JP5442595B2 - オフノ−トを遮断する官能有機化合物 - Google Patents

Description

消耗品（consumable）における望ましくないオフノ−トを、マスクあるいは遮断することを可能とする化合物、および消耗品において該化合物を用いたオフノ−トを遮断する方法を開示する。

概要
以下を提供する：
（１）４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸；
（Ｅ）−３−（１−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）シクロプロピル）アクリル酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロヘキサ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−２−エン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸、２，２−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、２−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、３，３−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタン酸、（Ｅ）−１−（２−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタ−６−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（８−メチルスピロ［２.５］オクタ−７−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）エチル）シクロプロパンカルボン酸、２−（（６，７−ジメチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、２−（１−（（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸および４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタン酸のうちの１種または２種以上から選択されるオフノ−ト遮断化合物。

（２）４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、４−プロピルシクロヘキサンカルボン酸、および２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸のうちの１種または２種以上から選択される、（１）に記載のものを含む、本明細書に記載されたオフノート遮断化合物。

（３）オフノートを付与する消耗品成分、ならびに（１）および（２）に記載のものを含む、本明細書のリストされた１種または２種以上のオフノート遮断化合物を含む香料組成。
（４）
ａ）オフノートを付与するための十分な濃度における、１種または２種以上の成分、ならびに
ｂ）（１）および（２）を含む、本明細書のリストされた、１種または２種以上のオフノート遮断化合物
を含む消耗品。
（５）１種または２種以上のオフノート付与成分が、甘味料、人工甘味料、飲料、チューイングガム、栄養補助食品および医薬品のうちの１種または２種以上から選択される、（４）に記載のものを含む、本明細書に記載の消耗品。

（６）１種または２種以上のオフノート付与成分が、アスパルテーム、アセスルファムＫ、サッカリン、スクラロースおよびシクラミン酸ナトリウムのうちの１種または２種以上から選択される人工甘味料である、（４）に記載のものを含む、本明細書に記載の消耗品。
（７）１種または２種以上のオフノート付与成分が、ステビオシド、羅漢果抽出物、グリチルリチン、ペリラルチン、ナリンギンジヒドロカルコン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、モグロシドＶ、ルブソシド、ルブス抽出物およびレバウジオシドＡのうちの１種または２種以上から選択される甘味料を含む、（４）に記載のものを含む、本明細書記載の消耗品。

（８）オフノート付与成分が、ココア、コーヒー、カフェイン、テオブロミン、ジケトピペラジン、ビタミン、アミノ酸、ビタミンＢ、カゼイン、大豆たんぱく、イブプロフェン、サリチル酸、グルコロノラクトン、アセトアミノフェノン、デキストロメトルファン、ナリンギン、タウリン、マクロライド（ビオキシンおよびエリスロマイシンを含む）、パラセタモール、アセチルサリチル酸、シメチジン、ラニチジン、アモキシシリン、アセトミノフェン（acetominophen）、セファロスポリン、カシア、プロピレングリコール、トリアセチン、カリウム塩、亜鉛塩、ロペラミド、リモニン、フラボノイド、イソフラボン（ゲニステインおよびダイゼイン（diadzein）を含む）、ポリフェノール（カテキンおよびエピカテキンを含む）、ミントオイル、Ｄ−メントール、加水分解植物性たんぱく質、苦味ペプチド、保存料（安息香酸、ソルビン酸カリウム、ポリソルベート ８０、乳酸ナトリウムおよびカリウム、安息香酸ナトリウムを含む）、クエン酸、キニーネ、尿素（チューイングガム中に含まれる）、エッセンシャルオイル（タイム、セージ、バジル、ミントを含む）、メイラード反応生成物（ピロリジン／グルコース、アラニン／キシロース、プロリン／スクロースまたはアラニン／キシロースから生成された環状アミン、例えばジケトピペラジンを含む）、ビール、ホップ、フムロン、トランス−イソフムロン、ルプロンおよびフルポンのうちの１種または２種以上から選択される消耗品を含む、（４）に記載のものを含む、本明細書記載の消耗品。

（１０）（ａ）オフノートを付与するための十分な濃度における、１種または２種以上のオフノート付与成分、および（ｂ）（１）および（２）に記載のものを含む、本明細書にリストされたオフノート遮断化合物のうちの１種または２種以上の化合物、を消耗品と混合することを含む、消耗品におけるオフノートを遮断する方法。
（１１）１種または２種以上のオフノート付与成分が、甘味料、人工甘味料、飲料、チューイングガム、栄養補助食品および医薬品からなる群から選択される、（１０）に記載のものを含む、本明細書記載の方法。

（１２）オフノート付与成分が、アスパルテーム、アセスルファムＫ、サッカリン、スクラロースおよびシクラミン酸ナトリウムから選択される、１種または２種以上の人工甘味料を含む、（１０）および（１１）に記載のものを含む、本明細書記載の方法。
（１３）オフノート付与成分が、ステビオシド、羅漢果抽出物、グリチルリチン、ペリラルチン、ナリンギンジヒドロカルコン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、モグロシドＶ、ルブソシド、ルブス抽出物およびレバウジオシドＡから選択される、１種または２種以上の甘味料を含む、（１０）〜（１２）に記載のものを含む、本明細書記載の方法。

