JP5300288B2 - Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウェハ、液晶用表示装置用ガラス基板、PDP用ガラス基板、磁気/光ディスク用のガラス/セラミック基板等の各種被処理基板(以下、単に「基板」と称する)を搬送する技術に関する。 The present invention relates to a technology for conveying various substrates to be processed (hereinafter simply referred to as “substrates”) such as semiconductor wafers, glass substrates for liquid crystal display devices, glass substrates for PDPs, and glass / ceramic substrates for magnetic / optical disks. .
液晶表示装置用ガラス基板の製造工程の1つに、露光処理した基板を現像処理する工程が知られている。図10は、従来の現像装置100における基板190の搬送を説明するための図である。この現像装置100は、互いに平行に配列された複数の搬送ローラ131,141によって、基板190を所定の水平方向(+X方向)に搬送しつつ、基板190上に現像液を盛ることによって現像処理(パドル現像処理)する機能を有する。
A process for developing an exposed substrate is known as one of the steps for producing a glass substrate for a liquid crystal display device. FIG. 10 is a view for explaining the conveyance of the
具体的には、図10(A)に示すように従来の現像装置100では、液層形成室130内で水平姿勢にて高速搬送される基板上に現像液を液盛り(液層形成)を行い、そして、液層形成した基板190を液層形成室130から姿勢変換室140まで搬送した後、姿勢変換室140内で一旦基板190の搬送を停止させる。そして、姿勢変換室140内で基板190の姿勢が水平姿勢から傾斜姿勢に変換され(図示せず)、基板190上の現像液が液切りされる。なお、このような現像装置100は、例えば特許文献1に開示されている。
Specifically, as shown in FIG. 10A, in the conventional developing
現像装置100において、処理進行室内の複数の搬送ローラ131と、姿勢変換室内の複数の搬送ローラ141とは、それぞれ駆動源であるモータ132,142を備え、モータ132,142はそれぞれ独立して制御される。これにより、姿勢変換室140での処理時間に律速されることなく、外部から液層形成室130へ基板190を効率的に搬入することができるため、現像装置100のスループットが向上される。
In the developing
このようにそれぞれ独立に制御された搬送ローラ131,141間で、基板190の受け渡しを行う際には、例えば特許文献2に記載されているように、各搬送ローラ131,141間で基板190の搬送速度を一致させる必要がある。そこで、搬送ローラ131,141の搬送速度を一致させるために、一定速度で基板190を移動させる(受け渡す)動作がなされる。
When the
図10(B)および(C)のそれぞれは、現像装置100における基板190の前方端の位置とそのときの基板90の搬送速度との関係を示す図である。なお、(B)および(C)の横軸(位置)は、(A)に示した現像装置100の搬送方向の各位置と一致しており、図10中、太点線で示す位置L100は、液層形成室130と姿勢変換室140との間の中心位置を示している。
10B and 10C are diagrams showing the relationship between the position of the front end of the
例えば(B)に示すように、液層形成室130内で基板190の搬送速度を高速(速度V101)から低速度(速度V102)に変更した後、一定の低速度で駆動される姿勢変換室140の搬送ローラ141に基板190を移動させるといった搬送動作が行われる。もしくは、(C)に示すように、液層形成室130から姿勢変換室140まで、一定の高速(速度V101a)にて搬送ローラ131,141間で基板を受け渡した後、姿勢変換室140で搬送速度を高速(速度V101a)から低速(速度V102a)に変更する。このように搬送ローラ131,141の動作を制御することによって、基板190を受け渡す際の搬送速度を容易に一致させることができる。
For example, as shown in (B), after changing the conveyance speed of the
ところが、図10(B)に示した例では、液層形成室130や姿勢変換室140内において、低速度(速度V102)での基板搬送時間(現像処理のための時間が含まれる。)が必要以上に長くなるため、現像装置100のスループットが低下してしまうという問題があった。一方、図10(C)に示した例では、基板90の高速(速度V101a)移動する領域が比較的長くなり、低速(速度V102a)に移行するまでの時間が短くなるため、現像の処理時間を確保する必要がある。この点は、基板190の搬送距離を長くすることで解消し得るが、現像装置100の装置寸法が長くなるという問題があった。
However, in the example shown in FIG. 10B, in the liquid
