JP5424404B2 - 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 - Google Patents
表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5424404B2 JP5424404B2 JP2009553448A JP2009553448A JP5424404B2 JP 5424404 B2 JP5424404 B2 JP 5424404B2 JP 2009553448 A JP2009553448 A JP 2009553448A JP 2009553448 A JP2009553448 A JP 2009553448A JP 5424404 B2 JP5424404 B2 JP 5424404B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- frequency
- sample
- force
- alternating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 378
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 326
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 70
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 69
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 57
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 31
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 25
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 25
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 20
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 17
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 claims description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 22
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 19
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 15
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 5
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 description 3
- 238000001845 vibrational spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000612 Sm alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CLBRCZAHAHECKY-UHFFFAOYSA-N [Co].[Pt] Chemical compound [Co].[Pt] CLBRCZAHAHECKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAWCNYZAWMWIC-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Nd] Chemical compound [Fe].[Nd] PXAWCNYZAWMWIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMHKGULXIWIGBU-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Pt] Chemical compound [Fe].[Pt] CMHKGULXIWIGBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000828 alnico Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 1
- 238000012905 input function Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000815 supermalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/50—MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
- G01Q60/54—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
Description
計測空間に交番力を発生させることにより、励振されたカンチレバーの振動に周波数変調を生じ、その周波数変調の程度(変調指数等)を計測することにより、計測空間で生じる交番力に対する応答性を高い空間分解能で計測することができる。なお、本発明において、試料とは、交番力発生機構とは別体の試料をいうが、交番力発生機構に含まれる交番力を発生させる部分(以下、「交番力発生部分」ということがある。)を測定する際には、該交番力発生部分を試料とみなすことができる。
なお、複素磁化率の実数成分は試料に印加される高周波磁場と同期して変化する磁化成分を磁場の大きさで割ったものであり、虚数成分は高周波磁場に4分の1周期(90°)遅れて変化する磁化成分を磁場の大きさで割ったものであり磁性体試料の損失に対応している。
2・・・試料
3・・・交番力発生機構
4・・・変調計測機構
5・・・画像化機構
6・・・励振機構
10・・・表面状態計測装置
11・・・カンチレバー
411・・・FM復調器(復調装置)
412・・・ロックインアンプ(強度計測装置)
以下、図面を参照しつつ、本発明の表面状態計測装置について説明する。図1に示すように、本発明の表面状態計測装置10は、試料2上に配置した探針1を自由端近傍に備えたカンチレバー11と、カンチレバーを11励振させる励振機構6と、探針1及び試料2を相対的に移動させて探針1に試料2上を走査させる走査機構(不図示)と、計測空間に任意の周波数の交流磁場を印加する交番力発生機構3と、該交流磁場により発生する、探針1の振動の周波数変調または振幅変調の程度を計測する変調計測機構4とを備えている。
(第1実施形態)