（１４）オフノート付与成分が、ココア、コーヒー、カフェイン、テオブロミン、ジケトピペラジン類、ビタミン類、アミノ酸類、ビタミンＢ、カゼイン、大豆たんぱく、イブプロフェン、サリチル酸、グルコロノラクトン、アセトアミノフェノン、デキストロメトルファン、ナリンギン、タウリン、マクロライド（ビオキシンおよびエリスロマイシンを含む）、パラセタモール、アセチルサリチル酸、シメチジン、ラニチジン、アモキシシリン、アセトミノフェン、セファロスポリン、カシア、プロピレングリコール、トリアセチン、カリウム塩、亜鉛塩、ロペラミド、リモニン、フラボノイド類、イソフラボン類（ゲニステインおよびダイゼインを含む）、ポリフェノール（カテキンおよびエピカテキンを含む）、ミントオイル、Ｄ−メントール、加水分解植物性たんぱく質、苦味ペプチド、保存料（安息香酸、ソルビン酸カリウム、ポリソルベート ８０、乳酸ナトリウムおよびカリウム、安息香酸ナトリウムを含む）、クエン酸、キニーネ、尿素（チューイングガム中に含まれる）、エッセンシャルオイル（タイム、セージ、バジル、ミントを含む）、メイラード反応生成物（ピロリジン／グルコース、アラニン／キシロース、プロリン／スクロースまたはアラニン／キシロースから生成された環状アミン、例えばジケトピペラジンを含む）、ビール、ホップ、フムロン、トランス−イソフムロン、ルプロンおよびフルポンから選択される、１種または２種以上の消耗品を含む、（１０）〜（１３）に記載のものを含む、本明細書記載の方法。

詳細な説明
本明細書において提供されるオフノート遮断化合物は、以下のオフノート遮断化合物を含む：４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、および１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸。これらの化合物の化学構造を以下に示す：

理論による拘束を希求することなく、オフノート遮断化合物の５員環または６員環部分における１〜３個のシクロプロピル基、および／または、環を酸性基に架橋するリンカーの存在は、オフノート遮断活性を増加させる傾向がある。ある態様によれば、これらの化合物は、苦味オフノート遮断活性の遮断に特に有用である。更に、５員環構造（シクロペンタン）は、同類の６員環構造（シクロヘキサン）より高い活性を有する傾向がある。

ある態様によれば、以下の化合物群もまた消耗品におけるオフノートの遮断に有用であり得る：
（Ｅ）−３−（１−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）シクロプロピル）アクリル酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロヘキサ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−２−エン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸、２，２−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、２−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、３，３−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、および４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタン酸、から選択される１種または２種以上の化合物。

これらの化合物の化学構造を以下に示す。

更なる態様によれば、以下の化合物群もまた消耗品におけるオフノートの遮断に有用であり得る：
（Ｅ）−１−（２−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタ−６−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（８−メチルスピロ［２．５］オクタ−７−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）エチル）シクロプロパンカルボン酸、２−（（６，７−ジメチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、２−（１−（（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、および４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタン酸。

これらの化合物の化学構造を以下に示す。

大部分の化合物は、当該技術分野においてよく知られた方法により、または以下にあるいは本明細書に記載された例に示されるように、容易に合成可能である。

２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸の合成：
２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸は、一段階で、Ochiai et al. 1989, Journal of Organic Chemistry, 54(20), 4832-40に記載された合成経路に類似して、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタナールから合成することが可能である。

２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸の合成：
２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸は、以下に示したように、水素およびプラチナ酸化物（Ｈ_２／ＰｔＯ_２）を触媒として用い、Gault et al. (1958), Compt. rend., 246, 123-5に記載された合成経路に類似して、２−（３，４−ジメチルフェニル）酢酸から合成することが可能である。

１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸の合成：
化合物は、（１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）メタノール（別名 Javanol^(R)）から、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）および過ヨウ素酸ナトリウムを用い、Hart et al. 2003, Journal of Organic Chemistry 68(1), 187-190に記載された合成経路に類似して、合成することが可能である。
Javanol^(R)は、Givaudan, Vernier, Switzerlandより商業的に入手可能である。

更なる化合物の合成は、本明細書の以下の例２ａから２ｄに記載されている。当業者には明白であろうように、残りの化合物は同様に合成可能である。

濃度−反応分析を伴う受容体スクリーニングを行い、その結果から、遮断濃度（ＩＣ）ＩＣ_５０値が、ｆ（ｘ）＝（ａ−ｄ）／（１＋（ｘ／Ｃ）^ｎｈ）＋ｄを用いた非線形回帰により計算可能である；ａ＝最小シグナル、ｄ＝最大シグナル、ｎｈ＝ヒル係数、Ｃ＝ＩＣ_５０およびｘ＝アンタゴニスト濃度である。ＩＣ_５０は、そのアンタゴニストに対する最大可能遮断応答の５０％を生成するアンタゴニストのモル濃度である。より強力なアンタゴニストはより低いＩＣ_５０値を有する。

本明細書中に開示される大部分のオフノート遮断化合物は、特に、例えば、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、および１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸は、ＴＡＳ２Ｒ４４苦味受容体でテストされる場合、約０．１〜２０マイクロモルの範囲におけるＩＣ_５０値を有する。
食品用途の大部分に対しては、０．０５〜１０までの低ＩＣ_５０［マイクロモル］が望ましいが、１０〜２５までのＩＣ_５０でもまだ好適であり、用途によっては２５以上でもなお許容可能である。

