[go: up one dir, main page]

JP5484795B2 - ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物 - Google Patents

２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物 Download PDF

Info

Publication number
JP5484795B2
JP5484795B2 JP2009140655A JP2009140655A JP5484795B2 JP 5484795 B2 JP5484795 B2 JP 5484795B2 JP 2009140655 A JP2009140655 A JP 2009140655A JP 2009140655 A JP2009140655 A JP 2009140655A JP 5484795 B2 JP5484795 B2 JP 5484795B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dichlorophenyl
methylimidazole
compound
hydrochloride
acetamidine hydrochloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009140655A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011006323A (ja
Inventor
孝行 村井
浩彦 平尾
康司 高作
真幸 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shikoku Chemicals Corp
Original Assignee
Shikoku Chemicals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shikoku Chemicals Corp filed Critical Shikoku Chemicals Corp
Priority to JP2009140655A priority Critical patent/JP5484795B2/ja
Priority to MYPI2011000846A priority patent/MY158638A/en
Priority to KR1020117005121A priority patent/KR101602978B1/ko
Priority to CN200980134515.8A priority patent/CN102144046B/zh
Priority to PCT/JP2009/065616 priority patent/WO2010027077A1/en
Priority to TW098129659A priority patent/TWI507395B/zh
Publication of JP2011006323A publication Critical patent/JP2011006323A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5484795B2 publication Critical patent/JP5484795B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
    • C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • B23K35/3615—N-compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/48—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
    • C23C22/52—Treatment of copper or alloys based thereon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/282—Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Nonmetallic Welding Materials (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、新規な２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物に関するものである。
本発明に類似のイミダゾール化合物として、例えば特許文献１に、２−（２，４−ジクロロ−ベンジル）−５−（３，４−ジクロロ−フェニル）−１Ｈ−イミダゾールが開示されている。しかしながら、この文献にはイミダゾール環の４（５）位にメチル基が結合したイミダゾール化合物の開示はない。
特表２００３−５００３５７号公報（第７頁、第５１頁）
本発明は、新規な２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物を提供することを目的とする。
本発明者等は、前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、化１の化学式(I)で示される新規な２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物を合成し得ることを認め、本発明を完成するに至ったものである。
Figure 0005484795
 （式中、Ｘ１およびＸ２は同一または異なって、水素原子、塩素原子もしくは臭素原子を表す。）
本発明の２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物は、金属、特に銅（銅合金を含む）の表面の酸化防止剤や、エポキシ樹脂の硬化剤または硬化促進剤として、また医農薬分野の中間原料としても有用なものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物は、化２の化学式(I)で示されるものであり、
２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（４−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，３−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，５−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，６−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３，５−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−ブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３−ブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（４−ブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，３−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，４−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，５−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２，６−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３，４−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３，５−ジブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（