以下に、本発明の表面状態計測装置10の第1実施形態として、カンチレバーの励振周波数を、カンチレバーの機械的共振周波数近傍となるように調整する形態について説明する。
となる。ここでz方向は試料面に垂直方向であり、探針1の変位方向としている。磁性探針1が単磁極型で扱える場合は、磁性探針1の磁気モーメントの長さが磁性探針1と測定試料2との距離より大きな場合である。したがって、磁気力の勾配に対応するカンチレバーのバネ定数の実効的変化Δkは、
γは運動の摩擦係数であり、探針1の機械的共振の性能指数Qとは、Q=ω0/γの関係にある。γは測定雰囲気から空気を排除して真空にすることで減らすことができる。ここで、
となる。ここでz方向は試料面に垂直方向であり、探針1の変位方向としている。磁性探針1が単磁極型で扱える場合は、磁性探針1の磁気モーメントの長さが磁性探針1と測定試料2との距離より大きな場合である。したがって、磁気力の勾配に対応するカンチレバー11のバネ定数の実効的変化Δkは、
以下に、本発明の表面状態計測装置10の第2実施形態として、探針振動の周波数変調により発生する任意の(ω0±nωm)(nは整数)成分をカンチレバー11の共振周波数に一致させるように、カンチレバー11の励振周波数を選択した形態について説明する。図4は交流磁場により変調した探針振動を示すグラフである。この形態では、高い周波数の交流磁場により発生する探針振動の周波数変調をより高感度に計測することが可能になる。この場合には、(ω0+nωm)成分と(ω0−nωm)成分の強度が異なることになる。ここで(ω0−ωm)成分がカンチレバー11の共振周波数ω0に等しくなる場合を考える。この場合、(ω0+ωm)成分は(ω0−ωm)成分と比較して大きく減衰するので、式(17)および式(27)より探針の変位は、
次に、本発明の表面状態計測方法について説明する。本発明の表面状態計測方法は、上記した本発明の表面状態計測装置を用いた計測方法である。より具体的には、自由端近傍に探針1を備えたカンチレバー11を励振させると同時に、交番力発生機構3によって計測空間に任意の周波数の交番力を発生させ、該交番力により発生する探針1の振動の周波数変調または振幅変調の程度を変調計測機構4によって計測する工程(変調計測工程)を備える、表面状態計測方法である。変調計測工程は、カンチレバー11を励振させながら探針1で試料2の表面を走査すると同時に、交番力発生機構3によって計測空間に任意の周波数の交番力を発生させ、該交番力により発生する探針1の振動の周波数変調または振幅変調の程度を変調計測機構4によって計測する工程とすることもできる。
Claims (23)
- 試料上に配置した探針の振動の変調を検出して該試料の表面状態を計測する表面状態計測装置であって、
自由端近傍に前記探針を備えたカンチレバーと、
前記カンチレバーを励振させる励振機構と、
前記探針及び前記試料を相対的に移動させて前記探針に前記試料上を走査させる走査機構と、
計測空間に任意の周波数の交番力を発生させる交番力発生機構と、
前記交番力によって前記探針に周期的な力が加わり、該周期的な力によって前記カンチレバーの見かけ上のバネ定数が周期的に変化し、該バネ定数の周期的変化に起因する前記探針の振動の周波数変調または振幅変調の程度を計測することができる、変調計測機構と、
を備える表面状態計測装置。 - 前記変調計測機構が、前記交番力により発生する、前記探針の振動の周波数変調または振幅変調を復調して計測する、請求項1に記載の表面状態計測装置。
- 前記交番力発生機構が、単一周波数の力によって前記交番力を発生させる、請求項1または2に記載の表面状態計測装置。
- 前記交番力が、交流磁場または交流電場により発生する力である、請求項1〜3のいずれかに記載の表面状態計測装置。
- 前記励振機構が、前記カンチレバーの機械的共振周波数近傍の周波数で前記カンチレバーを励振させる機構であり、
前記変調計測機構が、前記探針の振動の前記周波数変調の程度を計測する機構である、請求項1〜4のいずれかに記載の表面状態計測装置。 - 前記励振機構が、前記カンチレバーの機械的共振周波数に、前記交番力を発生させている周波数を加えた又は引いた周波数で前記カンチレバーを励振させる機構であり、
前記変調計測機構が、前記探針振動の前記周波数変調または前記振幅変調の程度を計測する機構である、請求項1〜4のいずれかに記載の表面状態計測装置。 - 前記探針がハード磁気特性を示す磁性探針であるとともに前記試料がソフト磁気特性を示す試料であり、前記交番力が交流磁場により発生する力である、請求項1〜6のいずれかに記載の表面状態計測装置。
- さらに、ソフト磁気特性を示す前記試料の交流磁場応答の程度を画像化する画像化機構を備えた、請求項7に記載の表面状態計測装置。
- 前記画像化機構が、前記交流磁場応答の程度として、応答振幅と位相遅れとを画像化する機構である、請求項8に記載の表面状態計測装置。
- 前記探針がソフト磁気特性を示す磁性探針であるとともに前記試料がハード磁気特性を示す試料であり、前記交番力が交流磁場により発生する力である、請求項1〜6のいずれかに記載の表面状態計測装置。
- さらに、ハード磁気特性を示す前記試料の近傍の磁場勾配を画像化する画像化機構を備えた、請求項10に記載の表面状態計測装置。
- 前記探針が帯電した探針又は強誘電性を示す探針であるとともに前記試料が強誘電性を示す試料であり、前記交番力が交流電場により発生する力である、請求項1〜6のいずれかに記載の表面状態計測装置。
- さらに、強誘電性を示す前記試料の交流電場応答の程度を画像化する画像化機構を備えた、請求項12に記載の表面状態計測装置。
- 前記画像化機構が、前記交流電場応答の程度として、応答振幅と位相遅れとを画像化する機構である、請求項13に記載の表面状態計測装置。
- 前記励振機構が、前記カンチレバーの励振周波数を掃引できる機能を有する、請求項1〜14のいずれかに記載の表面状態計測装置。
- 試料上に配置した探針の振動の変調を検出して該試料の表面状態を計測する表面状態計測方法であって、
自由端近傍に前記探針を備えたカンチレバーを励振させると同時に、計測空間に任意の周波数の交番力を発生させ、前記交番力によって前記探針に周期的な力を加え、該周期的な力によって前記カンチレバーの見かけ上のバネ定数を周期的に変化させ、該バネ定数の周期的変化に起因する前記探針の振動の周波数変調または振幅変調の程度を計測する、変調計測工程を備える、表面状態計測方法。 - 試料上に配置した探針の振動の変調を検出して該試料の表面状態を計測する表面状態計測方法であって、
自由端近傍に前記探針を備えたカンチレバーを励振させながら前記探針で前記試料の表面を走査すると同時に、計測空間に任意の周波数の交番力を発生させ、前記交番力によって前記探針に周期的な力を加え、該周期的な力によって前記カンチレバーの見かけ上のバネ定数を周期的に変化させ、該バネ定数の周期的変化に起因する前記探針の振動の周波数変調または振幅変調の程度を計測する、変調計測工程を備える、表面状態計測方法。 - 前記探針に前記試料上を走査させて前記試料の表面の形状を計測する表面形状計測工程の後、前記変調計測工程を行う、請求項16または17に記載の表面状態計測方法。
