Example 1- Manufacturing Example 4, and Comparative Example 1- Comparative Example 2, the measurement about (1)-(5) was performed.

(1)NMR測定(縮合率評価)
サンプル調製:縮合反応物濃度30質量%の重アセトン溶液にトリス(2,4−ペンタンジオナト)クロム(III)を0.5質量%添加し、サンプル調製を行った。
測定条件:
29SiNMR
日本電子製のNMR(核磁気共鳴)装置 GSX400を使用し、積算回数を2048回として積算を行った。
得られたデータから、以下の手順で、ポリシロキサン化合物(a)の縮合率を算出した。
ポリシロキサン化合物(a)の縮合率は、29SiNMRの各珪素ピークの面積比より、各成分(M0、M1、D0、D1、D2、T0、T1、T2、T3、Q0、Q1、Q2、Q3、Q4)の珪素存在率を測定することによって算出した。
具体的には下記のように算出した。
前述のD1成分のピーク面積を(D1)と表す。
縮合した珪素面積:
{(M1)+(D1)+(D2)×2+(T1)+(T2)×2+(T3)×3+(Q1)+(Q2)×2+(Q3)×3+(Q4)×4}
全珪素面積:
{(M0)+(M1)}+{(D0)+(D1)+(D2)}×2+{(T0)+(T1)+(T2)+(T3)}×3+{(Q0)+(Q1)+(Q2)+(Q3)+(Q4)}×4
ポリシロキサン化合物(a)縮合率=(縮合した珪素面積)/(全珪素面積)×100
(1) NMR measurement (condensation rate evaluation)
Sample preparation: A sample was prepared by adding 0.5% by mass of tris (2,4-pentanedionato) chromium (III) to a heavy acetone solution having a condensation reaction product concentration of 30% by mass.
Measurement condition:
29 SiNMR
Using an NMR (Nuclear Magnetic Resonance) apparatus GSX400 manufactured by JEOL, the number of integrations was set to 2048.
From the obtained data, the condensation rate of the polysiloxane compound (a) was calculated by the following procedure.
The condensation rate of the polysiloxane compound (a) is determined based on the area ratio of each silicon peak of 29 SiNMR (M0, M1, D0, D1, D2, T0, T1, T2, T3, Q0, Q1, Q2, Q3). Q4) was calculated by measuring the silicon abundance.
Specifically, the calculation was performed as follows.
The peak area of the aforementioned D1 component is represented as (D1).
Condensed silicon area:
{(M1) + (D1) + (D2) × 2 + (T1) + (T2) × 2 + (T3) × 3 + (Q1) + (Q2) × 2 + (Q3) × 3 + (Q4) × 4}
Total silicon area:
{(M0) + (M1)} + {(D0) + (D1) + (D2)} × 2 + {(T0) + (T1) + (T2) + (T3)} × 3 + {(Q0) + ( Q1) + (Q2) + (Q3) + (Q4)} × 4
Polysiloxane compound (a) condensation rate = (condensed silicon area) / (total silicon area) × 100

(2)ガスクロマトグラム測定(加水分解率評価、及びシラノール基含有率評価)
縮合反応物の反応液を、イソプロピルアルコールで希釈し、標準物質を1wt%になるように加えた溶液を、ガスクロマトグラフィー分析装置(アジレント・テクノロジー株式会社製HP6890、カラム:DB−WAX 30m×0.250mm 0.25μm厚)を用いて測定した。得られた結果から、別途作成した内部標準法による検量線を用いて、メタノール、及びエタノールの含有量を定量し、加水分解率を算出した。
前述の方法で算出した縮合率、及び加水分解率から、ポリシロキサン化合物(a)中のシラノール基含有率を算出した。
(2) Gas chromatogram measurement (hydrolysis rate evaluation and silanol group content rate evaluation)
A solution obtained by diluting a reaction solution of the condensation reaction product with isopropyl alcohol and adding a standard substance so as to be 1 wt% is a gas chromatography analyzer (HP 6890 manufactured by Agilent Technologies, column: DB-WAX 30 m × 0). 250 mm, 0.25 μm thickness). From the obtained results, the contents of methanol and ethanol were quantified using a separately prepared internal standard calibration curve, and the hydrolysis rate was calculated.
The silanol group content in the polysiloxane compound (a) was calculated from the condensation rate and hydrolysis rate calculated by the method described above.

(3)分子量測定
東ソー製のゲルパーミネーションクロマトグラフィー(GPC)、HLC−8220、及びTSKgelGMHHR−Mカラムを使用し、アセトン溶媒中、縮合反応物を1質量%溶液にして測定し、示差屈折率計(RI)により標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)を求めた。
(3) Molecular weight measurement Using Tosoh gel permeation chromatography (GPC), HLC-8220, and TSKgelGMH HR- M column, the condensation reaction product was measured as a 1% by mass solution in acetone solvent, and differential refraction was performed. A weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was determined by a rate meter (RI).

(4)粘度測定
東機産業株式会社製のRE80型粘度計を用いて、製造した各ポリマーについての粘度測定を行った。100poise以下のポリマーを○、100poiseより粘度が高いポリマーを×として、表2にまとめた。
(4) Viscosity measurement Using a RE80 viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., the viscosity of each produced polymer was measured. Table 2 summarizes the polymers of 100 poise or less as ◯ and the polymers having a viscosity higher than 100 poise as x.