３−ブロモ−２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（４−ブロモ−２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（５−ブロモ−２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−ブロモ−６−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−ブロモ−３−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（４−ブロモ−３−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（５−ブロモ−３−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−ブロモ−５−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−ブロモ−４−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールおよび
２−（３−ブロモ−４−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールが挙げられる。
Figure 0005484795
 （式中、Ｘ１およびＸ２は同一または異なって、水素原子、塩素原子もしくは臭素原子を表す。）
本発明の２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物は、公知の方法に準拠して合成することができる。例えば、化３の反応式に示されるように、２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物と、アリールアセトアミジン化合物とを脱ハロゲン化水素剤の存在下、有機溶媒中で加熱反応をさせることにより合成することができる。
Figure 0005484795
 （但し、式中のＸ１およびＸ２は前記と同様であり、Ｘ３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。）
前述の反応において、アリールアセトアミジン化合物の使用量は、２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物に対して、０．８〜１．５倍モルが好ましく、より好ましくは０．９〜１．１倍モルの割合とすればよい。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物に対して、１〜１０倍当量の割合が好ましい。
前記の２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物としては、２−クロロ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノン、２−ブロモ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノン、２−ヨード−３′，４′−ジクロロプロピオフェノンが挙げられる。
これらの２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物は、３′，４′−ジクロロプロピオフェノンの２位をハロゲン化することにより得られる。ハロゲン化としては、塩素化またはヨウ素化も可能であるが、３′，４′−ジクロロプロピオフェノン１モルに対し、１モルの臭素を反応させる臭素化反応が最も簡便である。
３′，４′−ジクロロプロピオフェノンは、試薬として市販されているものを使用することができる。
前記のアリールアセトアミジン化合物は、アリールアセトアミジン塩酸塩とアルカリ剤とを反応させて塩酸を除くことにより得ることができ、前述のイミダゾール化合物の合成反応においては、アリールアセトアミジン化合物に代えてアリールアセトアミジン塩酸塩や、アリールアセトアミジン化合物と従来知られた無機酸または有機酸との塩も使用可能である。
アリールアセトアミジン塩酸塩は、公知の方法に準拠して合成することができる。例えば、化４の反応式に示されるように、ベンジルシアニド化合物を塩化水素ガスおよびエタノール等の低級アルコールと反応させ、アリールアセトイミデート塩酸塩に変換し、更にアンモニアと反応させることによって、アリールアセトアミジン塩酸塩を合成することができる。
Figure 0005484795
 （但し、式中のＸ１およびＸ２は前記と同様である。）
このような反応で得られるアリールアセトアミジン化合物の塩酸塩としては、
フェニルアセトアミジン塩酸塩、
（２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（４−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，３−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，５−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，６−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３，５−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２−ブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３−ブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（４−ブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，３−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，４−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，５−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２，６−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３，４−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３，５−ジブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（３−ブロモ−２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（４−ブロモ−２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（５−ブロモ−２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２−ブロモ−６−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２−ブロモ−３−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（４−ブロモ−３−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（５−ブロモ−３−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２−ブロモ−５−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩、
（２−ブロモ−４−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩および、
（３−ブロモ−４−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩が挙げられる。