- 前記探針に前記試料上を走査させて前記試料の表面の形状を計測する表面形状計測工程と同時に前記変調計測工程を行う、請求項16または17に記載の表面状態計測方法。
- 前記変調計測工程において、前記交番力により発生する前記探針の振動の周波数変調または振幅変調を復調して計測する、請求項16〜19のいずれかに記載の表面状態計測方法。
- 前記変調計測工程において、単一周波数の力によって前記交番力を発生させる、請求項16〜20のいずれかに記載の表面状態計測方法。
- 前記交番力が、交流磁場または交流電場により発生する力である、請求項16〜21のいずれかに記載の表面状態計測方法。
- 前記変調計測工程において、前記カンチレバーの励振周波数を掃引する、請求項16〜22のいずれかに記載の表面状態計測方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009553448A JP5424404B2 (ja) | 2008-02-12 | 2009-02-12 | 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008031128 | 2008-02-12 | ||
JP2008031128 | 2008-02-12 | ||
JP2008231530 | 2008-09-09 | ||
JP2008231530 | 2008-09-09 | ||
PCT/JP2009/052338 WO2009101991A1 (ja) | 2008-02-12 | 2009-02-12 | 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 |
JP2009553448A JP5424404B2 (ja) | 2008-02-12 | 2009-02-12 | 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009101991A1 JPWO2009101991A1 (ja) | 2011-06-16 |
JP5424404B2 true JP5424404B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=40957022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009553448A Active JP5424404B2 (ja) | 2008-02-12 | 2009-02-12 | 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8490209B2 (ja) |
JP (1) | JP5424404B2 (ja) |
WO (1) | WO2009101991A1 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009097487A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Temperature-dependent nanoscale contact potential measurement technique and device |
US8931950B2 (en) | 2008-08-20 | 2015-01-13 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Device for calorimetric measurement |
JP5226481B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-07-03 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 自己変位検出型カンチレバーおよび走査型プローブ顕微鏡 |
WO2010069085A1 (en) * | 2008-12-17 | 2010-06-24 | Specs Zurich Gmbh | Scanning probe microscope with current controlled actuator |
US8387443B2 (en) * | 2009-09-11 | 2013-03-05 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Microcantilever with reduced second harmonic while in contact with a surface and nano scale infrared spectrometer |
JP4769918B1 (ja) | 2010-09-03 | 2011-09-07 | 国立大学法人秋田大学 | 磁場観察装置及び磁場観察方法 |
JP2012198192A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-10-18 | Tokyo Institute Of Technology | 磁気力顕微鏡及び高空間分解能磁場測定方法 |
JP5550594B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2014-07-16 | 株式会社東芝 | 磁気ヘッド |
US8914911B2 (en) | 2011-08-15 | 2014-12-16 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Magnetic actuation and thermal cantilevers for temperature and frequency dependent atomic force microscopy |
US8533861B2 (en) | 2011-08-15 | 2013-09-10 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Magnetic actuation and thermal cantilevers for temperature and frequency dependent atomic force microscopy |
EP2762896B1 (en) * | 2011-09-26 | 2019-11-13 | Akita University | Dc magnetic field magnetic profile measuring device and magnetic profile measuring method |
US9222914B2 (en) | 2011-09-26 | 2015-12-29 | Akita University | Magnetic profile measuring device and method for measuring magnetic profile for alternating-current magnetic field |