(5)ポットライフ
得られたポリマーを、ガラス製のサンプル瓶に5g取り、室温で1ヶ月間静置した時に、流動性を保っているポリマーを○、ゲル化したポリマーを×として、表2にまとめた。
(5) Pot life 5 g of the obtained polymer was taken in a glass sample bottle and left to stand at room temperature for 1 month. Summarized in

[ポリマーの調製]
[実施例1]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 3.76g(25mmol)、ジメチルジメトキシシラン 4.00g(33mmol)、メトキシジメチルビニルシラン 4.92g(42mmol)、イソプロピルアルコール 12.5gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 9.88g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液1を得た。反応液1の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は63.1mol%、シラノール基含有率は33.7mol%であった。
[Preparation of polymer]
[Example 1]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 3.76 g (25 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 4.00 g (33 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 4.92 g (42 mmol) of methoxydimethylvinylsilane, and 12.5 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 9.88 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 1 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 1 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 Si NMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 63.1 mol%, and the silanol group content was 33. It was 7 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 10.0g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 12.5gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液1を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, 10.0 g (silica particles (b)) of PL-2L (average primary particle diameter 20 nm, 20% by mass concentration manufactured by Fuso Chemical Industries) and 12.5 g of isopropyl alcohol are added. And stirred. Then, the reaction liquid 1 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにプロピレングリコールメチルエチルアセテート(以下PGMEAと呼ぶ)40gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー1を得た。   After refluxing, 40 g of propylene glycol methyl ethyl acetate (hereinafter referred to as PGMEA) was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 1 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー1の反応成分中のシリカ粒子含有率は19質量%であった。ポリマー1をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2200であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 1 was 19% by mass. When the molecular weight of polymer 1 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2200.

[実施例2]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 8.78g(73mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 7.24g(55mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液2を得た。反応液2の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は64.6mol%、シラノール基含有率は32.3mol%であった。
[Example 2]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.78 g (73 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.24 g (55 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 2 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 2 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 64.6 mol% and the silanol group content was 32. It was 3 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 30.0g(シリカ粒子(b))))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液2を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, PL-2L (30.0 g (silica particles (b))) having an average primary particle diameter of 20 nm and a concentration of 20% by mass manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd.) and 25 g of isopropyl alcohol are added. And stirred. Then, the reaction liquid 2 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー2を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 2 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー2の反応成分中のシリカ粒子含有率は29質量%であった。。ポリマー2をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2300であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 2 was 29% by mass. . When the molecular weight of polymer 2 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2300.

[実施例3]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 11.27g(75mmol)、ジメチルジメトキシシラン 6.37g(53mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 7.24g(55mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 23.8g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液3を得た。反応液3の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は64.2mol%、シラノール基含有率は32.5mol%であった。
[Example 3]
Into a 200 mL eggplant-shaped flask, 11.27 g (75 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 6.37 g (53 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.24 g (55 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 23.8 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 3 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 3 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 64.2 mol% and the silanol group content was 32. It was 5 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 30g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液3を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   30 g (silica particles (b)) of PL-2L (manufactured by Fuso Chemical Industries, water-dispersed silica particles having an average primary particle diameter of 20 nm and a concentration of 20% by mass) and 25 g of isopropyl alcohol were added to a 300 mL eggplant-shaped flask and stirred. . Then, the reaction liquid 3 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー3を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 3 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー3の反応成分中のシリカ粒子含有率は29質量%であった。ポリマー3をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2100であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 3 was 29% by mass. When the molecular weight of polymer 3 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2100.

[実施例4]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 6.37g(53mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 9.91g(75mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液4を得た。反応液4の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は62.1mol%、シラノール基含有率は34.5mol%であった。
[Example 4]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 6.37 g (53 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 9.91 g (75 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours in a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 4 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 4 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 62.1 mol%, and the silanol group content was 34. It was 5 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 30g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液4を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   30 g (silica particles (b)) of PL-2L (manufactured by Fuso Chemical Industries, water-dispersed silica particles having an average primary particle diameter of 20 nm and a concentration of 20% by mass) and 25 g of isopropyl alcohol were added to a 300 mL eggplant-shaped flask and stirred. . Then, the reaction liquid 4 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー4を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 4 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー4の反応成分中のシリカ粒子含有率は29質量%であった。ポリマー4をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2200であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 4 was 29% by mass. When the molecular weight of the polymer 4 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2200.

[実施例5]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 8.78g(73mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 7.24g(55mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液5を得た。反応液5の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は67.2mol%、シラノール基含有率は29.8mol%であった。
[Example 5]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.78 g (73 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.24 g (55 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 5 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 5 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 67.2 mol% and the silanol group content was 29. It was 8 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−1(扶桑化学工業製の平均一次粒子径12nm、12質量%濃度の水分散シリカ粒子) 50.0g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液5を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, PL-1 (water dispersion silica particles having an average primary particle size of 12 nm and a concentration of 12% by mass manufactured by Fuso Chemical Industries) 50.0 g (silica particles (b)) and 25 g of isopropyl alcohol were added. Stir. Then, the reaction liquid 5 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー5を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, using a vacuum pump, PEGMEA was removed under reduced pressure, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 5 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー5の反応成分中のシリカ粒子含有率は29質量%であった。ポリマー5をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2200であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 5 was 29% by mass. When the molecular weight of the polymer 5 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2200.

[実施例6]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 8.78g(73mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 7.24g(55mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液6を得た。反応液6の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は63.6mol%、シラノール基含有率は33.1mol%であった。
[Example 6]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.78 g (73 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.24 g (55 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 6 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 6 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 63.6 mol% and the silanol group content was 33. It was 1 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 30.0g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液6を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, 30.0 g (silica particles (b)) of water-dispersed silica particles having an average primary particle diameter of 20 nm and a concentration of 20% by mass manufactured by Fuso Chemical Industry, 25 g of isopropyl alcohol were added. Stir. Then, the reaction liquid 6 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去した。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump.

このポリマーに、PEGMEA 80g、ピリジン 25g(315mmol)を加えて混合し、攪拌しながらトリメチルクロロシラン22.8g(210mmol)(シランカップリング剤)を5分かけて滴下した。続いて、50℃で3時間加熱した後、室温まで冷却した。得られた反応液に、水 50g、トルエン 20gを加え、抽出する操作を3回繰り返し、洗浄し、真空ポンプを用いて、減圧下で溶媒を除去し、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー6を得た。   To this polymer, 80 g of PEGMEA and 25 g (315 mmol) of pyridine were added and mixed, and 22.8 g (210 mmol) of trimethylchlorosilane (silane coupling agent) was added dropwise over 5 minutes while stirring. Then, after heating at 50 degreeC for 3 hours, it cooled to room temperature. To the obtained reaction solution, 50 g of water and 20 g of toluene were added, and the extraction operation was repeated three times, washed, the solvent was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and polymer 6 which is a silica particle-containing condensation reaction product. Got.