種々の食品成分（食品中に天然に含有される成分、または香料成分を含む食品に配合される添加物を含む）は、好ましくないオフノートを供する。特に好ましくないオフノートは、苦味オフノート、金属性オフノート、不快な後味（lingering）、甘草型、および渋味オフノートである。オフノートという用語は、消耗品を消費した後、徐々に広がる不快な後味を指す。
他の特定例は、アスパルテーム、ＡｃｅＫ、サッカリン、スクラロース、およびシクラミン酸ナトリウムを含む多くの人工甘味料と関連した、苦味、および／または金属製、および／または渋味、および／または「人工的」オフノート、および／または、嫌になるほどの甘味（対語として、砂糖の「すっきりした」甘味）である。時には、これらの人工甘味料のオフノートは、苦味オフノートとして集合的に記述されることもある。

オフノート付与成分の更なる例は、ステビオシド、羅漢果抽出物、グリチルリチン、ペリラルチン、ナリンギンジヒドロカルコン、ネオヘスペリジンジヒドロカルコン、モグロシドＶ、ルブソシド、ルブス抽出物およびレバウジオシドＡを含む、天然甘味料である。

オフノート付与成分の更なる例は、ココア、コーヒー、カフェイン、テオブロミン、ジケトピペラジン類、ビタミン類、アミノ酸類、ビタミンＢ、カゼイン、大豆たんぱく、イブプロフェン、サリチル酸、グルコロノラクトン、アセトアミノフェノン、デキストロメトルファン、ナリンギン、タウリン、マクロライド（ビオキシンおよびエリスロマイシンを含む）、パラセタモール、アセチルサリチル酸、シメチジン、ラニチジン、アモキシシリン、アセトミノフェン、セファロスポリン、カシア、プロピレングリコール、トリアセチン、カリウム、亜鉛、ロペラミド、リモニン、フラボノイド類、イソフラボン類（ゲニステインおよびダイゼインを含む）、ポリフェノール（カテキンおよびエピカテキンを含む）、ミントオイル、Ｄ−メントール、加水分解植物性たんぱく質、苦味ペプチド、保存料（安息香酸、ソルビン酸カリウム、ポリソルベート ８０、乳酸ナトリウムおよびカリウム、安息香酸ナトリウムを含む）、クエン酸、キニーネ、尿素（チューイングガム中に含まれる）、エッセンシャルオイル（タイム、セージ、バジル、ミントを含む）、メイラード反応生成物（ピロリジン／グルコース、アラニン／キシロース、プロリン／スクロースまたはアラニン／キシロースから生成された環状アミン、例えばジケトピペラジンを含む）、ビール、ホップ、フムロン、トランス−イソフムロン、ルプロンおよびフルポンを含む。

オフノート遮断剤の添加はオフノートを遮断またはマスクし、それらをより目立たなく、または知覚できないようにさせる。その結果、人工甘味料は、それらの苦味／金属性味、および／または嫌になるほどの甘く後味の悪い甘味を失わせ、代わりに、より実際の砂糖（スクロース）のような風味がする。
アスパルテームは、アスパルチル−フェニルアラニン−１−メチルエステルであり、ジペプチド、の名称である。Equal^(R)およびCanderel^(R)を含む、種々の商標名で知られている。欧州連合においては、Ｅナンバー（添加物コード）Ｅ９５１でも知られている。
アセスルファムカリウム（ＡｃｅＫ）は、６−メチル−１，２，３−オキサチアジン−４（３Ｈ）−オン２，２−ジオキシドのカリウム塩で、Ｎ−スルフォニルアミドである。アセスルファムＫあるいはＡｃｅＫ、またはSunett^(R)およびSweet One^(R)を含む種々の商標名で知られている。欧州連合においては、Ｅナンバー（添加物コード）Ｅ９５０でも知られている。

サッカリンは、１，２−ベンゾイソチアゾール−３（２Ｈ）−オン１，１−ジオキシドのＮａ塩で、Ｎ−スルホンアミドである。Sweet'n low^(R)を含む種々の商標名でも知られている。
スクラロースは、６−ジクロロ−１，６−ジデオキシ−β−Ｄ−フルクト−フラノシル−４−クロロ−４−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシド、クロロデオキシ糖の名称である。商標名Splenda^(R)としても知られている。欧州連合においては、Ｅナンバー（添加物コード）Ｅ９５５でも知られている。スクラロースは、苦いとも描写されることもある、後に残る甘草様オフノートであるオフノート（「アフターテイスト」とも呼ばれる）を有する。

オフノート遮断剤は、消耗品中に存在する成分の好ましくないオフノートを遮断するために該消耗品に添加されることが可能であり、またはそのような消耗品に添加されることが可能である。
消耗品への添加のための香料組成物は、オフノート遮断剤、および消耗品への添加のためのオフノートを付与する成分、ならびに任意で食品グレードの賦形剤を提供するように形成される。二者択一的に、オフノート遮断剤を直接消耗品に添加することが可能である。
特に、オフノート遮断剤は、そのような消耗品に添加される天然および人工甘味料を含む、オフノート付与成分の好ましくないオフノートを遮断するために、香料組成物または直接消耗品に添加されることが可能である。