前記の脱ハロゲン化水素剤は公知のものを制限なく使用できる。このような脱ハロゲン化水素剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような無機アルカリ類、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機塩基類、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド化合物などが挙げられる。
前記の反応溶媒は、２位ハロゲン化３′，４′−ジクロロプロピオフェノン化合物とアリールアセトアミジン化合物を溶解することができ、かつ反応に関与しないものであれば公知のものを制限なく使用できる。このような溶媒として、例えば、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）などのアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などが挙げられ、これらの溶媒を組み合わせて使用してもよい。
反応温度は室温〜還流温度が好ましく、反応時間は１〜１０時間が好ましい。反応は、通常大気圧下で行えばよい。
以上の反応条件下で生成した２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物は、通常の後処理によって単離することができる。
例えば、反応終了後の反応混合物を水層と有機溶媒層に分配し、有機溶媒層を水洗浄後、有機溶媒を留去することにより粗製の当該化合物を得ることができ、さらに再結晶操作等により精製することができる。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、フェニルアセトアミジン塩酸塩および２−ブロモ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノンの合成例を、各々参考例１と参考例２に示す。
〔参考例１〕
＜フェニルアセトアミジン塩酸塩の合成＞
フェニルアセトニトリル１１７．８ｇ（１．００６ｍｏｌ）及び脱水エタノール５５．８ｇ（１．２１ｍｏｌ）からなる溶液へ、５〜１０℃にて、塩化水素ガス４４．６ｇ（１．２２ｍｏｌ）を４時間かけて吹き込んだ。反応液を４℃にて１日間、さらに室温に戻して２日間放置すると白色固体のフェニルアセトイミド酸エチル塩酸塩が析出した。
ろ取したフェニルアセトイミド酸エチル塩酸塩を粉砕し、氷冷下に振とうしながら、アンモニア３５．６ｇ（２．０９ｍｏｌ）及び脱水エタノール２４６ｇからなる溶液を少量ずつ加えた。次いで、氷冷下にて２時間、さらに室温に戻して一晩撹拌し、白色固体の不溶物をろ去後、ろ液を減圧乾固して、淡黄色アメ状のフェニルアセトアミジン塩酸塩１７２．５ｇ（１．０１１ｍｏｌ、収率１００．５％）を得た。
〔参考例２〕
＜２−ブロモ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノンの合成＞
３′，４′−ジクロロプロピオフェノン４５．８ｇ（０．２２６ｍｏｌ）及びメタノール４６ｇからなる溶液に、６２〜６５℃にて、臭素３６ｇ（０．２２５３ｍｏｌ）を５０分かけて滴下した。反応液を冷却後、トルエン７５ｇ及び水９１ｇに分配し、トルエン層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、薄黄緑油状の２−ブロモ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノン６４．３ｇ（０．２２８ｍｏｌ、収率１０１．１％）を得た。
〔実施例１〕
＜２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
フェニルアセトアミジン塩酸塩２８．７ｇ（０．１６８ｍｏｌ）、炭酸カリウム５９ｇ（０．４２７ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２１０ｍｌからなる懸濁液を５０℃にて３０分撹拌後、同温度にて、２−ブロモ−３′，４′−ジクロロプロピオフェノン４８．８ｇ（０．１７３ｍｏｌ）を少しずつ加え、さらに同温度で４時間撹拌した。次いで、反応懸濁液を冷却後、水８００ｍｌ及びクロロホルム３００ｍｌに分配し、クロロホルム層を水で２回洗浄した後、減圧下にクロロホルムを留去し、アメ状の濃縮物にトルエン１５０ｍｌを加えて加温撹拌することにより、結晶が析出した。析出した結晶をろ取、トルエンで洗浄後乾燥してクリーム色粉末を得た。該粉末をアセトニトリルより再結晶して、乳白色粉末状の結晶１８．８ｇ（０．０５９ｍｏｌ、収率３５．３％）を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp.158−161℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.70
・1H-NMR (CDCl3) δ： 2.28(s,
3H), 3.94(s, 2H), 7.12−7.66(m, 7H)
・MS m/z(%) ： 316(M+, 100), 301(3), 281(3), 239(4),
198(2), 171(4), 144(3), 122(9), 103(6), 91(8), 77(4).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化５の化学式で示される２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例２〕
＜２−（２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
まず、参考例１のフェニルアセトニトリルを（２−クロロフェニル）アセトニトリルに代えて、参考例１の方法に準拠して（２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩を合成した。
次いで、実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、乳白色粉末状の結晶を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 150−152℃
・TLC (シリカゲル，酢酸エチル) ： Rf = 0.58
・1H-NMR (d6-DMSO) δ： 2.38(s,
3H), 4.09(s, 2H), 7.27−7.80(m, 7H)
・MS m/z(%) ： 350(M+, 23), 315(100), 280(3), 171(2),
137(3), 122(10), 102(4), 89(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化６の化学式で示される２−（２−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例３〕
＜２−（４−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
まず、参考例１のフェニルアセトニトリルを（４−クロロフェニル）アセトニトリルに代えて、参考例１の方法に準拠して（４−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩を合成した。
次いで、実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（４−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、黄白色粉末状の結晶を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 180−181℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.72
・1H-NMR (d6-DMSO) δ： 2.36(s,
3H), 3.96(s, 2H), 7.29−7.80(m, 7H)
・MS m/z(%) ： 350(M+, 100), 335(1), 315(14), 279(3),
190(3), 175(4), 164(4), 137(7), 125(10), 122(15), 102(8), 89(4), 75(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化７の化学式で示される２−（４−クロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例４〕
＜２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
まず、参考例１のフェニルアセトニトリルを（２，４−ジクロロフェニル）アセトニトリルに代えて、参考例１の方法に準拠して（２，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩を合成した。
次いで、実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（２，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、白色粉末状の結晶を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 117−119℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.74
・1H-NMR (d6-DMSO) δ： 2.36(s,
3H), 4.07(s, 2H), 7.33−7.77(m, 7H)
・MS m/z(%) ： 386(M+2, 100), 384(M+, 31), 349(100), 299(3),
279(3), 193(4), 171(7), 159(9), 139(10), 121(6), 102(5).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化８の化学式で示される２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例５〕
＜２−（３，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
まず、参考例１のフェニルアセトニトリルを（３，４−ジクロロフェニル）アセトニトリルに代えて、参考例１の方法に準拠して（３，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩を合成した。
次いで、実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（３，４−ジクロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、乳白色粉末状の結晶を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 194−195℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.67
・1H-NMR (d6-DMSO) δ： 2.33(s,
3H), 3.96(s, 2H), 7.25−7.77(m, 6H)
・MS m/z(%) ： 386(M+2, 100), 384(M+, 78), 371(1), 349(7),
314(9), 239(7), 212(3), 198(3),
171(7), 159(9), 139(10), 122(7), 102(4), 89(2).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化９の化学式で示される２−（３，４−ジクロロベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例６〕
＜２−（４−ブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールの合成＞
まず、参考例１のフェニルアセトニトリルを（４−ブロモフェニル）アセトニトリルに代えて、参考例１の方法に準拠して（４−ブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩を合成した。
次いで、実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（４−ブロモフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、白色粉末状の結晶を得た。
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 207−208℃
・TLC (シリカゲル，ヘキサン：酢酸エチル＝1：1) ： Rf = 0.43
・1H-NMR (d6-DMSO) δ： 2.07(s,
3H), 3.92(s, 2H), 7.21−7.78(m, 7H)
・MS m/z(%) ： 398(M+4, 46), 396(M+2, 100), 394(M+, 62),
361(2), 315(11), 299(3), 279(3), 239(4),
198(5), 183(3), 171(10), 140(8), 122(20), 102(14), 89(6), 75(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化１０の化学式で示される２−（４−ブロモベンジル）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾールであるものと同定した。
Figure 0005484795
〔実施例７〕
実施例１〜６において合成したイミダゾール化合物と、これらとは別に２−フェニルイミダゾールを有効成分とする表面処理液を各々調製し、該処理液に銅を接触させることにより銅の表面に化成皮膜を形成させ、銅に対する溶融半田の濡れ時間を測定して、イミダゾール化合物が作用する銅表面への酸化防止性能を評価した。この場合、濡れ時間が短い程、イミダゾール化合物の酸化防止性能が優れているものと判定される。
評価試験の詳細は、次のとおりである。
（１）表面処理液の調製
イミダゾール化合物、酸、金属塩およびハロゲン化合物を、表１記載の組成となるようにイオン交換水に溶解させた後、アンモニア水でｐＨを調整して表面処理液を調製した。
（２）表面処理方法
材質が金属銅の試験片（５ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍの銅板）を脱脂し、次いでソフトエッチングを行い、所定温度の表面処理液に所定時間浸漬して、銅の表面に化成皮膜を形成させた後、水洗して乾燥した。
（３）濡れ時間の測定
表面処理を行った試験片を、ポストフラックス〔商品名「ＪＳ−６４ＭＳＳ」（株）弘輝製〕に浸漬して、半田濡れ性試験器（ＳＡＴ−２０００、（株）レスカ製）を使用して半田濡れ時間（秒）を測定した。使用した半田は錫−鉛系共晶半田（商品名：Ｈ６３Ａ、千住金属工業製）であり、測定条件は半田温度２４０℃，浸漬深さ２ｍｍ，浸漬スピード１６ｍｍ／秒とした。
なお、半田濡れ時間を測定した試験片は、（Ａ）表面処理直後のものと、（Ｂ）温度４０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿器に入れて９６時間放置したものと、（Ｃ）さらに２００℃で１０分間加熱したものである。
得られた試験結果は、表１に示したとおりであった。
Figure 0005484795
表１に示した試験結果によれば、本願発明の２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物を有効成分として含有する表面処理液は、銅の表面に耐湿性および耐熱性に優れた化成皮膜を形成させることができるので、銅表面の酸化防止に有用である。
本発明によれば、金属、特に銅（銅合金を含む）の表面の酸化防止剤や、エポキシ樹脂
の硬化剤または硬化促進剤として、また医農薬分野の中間原料としても有用な２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物を提供することができる。

Claims (1)

  1. 化１の化学式(I)で示される２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物。
    Figure 0005484795
     （式中、Ｘ１およびＸ２は同一または異なって、水素原子、塩素原子もしくは臭素原子を表す。）
JP2009140655A 2008-09-03 2009-06-12 ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物 Active JP5484795B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009140655A JP5484795B2 (ja) 2008-09-03 2009-06-12 ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
MYPI2011000846A MY158638A (en) 2008-09-03 2009-09-02 2-benzly-4-(3,4-dichlorophenyl)-5-methylimidazole compound
KR1020117005121A KR101602978B1 (ko) 2008-09-03 2009-09-02 2-벤질-4-(3,4-디클로로페닐)-5-메틸이미다졸 화합물
CN200980134515.8A CN102144046B (zh) 2008-09-03 2009-09-02 2-苯甲基-4-(3，4-二氯苯基)-5-甲基咪唑化合物
PCT/JP2009/065616 WO2010027077A1 (en) 2008-09-03 2009-09-02 2-benzyl-4-(3,4-dichlorophenyl)-5-methylimidazole compound
TW098129659A TWI507395B (zh) 2008-09-03 2009-09-03 ２－苄基－４－（３，４－二氯苯基）－５－甲基咪唑化合物及其衍生物

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008225632 2008-09-03
JP2008225632 2008-09-03
JP2009130022 2009-05-29
JP2009130022 2009-05-29
JP2009140655A JP5484795B2 (ja) 2008-09-03 2009-06-12 ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011006323A JP2011006323A (ja) 2011-01-13
JP5484795B2 true JP5484795B2 (ja) 2014-05-07

Family

ID=41323603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009140655A Active JP5484795B2 (ja) 2008-09-03 2009-06-12 ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP5484795B2 (ja)
KR (1) KR101602978B1 (ja)
CN (1) CN102144046B (ja)
MY (1) MY158638A (ja)
TW (1) TWI507395B (ja)
WO (1) WO2010027077A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5260208B2 (ja) * 2008-09-22 2013-08-14 四国化成工業株式会社 ２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−（ハロゲン化フェニル）イミダゾール化合物
JP5260367B2 (ja) * 2008-09-26 2013-08-14 四国化成工業株式会社 ２−（クロロベンジル）−４−フェニルイミダゾール化合物
JP5615227B2 (ja) * 2011-05-23 2014-10-29 四国化成工業株式会社 銅または銅合金の表面処理剤及びその利用
JP5615233B2 (ja) * 2011-06-20 2014-10-29 四国化成工業株式会社 銅または銅合金の表面処理剤及びその利用

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3277025B2 (ja) * 1993-05-10 2002-04-22 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理剤
TW270944B (ja) * 1993-05-10 1996-02-21 Shikoku Kakoki Co Ltd
JPH06329635A (ja) * 1993-05-24 1994-11-29 Shikoku Chem Corp 新規イミダゾール化合物
JP3311858B2 (ja) * 1994-03-08 2002-08-05 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理剤
AR024077A1 (es) * 1999-05-25 2002-09-04 Smithkline Beecham Corp Compuestos antibacterianos
WO2004083487A1 (ja) * 2003-03-19 2004-09-30 Shikoku Chemicals Corporation 新規イミダゾール化合物及びその利用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011006323A (ja) 2011-01-13
KR101602978B1 (ko) 2016-03-11
MY158638A (en) 2016-10-31
TWI507395B (zh) 2015-11-11
CN102144046B (zh) 2014-02-26
TW201010982A (en) 2010-03-16
CN102144046A (zh) 2011-08-03
KR20110050663A (ko) 2011-05-16
WO2010027077A1 (en) 2010-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5484795B2 (ja) ２−ベンジル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5858884B2 (ja) チオフェン環を有するイミダゾール化合物
JP5368241B2 (ja) ２−ベンジル−４−（２，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5368244B2 (ja) ２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−アリール−５−メチルイミダゾール化合物
JP5260208B2 (ja) ２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−（ハロゲン化フェニル）イミダゾール化合物
JP5368263B2 (ja) ４−（２，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5260357B2 (ja) ２−（２，４−ジクロロベンジル）−４−フェニル−５−アルキルイミダゾール化合物
JP5885621B2 (ja) ２−（メトキシフェニル）イミダゾール化合物及び酸化防止剤
JP2010077071A (ja) ２−アルキル−４−（３，４−ジクロロフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5398076B2 (ja) ２−（ブロモベンジル）−４−（ブロモフェニル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5368271B2 (ja) ４−（４−ビフェニリル）−２−（２，４−ジクロロベンジル）イミダゾールおよび表面処理液
JP5398075B2 (ja) ４−（ジクロロフェニル）−２−（４−フルオロベンジル）−５−メチルイミダゾール化合物
JP5918079B2 (ja) ４−ナフチルイミダゾール化合物及び酸化防止剤
JP5204028B2 (ja) ２−ベンジル−４−（４−アルキルフェニル）イミダゾール化合物
JP5260367B2 (ja) ２−（クロロベンジル）−４−フェニルイミダゾール化合物
JP2010070479A (ja) ４−アリール−２−（１−ナフチルメチル）イミダゾール化合物
JP2010090105A (ja) ２−ベンジル−４−ナフチルイミダゾール化合物
JP2010254586A (ja) ２−ベンジル−４−フェニル−５−アルキルイミダゾール化合物
JP5892605B2 (ja) ４−（２−チエニル）イミダゾール化合物
JP2010070535A (ja) ２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物
JP5885620B2 (ja) ２−（２−フリル）イミダゾール化合物及び酸化防止剤
JP4194984B2 (ja) フェニルナフチルイミダゾール化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110818

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130527

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140217

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140219

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5484795

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250