JP5413727B2 - Coating apparatus and coating method - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの基板に塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に関する。 The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a coating solution on a single-wafer type substrate such as a glass substrate or a plastic substrate.
従来から、ガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの基板に塗布液を塗布する塗布装置として、様々な種類のものが知られている。 2. Description of the Related Art Conventionally, various types of coating apparatuses are known as coating apparatuses that apply a coating solution to a single-wafer type substrate such as a glass substrate or a plastic substrate.
従来の塗布装置について、図10乃至図12を用いて説明する。図10は、従来の塗布装置の構成の概略を示す斜視図であり、図11は、図10に示す塗布装置の正面図である。また、図12は、図10に示す塗布装置において、ガントリを移動させ始めてからの時間と、載置台に対するダイヘッドの相対速度との関係を示すグラフである。 A conventional coating apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a perspective view showing an outline of the configuration of a conventional coating apparatus, and FIG. 11 is a front view of the coating apparatus shown in FIG. FIG. 12 is a graph showing the relationship between the time from the start of moving the gantry and the relative speed of the die head with respect to the mounting table in the coating apparatus shown in FIG.
まず、図10および図11を用いて従来の塗布装置70の構成について説明する。図10および図11に示すように、従来の塗布装置70は、基台71と、基台71に固定された載置台72とを備えている。載置台72には、ガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの基板Sが載置されるようになっている。また、塗布装置70には、載置台72に載置される基板Sに塗布液を吐出するダイヘッド90が設けられており、このダイヘッド90はガントリ80により支持されるようになっている。ガントリ80は載置台72上に設けられており、当該載置台72の長手方向(図10および図11における左右方向)に沿って直線状に移動するようになっている。
First, the structure of the
ダイヘッド90の下端部には吐出口90aが設けられており、この吐出口90aから下方に塗布液が吐出されるようになっている。また、ダイヘッド90の内部には中空部分90bが設けられており、この中空部分90bに塗布液が収容されるようになっている。中空部分90bに収容された塗布液は、吐出口90aから下方に吐出される。また、図11に示すように、ダイヘッド90の中空部分90bには塗布液供給源92から供給ポンプ94により塗布液が供給されるようになっている。塗布液供給源92および供給ポンプ94により、ダイヘッド90に塗布液を供給するための塗布液供給部が構成されている。
A
次に、上述のような従来の塗布装置70の動作、すなわち基板Sに塗布液を塗布する塗布方法について以下に説明する。
Next, the operation of the
まず、載置台72に基板Sを載置する。この際に、ダイヘッド90の吐出口90aが基板Sの一方の端部の近傍に位置するよう、ガントリ80を予め所定の位置(初期位置)に移動させておく。
First, the substrate S is mounted on the mounting table 72. At this time, the
次に、図10および図11における右方向にガントリ80を移動させる。この際に、ダイヘッド90の吐出口90aから基板Sに塗布液を吐出させる。このことにより、基板Sに塗布液が塗布される。そして、ダイヘッド90の吐出口90aが基板Sの他方の端部の近傍に近づくと、ガントリ80を停止させる。この際に、ダイヘッド90の吐出口90aから基板Sへの塗布液の吐出も停止させる。このようにして、載置台72に載置された基板Sに塗布液が塗布されることとなる。
Next, the
従来の塗布装置70においては、図12に示すように、ガントリ80を移動させ始めてからこのガントリ80の速度が所定の大きさ(塗布液の塗布速度)に達するまでに一定の時間がかかってしまう。すなわち、ガントリ80を移動させ始めてから時間t1が経過するまでは、ガントリ80の速度は所定の大きさよりも小さくなってしまい、この間においてダイヘッド90から基板Sに塗布された塗布液の膜厚にばらつきが生じてしまう。このように、従来の塗布装置70では、ガントリ80の速度が所定の大きさに達するまでの基板Sにおける膜厚の制御が困難であり、基板Sにおける塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域が狭くなってしまうという問題がある。なお、有効塗布領域とは、図12における時間t1から時間t2までの間に基板Sに塗布液が塗布される領域のことをいう。
In the
このような問題を解決するために、例えば特許文献1には、載置台上に複数の基板を互いに隣接するよう直列に並べ、直列に配置された複数の基板に塗布液を連続的に供給するような装置が開示されている。また、特許文献2、3には、ダイヘッドから塗布液を吐出させ始める際に、ダイヘッドに送られる塗布液の量をポンプ等で制御する方法が開示されている。しかしながら、これらの特許文献に開示されるような方法であっても、塗布液の種類の変更などによりプロセスの変更が余儀なくされるという問題があり、また、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を広くすることは困難であった。 In order to solve such a problem, for example, in Patent Document 1, a plurality of substrates are arranged in series on a mounting table so as to be adjacent to each other, and a coating solution is continuously supplied to the plurality of substrates arranged in series. Such an apparatus is disclosed. Patent Documents 2 and 3 disclose a method of controlling the amount of the coating liquid sent to the die head with a pump or the like when starting to discharge the coating liquid from the die head. However, even with the methods disclosed in these patent documents, there is a problem that the process must be changed due to a change in the type of coating liquid, and the thickness of the coating liquid on the substrate is substantially uniform. It was difficult to widen the effective application area.
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板が載置される載置台に対して塗布部を相対的に移動させ始めてから、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の大きさ(塗布液の塗布速度)に達するまでに必要な時間を短くし、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる塗布装置および塗布方法を提供する。 The present invention has been made in consideration of such points, and the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table is predetermined after the coating unit starts to move relative to the mounting table on which the substrate is mounted. The coating apparatus and coating which can shorten the time required to reach the size of the coating liquid (coating liquid coating speed) and can relatively increase the effective coating area where the film thickness of the coating liquid on the substrate is substantially uniform Provide a method.
本発明は、基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、基台と、前記基台上に固定され、基板が載置される載置台と、前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、前記載置台の長手方向に沿って直線状に移動し、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させるための摺動機構と、前記塗布部支持機構および前記摺動機構の制御を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記塗布部支持機構を移動させながら前記塗布部から前記載置台に載置された基板に塗布液を供給することにより基板に塗布液を塗布するようになっており、前記塗布部支持機構を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させるよう制御を行うことを特徴とする塗布装置である。 The present invention is a coating apparatus that applies a coating solution to a substrate, and is applied to a base, a mounting base fixed on the base and on which the substrate is placed, and a substrate placed on the mounting base. An application part that discharges the liquid, a coating part support mechanism that moves linearly along the longitudinal direction of the mounting table, supports the application part, and is provided in the application part support mechanism. A sliding mechanism for sliding the coating part in the moving direction of the coating part support mechanism with respect to the coating part support mechanism, and a sliding mechanism for the coating part support mechanism and the sliding mechanism. A control unit that performs control, and the control unit supplies the coating liquid to the substrate by supplying the coating liquid from the coating unit to the substrate placed on the mounting table while moving the coating unit support mechanism. Start to move the applicator support mechanism In this case, the application unit support mechanism is moved until the relative speed of the application unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size, and the application unit is applied to the application unit support mechanism by the sliding mechanism. A coating apparatus that controls to slide in the moving direction of the part support mechanism.
このような塗布装置によれば、塗布部支持機構に対して塗布部を塗布部支持機構の移動方向に摺動させるための摺動機構が設けられており、制御部は、塗布部支持機構を移動させ始める際に、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、塗布部支持機構を移動させるとともに摺動機構により塗布部支持機構に対して塗布部を塗布部支持機構の移動方向に摺動させるよう制御を行うようになっている。このことにより、塗布部支持機構を移動させ始める際に、塗布部支持機構を塗布方向に移動させるとともに、塗布部支持機構に対して塗布部を塗布方向に摺動させることにより、塗布部は塗布方向に実質的に二重に加速されることとなるので、載置台に対する塗布部の加速度が大きくなり、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間が比較的短くなる。このため、塗布部支持機構を移動させ始めてから載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板に塗布液が塗布される領域(すなわち、塗布液の膜厚にばらつきがある領域)が比較的小さくなり、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。 According to such a coating apparatus, the sliding unit for sliding the coating unit in the moving direction of the coating unit support mechanism is provided with respect to the coating unit support mechanism, and the control unit controls the coating unit support mechanism. When starting to move, the application unit support mechanism is moved until the relative speed of the application unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size, and the application unit is moved to the application unit support mechanism by the sliding mechanism. Control is made to slide in the moving direction. As a result, when the application unit support mechanism starts to move, the application unit support mechanism is moved in the application direction, and the application unit is applied by sliding the application unit in the application direction with respect to the application unit support mechanism. Since the acceleration of the coating unit with respect to the mounting table increases substantially, the time required until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined speed is relatively short. Become. For this reason, the region where the coating liquid is applied to the substrate (that is, the thickness of the coating liquid) until the relative speed of the coating section with respect to the mounting table reaches a predetermined speed (coating speed) after the movement of the coating section support mechanism is started. The region where there is variation) is relatively small, and the effective application region where the film thickness of the coating solution on the substrate is substantially uniform can be made relatively large.
上述のような塗布装置においては、前記塗布部には、当該塗布部に塗布液を供給する塗布液供給部が接続されており、この塗布液供給部は前記制御部により制御されるようになっており、前記制御部は、前記塗布部支持機構を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布液供給部により前記塗布部に供給される塗布液の量を増加させ続けるよう前記塗布液供給部の制御を行うようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, the coating unit is connected to a coating solution supply unit that supplies the coating solution to the coating unit, and the coating solution supply unit is controlled by the control unit. When the control unit starts to move the coating unit support mechanism, the control unit supplies the coating unit with the coating liquid supply unit until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The coating liquid supply unit may be controlled so as to keep increasing the amount of coating liquid to be applied.
上述のような塗布装置においては、前記基台または前記載置台上には直線状に延びるレールが設けられており、前記塗布部支持機構は前記レールに沿って摺動するようになっており、前記塗布部支持機構の駆動部にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用するようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, a rail extending linearly is provided on the base or the mounting table, and the coating unit support mechanism slides along the rail. A linear motor may be used for the drive part of the application part support mechanism, and an air slider may be used for the sliding part.
上述のような塗布装置においては、前記摺動機構において、当該摺動機構の駆動部にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用するようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, in the sliding mechanism, a linear motor may be used for the driving portion of the sliding mechanism, and an air slider may be used for the sliding portion.
本発明は、基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、基台と、前記基台上に設けられ、当該基台の長手方向に沿って直線状に移動し、基板が載置される載置台と、前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、前記基台上に固定され、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるための摺動機構と、前記載置台および前記摺動機構の制御を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記載置台を移動させながら前記塗布部から前記載置台に載置された基板に塗布液を供給することにより基板に塗布液を塗布するようになっており、前記載置台を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるよう制御を行うことを特徴とする塗布装置である。 The present invention is a coating apparatus that applies a coating solution to a substrate, and is provided on a base and the base, moves linearly along the longitudinal direction of the base, and the substrate is placed thereon. A mounting table, a coating unit that discharges a coating liquid onto a substrate mounted on the mounting table, a coating unit support mechanism that is fixed on the base and supports the coating unit, and a coating unit support mechanism A sliding mechanism to which the coating unit is attached, and a sliding mechanism for sliding the coating unit in a direction opposite to the moving direction of the mounting table with respect to the coating unit support mechanism; A control unit that controls the mounting table and the sliding mechanism, and the control unit supplies the coating liquid from the coating unit to the substrate mounted on the mounting table while moving the mounting table. The coating liquid is applied to the substrate, and moving the mounting table starts In this case, the mounting table is moved until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude and the coating unit is moved with respect to the coating unit supporting mechanism by the sliding mechanism. It is a coating apparatus characterized by performing control to slide in a direction opposite to the moving direction.
このような塗布装置によれば、塗布部支持機構に対して塗布部を載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるための摺動機構が設けられており、制御部は、載置台を移動させ始める際に、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、載置台を移動させるとともに摺動機構により塗布部支持機構に対して塗布部を載置台の移動方向と逆の方向に摺動させるよう制御を行うようになっている。このことにより、載置台を移動させ始める際に、載置台を塗布方向に移動させるとともに、塗布部支持機構に対して塗布部を載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させることにより、載置台に対して塗布部は実質的に二重に加速されることとなるので、載置台に対する塗布部の加速度が大きくなり、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間が比較的短くなる。このため、載置台を移動させ始めてから載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板に塗布液が塗布される領域が比較的小さくなり、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。 According to such a coating apparatus, the sliding unit for sliding the coating unit in the direction opposite to the moving direction of the mounting table with respect to the coating unit supporting mechanism is provided, and the control unit is When moving the mounting table, the mounting table is moved until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude, and the application unit is moved relative to the coating unit support mechanism by the sliding mechanism. Control is made to slide in the opposite direction. By this, when starting to move the mounting table, by moving the mounting table in the coating direction, by sliding the coating unit in the direction opposite to the moving direction of the mounting table with respect to the coating unit support mechanism, Since the coating unit is substantially double-accelerated with respect to the mounting table, the acceleration of the coating unit with respect to the mounting table increases, and it is necessary until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined speed. Time is relatively short. For this reason, the area where the coating liquid is applied to the substrate becomes relatively small from when the mounting table starts to move until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined speed (coating speed). The effective application area where the film thickness is substantially uniform can be made relatively large.
上述のような塗布装置においては、前記塗布部には、当該塗布部に塗布液を供給する塗布液供給部が接続されており、この塗布液供給部は前記制御部により制御されるようになっており、前記制御部は、前記載置台を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布液供給部により前記塗布部に供給される塗布液の量を増加させ続けるよう前記塗布液供給部の制御を行うようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, the coating unit is connected to a coating solution supply unit that supplies the coating solution to the coating unit, and the coating solution supply unit is controlled by the control unit. When the controller starts to move the mounting table, the controller supplies the coating unit to the coating unit until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The coating liquid supply unit may be controlled so as to continue increasing the amount of the coating liquid.
上述のような塗布装置においては、前記基台上には直線状に延びる溝が設けられており、前記載置台は前記溝に沿って摺動するようになっており、前記載置台の駆動部にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用するようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, a groove extending linearly is provided on the base, and the mounting table slides along the groove, and the driving unit of the mounting table Alternatively, a linear motor may be used, and an air slider may be used for the sliding portion.
上述のような塗布装置においては、前記摺動機構において、前記塗布部の駆動部にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用するようになっていてもよい。 In the coating apparatus as described above, in the sliding mechanism, a linear motor may be used for the driving unit of the coating unit, and an air slider may be used for the sliding part.
本発明は、基板に塗布液を塗布する塗布方法であって、基板が載置される載置台と、前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、前記載置台に対して相対的に移動し、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を摺動させるための摺動機構と、を有する塗布装置を準備する工程と、前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台または塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を摺動させる工程と、を備えたことを特徴とする塗布方法である。 The present invention is a coating method for applying a coating liquid to a substrate, the mounting table on which the substrate is mounted, a coating unit that discharges the coating liquid to the substrate mounted on the mounting table, and the mounting table An applicator support mechanism that moves relative to the applicator to support the applicator, and a sliding mechanism that is provided on the applicator support mechanism and to which the applicator is attached. A step of preparing a coating device having a sliding mechanism for sliding the coating portion, and when starting to move the coating portion relative to the mounting table, the application to the mounting table Moving the mounting table or the coating unit support mechanism until the relative speed of the unit reaches a predetermined size, and sliding the coating unit with respect to the coating unit support mechanism by the sliding mechanism. It is the coating method characterized by this.
このような塗布方法によれば、載置台に対して塗布部を相対的に移動させ始める際に、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、載置台または塗布部支持機構を移動させるとともに摺動機構により塗布部支持機構に対して塗布部を摺動させるようになっている。このことにより、載置台または塗布部支持機構を移動させ始める際に、塗布部支持機構に対して塗布部を摺動させることにより、載置台に対して塗布部は実質的に二重に加速されることとなるので、載置台に対する塗布部の加速度が大きくなり、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間が比較的短くなる。このため、載置台を移動させ始めてから載置台に対する塗布部の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板に塗布液が塗布される領域が比較的小さくなり、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。 According to such a coating method, when starting to move the coating unit relative to the mounting table, the mounting table or the coating unit support mechanism until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The applicator is slid with respect to the applicator support mechanism by a sliding mechanism. By this, when starting to move the mounting table or the coating unit support mechanism, the coating unit is substantially double accelerated with respect to the mounting table by sliding the coating unit with respect to the coating unit support mechanism. Therefore, the acceleration of the coating unit with respect to the mounting table increases, and the time required for the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table to reach a predetermined speed is relatively short. For this reason, the area where the coating liquid is applied to the substrate becomes relatively small from when the mounting table starts to move until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined speed (coating speed). The effective application area where the film thickness is substantially uniform can be made relatively large.
本発明の塗布方法においては、前記載置台はその位置が固定されているとともに、前記塗布部支持機構は前記載置台に対して移動するようになっており、前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させるようになっていてもよい。 In the coating method of the present invention, the position of the mounting table is fixed, and the application unit support mechanism moves with respect to the mounting table, and the coating unit with respect to the mounting table. When the relative movement of the application unit with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude, the application unit support mechanism is moved and the sliding mechanism is used to move the application unit relative to the application unit support mechanism. The application unit may be slid in the moving direction of the application unit support mechanism.
あるいは、前記塗布部支持機構はその位置が固定されているとともに、前記載置台は前記塗布部支持機構に対して移動するようになっており、前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるようになっていてもよい。 Or while the position of the said application part support mechanism is being fixed, the said mounting base moves with respect to the said application part support mechanism, The said application part is made relatively with respect to the said mounting base. When starting to move, the mounting table is moved until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude, and the coating unit is moved forward with respect to the coating unit support mechanism by the sliding mechanism. You may make it slide in the direction opposite to the moving direction of a table.
本発明の塗布装置および塗布方法によれば、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。 According to the coating apparatus and the coating method of the present invention, it is possible to make the effective coating area relatively large in which the coating liquid film thickness on the substrate is substantially uniform.
以下、図面を参照して本発明の一の実施の形態について説明する。図1乃至図6は、本実施の形態に係る塗布装置を示す図である。このうち、図1は、本実施の形態による塗布装置の構成の概略を示す斜視図であり、図2は、図1に示す塗布装置の正面図である。また、図3は、図1に示す塗布装置のガントリに設けられたリニア駆動部の構成を示す構成図であり、図4は、図1に示す塗布装置のダイヘッドに設けられたスライダの構成を示す構成図である。また、図5は、図1に示す塗布装置において、ガントリを移動させ始めてからの時間と、載置台に対するダイヘッドの相対速度との関係を示すグラフであり、図6は、図1に示す塗布装置において、ガントリを移動させ始めてからの時間と、ダイヘッドへの塗布液の供給量との関係を示すグラフである。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 6 are diagrams showing a coating apparatus according to the present embodiment. Among these, FIG. 1 is a perspective view schematically showing the configuration of the coating apparatus according to the present embodiment, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus shown in FIG. 3 is a configuration diagram showing the configuration of the linear drive unit provided in the gantry of the coating apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 4 shows the configuration of the slider provided in the die head of the coating apparatus shown in FIG. FIG. 5 is a graph showing the relationship between the time from the start of moving the gantry and the relative speed of the die head with respect to the mounting table in the coating apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 6 shows the coating apparatus shown in FIG. 2 is a graph showing the relationship between the time from the start of moving the gantry and the amount of coating liquid supplied to the die head.
まず、図1乃至図4を用いて本実施の形態に係る塗布装置10の構成について説明する。図1および図2に示すように、本実施の形態に係る塗布装置10は、基台11と、基台11に固定された載置台12とを備えている。載置台12には、ガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの基板Sが載置されるようになっている。また、塗布装置10には、載置台12に載置される基板Sに塗布液を吐出するダイヘッド30が設けられており、このダイヘッド30はガントリ20により支持されるようになっている。ガントリ20は載置台12上に設けられており、当該載置台12の長手方向(図1および図2における左右方向)に沿って直線状に移動するようになっている。
First, the configuration of the
図1および図2に示すように、載置台12の上面には左右一対のレール14が設けられている。なお、これらのレール14は載置台12の上面に設けられる代わりに基台11の上面に直接設けられるようになっていてもよい。また、ガントリ20の底部には左右一対のリニア駆動部22が設けられている。ここで、図3に示すように、各リニア駆動部22は、各レール14上に位置するようになっている。より詳細には、各リニア駆動部22の底部には各レール14を挟むよう一対のエアパッド24がそれぞれ設けられており、このエアパッド24から空気が下方および左右方向における外方(図3の矢印方向)に吹き出されるようになっている。エアパッド24から空気が吹き出されることにより、リニア駆動部22はレール14から浮くこととなる。また、リニア駆動部22において、エアパッド24の内部には電導コイルが設けられているとともにレール14等の載置台12側には当該載置台12の長手方向に沿ってN磁石およびS磁石が交互に設けられている。このことにより、各リニア駆動部22においてリニアモータによりガントリ20は載置台12に対してレール14に沿って移動することとなる。ガントリ20、リニア駆動部22およびエアパッド24により、載置台12の長手方向に沿って直線状に移動し、ダイヘッド30を支持する塗布部支持機構が構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a pair of left and
図1および図2に示すように、ガントリ20にはスライダ32が設けられており、このスライダ32にダイヘッド30が取り付けられている。そして、スライダ32は、ガントリ20に対してダイヘッド30を少なくともガントリ20の移動方向(図1および図2における右方向)に摺動させることができるようになっている。より詳細には、図4に示すように、スライダ32の上面には左右一対のスライダ駆動部34が設けられており、このスライダ駆動部34によりガントリ20に対してスライダ32が駆動されるようになっている。スライダ駆動部34としては、図3に示すようなリニア駆動部22と同様にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用してもよい。あるいは、スライダ駆動部34としてリニアモータを用いる代わりに、ボールネジ駆動によりガントリ20に対してスライダ32を駆動させてもよい。スライダ32およびスライダ駆動部34により、ガントリ20に対してダイヘッド30をガントリ20の移動方向に摺動させるための摺動機構が構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
ダイヘッド30の下端部には吐出口30aが設けられており、この吐出口30aから下方に塗布液が吐出されるようになっている。また、ダイヘッド30の内部には中空部分30bが設けられており、この中空部分30bに塗布液が収容されるようになっている。中空部分30bに収容された塗布液は、吐出口30aから下方に吐出される。また、図2に示すように、ダイヘッド30の中空部分30bには塗布液供給源52から供給ポンプ54により塗布液が供給されるようになっている。塗布液供給源52および供給ポンプ54により、ダイヘッド30に塗布液を供給するための塗布液供給部が構成されている。
A
また、図2に示すように、塗布装置10には、当該塗布装置10の各構成要素を制御する制御部50が設けられている。より詳細には、この制御部50はリニア駆動部22、スライダ駆動部34および供給ポンプ54に接続されており、これらの構成要素の制御を行うようになっている。具体的には、制御部50は、ガントリ20を図1および図2における右方向に移動させながら、載置台12に載置された基板Sにダイヘッド30から塗布液を供給するよう、塗布装置10の各構成要素を制御するようになっている。このような制御部50による制御方法の詳細については後述する。
As shown in FIG. 2, the
次に、上述のような塗布装置10の動作、すなわち基板Sに塗布液を塗布する塗布方法について以下に説明する。以下に示すような塗布装置10の動作は、制御部50が塗布装置10の各構成要素を制御することにより行われる。
Next, the operation of the
まず、載置台12に基板Sを載置する。この際に、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの一方の端部の近傍に位置するよう、ガントリ20を予め所定の位置(初期位置)に移動させておく。
First, the substrate S is mounted on the mounting table 12. At this time, the
次に、リニア駆動部22により図1および図2における右方向にガントリ20を移動させる。具体的には、ガントリ20を移動させ始める際にガントリ20を加速させ、ガントリ20の速度が所定の大きさ(塗布液の塗布速度)に達したら、その後はガントリ20を定速で移動させる。そして、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの他方の端部の近傍に接近したらガントリ20を減速させ、最終的にガントリ20を停止させる。
Next, the
また、ガントリ20を移動させ始める際に、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、スライダ駆動部34によりガントリ20に対してダイヘッド30をガントリ20の移動方向(すなわち、図1および図2における右方向)に摺動させる。このことにより、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでは、ガントリ20が塗布方向(すなわち、図1および図2における右方向)に移動するとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30が塗布方向に摺動することとなる。
Further, when the
図5は、図1等に示す塗布装置10において、ガントリ20を移動させ始めてからの時間と、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度との関係を示すグラフである。図5における実線は、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、ガントリ20を塗布方向(すなわち、図1および図2における右方向)に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させた場合の、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度を示す。一方、図5における二点鎖線は、比較例として、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、ガントリ20を塗布方向に移動させるが、ガントリ20に対してダイヘッド30を摺動させない場合の、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度を示す。図5のグラフに示すように、ガントリ20に対してダイヘッド30を摺動させない場合には、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに時間t1が必要となる。一方、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、ガントリ20を塗布方向に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させた場合は、ダイヘッド30は塗布方向に実質的に二重に加速されることとなるので、載置台12に対するダイヘッド30の加速度が大きくなり、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでの時間t2は、比較例による時間t1よりも短くなる。このため、ガントリ20を移動させ始めてから載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域(すなわち、塗布液の膜厚にばらつきがある領域)が比較的小さくなり、基板Sにおける塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the time from the start of moving the
図5における二点鎖線に示すように、比較例において、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、ガントリ20を塗布方向に移動させるが、ガントリ20に対してダイヘッド30を摺動させない場合に、塗布液の塗布速度、すなわちガントリ20の定速を400mm/s、ガントリ20を移動させ始めたときのガントリ20の加速度を1000mm/s2としたときには、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域、すなわち基板Sにおける塗布液の膜厚にばらつきがある領域の長さは80mmであった。これに対し、図5における実線に示すように、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、ガントリ20を塗布方向に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させた場合に、塗布液の塗布速度、すなわちガントリ20の定速を400mm/s、ガントリ20を移動させ始めたときのガントリ20の加速度を1000mm/s2、ガントリ20に対するダイヘッド30の加速度を500mm/s2したときには、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域、すなわち基板Sにおける塗布液の膜厚にばらつきがある領域の長さは53mmであった。このように、ガントリ20を塗布方向に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させた場合は、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させない場合と比較して、基板Sにおける塗布液の膜厚にばらつきがある領域の長さが短くなることがわかった。
As shown by a two-dot chain line in FIG. 5, in the comparative example, the
また、ガントリ20を移動させ始める際に、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、塗布液供給源52および供給ポンプ54からなる塗布液供給部によりダイヘッド30に供給される塗布液の量を増加させ続ける。図6は、ガントリ20を移動させ始めてからの時間と、ダイヘッド30への塗布液の供給量との関係を示すグラフである。図6に示すように、塗布液供給部からダイヘッド30に供給される塗布液の量は、ガントリ20を移動させ始めると0から増加し、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達すると、ダイヘッド30に供給される塗布液の量が一定となる。
Further, when the
そして、ガントリ20を移動させながらダイヘッド30から載置台12に載置された基板Sに塗布液を供給することにより基板Sに塗布液を塗布し、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの他方の端部の近傍に接近したらガントリ20を減速させ、最終的にガントリ20を停止させる。この際に、ダイヘッド30への塗布液の供給量も減少させ、最終的にダイヘッド30への塗布液の供給量を0とする。このようにして、基板Sへの一連の塗布動作が終了する。
Then, the coating liquid is applied to the substrate S by supplying the coating liquid from the
以上のように本実施の形態の塗布装置10および塗布方法によれば、ガントリ20に対してダイヘッド30をガントリ20の移動方向に摺動させるためのスライダ駆動部34が設けられており、制御部50は、ガントリ20を移動させ始める際に、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、ガントリ20を移動させるとともにスライダ駆動部34によりガントリ20に対してダイヘッド30をガントリ20の移動方向に摺動させるよう制御を行うようになっている。このことにより、ガントリ20を移動させ始める際に、ガントリ20を塗布方向に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を塗布方向に摺動させることにより、ダイヘッド30は塗布方向に実質的に二重に加速されることとなるので、載置台12に対するダイヘッド30の加速度が大きくなり、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間t2が比較的短くなる。このため、ガントリ20を移動させ始めてから載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域(すなわち、塗布液の膜厚にばらつきがある領域)が比較的小さくなり、基板Sにおける塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。
As described above, according to the
また、本実施の形態の塗布装置10においては、ダイヘッド30には、当該ダイヘッド30に塗布液を供給する塗布液供給部(塗布液供給源52および供給ポンプ54)が接続されており、この塗布液供給部は制御部50により制御されるようになっており、制御部50は、ガントリ20を移動させ始める際に、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、塗布液供給部によりダイヘッド30に供給される塗布液の量を増加させ続けるよう制御を行うようになっている。このことにより、ガントリ20を移動させ始める際の、載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が比較的小さいときには、ダイヘッド30から基板Sに供給される塗布液の量も比較的少なくなるので、ガントリ20を移動させ始めてから載置台12に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域において、塗布液の膜厚のばらつきをできるだけ抑制することができる。
Further, in the
また、本実施の形態の塗布装置10においては、載置台12上には直線状に延びるレール14が設けられており、ガントリ20はレール14に沿って摺動するようになっている。そして、ガントリ20の駆動部であるリニア駆動部22にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダ(エアパッド24)を使用している。
Moreover, in the
また、本実施の形態の塗布装置10においては、スライダ32において、スライダ32の駆動部であるスライダ駆動部34にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダを使用している。なお、前述のように、スライダ駆動部34としてリニアモータを用いる代わりに、ボールネジ駆動によりガントリ20に対してスライダ32を駆動させてもよい。
Moreover, in the
なお、本実施の形態による塗布装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。塗布装置の他の構成について、図7乃至図9を用いて説明する。図7は、本実施の形態による塗布装置の他の構成の概略を示す斜視図であり、図8は、図7に示す塗布装置の正面図である。また、図9は、図7に示す塗布装置の載置台に設けられたリニア駆動部の構成を示す構成図である。 In addition, the coating device by this Embodiment is not limited to said aspect, A various change can be added. Another configuration of the coating apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a perspective view schematically showing another configuration of the coating apparatus according to the present embodiment, and FIG. 8 is a front view of the coating apparatus shown in FIG. Moreover, FIG. 9 is a block diagram which shows the structure of the linear drive part provided in the mounting base of the coating device shown in FIG.
図7乃至図9に示すような変形例に係る塗布装置60の説明において、図1乃至図6に示すような塗布装置10と同一の構成要素については同一の符号を付してその説明を省略する。
In the description of the
図7乃至図9に示すような塗布装置60においては、基台11の上面に左右一対のフレーム62が取り付けられており、各フレーム62にガントリ20の底部が固定されている。すなわち、ガントリ20は基台11上に固定されている。一方、左右一対のフレーム62の間に載置台64が設けられており、この載置台64は基台11の上面において当該基台11の長手方向(図7および図8における左右方向)に沿って直線状に移動するようになっている。すなわち、載置台64は左右一対のフレーム62の間で当該フレーム62の延びる方向に案内されるようになっている。
In the
より詳細に説明すると、図9に示すように、載置台64の底部には底板65が取り付けられている。そして、左右一対のフレーム62の側面には、互いに対向するような位置において溝部62aが設けられており、載置台64の底部に取り付けられた底板65は溝部62aに嵌るようになっている。この底板65における溝部62aの近傍の位置には左右一対のエアパッド65aが設けられており、このエアパッド65aから空気が下方および左右方向における外方(図9の矢印の位置)に吹き出されるようになっている。エアパッド65aから空気が吹き出されることにより、載置台64は基台11から浮くこととなる。また、底板65の底部にはリニア駆動部66が設けられており、このリニア駆動部66にシャフト68が貫通するようになっている。シャフト68は基台11に固定されており、基台11の長手方向(図7および図8における左右方向)に延びるようになっている。リニア駆動部66の内部には電導コイルが設けられているとともにシャフト68等の基台11側には当該基台11の長手方向に沿ってN磁石およびS磁石が交互に設けられている。このことにより、リニア駆動部66においてリニアモータにより載置台64は基台11に対してシャフト68に沿って移動することとなる。
More specifically, as shown in FIG. 9, a
また、図8に示すように、変形例に係る塗布装置60には、当該塗布装置60の各構成要素を制御する制御部51が設けられている。より詳細には、この制御部51はリニア駆動部66、スライダ駆動部34および供給ポンプ54に接続されており、これらの構成要素の制御を行うようになっている。具体的には、制御部51は、載置台64を図7および図8における左方向に移動させながら、載置台64に載置された基板Sにダイヘッド30から塗布液を供給するよう、塗布装置60の各構成要素を制御するようになっている。このような制御部51による制御方法の詳細については後述する。
Further, as shown in FIG. 8, the
次に、図7乃至図9に示すような変形例に係る塗布装置60の動作、すなわち基板Sに塗布液を塗布する塗布方法について以下に説明する。以下に示すような塗布装置60の動作は、制御部51が塗布装置60の各構成要素を制御することにより行われる。
Next, the operation of the
まず、載置台64に基板Sを載置する。この際に、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの一方の端部の近傍に位置するよう、載置台64を予め所定の位置(初期位置)に移動させておく。
First, the substrate S is mounted on the mounting table 64. At this time, the mounting table 64 is moved in advance to a predetermined position (initial position) so that the
次に、リニア駆動部66により図7および図8における左方向に載置台64を移動させる。具体的には、載置台64を移動させ始める際に載置台64を加速させ、載置台64の速度が所定の大きさ(塗布液の塗布速度)に達したら、その後は載置台64を定速で移動させる。そして、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの他方の端部の近傍に接近したら載置台64を減速させ、最終的に載置台64を停止させる。
Next, the mounting table 64 is moved in the left direction in FIGS. Specifically, when the mounting table 64 is started to move, the mounting table 64 is accelerated, and when the speed of the mounting table 64 reaches a predetermined size (coating liquid application speed), then the mounting table 64 is moved at a constant speed. Move with. When the
また、載置台64を移動させ始める際に、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、スライダ駆動部34によりガントリ20に対してダイヘッド30を載置台64の移動方向とは逆の方向(すなわち、図7および図8における右方向)に摺動させる。このことにより、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでは、載置台64が図7および図8における左方向に移動するとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30が図7および図8における右方向に摺動することとなる。このように、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまでに、載置台64を移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を載置台64の移動方向とは逆の方向に摺動させると、載置台64に対してダイヘッド30は実質的に二重に加速されることとなるので、載置台64に対するダイヘッド30の加速度が大きくなり、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間が比較的短くなる。このため、載置台64を移動させ始めてから載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域が比較的小さくなり、基板Sにおける塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。
Further, when starting to move the mounting table 64, the
また、載置台64を移動させ始める際に、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、塗布液供給源52および供給ポンプ54からなる塗布液供給部によりダイヘッド30に供給される塗布液の量を増加させ続ける。具体的には、塗布液供給部からダイヘッド30に供給される塗布液の量は、載置台64を移動させ始めると0から増加し、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達すると、ダイヘッド30に供給される塗布液の量が一定となる。
Further, when starting to move the mounting table 64, the
そして、載置台64を移動させながらダイヘッド30から載置台64に載置された基板Sに塗布液を供給することにより、基板Sに塗布液を塗布し、ダイヘッド30の吐出口30aが基板Sの他方の端部の近傍に接近したら載置台64を減速させ、最終的に載置台64を停止させる。この際に、ダイヘッド30への塗布液の供給量も減少させ、最終的にダイヘッド30への塗布液の供給量を0とする。このようにして、基板Sへの一連の塗布動作が終了する。
Then, by supplying the coating liquid from the
以上のように上述のような変形例に係る塗布装置60および塗布方法によれば、ガントリ20に対してダイヘッド30を載置台64の移動方向とは逆の方向に摺動させるためのスライダ駆動部34が設けられており、制御部51は、載置台64を移動させ始める際に、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の大きさに達するまで、載置台64を移動させるとともにスライダ駆動部34によりガントリ20に対してダイヘッド30を載置台64の移動方向と逆の方向に摺動させるよう制御を行うようになっている。このことにより、載置台64を移動させ始める際に、載置台64を塗布方向に移動させるとともに、ガントリ20に対してダイヘッド30を載置台64の移動方向とは逆の方向に摺動させることにより、載置台64に対してダイヘッド30は実質的に二重に加速されることとなるので、載置台64に対するダイヘッド30の加速度が大きくなり、載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度に達するまでに必要な時間が比較的短くなる。このため、載置台64を移動させ始めてから載置台64に対するダイヘッド30の相対速度が所定の速度(塗布速度)に達するまでに基板Sに塗布液が塗布される領域が比較的小さくなり、基板Sにおける塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる。
As described above, according to the
また、変形例に係る塗布装置60においては、基台11上にあるフレーム62には直線状に延びる溝62aが設けられており、載置台64の底部に取り付けられた底板65は溝62aに沿って摺動するようになっており、載置台64の駆動部であるリニア駆動部66にリニアモータを使用し、摺動部分にエアスライダ(エアパッド65a)を使用している。
In the
なお、本発明による塗布装置および塗布方法としては、基板が載置される載置台に対して塗布部を相対的に移動させ始める際に、載置台に対する塗布部の相対速度が所定の大きさ(塗布液の塗布速度)に達するまで、塗布部を支持する塗布部支持機構または載置台を移動させるとともに塗布部支持機構に対して塗布部を摺動させるものであれば、上述の態様のものに限定されることはなく、他の様々な構成や方法を用いてもよい。 In the coating apparatus and the coating method according to the present invention, when the coating unit starts to move relative to the mounting table on which the substrate is mounted, the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table is a predetermined magnitude ( If the application part support mechanism or the mounting table that supports the application part is moved and the application part is slid with respect to the application part support mechanism until the application speed of the application liquid is reached, the above-described embodiment is used. There is no limitation, and various other configurations and methods may be used.
10 塗布装置
11 基台
12 載置台
14 レール
20 ガントリ
22 リニア駆動部
24 エアパッド
30 ダイヘッド
30a 吐出口
30b 中空部分
32 スライダ
34 スライダ駆動部
50 制御部
51 制御部
52 塗布液供給源
54 供給ポンプ
60 塗布装置
62 フレーム
62a 溝部
64 載置台
65 底板
65a エアパッド
66 リニア駆動部
68 シャフト
70 従来の塗布装置
71 基台
72 載置台
80 ガントリ
90 ダイヘッド
90a 吐出口
90b 中空部分
92 塗布液供給源
94 供給ポンプ
S 基板
DESCRIPTION OF
Claims (11)
基台と、
前記基台上に固定され、基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、
前記載置台の長手方向に沿って直線状に移動し、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、
前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させるための摺動機構と、
前記塗布部支持機構および前記摺動機構の制御を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記塗布部支持機構を移動させながら前記塗布部から前記載置台に載置された基板に塗布液を供給することにより基板に塗布液を塗布するようになっており、前記塗布部支持機構を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させるよう制御を行うことを特徴とする塗布装置。 A coating apparatus for applying a coating liquid to a substrate,
The base,
A mounting table fixed on the base and on which a substrate is mounted;
A coating unit that discharges the coating liquid onto the substrate placed on the mounting table;
An application part support mechanism that moves linearly along the longitudinal direction of the mounting table and supports the application part;
A sliding mechanism provided in the coating unit support mechanism and having the coating unit attached thereto, the sliding mechanism for sliding the coating unit in the moving direction of the coating unit support mechanism with respect to the coating unit support mechanism. Dynamic mechanism,
A control unit for controlling the application unit support mechanism and the sliding mechanism;
With
The control unit is configured to apply the coating liquid to the substrate by supplying the coating liquid from the coating unit to the substrate placed on the mounting table while moving the coating unit support mechanism. When starting to move the part support mechanism, the application part support mechanism is moved until the relative speed of the application part with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude, and the sliding part is moved with respect to the application part support mechanism. Then, the application unit is controlled to slide in the moving direction of the application unit support mechanism.
前記制御部は、前記塗布部支持機構を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布液供給部により前記塗布部に供給される塗布液の量を増加させ続けるよう前記塗布液供給部の制御を行うことを特徴とする請求項1記載の塗布装置。 The application unit is connected to an application liquid supply unit that supplies the application liquid to the application unit, and the application liquid supply unit is controlled by the control unit,
When the control unit starts to move the application unit support mechanism, the application liquid supplied to the application unit by the application liquid supply unit until the relative speed of the application unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The coating apparatus according to claim 1, wherein the coating liquid supply unit is controlled so as to continue increasing the amount of the liquid.
基台と、
前記基台上に設けられ、当該基台の長手方向に沿って直線状に移動し、基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、
前記基台上に固定され、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、
前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるための摺動機構と、
前記載置台および前記摺動機構の制御を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記載置台を移動させながら前記塗布部から前記載置台に載置された基板に塗布液を供給することにより基板に塗布液を塗布するようになっており、前記載置台を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させるよう制御を行うことを特徴とする塗布装置。 A coating apparatus for applying a coating liquid to a substrate,
The base,
A mounting table that is provided on the base and moves linearly along the longitudinal direction of the base;
A coating unit that discharges the coating liquid onto the substrate placed on the mounting table;
An application part support mechanism fixed on the base and supporting the application part;
A sliding mechanism provided on the coating unit support mechanism and having the coating unit attached thereto, wherein the coating unit is slid in a direction opposite to the moving direction of the mounting table with respect to the coating unit support mechanism. A sliding mechanism for
A control unit for controlling the mounting table and the sliding mechanism;
With
The control unit is configured to apply the coating liquid to the substrate by supplying the coating liquid from the coating unit to the substrate placed on the mounting table while moving the mounting table. When starting to move, the mounting table is moved until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined magnitude, and the coating unit is moved forward with respect to the coating unit support mechanism by the sliding mechanism. A coating apparatus that controls to slide in a direction opposite to a moving direction of the table.
前記制御部は、前記載置台を移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布液供給部により前記塗布部に供給される塗布液の量を増加させ続けるよう前記塗布液供給部の制御を行うことを特徴とする請求項5記載の塗布装置。 The application unit is connected to an application liquid supply unit that supplies the application liquid to the application unit, and the application liquid supply unit is controlled by the control unit,
When the control unit starts to move the mounting table, the control unit supplies the coating solution supplied to the coating unit by the coating solution supply unit until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. 6. The coating apparatus according to claim 5, wherein the coating liquid supply unit is controlled so as to keep increasing the amount.
基板が載置される載置台と、前記載置台に載置される基板に塗布液を吐出する塗布部と、前記載置台に対して相対的に移動し、前記塗布部を支持する塗布部支持機構と、前記塗布部支持機構に設けられ、前記塗布部が取り付けられた摺動機構であって、前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を摺動させるための摺動機構と、を有する塗布装置を準備する工程と、
前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台または塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を摺動させる工程と、
を備えたことを特徴とする塗布方法。 A coating method for coating a substrate with a coating solution,
A mounting table on which the substrate is mounted, a coating unit that discharges the coating liquid to the substrate mounted on the mounting table, and a coating unit support that moves relative to the mounting table and supports the coating unit And a sliding mechanism provided in the coating unit support mechanism and having the coating unit attached thereto, the sliding mechanism for sliding the coating unit with respect to the coating unit support mechanism. Preparing a coating device;
When starting to move the coating unit relative to the mounting table, the mounting table or the coating unit support mechanism is moved until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. Sliding the application part relative to the application part support mechanism by the sliding mechanism;
A coating method characterized by comprising:
前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記塗布部支持機構を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記塗布部支持機構の移動方向に摺動させることを特徴とする請求項9記載の塗布方法。 The position of the mounting table is fixed, and the application unit support mechanism moves with respect to the mounting table.
When starting to move the application unit relative to the mounting table, the application unit support mechanism is moved and the sliding is performed until the relative speed of the application unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The coating method according to claim 9, wherein the coating unit is slid in the moving direction of the coating unit support mechanism with respect to the coating unit support mechanism by a mechanism.
前記載置台に対して前記塗布部を相対的に移動させ始める際に、前記載置台に対する前記塗布部の相対速度が所定の大きさに達するまで、前記載置台を移動させるとともに前記摺動機構により前記塗布部支持機構に対して前記塗布部を前記載置台の移動方向とは逆の方向に摺動させることを特徴とする請求項9記載の塗布方法。 The application unit support mechanism is fixed in position, and the mounting table moves with respect to the application unit support mechanism,
When starting to move the coating unit relative to the mounting table, the mounting table is moved and the sliding mechanism until the relative speed of the coating unit with respect to the mounting table reaches a predetermined size. The coating method according to claim 9, wherein the coating unit is slid in a direction opposite to the moving direction of the mounting table with respect to the coating unit support mechanism.
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