消耗品は、全ての食品、食品添加物、栄養補助食品、医薬品、およびチューイングガム、オーラルケア製品およびオーラル衛生製品を含む口内に入れられる全ての製品を含み、シリアル製品、米製品、タピオカ製品、サゴヤシ製品、製パン製品（baker’s products）、ビスケット製品、ペストリー製品、パン製品（bread products）、菓子製品、デザート製品、ガム、チューイングガム、マウスウォッシュ、デンタルフロス、風味付あるいは風味コーティングストロー、風味付あるいは風味コーティング食品／飲料容器、チョコレート、氷、蜂蜜製品、糖蜜製品、イースト製品、ベーキングパウダー、塩およびスパイス製品、サボリー製品、からし製品、酢製品、ソース（調味料）、タバコ製品、シガー、シガレット、加工食品、調理果物および野菜製品、肉および肉製品、ゼリー、ジャム、フルーツソース、卵製品、牛乳および乳製品、ヨーグルト、チーズ製品、バターおよびバター代用製品、牛乳代用製品、大豆製品、食用油および脂肪製品、薬剤（medicament）、飲料、炭酸飲料、アルコール飲料、ビール、ソフトドリンク、ミネラルおよび炭酸水（aerated）ならびに他のノンアルコール飲料、フルーツ飲料、フルーツジュース、コーヒー、人工コーヒー、茶、ココア、再構成を要する形態のものを含む、食品抽出物、植物抽出物、肉抽出物、調味料、栄養補助食品、ゼラチン、医薬的および非医薬的ガム、タブレット、トローチ剤、ドロップ、エマルション、エリキシル剤、シロップおよび飲料製造のための他の調製物、ならびにこれらの組み合わせを含むが、これらに限定されない。

例えば、カリウムを含む消耗品において、カリウムに関係する苦味および金属性オフノートを遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
コーヒーおよびココア製品において、該製品に存在するカフェイン、テオブロミンおよび／またはジケトピペラジンに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
チーズ製品において、特に酵素で修飾されたチーズ製品において、該製品に存在する苦味ペプチドに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

大豆製品において、該製品に存在するペプチド、ゲニステインおよびダイゼインなどのイソフラボンに関係する苦味および豆様オフノートを遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
ＨＶＰ（植物タンパク質加水分解物）製品において、該製品に存在する苦味ペプチドに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
強化食品に使用される機能性成分において、該製品に存在するビタミンおよびアミノ酸に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

医薬品において、該製品に存在する活性物質または苦味添加物に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
溶剤を含む消耗品において、該製品に存在するプロピレングリコール、トリアセチンまたはエタノールに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
かんきつ類製品において、該製品に存在するナルギニンに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
栄養補助食品および漢方薬において、該製品に存在する活性物質または添加物に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

カテキンおよびエピカテキンなどのポリフェノールを含む消耗品において、これらの成分に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
ソルビン酸ナトリウム、ポリソルベート ８０、乳酸ナトリウムおよびカリウム、安息香酸ナトリウムなどの保存料を含む消耗品において、前記保存料に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
亜鉛および他のミネラルサプリメントを含む消耗品において、前記これらのミネラルサプリメントに関係する苦味および金属性オフノートを遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

ミントオイルまたはメントール（例えば、Ｄ−メントール）および７％以上のクエン酸を含む消耗品において、これらの成分の組み合わせに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
キニーネを含む消耗品において、キニーネに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
人工甘味料（例えば、アスパルテーム、サッカリン、アセスルファムＫ、スクラロース、シクラメート）含む消耗品、例えば飲料消耗品において、人工甘味料に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

チューイングガム、特にデンタルタイプチューイングガムにおいて、チューイングガム中に含まれる尿素に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
エッセンシャルオイル（例えば、タイム、セージ、バジル、ミント）を含む消耗品において、これらのエッセンシャルオイルに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
植物またはハーブまたはそれらの抽出物を含む消耗品において、これらの成分に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
メイラード反応生成物（すなわち、プロリン／スクロースまたはアラニン／キシロースから生成された環状アミン、例えばジケトピペラジン）を含む消耗品において、メイラード反応生成物に関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。
ビールならびにビールおよびホップを含む消耗品において、ホップに関係する苦味を遮断するために、オフノート遮断剤を添加してもよい。

例
更に詳細にオフノート遮断化合物を説明し、消耗品におけるオフノートを遮断、またはマスクするためにオフノート遮断化合物を用いる方法を例示するために、以下の例を示す。例は具体例であり、いかなる方法においても、限られた化合物、消耗品または方法と解釈されるべきではない。

例１
種々の消耗品における官能評価
本明細書に記載されたオフノート遮断剤を、６〜１０人の苦味に敏感なパネリストによりテストする。
パネリストは、特に明記しない限り、０．００１％（ｗｔ／ｗｔ）のオフノート遮断剤を伴った製品およびオフノート遮断剤を伴わないコントロール間の、オフノートおよび苦味ノートにおける違いを描写することを求められる。
Ａ）アルパルテーム／アセスルファム−Ｋを含むダイエットエネルギー飲料
タウリン、アセスルファムＫ、アスパルテーム、スクラロース、グルクロノラクトン、カフェイン、ビタミンＢ群（ナイアシン、パントテン酸、Ｂ６、Ｂ１２）、アロマ、スクロース、グルコース、着色料を含むダイエットエネルギー飲料。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より苦味が少ないことが見出される。

Ｂ）スクロース／グルコースによる甘味エネルギー飲料
タウリン、グルクロノラクトン、カフェイン、ビタミンＢ群（ナイアシン、パントテン酸、Ｂ６、Ｂ１２）、アロマ、スクロース、グルコース、着色料を含むダイエットエネルギー飲料。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より少ないオフノートを有し、より苦味がなく、より渋味がないことが見出される。
Ｃ）低糖アイスコーヒー
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より苦味がなく、より渋味がないことが見出される。

Ｄ）商業用バニラ風味栄養飲料
カゼインカルシウム、大豆たんぱく分離物、カゼインナトリウム、ビタミンおよびミネラルを含むバニラ風味栄養飲料。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より粉っぽくなく、減少したたんぱく質／ビタミン誘起オフノートを有し、より渋味がないことが見出される。
Ｅ）サッカリンによる甘味コーラソフトドリンク
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より苦味がなく、減少した後味を有することが見出される。

Ｆ）ミント風味薬用シロップを含むロペラミド
１回分７．５ｍｌ中、１ｍｇロペラミドＨＣｌを含むシロップ。オフノート遮断剤を０．００４％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、特に長引く苦い後味が減少して、より苦味が少ないことが見出される。
Ｇ）日中咳止めシロップ
日中咳止めシロップは、１回分１５ｍｌ中、３２５ｍｇアセトアミノフェン、１０ｍｇデキストロメトルファンＨＢｒ、５ｍｇフェニレフリンＨＣｌを含む。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、より苦味が少ないことが見出される。
Ｈ）ダークチョコレート
オフノート遮断剤を含むサンプルは、より苦味が少ないことが見出される。

Ｉ）料理用チョコレート（１００％ココア、無糖）
オフノート遮断剤を０．００２％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、より金属性味が少なく、より苦味が少ないことが見出され、特に、率直的で（upfront）、暖かく（warm）、ウッディーな苦味が保持された一方で、アルカロイド／カフェイン様の苦味が減少する。
Ｊ）過加熱（overcooked）コーヒー
コーヒーを抽出し、バーナー上で３時間加熱する。オフノート遮断剤を０．０００５％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、より苦味が少ないことが見出される。

Ｋ）アスパルテーム／アセスルファム−Ｋによる甘味プレーン無脂肪ヨーグルト
０．０１９３％（ｗｔ／ｗｔ）およびアセスルファム−Ｋ ０．００８３％（ｗｔ／ｗｔ）を含むヨーグルト。オフノート遮断剤を０．００１７５％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。
オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールと比較して、より少ないオフノートを有することが見出される。
Ｌ）アスパルテーム／アセスルファム−Ｋによる甘味コーラソフトドリンク
オフノート遮断剤を０．００６３％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。

オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールより少ないオフノートを有することが見出される。

Ｍ）スクラロースによる甘味コーラソフトドリンク
オフノート遮断剤を０．００３５％（ｗｔ／ｗｔ）の濃度において使用する。

オフノート遮断剤を含むサンプルは、コントロールより少ないオフノートを有し、より苦味が少ないことが見出される。

例２ａ〜２ｘｙ
オフノート遮断化合物の合成
例２ａ
４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸の合成：
４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸を３段階で合成した；第１段階は、２−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エン−１−イル）アセトアルデヒド（別名カンフォレニックアルデヒド）を、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエートに反応させ、第２段階において、後者をエチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸を生成させるために水素化法にかけ、第３段階において、後者から、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の存在下で、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸を生成させた。

第１段階（エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエートの生成）：
炎乾燥させた２５０ｍｌ丸底フラスコに、溶液を得るため、カンフォレンアルデヒド（１０．０ｇ、６５．７ｍｍｏｌ）およびメチルターシャリー−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）（１００ｍｌ）を加え、フラスコを氷水浴中でゆっくりと０℃まで冷却した。（カルボエトキシメチレン）トリフェニル−ホスホラン（２２．８ｇ、６６．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと溶液に加えた。反応混合物を、０℃で２０分間撹拌し、次いで室温で２４時間撹拌した。反応が完了した後、反応混合物を真空中でその体積の半分に減らし、ヘキサン１００ｍｌを加えた。次に、反応混合物およびヘキサンを含んだフラスコを、３０分間氷浴に置いた。次に、反応混合物をろ紙、セライト、シリカおよび砂のプラグを通じてろ過し、１回目はヘキサン、２回目は９：１ ヘキサン／ＭＴＢＥ、３回目は１：１ ヘキサン／ＭＴＢＥを用いて、３回洗浄した。合わせた溶出液を真空中で濃縮し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（１：８ ヘキサン／酢酸エチル（ＡｃＯＥｔ））により精製し、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエート（１３．１ｇ、８９％）をオイルとして得た。ＮＭＲデータを以下に示す。

第２段階−水素化法
窒素が流通され、撹拌子の入った３つ口丸底フラスコに、活性炭Ｐｄ／Ｃ（１．５ｇ、１０％Ｐｄ）上のデグサ型パラジウムを触媒として加えた。触媒を蒸留水（８ｍｌ）でカバーし、酢酸エチル（ＡｃＯＥｔ）（２００ｍｌ）中のエチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエート／エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンテニル）ブタン酸（１０．０ｇ、４４．９ｍｍｏｌ）を反応フラスコに加えた。フラスコに水素を流通させ、必要に応じて再補給された水素バルーン下で反応を行った。室温で１７時間後、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣＭＳ）により反応が終了したことが判明した。反応混合物をセライトプラグを通じてろ過した。有機層を真空中で濃縮し、フラッシュカラムクロマトグラフィーＡｃＯＥｔ／ヘキサン（勾配０から４０％）により精製し、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタノエート／エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸を、無色オイル（７．４８ｇ、７４％）として得た。ＮＭＲデータを以下に示す。

第３段階−鹸化反応
エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタノエート（５ｇ、２２ｍｍｏｌ）を、丸底フラスコ中のＴＨＦ（２５ｍｌ）に加えた。次いで、１Ｎ ＮａＯＨ水溶液（２５ｍｌ）をフラスコに加え、反応混合物を１１０℃で８時間還流した。反応完了後、反応混合物を１Ｎ ＮａＯＨ（２５ｍｌ）で希釈し、水層をＭＴＢＥ（５０ｍｌ×２）で２回洗浄した。水層を、約ｐＨ ３（例えば、２から４まで）に到達するまで１．０Ｎ塩酸で処理し、次いでＡｃＯＥｔ（５０ｍｌ×３）で３回抽出した。合わせたＡｃＯＥｔ抽出物を真空中で濃縮し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（勾配０から４０％）により精製し、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸を無色オイル（３．８２ｇ、８７％）として得た。ＮＭＲデータを以下に示す。

例２ｂ
４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸の合成：
４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸を２段階で合成した；第１段階は、上記記載の通り、カンフォレニックアルデヒド）を、エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエートに反応させ、第２段階において、ＮａＯＨおよびＴＨＦの存在下で、後者から４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸を生成させた（以下の反応参照）。

エチル４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エノエート（２．０ｇ、９．０ｍｍｏｌ）を、５０ｍｌ丸底フラスコ中のＴＨＦ（１０ｍｌ）に加えた。次いで、１Ｎ ＮａＯＨ水溶液（１０ｍｌ）をフラスコに加え、反応混合物を８３℃で１９時間還流した。反応完了後、反応混合物を１Ｎ ＮａＯＨ（１０ｍｌ）で希釈し、水層をＭＴＢＥ（１０ｍｌ×２）で２回洗浄した。水層を、約ｐＨ ３（例えば、２から４まで）に到達するまで１．０Ｎ塩酸で処理し、次いでＡｃＯＥｔ（１０ｍｌ×３）で３回抽出した。合わせたＡｃＯＥｔ抽出物を真空中で濃縮し、ＭＴＢＥ／ヘキサン（勾配５から２０％）のフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸（１．５８ｇ）を粘性オイル（１．５８ｇ、９０％）として得た。ＮＭＲデータを以下に示す。

例２ｃ
４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸の合成：
４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸を、以下に示すように、第２段階においてＡｃＯＥｔをメタノール（ＭｅＯＨ）に置き換えたことを除き、上記の４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸に対して記載された３段階の方法に類似して、２−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−１−エニル）アセトアルデヒドから出発して、３段階で合成した。
第１段階で（Ｅ）−エチル４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−１−エニル）ブタ−２−エノエートを生成させ、第２段階でエチル４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタノエートを生成させ、第３段階で４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸を生成させる。生成物の大部分は、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸を含み、（Ｚ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸は、異性体混合物中に１０％（ｗ／ｗ）までの濃度で存在する。

例２ｄ
３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸の合成：
３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸を、以下に示すように、上記の４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸および４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸に対して記載された３段階の方法に類似して、２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−１−エンカルバルデヒドから出発して、合成した。
第１段階で（Ｅ）−エチル３−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−１−エニル）アクリレートを生成させ、第２段階でエチル３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパノエートを生成させ、第３段階で生成物の３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸を生成させた。

例３
ＩＣ５０決定のためのＴＡＳ２Ｒ４４苦味受容体アッセイ
１）ヒトＴＡＳ２Ｒ４４発現ベクターの発生
ヒトＴＡＳ２Ｒ４４のフルレングス遺伝子を、WO 2004/029087に記載された全コード領域にわたる遺伝子特有プライマーを用い、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）により増幅した。
ＴＡＳ２Ｒ４４ ｃＤＮＡを、次のいずれかのプラスミド／発現ベクターに基づいた発現カセットにサブクローンした：ｐｃＤＮＡ３．１Ｚｅｏ（Invitrogen）。これらのベクターは、それらの多重クローニング部位に、トランス遺伝子細胞表面標的を促進するために、ラットのソマトスタチン受容体サブタイプ（ＲＳＳタグ）の最初の４５種のアミノ酸をコードするヌクレオチド配列（配列番号４）、および免疫細胞化学的検出を促進するための単純ヘルペスウィルス（ＨＳＶ）糖たんぱく質Ｄエピトープ（カルボキシ末端方向のアミノ末端基におけるＨＳＶエピトープ、ＨＳＶタグ）をコードするヌクレオチド配列（配列番号３）を含む。

ＴＡＳ２Ｒ４４構築物は、受容体たんぱく質および結果として生じる受容体ｃＤＮＡへの翻訳を可能にするため、フレームにおいて融合するＲＳＳタグ、ＴＡＳ２Ｒ４４およびＨＳＶタグを含む。
このトランスフェクトされた発現ベクターはｐｃＤＮＡ３．１Ｚｅｏ−ＴＡＳ２Ｒ４４（配列番号１）と呼ばれ、ＴＡＳ２Ｒ４４たんぱく質（配列番号２）の発現を可能にする。
２）Ｇα１６−ガストデューシン（gustducin）４４およびＴＡＳ２Ｒ４４を安定して発現する細胞株の発生
ｐｃＤＮＡ３．１Ｚｅｏ−ＴＡＳ２Ｒ４４を上記ＨＥＫ２９３／Ｇα１６−ガストデューシン４４細胞（共に、１記載のように生成させた）にトランスフェクトすることにより、ヒト苦味受容体（ＴＡＳ２Ｒ４４）を安定して発現する細胞株を発生させた。宿主細胞株ＨＥＫ−２９３Ｔは、American Tissue Culture Collection（カタログ ＃ＣＲＬ−１５７３）より商業的に入手可能である。