ポリマー6の反応成分中のシリカ粒子含有率は28質量%であった。ポリマー6をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は2400であった。 The content of silica particles in the reaction component of polymer 6 was 28% by mass. When the molecular weight of polymer 6 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 2400.

[実施例7]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.15g(54mmol)、ジエトキシメチルシラン 8.70g(65mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 15.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液7を得た。反応液7の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は62.4mol%、シラノール基含有率は35.2mol%であった。
[Example 7]
Into a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.15 g (54 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.70 g (65 mmol) of diethoxymethylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 15.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 7 containing a polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 7 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 62.4 mol% and the silanol group content was 35. It was 2 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 20g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液7と、トリメチルエトキシシラン 20.51g(175mmol)(シランカップリング剤)を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, 20 g (silica particles (b)) of PL-2L (average primary particle diameter 20 nm, 20% by mass concentration, manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd.) and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. . Subsequently, using a dropping funnel, the reaction solution 7 cooled to room temperature and 20.51 g (175 mmol) of trimethylethoxysilane (silane coupling agent) were added dropwise to the eggplant flask over 10 minutes, and 30 minutes at room temperature. Stir. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー7を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain Polymer 7 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー7の反応成分中のシリカ粒子含有率は26質量%であった。ポリマー7をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は5300であった。 The content of silica particles in the reaction component of polymer 7 was 26% by mass. When the molecular weight of the polymer 7 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 5300.

[実施例8]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 6.01g(40mmol)、ジエトキシメチルシラン 10.74g(80mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 15.1g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液8を得た。反応液8の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は66.2mol%、シラノール基含有率は30.8mol%であった。
[Example 8]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 6.01 g (40 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 10.74 g (80 mmol) of diethoxymethylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 15.1 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then added dropwise to a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 8 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 8 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 66.2 mol% and the silanol group content was 30. It was 8 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 20g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液8と、トリメチルエトキシシラン 20.51g(175mmol)(シランカップリング剤)を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, 20 g (silica particles (b)) of PL-2L (average primary particle diameter 20 nm, 20% by mass concentration, manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd.) and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. . Subsequently, using a dropping funnel, the reaction solution 8 cooled to room temperature and 20.51 g (175 mmol) of trimethylethoxysilane (silane coupling agent) were added dropwise to the eggplant flask over 10 minutes, and 30 minutes at room temperature. Stir. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー8を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain polymer 8 which is a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー8の反応成分中のシリカ粒子含有率は27質量%であった。ポリマー8をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は5500であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 8 was 27% by mass. When the molecular weight of the polymer 8 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 5500.

[実施例9]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.15g(54mmol)、ジエトキシメチルシラン 8.70g(65mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 15.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液9を得た。反応液2の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は64.3mol%、シラノール基含有率は32.6mol%であった。
[Example 9]
Into a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.15 g (54 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.70 g (65 mmol) of diethoxymethylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 15.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 9 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 2 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 64.3 mol% and the silanol group content was 32. It was 6 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−1(扶桑化学工業製の平均一次粒子径12nm、12質量%濃度の水分散シリカ粒子) 33g(シリカ粒子(b))(反応成分中の含有量26質量%)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液9と、トリメチルエトキシシラン 20.51g(175mmol)(シランカップリング剤)を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   In a 300 mL eggplant-shaped flask, PL-1 (water dispersion silica particles having an average primary particle diameter of 12 nm and a concentration of 12% by mass manufactured by Fuso Chemical Industries) 33 g (silica particles (b)) (content in the reaction component of 26% by mass) ), 25 g of isopropyl alcohol was added and stirred. Subsequently, using a dropping funnel, the reaction liquid 9 cooled to room temperature and 20.51 g (175 mmol) of trimethylethoxysilane (silane coupling agent) were dropped into the eggplant flask over 10 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Stir. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させて、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー9を得た。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C. to obtain polymer 9 as a silica particle-containing condensation reaction product.

ポリマー9の反応成分中のシリカ粒子含有率は26質量%であった。ポリマー9をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は5300であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 9 was 26% by mass. When the molecular weight of the polymer 9 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 5300.

[実施例10]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 7.81g(65mmol)、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃2時間還流させ、ポリシロキサン化合物(a)を含む反応液10を得た。反応液10の一部を回収し、キシレンを追加し、エバポレーターを用いて溶媒を除去した後、29SiNMR、ガスクロマトグラムを測定したところ、縮合率は65.6mol%、シラノール基含有率は31.6mol%であった。
[Example 10]
In a 200 mL eggplant type flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 7.81 g (65 mmol) of dimethyldimethoxysilane, and 25 g of isopropyl alcohol were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream using an oil bath to obtain a reaction solution 10 containing the polysiloxane compound (a). A part of the reaction solution 10 was recovered, xylene was added, the solvent was removed using an evaporator, and 29 SiNMR and gas chromatogram were measured. As a result, the condensation rate was 65.6 mol% and the silanol group content was 31. It was 6 mol%.

300mLのナス型フラスコに、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子) 20.0g(シリカ粒子(b))、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。続いて、滴下ロートを用いて、室温まで冷却した反応液10を、上記ナスフラスコへ10分かけて滴下し、室温で30分攪拌した。攪拌後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃4時間還流させた。   Into a 300 mL eggplant-shaped flask, PL-2L (water dispersion silica particles having an average primary particle size of 20 nm and a concentration of 20% by mass manufactured by Fuso Chemical Industries) 20.0 g (silica particles (b)) and 25 g of isopropyl alcohol were added. Stir. Then, the reaction liquid 10 cooled to room temperature using the dropping funnel was dripped at the said eggplant flask over 10 minutes, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, a condenser tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream.

還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去した。   After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump.

このポリマーに、PEGMEA 80g、ピリジン 25g(315mmol)を加えて混合し、攪拌しながらジメチルクロロシラン 19.8g(210mmol)(シランカップリング剤)を5分かけて滴下した。続いて、室温で3時間攪拌した。   To this polymer, 80 g of PEGMEA and 25 g (315 mmol) of pyridine were added and mixed, and 19.8 g (210 mmol) of dimethylchlorosilane (silane coupling agent) was added dropwise over 5 minutes while stirring. Subsequently, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.

得られた反応液に、水 50g、トルエン 20gを加え、抽出する操作を3回繰り返し、洗浄し、真空ポンプを用いて、減圧下で溶媒を除去し、シリカ粒子含有縮合反応物であるポリマー10を得た。   To the obtained reaction solution, 50 g of water and 20 g of toluene were added, and the extraction operation was repeated three times, washed, the solvent was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and the polymer 10 which is a silica particle-containing condensation reaction product. Got.

ポリマー10の反応成分中のシリカ粒子含有率は23質量%であった。ポリマー10をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は5500であった。   The content of silica particles in the reaction component of polymer 10 was 23% by mass. When the molecular weight of the polymer 10 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 5500.

[製造例1]
300mLナスフ型フラスコに、ジメチルジメトキシシラン 25.41g(211mmol)、エチルトリメトキシシラン 7.93g(53mmol)、エトキシトリメチルシラン 2.01g(17mmol)、イソプロピルアルコール 25gを入れ、攪拌した。この容器に、氷浴下、10℃を越えないように調節しながら、37%塩酸 17.4gを、滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃6時間還流させた。室温に冷却した後、水20g、アセトニトリル5gを加え、抽出する操作を3回繰り返した。水層が、pH試験紙で中性であることを確認した後、シリコーン層と、PEGMEA54gを300mLナス型フラスコに入れ、蒸留塔と真空ポンプをセットした。最終的にオイルバスを140℃まで昇温し、減圧下でPEGMEAを除去することで、ポリマー11を得た。縮合率は96.2mol%、シラノール基含有率は0.7mol%であった。
得られたポリマー11をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は8900であった。
[Production Example 1]
In a 300 mL Nasuf-type flask, 25.41 g (211 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.93 g (53 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 2.01 g (17 mmol) of ethoxytrimethylsilane, and 25 g of isopropyl alcohol were stirred. To this container, 17.4 g of 37% hydrochloric acid was dropped using a dropping funnel while adjusting the temperature so as not to exceed 10 ° C. in an ice bath. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, 20 g of water and 5 g of acetonitrile were added and extraction was repeated 3 times. After confirming that the aqueous layer was neutral with pH test paper, the silicone layer and 54 g of PEGMEA were placed in a 300 mL eggplant-shaped flask, and a distillation tower and a vacuum pump were set. Finally, the temperature of the oil bath was raised to 140 ° C., and PEGMEA was removed under reduced pressure to obtain polymer 11. The condensation rate was 96.2 mol%, and the silanol group content was 0.7 mol%.
When the molecular weight of the obtained polymer 11 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 8900.

[製造例2]
300mLナスフ型フラスコに、ジメチルジメトキシシラン 19.03g(158mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 6.98g(53mmol)、エチルトリメトキシシラン 7.93g(53mmol)、ジメチルメトキシビニルシラン 1.97g(17mmol)、イソプロピルアルコール 25gを入れ、攪拌した。この容器に、氷浴下、10℃を越えないように調節しながら、37%塩酸 17.4gを、滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃6時間還流させた。室温に冷却した後、水20g、アセトニトリル5gを加え、抽出する操作を3回繰り返した。水層が、pH試験紙で中性であることを確認した後、シリコーン層と、PEGMEA54gを300mLナス型フラスコに入れ、蒸留塔と真空ポンプをセットした。最終的にオイルバスを140℃まで昇温し、減圧下でPEGMEAを除去することで、ポリマー12を得た。縮合率は97.5mol%、シラノール基含有率は0.5mol%であった。
[Production Example 2]
In a 300 mL Nasf flask, 19.03 g (158 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 6.98 g (53 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, 7.93 g (53 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 1.97 g (17 mmol) of dimethylmethoxyvinylsilane, 25 g of isopropyl alcohol And stirred. To this container, 17.4 g of 37% hydrochloric acid was dropped using a dropping funnel while adjusting the temperature so as not to exceed 10 ° C. in an ice bath. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, 20 g of water and 5 g of acetonitrile were added and extraction was repeated 3 times. After confirming that the aqueous layer was neutral with pH test paper, the silicone layer and 54 g of PEGMEA were placed in a 300 mL eggplant-shaped flask, and a distillation tower and a vacuum pump were set. Finally, the temperature of the oil bath was raised to 140 ° C., and PEGMEA was removed under reduced pressure to obtain polymer 12. The condensation rate was 97.5 mol%, and the silanol group content was 0.5 mol%.

得られたポリマー12をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は9300であった。   When the molecular weight of the obtained polymer 12 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 9300.

[製造例3]
300mLナスフ型フラスコに、ジメチルジメトキシシラン 19.03g(158mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 6.98g(53mmol)、エチルトリメトキシシラン 7.93g(53mmol)、イソプロピルアルコール 25gを入れ、攪拌した。この容器に、氷浴下、10℃を越えないように調節しながら、37%塩酸 16.6gを、滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、窒素気流下で100℃6時間還流させた。室温に冷却した後、水20g、アセトニトリル5gを加え、抽出する操作を3回繰り返した。水層が、pH試験紙で中性であることを確認した後、シリコーン層と、PEGMEA 50gを300mLナス型フラスコに入れ、蒸留塔と真空ポンプをセットした。最終的にオイルバスを140℃まで昇温し、減圧下でPEGMEAを除去することで、ポリマー13を得た。縮合率は97.8mol%、シラノール基含有率は0.3mol%であった。
[Production Example 3]
In a 300 mL Nasuf-type flask, 19.03 g (158 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 6.98 g (53 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, 7.93 g (53 mmol) of ethyltrimethoxysilane, and 25 g of isopropyl alcohol were stirred. To this container, 16.6 g of 37% hydrochloric acid was dropped using a dropping funnel while adjusting the temperature so as not to exceed 10 ° C. in an ice bath. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, 20 g of water and 5 g of acetonitrile were added and extraction was repeated 3 times. After confirming that the aqueous layer was neutral with pH test paper, the silicone layer and 50 g of PEGMEA were placed in a 300 mL eggplant-shaped flask, and a distillation tower and a vacuum pump were set. Finally, the temperature of the oil bath was raised to 140 ° C., and PEGMEA was removed under reduced pressure to obtain polymer 13. The condensation rate was 97.8 mol%, and the silanol group content was 0.3 mol%.

得られたポリマー13をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は12000であった。   When the molecular weight of the obtained polymer 13 was measured by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 12,000.

[製造例4]
300mLナスフ型フラスコに、ジメチルジメトキシシラン 29.81g(248mmol)、ジメトキシメチルシラン 11.10g(104mmol)、エチルトリメトキシシラン 12.42g(83mmol)、トリメチルエトキシシラン 10.75g(91mmol)、イソプロピルアルコール 37.5gを入れ、攪拌した。この容器に、氷浴下、10℃を越えないように調節しながら、37%塩酸 28.5gを、滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、窒素気流下で50℃6時間加熱した。室温に冷却した後、水20g、アセトニトリル5gを加え、抽出する操作を3回繰り返した。水層が、pH試験紙で中性であることを確認した後、シリコーン層と、PEGMEA 50gを300mLナス型フラスコに入れ、蒸留塔と真空ポンプをセットした。最終的にオイルバスを140℃まで昇温し、減圧下でPEGMEAを除去することで、ポリマー14を得た。縮合率は97.6mol%、シラノール基含有率は0.5mol%であった。
[Production Example 4]
In a 300 mL Nasuf flask, 29.81 g (248 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 11.10 g (104 mmol) of dimethoxymethylsilane, 12.42 g (83 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 10.75 g (91 mmol) of trimethylethoxysilane, isopropyl alcohol 37 .5 g was added and stirred. To this container, 28.5 g of 37% hydrochloric acid was dropped using an addition funnel while adjusting the temperature so as not to exceed 10 ° C. in an ice bath. After completion of dropping, a cooling tube was set and heated at 50 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, 20 g of water and 5 g of acetonitrile were added and extraction was repeated 3 times. After confirming that the aqueous layer was neutral with pH test paper, the silicone layer and 50 g of PEGMEA were placed in a 300 mL eggplant-shaped flask, and a distillation tower and a vacuum pump were set. Finally, the temperature of the oil bath was raised to 140 ° C., and PEGMEA was removed under reduced pressure to obtain polymer 14. The condensation rate was 97.6 mol%, and the silanol group content was 0.5 mol%.

得られたポリマー14をGPCにより分子量測定すると、標準ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量(Mw)は9000であった。   When the obtained polymer 14 was measured for molecular weight by GPC, the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polymethyl methacrylate was 9,000.

[比較例1]
200mLのナス型フラスコに、エチルトリメトキシシラン 8.23g(55mmol)、ジメチルジメトキシシラン 8.78g(73mmol)、ジメトキシメチルビニルシラン 7.24g(55mmol)、エチルシリケート40(コルコート株式会社製 固形分濃度40%) 15g、イソプロピルアルコール 25gを投入し、攪拌した。別途容器に蒸留水 22.7g、37%塩酸 1μLを取り、混合した後、滴下ロートを用いて、200mLナスフラスコに10分かけて滴下した。滴下終了後、冷却管をセットし、オイルバスを用いて窒素気流下で、100℃4時間還流させた。還流後、さらにPGMEA 80gを投入し、蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させたところ、ゲル化した。得られたゲルの縮合率は83.1mol%、シラノール基含有率は15.4mol%であった。
[Comparative Example 1]
In a 200 mL eggplant-shaped flask, 8.23 g (55 mmol) of ethyltrimethoxysilane, 8.78 g (73 mmol) of dimethyldimethoxysilane, 7.24 g (55 mmol) of dimethoxymethylvinylsilane, ethyl silicate 40 (solid content concentration 40 manufactured by Colcoat Co., Ltd.) %) 15 g and isopropyl alcohol 25 g were added and stirred. Separately, 22.7 g of distilled water and 1 μL of 37% hydrochloric acid were placed in a container, mixed, and then dropped into a 200 mL eggplant flask over 10 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, a cooling tube was set and refluxed at 100 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream using an oil bath. After the reflux, 80 g of PGMEA was added, a distillation column was set, and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and when the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C., gelation occurred. The resulting gel had a condensation rate of 83.1 mol% and a silanol group content of 15.4 mol%.

[比較例2]
100mlナス型フラスコに、製造例−2で作製したポリマー12を3g、イソプロピルアルコール 25g、PEGMEA 25gを取り、混合した後、PL−2L(扶桑化学工業製の平均一次粒子径20nm、20質量%濃度の水分散シリカ粒子)3gを投入し、混合した。蒸留塔をセットし、イソプロピルアルコールと水を除去した。続いて、真空ポンプを用いて、減圧下でPEGMEAを除去し、最終的にオイルバス温度を120℃まで昇温させたところ、ゲル化した。なおポリマー12は、合成時に37%塩酸17.4gを使用したため、シラノール基がほとんど残っていない。
[Comparative Example 2]
In a 100 ml eggplant-shaped flask, 3 g of the polymer 12 produced in Production Example-2, 25 g of isopropyl alcohol, and 25 g of PEGMEA were taken and mixed, and then PL-2L (average primary particle size 20 nm, 20% by mass, manufactured by Fuso Chemical Industries). 3 g of water-dispersed silica particles) was added and mixed. A distillation tower was set and isopropyl alcohol and water were removed. Subsequently, PEGMEA was removed under reduced pressure using a vacuum pump, and when the oil bath temperature was finally raised to 120 ° C., gelation occurred. In addition, since the polymer 12 used 17.4g of 37% hydrochloric acid at the time of synthesis | combination, the silanol group hardly remains.

[樹脂組成物の調製]
[実施例11]
ポリマー2を100質量部、ポリマー8を168質量部、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体を組成物全体に対して白金質量で3ppmになるように均一に混合した。混合後、真空脱泡し、熱硬化型樹脂組成物を調製した。
[Preparation of resin composition]
[Example 11]
100 parts by mass of polymer 2, 168 parts by mass of polymer 8 and a platinum complex of divinyltetramethyldisiloxane were uniformly mixed so that the total mass of the platinum was 3 ppm. After mixing, vacuum degassing was performed to prepare a thermosetting resin composition.