EP2767837A4 (en) * | 2011-10-14 | 2015-05-27 | Olympus Corp | SCANNING PROBE MICROSCOPE AND ITS CONTROL METHOD |
US8804280B2 (en) * | 2012-02-03 | 2014-08-12 | Seagate Technology Llc | Actively synchronizing magnetic responses of a shield and a write pole |
US8873201B2 (en) | 2012-02-03 | 2014-10-28 | Seagate Technology Llc | Low-recess write pole coil near shield at media-facing surface |
JP2014066544A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 磁気ヘッド検査装置及び磁気ヘッド検査方法 |
JP6167265B2 (ja) * | 2013-01-11 | 2017-07-26 | 国立大学法人秋田大学 | 磁性微粒子の磁気特性評価装置および磁気特性評価方法 |
US9482692B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-11-01 | Akita University | Magnetic field value measuring device and method for measuring magnetic field value |
US9159349B2 (en) | 2013-08-28 | 2015-10-13 | Seagate Technology Llc | Writer core incorporating thermal sensor having a temperature coefficient of resistance |
JP6358788B2 (ja) * | 2013-08-31 | 2018-07-18 | 国立大学法人秋田大学 | 交流磁場測定装置および交流磁場測定方法 |
WO2015088528A1 (en) | 2013-12-12 | 2015-06-18 | Halliburton Energy Services, Inc. | Magnetic monopole ranging system and methodology |
JP6482129B2 (ja) * | 2014-01-30 | 2019-03-13 | 国立大学法人秋田大学 | 電気力/磁気力顕微鏡および電場/磁場同時測定方法 |
JP6528334B2 (ja) * | 2014-05-24 | 2019-06-12 | 国立大学法人秋田大学 | 磁気力顕微鏡用探針の評価装置および評価方法、ならびに磁気力顕微鏡および磁気力顕微鏡の制御用磁場調整方法 |
US9395387B1 (en) * | 2015-06-19 | 2016-07-19 | Shimadzu Corporation | Scanning probe microscope |
KR102598426B1 (ko) * | 2018-12-13 | 2023-11-06 | 현대자동차주식회사 | 합성곱 신경망법을 이용한 체결력 예측방법 |
US12091313B2 (en) | 2019-08-26 | 2024-09-17 | The Research Foundation For The State University Of New York | Electrodynamically levitated actuator |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05142315A (ja) * | 1991-07-08 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 表面顕微鏡用探針及びそれを用いた表面顕微鏡 |
JPH10334525A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-12-18 | Sony Corp | 記録及び/又は再生方法、記録及び/又は再生装置 |
JP2001272327A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Toshiba Corp | 磁界特性評価装置及び測定方法 |
JP2002286613A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Toshiba Corp | 高周波特性測定装置 |
JP2004294218A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Kansai Tlo Kk | 物性値の測定方法および走査形プローブ顕微鏡 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08122341A (ja) | 1994-10-24 | 1996-05-17 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
US5907096A (en) * | 1997-06-02 | 1999-05-25 | International Business Machines Corporation | Detecting fields with a two-pass, dual-amplitude-mode scanning force microscope |
JP2001266317A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-09-28 | Toshiba Corp | 磁気記録ヘッド測定装置及び同装置に適用する測定方法 |
JP2003065935A (ja) | 2002-07-26 | 2003-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 非接触原子間力顕微鏡、磁気力顕微鏡、および静電気力顕微鏡 |
JP4873460B2 (ja) * | 2006-05-25 | 2012-02-08 | 株式会社島津製作所 | 探針位置制御装置 |
-
2009
- 2009-02-12 JP JP2009553448A patent/JP5424404B2/ja active Active