トランスフェクションは次の通り行われた：
０日目に、ＨＥＫ−２９３Ｔ Ｇα１６−ガストデューシン４４細胞を、１ウェル当たり９００，０００細胞密度で、６ウェルプレートに播種し、一晩選択的増殖培地中で増殖させた（加熱不活性化した１０％（ｖ／ｖ）ウシ胎仔血清、２ｍＭ Ｌ−グルタミン、１００ユニット／ｍｌペニシリン、１００μｇ／ｍｌ ストレプトマイシン、２００μｇ／ｍｌ Ｇ４１８および２００μｇ／ｍｌゼオシン（zeocin）を添加したＤＭＥＭ）。
１日目に、培地を抗生物質フリーおよび血清フリーの増殖培地２ｍｌに交換した。リポフェクトアミン２０００ １０μｌをＤＭＥＭ２５０μｌに溶解させ、室温で５分間培養した。並行して、ＴＡＳ２Ｒ４４ベクターＤＮＡ４μｇをＤＭＥＭ２５０μｌに溶解させた。これら２種の得られた溶液を混合し、それらが細胞株培地の細胞に加えられる前に、室温で２０分間培養する。４時間後、培地を抗生物質フリーの血清含有増殖培地に置き換える。
細胞を湿潤雰囲気中で培養した（３７℃、ＣＯ_２ ５％）。
２４時間後、細胞を選択的増殖培地で再播種し、湿潤雰囲気中で更に培養した（３７℃、ＣＯ_２ ５％）。
培養２〜４週間後（必要に応じて培地交換）、ゼオシン耐性コロニーを選択し、拡大させた。
選択されたクローンは、ＴＡＳ２Ｒ４４機能発現のためのテストに成功した。

３）Ｆｌｕｏ−４カルシウムアッセイ
Ｆｌｕｏ−４ ＡＭ（Invitrogen）は細胞内カルシウム動態（濃度の変化）の蛍光指標であり、カルシウム濃度の変化、特に、アゴニスト汚染後に起こる受容体活性化応答の増加を観察することを可能とする。
０日目に、Ｇα１６−ガストデューシン４４およびＴＡＳ２Ｒ４４（２記載のように生成させた）を安定して発現するＨＥＫ−２９３Ｔ細胞株に、抗生物質フリーの増殖培地（加熱不活性化した１０％（ｖ／ｖ）ウシ胎仔血清、２ｍＭ Ｌ−グルタミン、１００ユニット／ｍｌペニシリン、１００μｇ／ｍｌ ストレプトマイシンを添加した標準ＤＭＥＭ）を黒色壁／透明底の９６ウェルプレートに接種し、１ウェル当たり１５，０００細胞濃度でポリ（エチレンイミン）（０．００５％ ｖ／ｖ）で被膜し、湿潤雰囲気中で４８時間培養した（３７℃、ＣＯ_２ ５％）。

アッセイ時、増殖培地を廃棄し、細胞を湿潤雰囲気中で（３７℃、ＣＯ_２ ５％）１時間、ＤＭＥＭ中の１．５μＭ Ｆｌｕｏ−４ ＡＭおよび２．５μＭプロベネシド（Sigma-Aldrich）からなるローディングバッファー５０μｌで更に培養した。
その後、自動プレート洗浄機（Ｂｉｏ Ｔｅｋ）を使用して、１ウェル毎にアッセイ緩衝液（１３０ｍＭ ＮａＣｌ、５ｍＭ ＫＣｌ、１０ｍＭ ＨＥＰＥＳ、２ｍＭ ＣａＣｌ_２および５ｍＭ デキストロース、ｐＨ ７．４）２００μｌで、９６ウェルプレートを５回洗浄した。プレートを、暗中、室温で３０分間、Ｆｌｕｏ−４の脱エステル化を完了させるために更に培養した。その後、プレートを１ウェル毎にアッセイ緩衝液２００μｌで５回洗浄し、１ウェル毎にアッセイ緩衝液１８０μｌで再構成した。

アッセイ読み取りのため、プレートを蛍光イメージングプレートリーダー（ＦＬＩＰＲ）（FLIPR-TETRA^TM、Molecular Devices）に設置し、アッセイバッファー中に調製された１０倍濃縮アゴニスト原液２０μｌを（１８０マイクロリットルのアッセイバッファー体積に加えられる場合に、所望のアゴニスト最終濃度を得るために）加えることにより、受容体活性化を初期化した。
アゴニスト添加に先立ち、継続的に２０秒間、（Ｆ_０を得るために平均化された）シグナルベースラインを得るために蛍光を観測し、アゴニスト添加後に１２０秒間観察した。シグナルの変化をＦ_０で割ることにより、表に示されたΔＦ／Ｆ_０を与え、ΔＦはアゴニスト添加後、１２０秒以内に生じた最大シグナルから１２０秒以内に生じた最小シグナルを引いたものである。
全てのデータを、各々３連で行われた、少なくとも２回の独立した実験から収集した。

濃度−反応分析を行い、ＩＣ_５０値を、ｆ（ｘ）＝（ａ−ｄ）／（１＋（ｘ／Ｃ）^ｎｈ）＋ｄを用いた非線形回帰により計算した；ａ＝最小シグナル、ｄ＝最大シグナル、ｎｈ＝ヒル係数、Ｃ＝ＩＣ_５０およびｘ＝アンタゴニスト濃度である。ＩＣ_５０は、そのアンタゴニストに対して最大可能効果／遮断応答の５０％を生成するアンタゴニストのモル濃度である。より強力なアンタゴニストはより低いＩＣ_５０値を有するであろう。
得られたカルシウムシグナルは、Ｇたんぱく質αサブユニット（Ｇα１６−ガストデューシン４４）のみを発現する細胞応答を補正し、ΔＦ／Ｆ_０（Ｆｍａｘ−Ｆｍｉｎ／Ｆ_０）を用いて、刺激に先立ち、細胞の蛍光に対して標準化した。

例４
オフノート遮断剤のＩＣ５０決定、サッカリン
以下のオフノート遮断剤をテストした：４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、および１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸。
アゴニストとしてサッカリンを用い、例３記載の方法を実施した。細胞を一定濃度のサッカリン（０．５ｍＭ）およびオフノート遮断剤の異なる濃度群に曝す。Ｆｌｕｏ−４カルシウムアッセイを、上記例３に記載されたように行い、０．０５〜２５の範囲内のＩＣ_５０［マイクロモル］を得た。
これは、オフノート遮断剤が、苦味受容体であるＴＡＳ２Ｒ４４の応答を遮断したこと、および苦味遮断に有用であろうことを意味する。

例５
オフノート遮断剤のＩＣ５０決定、アセスルファムＫ
アゴニストとしてのサッカリンをアセスルファムＫ（０．８ｍＭ）に交換し、例４に記載された方法を実施した。同一の範囲内のＩＣ_５０が決定された。これは、オフノート遮断剤が苦味受容体であるＴＡＳ２Ｒ４４の応答を遮断したこと、および苦味遮断に有用であろうことを意味する。
例６
オフノート遮断剤のＩＣ５０決定、スクラロース
アゴニストとしてのサッカリンをスクラロース（５０ｍＭ）に交換し、例４に記載されたように、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸をテストする方法を実施した。同一の範囲内のＩＣ_５０が決定された。これは、オフノート遮断剤が苦味受容体であるＴＡＳ２Ｒ４４の応答を遮断したこと、および苦味遮断に有用であろうことを意味する。

例７
４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸の官能評価
各濃度当たり２つの複製において、苦味高感度パネリストら（１５）により、水中で１ｍＭ、３ｍＭ、および７ｍＭの濃度のスクラロースで、苦味遮断剤（１３ｐｐｍ）をテストした。サンプルを苦味遮断剤なしの陰性対照と比較し、パネリストらは強制選択テストにおいて、より苦味の少ないサンプルを選択することを指示された。
苦味遮断剤は、苦味を大幅に減少させることが見出された（２２／３０のパネリストが、より苦味が少ないとして、苦味遮断剤を伴ったサンプルを選択した）。
本願明細書に記載された構成および方法において用いられた配列は、以下の配列表に記載される。

化合物、消耗品および方法を、実施例の態様に関連して上記に記述したが、他の類似の態様が使用されてもよく、またはそこから逸脱することなく、同一の作用を実施するため、記載された態様に対して、改変および添加されてもよいと理解される。更に、発明の種々の態様は、所望の特徴を付与するために組み合わせられてもよいため、選択的に全ての態様を必ずしも開示する必要はない。発明の精神および範囲から逸脱することなく、当該技術分野における通常の技術を有する者により変更されることが可能である。それゆえ、化合物、消耗品および方法はいずれか１種の態様に限定されるべきではなく、むしろ添付される請求の範囲の記述に従った広がりおよび範囲において、解釈されるべきである。

Claims (3)

1. オフノート付与消耗品成分、および
   ４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸；（Ｅ）−３−（１−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）シクロプロピル）アクリル酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロヘキサ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−２−エン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸、２，２−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、２−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、３，３−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタン酸、（Ｅ）−１−（２−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタ−６−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（８−メチルスピロ［２.５］オクタ−７−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）エチル）シクロプロパンカルボン酸、２−（（６，７−ジメチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、２−（１−（（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、および４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタン酸からなる群から選択される１種または２種以上のオフノ−ト遮断化合物を含む香料組成物。
2. 消耗品におけるオフノートを遮断する方法であって、
   （ａ）オフノートを付与するために十分な濃度における１種または２種以上のオフノート付与成分、および
   （ｂ）４−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、３−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）プロパン酸、２−（３，４−ジメチルシクロヘキシル）酢酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸；
   （Ｅ）−３−（１−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）シクロプロピル）アクリル酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロヘキサ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−２−エン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸、２，２−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、２−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、３，３−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタン酸、（Ｅ）−１−（２−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタ−６−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（８−メチルスピロ［２.５］オクタ−７−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）エチル）シクロプロパンカルボン酸、２−（（６，７−ジメチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、２−（１−（（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、および４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタン酸からなる群から選択される１種または２種以上のオフノ−ト遮断化合物を、消耗品と混合することを含む、消耗品におけるオフノートを遮断する方法。
3. ４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（２，２，６−トリメチルシクロヘキシル）ブタン酸、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エニル）ブタン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸；（Ｅ）−３−（１−（２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エニル）シクロプロピル）アクリル酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロヘキサ−３−エニル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタ−２−エン酸、１−メチル−２−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロパンカルボン酸、２，２−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、２−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，２，２−トリメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、３，３−ジメチル−４−（２，２，３−トリメチルシクロペンチル）ブタン酸、４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタン酸、（Ｅ）−１−（２−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ビニル）シクロプロパンカルボン酸、（Ｅ）−４−（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタ−６−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−３−エン酸、（Ｅ）−４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタ−２−エン酸、（Ｅ）−４−（８−メチルスピロ［２.５］オクタ−７−エン−４−イル）ブタ−２−エン酸、１−（２−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）エチル）シクロプロパンカルボン酸、２−（（６，７−ジメチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）−１−メチルシクロプロパンカルボン酸、２−（１−（（１，４−ジメチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）プロパン酸、２−（１−（（１−メチルビシクロ［３．１．０］ヘキサン−２−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、２−（１−（（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）メチル）シクロプロピル）酢酸、および４−（７−メチルスピロ［２．４］ヘプタン−４−イル）ブタン酸から選択されるオフノ−ト遮断化合物。