この樹脂組成物を下記(6)に示す方法で硬化させ、得られた硬化物について下記(7)〜(11)の評価を行った。なお樹脂組成物におけるZ1/Z2(全不飽和炭化水素基数Z1の、全SiH基数Z2に対する比)は下記(11)に示す方法で算出した。結果を表3にまとめた。 This resin composition was cured by the method shown in the following (6), and the obtained cured products were evaluated in the following (7) to (11). Note Z 1 / Z 2 in the resin composition (of the total unsaturated hydrocarbon groups Z 1, the ratio to the total SiH groups Z 2) was calculated by the following method (11). The results are summarized in Table 3.

[実施例12〜24、比較例3〜5]
ポリマー1〜ポリマー14、及びジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体を、表3に示す比率で配合したこと以外は実施例11と同様に操作し、熱硬化型樹脂組成物を調製した。
[Examples 12 to 24, Comparative Examples 3 to 5]
A thermosetting resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the polymers 1 to 14 and the divinyltetramethyldisiloxane platinum complex were blended in the ratios shown in Table 3.

これらの樹脂組成物を下記(6)に示す方法で硬化させ、得られた硬化物について下記(7)〜(11)の評価を行った。結果を表3にまとめた。   These resin compositions were cured by the method shown in the following (6), and the obtained cured products were evaluated in the following (7) to (11). The results are summarized in Table 3.

比較例4、比較例5については、両サンプルとも硬化しなかったため、測定不能であった。   About Comparative example 4 and Comparative example 5, since both samples did not harden | cure, it was impossible to measure.

(6)硬化
サイズ30mm×30mm×1mm又は10mm×10mm×5mmの型に、熱硬化型樹脂組成物を満たし、オーブンで、100℃30分加熱した後、140℃に昇温し30分間加熱し、さらに150℃に昇温し1時間加熱した後、室温まで冷却して硬化物サンプルを作製した。
(6) Curing Size 30mm x 30mm x 1mm or 10mm x 10mm x 5mm mold is filled with thermosetting resin composition and heated in an oven at 100 ° C for 30 minutes, then heated to 140 ° C and heated for 30 minutes. Further, the temperature was raised to 150 ° C. and heated for 1 hour, and then cooled to room temperature to prepare a cured product sample.

(7)耐熱黄変性測定
50mm×50mmのガラス板の上に、上記30mm×30mm×1mmの型を用いて硬化物サンプルを形成し、島津製作所製の紫外可視光分光光度計 UV−1600PCを用いて、波長800nm〜300nmにおける透過率を測定した。続いて、硬化物サンプルを、ホットプレートを用いて260℃×30分間大気下で加熱した。加熱後の透過率を、同様に測定した。硬化直後のサンプルの800nm〜300nmの各波長の透過率を100%とし、260℃加熱後の透過率の変化率が、90%以上あるものを○、90%未満のものを×と評価した。
(7) Heat resistant yellowing measurement A cured product sample is formed on a glass plate of 50 mm × 50 mm using the above mold of 30 mm × 30 mm × 1 mm, and an ultraviolet-visible light spectrophotometer UV-1600PC manufactured by Shimadzu Corporation is used. Then, the transmittance at a wavelength of 800 nm to 300 nm was measured. Subsequently, the cured product sample was heated in the air at 260 ° C. for 30 minutes using a hot plate. The transmittance after heating was measured in the same manner. The transmittance of each wavelength of 800 nm to 300 nm of the sample immediately after curing was set to 100%, and when the transmittance change rate after heating at 260 ° C. was 90% or more, ○, and less than 90% were evaluated as ×.

(8)耐光黄変性測定
50mm×50mmのガラス板の上に、上記30mm×30mm×1mmの型を用いて硬化物サンプルを形成し島津製作所製の紫外可視光分光光度計 UV−1600PCを用いて、800nm〜300nmの透過率を測定した。続いて、硬化物サンプルを、センエンジニアリング株式会社製 HC−98(高圧水銀ランプ:HL400DL−1)を用いて、190時間UV照射した。このとき、PETフィルムを用いて、300nm以下の波長をカットした光を照射した。UV照射後の透過率を、同様に測定した。硬化直後のサンプルの800nm〜300nmの各波長の透過率を100%とし、UV照射後の透過率の変化率が、90%以上あるものを○、90%未満のものを×と評価した。
(8) Light yellowing resistance measurement A cured product sample was formed on a 50 mm × 50 mm glass plate using the above 30 mm × 30 mm × 1 mm mold, and UV-visible light spectrophotometer UV-1600PC manufactured by Shimadzu Corporation was used. The transmittance of 800 nm to 300 nm was measured. Subsequently, the cured product sample was irradiated with UV for 190 hours using HC-98 (high pressure mercury lamp: HL400DL-1) manufactured by Sen Engineering Co., Ltd. At this time, the PET film was used to irradiate light with a wavelength of 300 nm or less cut. The transmittance after UV irradiation was measured in the same manner. The transmittance at each wavelength of 800 nm to 300 nm of the sample immediately after curing was taken as 100%, and the change rate of the transmittance after UV irradiation was evaluated as ◯, and the transmittance less than 90% was evaluated as ×.

(9)硬度測定
上記の10mm×10mm×5mmの型に、調製した熱硬化型樹脂組成物を満たし、オーブンを用いて100℃×30分、140℃×30分、150℃×1時間で加熱硬化させた。硬化物を室温まで冷却し、型から取り出した後、株式会社テクロック製 GS−702N TYPE D(テクロック・デュロメータ)を用いて、硬度を測定した。測定値がShoreD 30以上のサンプルを○、30未満のものを×と評価した。
(9) Hardness measurement The 10 mm × 10 mm × 5 mm mold is filled with the prepared thermosetting resin composition and heated in an oven at 100 ° C. × 30 minutes, 140 ° C. × 30 minutes, 150 ° C. × 1 hour. Cured. The cured product was cooled to room temperature and taken out of the mold, and then the hardness was measured using GS-702N TYPE D (Tecrock Durometer) manufactured by Teclock Corporation. Samples with a measured value of ShoreD 30 or higher were evaluated as ◯, and those with a measured value of less than 30 were evaluated as ×.

(10)タック性測定
50mm×50mmのガラス板の上に、上記30mm×30mm×1mmの型を用いて硬化物サンプルを形成した。サンプルを室温まで冷却した後、硬化物サンプル表面を下向きにして、アルミナ粉末の上に乗せた。硬化物サンプルを取り出し、エアガンを用いて表面に空気を吹きかけ、表面に粉末が残っていないサンプルを○、表面に付着したままのものを×と評価した。
(10) Tackiness measurement A cured product sample was formed on a 50 mm × 50 mm glass plate using the above 30 mm × 30 mm × 1 mm mold. After the sample was cooled to room temperature, it was placed on the alumina powder with the cured sample surface facing downward. The cured product sample was taken out, air was blown onto the surface using an air gun, the sample with no powder remaining on the surface was evaluated as ◯, and the sample that remained attached to the surface was evaluated as ×.

(11)Z1/Z2
ポリマー1〜14につき、下記の方法にて1HNMRを測定し、ポリマー1gに対するビニル基量(mmol)、及びSiH基量(mmol)を算出した。計算によって得られたZ1/Z2を表3にまとめた。
サンプル調製:各ポリマーを秤量し、キシレンを10wt%となるように秤量した。さらに1%テトラメチルシラン含有重溶媒で、ポリマー濃度が5質量%となるように希釈した。
調製したサンプル溶液の1HNMR測定を行い、ビニル基の水素原子のピーク面積(3H)、SiH基の水素原子のピーク面積(1H)、キシレンの芳香族環に直結する水素原子のピーク面積(4H)の比より、ポリマー1gあたりの架橋基(すなわちビニル基及びSiH基)の濃度を算出した。
1HNMR測定
日本電子製のNMR(核磁気共鳴)装置 GSX400を使用し、パルス幅を0.5秒、待ち時間を2秒、積算回数を2048回として積算を行った。
なお、表3の配合からヒドロシリル化触媒を除いた成分についても同様に1HNMRを測定し、算出値が大きくずれていないことを確認した。
(11) Z 1 / Z 2
For the polymers 1 to 14, 1 HNMR was measured by the following method, and the vinyl group amount (mmol) and SiH group amount (mmol) relative to 1 g of the polymer were calculated. Table 3 summarizes Z 1 / Z 2 obtained by calculation.
Sample preparation: Each polymer was weighed so that xylene was 10 wt%. Furthermore, it diluted with the 1% tetramethylsilane containing heavy solvent so that a polymer concentration might be 5 mass%.
The prepared sample solution was subjected to 1 HNMR measurement, and the peak area of hydrogen atom of vinyl group (3H), the peak area of hydrogen atom of SiH group (1H), the peak area of hydrogen atom directly connected to the aromatic ring of xylene (4H )), The concentration of crosslinking groups (ie, vinyl groups and SiH groups) per gram of polymer was calculated.
1 HNMR Measurement An NMR (Nuclear Magnetic Resonance) apparatus GSX400 manufactured by JEOL Ltd. was used, and the integration was performed with a pulse width of 0.5 seconds, a waiting time of 2 seconds, and an integration count of 2048.
Incidentally, also measured in the same manner 1 HNMR for the components excluding the hydrosilylation catalyst from the formulation of Table 3, the calculated value and it was confirmed that not shifted significantly.

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本発明は、例えば、液晶ディスプレイ等のバックライト、照明、各種センサー、プリンター、コピー機等の光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等に使用できる発光ダイオードにおいて、発光素子をリード端子又はパッケージに固定するダイボンド材、アンダーフィル材、発光素子上のパッシベーション膜、パッケージ基板等に好適に適用できる。   The present invention includes, for example, a backlight such as a liquid crystal display, illumination, various sensors, a light source such as a printer and a copy machine, an instrument light source for a vehicle, a signal light, an indicator light, a display device, a light source for a planar light emitter, a display, a decoration, Light emitting diodes that can be used for various lights and the like can be suitably applied to die bond materials, underfill materials, passivation films on light emitting elements, package substrates, and the like that fix the light emitting elements to lead terminals or packages.

Claims (14)

シリカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)とを含む樹脂組成物であって、
該樹脂組成物における該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ該樹脂組成物が不飽和炭化水素基及びSiH基を含有し、
該シリカ粒子含有縮合反応物(A)が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有し、シラノール基を含有するポリシロキサン化合物(a)と、シリカ粒子(b)と、が縮合されてなる構造を少なくとも有し、該ポリシロキサン化合物(a)と該シリカ粒子(b)とを少なくとも含む反応成分の縮合反応により得られ、
該ポリシロキサン化合物(a)が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる1つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、
該加水分解性基が、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基の少なくともいずれかであり、
該ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、該水酸基との直接結合、及び該加水分解性基との直接結合のいずれかを形成している結合手の合計数に対する、該水酸基との直接結合を形成している結合手の数の割合として定義されるシラノール基含有率が、1〜90mol%である、樹脂組成物
A resin composition comprising a silica particle-containing condensation reaction product (A) and a hydrosilylation catalyst (B),
The content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) in the resin composition is 20% by mass or more, and the resin composition contains unsaturated hydrocarbon groups and SiH groups,
The silica particle-containing condensation reaction product (A) contains an unsaturated hydrocarbon group and / or SiH group, and a polysiloxane compound (a) containing a silanol group and silica particles (b) are condensed. Obtained by a condensation reaction of a reaction component comprising at least the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b),
The polysiloxane compound (a) is a polymerization product of a silane compound having one or more groups selected from a hydroxyl group and a hydrolyzable group or a condensate thereof,
The hydrolyzable group is at least one of a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group;
In the polysiloxane compound (a), the hydroxyl group with respect to the total number of bonds forming any of a siloxane bond, a direct bond with the hydroxyl group, and a direct bond with the hydrolyzable group The resin composition whose silanol group content rate defined as a ratio of the number of the bonds which form the direct bond of 1-90 mol% is 1-90 mol%.
リカ粒子含有縮合反応物(A)と、ヒドロシリル化触媒(B)と、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を含有する成分(C)とを含む樹脂組成物であって、
該樹脂組成物における該シリカ粒子含有縮合反応物(A)の含有率が20質量%以上であり、かつ該樹脂組成物が不飽和炭化水素基及びSiH基を含有し、
該シリカ粒子含有縮合反応物(A)が、シラノール基を含有するポリシロキサン化合物(a)と、シリカ粒子(b)と、が縮合されてなる構造を少なくとも有し、該ポリシロキサン化合物(a)と該シリカ粒子(b)とを少なくとも含む反応成分の縮合反応により得られ、
該ポリシロキサン化合物(a)が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる1つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、
該加水分解性基が、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基の少なくともいずれかであり、
該ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、該水酸基との直接結合、及び該加水分解性基との直接結合のいずれかを形成している結合手の合計数に対する、該水酸基との直接結合を形成している結合手の数の割合として定義されるシラノール基含有率が、1〜90mol%である、樹脂組成物。
Shi silica particle-containing condensation product with (A), a hydrosilylation catalyst (B), the component containing an unsaturated hydrocarbon group and / or SiH groups and (C) an including resin composition,
The content of the silica particle-containing condensation reaction product (A) in the resin composition is 20% by mass or more, and the resin composition contains unsaturated hydrocarbon groups and SiH groups ,
The silica particle-containing condensation reaction product (A) has at least a structure obtained by condensing a silanol group-containing polysiloxane compound (a) and silica particles (b), and the polysiloxane compound (a) And a condensation reaction of a reaction component containing at least the silica particles (b),
The polysiloxane compound (a) is a polymerization product of a silane compound having one or more groups selected from a hydroxyl group and a hydrolyzable group or a condensate thereof,
The hydrolyzable group is at least one of a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and an acetoxy group;
In the polysiloxane compound (a), the hydroxyl group with respect to the total number of bonds forming any of a siloxane bond, a direct bond with the hydroxyl group, and a direct bond with the hydrolyzable group The resin composition whose silanol group content rate defined as a ratio of the number of the bonds which form the direct bond of 1-90 mol% is 1-90 mol% .
前記ポリシロキサン化合物(a)が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有する、請求項1又は2に記載の樹脂組成物The resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the polysiloxane compound (a) has an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. 前記反応成分がシランカップリング剤を更に含み、
前記縮合反応が、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とを縮合させて得られる縮合生成物にシランカップリング剤を更に反応させること、又は、ポリシロキサン化合物(a)とシリカ粒子(b)とシランカップリング剤とを同時に縮合させることにより行われたものである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物
The reaction component further comprises a silane coupling agent;
In the condensation reaction, a condensation product obtained by condensing the polysiloxane compound (a) and the silica particles (b) is further reacted with a silane coupling agent, or the polysiloxane compound (a) and the silica particles ( The resin composition according to any one of claims 1 to 3 , which is carried out by condensing b) and a silane coupling agent at the same time.
前記ポリシロキサン化合物(a)及び/又は前記シランカップリング剤が、不飽和炭化水素基及び/又はSiH基を有する、請求項に記載の樹脂組成物The resin composition according to claim 4 , wherein the polysiloxane compound (a) and / or the silane coupling agent has an unsaturated hydrocarbon group and / or a SiH group. 前記シランカップリング剤が、下記一般式(1):
1 n1SiX1 4-n1 (1)
{式中、n1は、1〜3の整数であり、R1は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、X1は、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる基であり、複数存在する場合のR1及びX1はそれぞれ同一でも異なっていても構わない}
で表されるシラン化合物である、請求項又はに記載の樹脂組成物
The silane coupling agent has the following general formula (1):
R 1 n1 SiX 1 4-n1 (1)
{Wherein n1 is an integer of 1 to 3, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 is a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. A group selected from a group and an acetoxy group, and when there are plural groups, R 1 and X 1 may be the same or different}
The resin composition of Claim 4 or 5 which is a silane compound represented by these .
前記反応成分中の前記シリカ粒子(b)の含有率が1質量%以上70質量%以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物The resin composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the content of the silica particles (b) in the reaction component is 1% by mass or more and 70% by mass or less. 前記シリカ粒子(b)の平均一次粒子径が1nm以上120nm以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物The resin composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein an average primary particle diameter of the silica particles (b) is 1 nm or more and 120 nm or less. 前記ポリシロキサン化合物(a)中の珪素の、シロキサン結合、水酸基との直接結合、及び加水分解性基との直接結合をそれぞれ形成している結合手の合計数に対する、該シロキサン結合を形成している結合手の数の割合として定義される縮合率が、5mol%以上95mol%以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物In the polysiloxane compound (a), the siloxane bond is formed with respect to the total number of bonds that form a siloxane bond, a direct bond with a hydroxyl group, and a direct bond with a hydrolyzable group, respectively. The resin composition according to any one of claims 1 to 8 , wherein a condensation rate defined as a ratio of the number of bonding hands is 5 mol% or more and 95 mol% or less. 前記シラノール基含有率が、5mol%以上90mol%以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物The resin composition according to any one of claims 1 to 9 , wherein the silanol group content is 5 mol% or more and 90 mol% or less. 樹脂組成物中の、全不飽和炭化水素基数Z1及び全SiH数Z2が、0.25≦Z1/Z2≦2を満たす、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 In the resin composition, all unsaturated hydrocarbon groups Z 1 and total SiH number Z 2 satisfies the 0.25 ≦ Z 1 / Z 2 ≦ 2, resin according to any one of claims 1 to 10 Composition. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、封止樹脂。 Sealing resin containing the resin composition of any one of Claims 1-11 . 請求項1〜11のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む硬化性組成物を用いて形成されてなる、レンズ。 The lens formed using the curable composition containing the resin composition of any one of Claims 1-11 . 請求項1〜11のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、アンダーフィル材。 The underfill material containing the resin composition of any one of Claims 1-11 .
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