- 2009-02-12 WO PCT/JP2009/052338 patent/WO2009101991A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-08-09 US US12/852,635 patent/US8490209B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05142315A (ja) * | 1991-07-08 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 表面顕微鏡用探針及びそれを用いた表面顕微鏡 |
JPH10334525A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-12-18 | Sony Corp | 記録及び/又は再生方法、記録及び/又は再生装置 |
JP2001272327A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Toshiba Corp | 磁界特性評価装置及び測定方法 |
JP2002286613A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Toshiba Corp | 高周波特性測定装置 |
JP2004294218A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Kansai Tlo Kk | 物性値の測定方法および走査形プローブ顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110030109A1 (en) | 2011-02-03 |
US8490209B2 (en) | 2013-07-16 |
WO2009101991A1 (ja) | 2009-08-20 |
JPWO2009101991A1 (ja) | 2011-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5424404B2 (ja) | 表面状態計測装置及び該装置を用いた表面状態計測方法 | |
US8621658B2 (en) | Magnetic field observation device and magnetic field observation method | |
US7023204B2 (en) | Magnetic imaging microscope test system and its application for characterization of read and write heads for magnetic recording | |
US20100079908A1 (en) | Determining A Magnetic Sample Characteristic Using A Magnetic Field From A Domain Wall | |
CN103443632B (zh) | 磁力显微镜及高空间分辨率磁场测定方法 | |
US6617848B2 (en) | Magnetic head measuring apparatus and measuring method applied to the same apparatus | |
JP3141555B2 (ja) | 走査表面磁気顕微鏡 | |
JP6167265B2 (ja) | 磁性微粒子の磁気特性評価装置および磁気特性評価方法 | |
JP6528334B2 (ja) | 磁気力顕微鏡用探針の評価装置および評価方法、ならびに磁気力顕微鏡および磁気力顕微鏡の制御用磁場調整方法 | |
JP2012053956A (ja) | 磁気ヘッド素子評価装置及び磁気ヘッド素子評価方法 | |
US20150323562A1 (en) | Magnetic profile measuring device and method for measuring magnetic profile for direct-current (dc) magnetic field | |
Re et al. | Magneto-optic determination of magnetic recording head fields | |
Liu et al. | Characterization of skip or far track erasure in a side shield design | |
Ohkubo et al. | Submicron magnetizing and its detection based on the point magnetic recording concept | |
JP4344812B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡と計測方法 | |
Damrongsak et al. | Preparation and Characterization of Magnetic Force Microscopy Tips Coated with Nickel Films by e-Beam Evaporation | |
Liu | Magnetic dissipation force microscopy | |
Grütter | Applications of magnetic force microscopy | |
JP6481191B2 (ja) | 交流磁場測定装置および交流磁場測定方法 | |
JPH09127222A (ja) | 磁化状態の測定方法 | |
Sandhu et al. | Room temperature scanning micro-Hall probe microscopy under extremely large pulsed magnetic fields | |
Takata | Strain imaging of a magnetic layer formed on an air bearing surface of a hard disk drive head for perpendicular recording | |
Wolfson et al. | Dynamic Kerr imaging of soft underlayers for perpendicular recording applications | |
Sueoka et al. | MFM and its application to magnetic recording: for DC and high-frequency characterization | |
Takata et al. | Strain imaging of a perpendicular recording head in a Hard Disk Drive |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130704 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5424404 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |