JP5450680B2 - 半導体発光装置 - Google Patents
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Description
以下の実施の形態では、一例として、青色発光LED装置と、青色発光を励起光とし黄橙色に蛍光発光するYAG系蛍光体とを組み合わせ、補色の関係で混色して白色を得る、いわゆる白色LED装置を用い、一つの基板(パッケージ)上に複数個のLEDチップを配置した構成を説明する。しかし、本発明はLED素子と波長変換材料とを組み合わせて任意の発光を得る色変換発光素子であれば、白色LED装置に限定されるものではない。
図1は、第1の実施の形態を示す図で、(a)は4個のLEDチップ102を一つの基板101上に配置した白色LED装置の側断面図、(b)は同白色LED装置を上面から見た図である。図(b)では、蛍光体層の下部に隠れているLEDチップの一部を図示しているが、実際には全てのLEDチップ上面を蛍光体層が覆っている。なお以下の説明において、個々のLEDチップを、LEDチップまたはチップと呼び、4個のチップが配列したものをチップ列と呼ぶ。
このようにスペーサーマスクを用いることで、メタルマスクがたわみ印刷時にスキージがメタルマスクにひっかかるという不具合を解消できる。また、メタルマスクがたわむことにより、蛍光体層が設計厚みより薄く形成されることを防止することができる。
図4に、第2の実施の形態の白色LED装置を示す。本実施の形態は、チップ間に蛍光体層103を架橋して形成することは第1の実施の形態と同じであるが、LEDチップ102の半導体層1021が素子基板1022より小さく、蛍光体層103が半導体層1021の上面のみならず側面も覆うように形成されている点が第1の実施の形態と異なる。上記以外のLEDチップ102の構造および蛍光体層の材料は、第1の実施の形態と同じであるので説明を省略する。
図5は、第3の実施の形態のLED装置を示す図で、(a)は側断面図、(b)は(a)のA−A’線横断面図である。
本実施の形態のLED装置の一例を図6に示す。図示するように、本実施の形態では、蛍光体層103を形成する前にチップ102間に充填剤を充填し、リブ104を形成する。本実施の形態では、リブ104の高さを調整することにより、チップ上面の蛍光体層103の厚みとチップ間の間隙に位置する蛍光体層の厚みを異ならせることができ、またリブの材料として反射率の高い材料を用いることにより、チップ間の輝度の低下を低減することができる。
第5の実施の形態のLED装置は、チップ間に存在する蛍光体層の厚みをチップ上面に存在する蛍光体層の厚みより薄くした点が異なる。上述した第1〜第3の実施の形態では、蛍光体層の厚みは均一であるか、チップ間に存在する蛍光体層の厚みの方が厚い。LED装置の発光色は、チップが発光する色と蛍光体が発する色との混色であるため、チップからの発光量が少ないチップ間では、蛍光体の厚みがチップ上面と同じか厚い場合には、蛍光体からの色が優位となり、黄色味を帯びる蛍光が強くなる。これに対し、本実施の形態では、チップ間に存在する蛍光体層の厚みを、上面の蛍光体層の厚みより薄くすることにより、色味の不均一を低減することができる。
以上、本発明の発光装置の第1〜第5の実施の形態を説明したが、本発明の発光装置はこれら実施の形態を適宜組み合わせることや、他の要素を組み合わせることも可能であり、蛍光体層の形状を変更するも可能である。
例えば、蛍光体層の形状として、板状のもの及びチップ間隙に対応する凹部を有するものを例示したが、例えば、図8(a)、(b)に示すように、シリンドリカルレンズの様なカマボコ型形状を形成することも可能である。
また板状の蛍光体層上に、さらに高屈折率の樹脂層や、光散乱効果を目的としたシリカ粒子等の光散乱材を含む樹脂層等、蛍光体粒子を含まない層を積層して異なる形状を作り込むことも可能である。
さらに蛍光体シートを用いる場合にも、リブ形成することも可能である。
一辺の長さが980μmのLEDチップをセラミック製パッケージ(基板)上に、チップ間隔L=200μmで4個を配置した。このLEDチップ上にステンシル印刷(メタルマスク印刷)の手法を用いて蛍光体層を200μmの厚みで形成した。
実施例1と同じLEDチップが配列させたLED装置を用い、電気泳動電着法にて蛍光体粒子を付着させ、個々のチップを覆い、その後、シリコーン系熱硬化樹脂にて表面をコーティングし、図13(a)に示す構造のLED装置を製造した。蛍光体層の厚みは約30μmであった。
実施例1と同じLEDチップが配列させたLED装置を用い、シリコーン系熱硬化樹脂に対して27wt%のYAG系蛍光体を含有せしめた蛍光体分散液でチップ列とチップ間を覆い、図13(b)に示す構造のLED装置を製造した。蛍光体層の厚みは約200μmであった。
図の結果から、実施例1のLED装置では、チップとチップの間の輝度ムラ(最高輝度に対する輝度の低下割合、図では谷間に見える部分)が少ないことがわかる。
図の結果から、実施例1のLED装置では、チップとチップの間に現れる色度差(実線がx値、点線がy値)が小さいことがわかる。特にy値(点線)の変化幅が少ない。これは黄色く見え難いことを意味している。
一辺の長さが980μm、高さ100μmのLEDチップをセラミック製パッケージ(基板)上に、厚み約30μmのAuSnからなる導電性接着剤を介してチップ間隔L=100μmで4個を配置した。3カ所あるチップ間に酸化チタンを30〜40%含む1成分加熱硬化型接着性液状シリコーン樹脂(白色)を注入・充填し、その後加熱硬化してチップ間を埋めた。酸化チタンを添加したシリコーン樹脂の高さは、約120μmであり、基板上に導電性接着剤を介して配置されているチップの上面より低くなっている。このLEDチップ上に、実施例1と同様に、ステンシル印刷(メタルマスク印刷)の手法を用いて厚み200μmの蛍光体層を形成した。その後、LEDチップ上面のパッド部分に対し金線をワイヤボンディングし、図6(a)に示す構造のLED装置を作製した。
一辺の長さが980μm、高さ100μmのLEDチップをセラミック製パッケージ(基板)上に、約30μm厚みのAuSnからなる導電性接着剤を介して、チップ間隔L=100μmで4個配置した。
平均粒径D50(分散前)が21nmの酸化チタンを23wt%、ヒュームドシリカからなる増粘材を9wt%分散したシリコーン樹脂を用いて、メタルマスクを用いて印刷後、加熱硬化し、チップ間に高さ200μmのリブを形成した。その後、LEDチップ上面とリブ上にメタルマスク印刷の手法を用いて、チップ上の厚みが200μm、リブ上が約130μmの、上面が平坦な蛍光体層を形成した。その後、LEDチップ上面のパッド部分に対し金線をワイヤボンディングし、図6(b)に図示するLED装置の両端のリブのない構成のLED装置を作製した。
Claims (6)
- 基板と、前記基板上に互いの側面が間隙を有して配置された複数の半導体発光素子と、前記半導体発光素子からの発光の少なくとも一部の光を波長変換する蛍光体を含有する蛍光体層とを備え、前記半導体発光素子は、不透明素子基板と該不透明素子基板上に形成された半導体積層部とから成り、
前記蛍光体層は、前記複数の半導体発光素子の上面を覆い、前記複数の半導体発光素子の上部に架橋して配置され、隣接する半導体発光素子間において、前記基板と離間して形成され、
前記半導体積層部の上面と側面が前記蛍光体層で覆われており、
前記不透明素子基板の側面は、前記蛍光体層から露出していることを特徴とする半導体発光装置。 - 請求項1に記載の半導体発光装置であって、
前記発光素子は、前記半導体積層部側が光出射側であることを特徴とする半導体発光装置。 - 請求項1又は2に記載の半導体発光装置であって、
前記半導体積層部は、前記不透明素子基板より小さいことを特徴とする半導体発光装置。 - 請求項1ないし3いずれか1項に記載の半導体発光装置であって、
複数の半導体発光素子の間隙に反射部材あるいは散乱部材が充填されていることを特徴とする半導体発光装置。 - 請求項1ないし4いずれか1項に記載の半導体発光装置であって、
前記蛍光体層の側面は、前記不透明素子基板の側面から張り出して形状に形成されていることを特徴とする半導体発光装置。 - 請求項1ないし5いずれか1項に記載の半導体発光装置であって、
前記蛍光体層は、蛍光体層用塗布液を塗布して形成されていることを特徴とする半導体発光装置。
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