さらに近年、液晶表示器の大型化に伴って処理する基板サイズも大きくなっている。そのため、基板190上に液盛りされる現像液の液量も多量となるため、基板190の速度変化(例えば、高速から低速への減速)によって現像液に作用する慣性力の影響も大きくなっている。そこで、基板190の搬送速度をより緩やかに変化させるため、基板190の搬送距離も長くなり、装置寸法が長くなる傾向にある。
Further, in recent years, the size of a substrate to be processed has increased with the increase in the size of liquid crystal displays. For this reason, the amount of the developer accumulated on the
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、装置寸法を長くすることなく、かつ効率的に基板の搬送速度を途中で変更できる搬送技術を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a transport technique that can efficiently change the transport speed of a substrate in the middle without increasing the size of the apparatus.
上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、基板をコンベア搬送しつつ基板の搬送速度を変更する基板搬送装置であって、基板を所定の方向にコンベア搬送する第1コンベアと、前記第1コンベアに対して前記所定の方向に直列配置され、基板をコンベア搬送する第2コンベアと、前記第1コンベアによる基板の搬送速度と、前記第2コンベアによる基板の搬送速度とをそれぞれ独立して制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記第1コンベアにより搬送される基板の前方端が前記第2コンベアに到達したときから当該基板の後方端が前記第1コンベアを離間するまでの基板の受渡期間中の少なくとも一部の時間帯において、前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、第1速度から第2速度へ時系列的に変化させるとともに、少なくとも前記受渡期間において、前記第2コンベアによる基板の搬送速度を、前記第1コンベアによる基板の搬送速度と整合させる同期制御を行うことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention of
また、請求項2の発明は、請求項1の発明に係る基板搬送装置であって、前記制御手段は、前記受渡期間を含む前記時間帯において、前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、時間−速度の関係がS字曲線を有するように前記第1速度から前記第2速度へ変化させることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the substrate transport apparatus according to the invention of
また、請求項3の発明は、請求項2の発明に係る基板搬送装置であって、前記制御手段は、前記第1速度と前記第2速度の間の速度を中間速度としたとき、前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、前記第1速度から前記中間速度まで時間−速度の関係が第1の略S字曲線となるように変化させ、前記受渡期間を含む所定の時間の間、前記中間速度とした後、前記中間速度から前記第2速度まで時間−速度の関係が第2の略S字曲線となるように変化させるとともに、前記第2コンベアによる基板の搬送速度を、少なくとも前記所定の時間の間に前記第1コンベアによる基板の搬送速度と整合させることを特徴とする。 A third aspect of the present invention is the substrate transfer apparatus according to the second aspect of the present invention, wherein the control means sets the first speed when the speed between the first speed and the second speed is an intermediate speed. The substrate transfer speed by one conveyor is changed from the first speed to the intermediate speed so that the time-speed relationship becomes a first substantially S-curve, and during the predetermined time including the delivery period, after an intermediate speed, the time from the intermediate speed to the second speed - with the speed relationship varied to a second substantially S-shaped curve, the transport speed of the substrate by the second conveyor, at least said predetermined It is characterized in that it is matched with the substrate transfer speed by the first conveyor during the period of time.
また、請求項4の発明は、その上面に処理液が液盛りされた基板を搬送しつつ処理する基板処理装置であって、基板の上面に処理液を液盛りする液盛り手段と、前記液盛り手段により液盛りされた基板を水平搬送する請求項1ないし3のいずれかの発明に係る基板搬送装置とを備えることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for performing processing while transporting a substrate on which an upper surface of a processing liquid is deposited, the liquid filling means for depositing the processing liquid on the upper surface of the substrate, and the liquid A substrate transfer apparatus according to any one of
また、請求項5の発明は、請求項4の発明に係る基板処理装置であって、前記第2コンベア上で停止させた基板の姿勢を傾斜姿勢に変更する姿勢変更手段、をさらに備え、前記制御手段は、前記第2コンベアにより搬送される基板を、前記姿勢変更手段によって前記基板の姿勢を変更する際に、一旦停止させることを特徴とする。
The invention of claim 5 is the substrate processing apparatus according to the invention of
請求項1ないし5の発明によれば、第1コンベアと第2コンベアとの境界を基板が移動して両コンベア間で基板が受渡しされる受渡期間を利用して搬送速度の変更を行うことにより、基板処理装置の搬送経路を長くすることなく、効率的な搬送を行うことができる。
According to invention of
請求項2の発明によれば、S字曲線に沿った速度調整を行うことによって、搬送物に急激な慣性力を作用することを防止できる。これにより、基板の破損や位置ズレ等を防止できる。 According to the second aspect of the present invention, it is possible to prevent a sudden inertial force from acting on the conveyed product by adjusting the speed along the S-shaped curve. As a result, the substrate can be prevented from being damaged or misaligned.
請求項3の発明によれば、第1コンベアの搬送速度が一定の中間速度にある状態で、第2コンベアの搬送速度を同期させることによって、搬送速度の同期を精度良く実施できる。
According to the invention of
請求項5の発明によれば、基板上に盛られた処理液を効率的に廃棄することができる。 According to the invention of claim 5, the processing liquid accumulated on the substrate can be discarded efficiently.
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
<1. 第1の実施の形態>
<1.1. 構成および機能>
図1は、本実施の形態における現像装置1を示す概略側面図である。
<1. First Embodiment>
<1.1. Configuration and Function>
FIG. 1 is a schematic side view showing a developing
なお、図1において、図示および説明の都合上、Z軸方向が鉛直方向を表し、XY平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の各図についても同様である。 In FIG. 1, for the sake of illustration and explanation, the Z-axis direction is defined as the vertical direction and the XY plane is defined as the horizontal plane, but these are defined for convenience in order to grasp the positional relationship. The directions described below are not limited. The same applies to the following drawings.
現像装置1は、主として液層形成部3、姿勢変換部4および制御部8から構成され、角型の基板90を水平搬送しつつ、現像処理を行う基板処理装置として機能する。なお、処理する基板90は角型に限られるものではなく、円形型(楕円型も含む。)や四角形以外の多角形型の基板についても処理対象とすることができる。
The developing
[液層形成部3]
液層形成部3は、主として複数の搬送ローラ31、モータ32、現像液供給ノズル33および基板検出センサ34(34a,34b,34c)を備える。なお、これらの構成は、基板90の搬入口と搬出口を有するチャンバ(図示せず)内に設けられる。
[Liquid layer forming part 3]
The liquid
搬送ローラ31は、基板90の搬送方向(+X方向)と垂直に交わる方向(Y方向)に長手方向を有し、軸で連結される複数(本実施の形態では4個)の円盤形状をした基板支持部311(図2に示す、姿勢変換部4の基板支持部材411と同様のもの)を有する。液層形成部3では、このような構成を有する複数(図1では5個)の搬送ローラ31が搬送方向に沿って並列的に配置される。モータ32は、これら搬送ローラ31のそれぞれの軸に接続されており、モータ32を駆動することでその動力が軸に伝達され、搬送ローラ31を所定の方向へ回転させる。これにより、搬送ローラ31の基板支持部の上端にて支持した基板90を所定方向へコンベア搬送される。なお、モータ32の制御は、後述する制御部8から送られる駆動信号(パルス制御信号)に基づいて行われる。
The
現像液供給ノズル33は、搬送ローラ31の上方であって、かつ、液層形成部3の搬送方向上流側の所定位置に設けられ、搬送されている基板90の上面に所定の処理液(現像液)を供給することにより、基板90の上面に現像液を液盛りする。現像液供給ノズル33は、供給管331を介して現像液が貯留される現像液タンク(図示せず)に接続されており、当該現像液タンクから現像液が供給される。なお、この現像液タンクからの現像液の供給は、後述する制御部8により制御される。
The
基板検出センサ34は、接触式の振り子センサである。この接触式の振り子センサの構成については、詳細な説明を省略するが、本実施の形態では、例えば特開平11−314072号公報に開示された振り子センサを適用することができる。なお、基板検出センサ34は、接触型のセンサに限られるものではなく、非接触型のセンサ(例えば光学式のセンサ)であってもよい。
The
基板検出センサ34aは、搬送される基板90の前方端が液層形成部3の搬入口付近の位置に到達したことを検出する。また、基板検出センサ34b,34cは、搬送される基板90の前方端が搬出口付近の所定の位置に到達したことをそれぞれ検出する。なお、これらセンサによる基板90の検出情報は、制御部8に伝達される。そして制御部8によって、搬送ローラ31による基板90の搬送速度や、現像液供給ノズル33からの現像液の供給量等が制御される。
The
[姿勢変換部4]
姿勢変換部4は、主として複数の搬送ローラ41、モータ42、ローラ傾斜部43および基板検出センサ44(44a,44b)を備える。
[Attitude conversion unit 4]
The
搬送ローラ41は、液層形成部3における搬送ローラ31と同様の形状を有しており、円盤形状の基板支持部材411にて基板90を下方から支持する。そして、姿勢変換部4においても、このような搬送ローラ41が搬送方向に沿って並列的に配置され、基板90を搬送方向へコンベア搬送する。すなわち、搬送ローラ41群は、搬送方向において、搬送ローラ31群に隣接するように直列配置される。これにより、搬送ローラ31群と搬送ローラ41群とで、基板90の搬送経路が形成される。
The
モータ42は、これら搬送ローラ41のそれぞれの軸に接続されており、モータ42を駆動することでその動力が軸に伝達され、搬送ローラ41を所定の方向へ回転させる。これにより、基板支持部材411の上端にて支持された基板90が、図1中、(+X)方向へ搬送される。なお、このモータ42の制御は、後述する制御部8から送られる駆動信号(パルス制御信号)に基づいて行われる。
The
次に、姿勢変換部4による基板90の姿勢変換機構について、図2および図3を参照しつつ説明する。
Next, the posture changing mechanism of the
図2は、搬送ローラ41を傾斜させた状態を搬送方向下流側から見たとき図である。また図3は、搬送ローラ41を傾斜させた状態の現像装置1を示す概略側面図である。
FIG. 2 is a diagram when the state in which the
ローラ傾斜部43は、図2に示すように、搬送ローラ41の軸を回転可能にしつつ、当該軸を左右から支持するローラ軸支持部412の下方に設けられており、片側に偏った位置(本実施の形態では(+Y)側)においてローラ軸支持部412を下方から支持する。ローラ傾斜部43は、詳細を省略するが、空圧式シリンダを備えており、アーム431を上方向(図2中、矢印で示す方向)へ伸張させることによって、搬送ローラ41を水平面に対して傾斜させる(図3参照)。これにより、搬送ローラ41上で停止された基板90の姿勢が水平姿勢から傾斜姿勢に変更され、基板90上面に液盛りされた現像液を流出させて廃棄(液切り)することができる。なお、ローラ傾斜部43の動作は、制御部8により制御される。
As shown in FIG. 2, the roller inclined
基板検出センサ44(44a,44b)は、液層形成部3における基板検出センサ34と同様に、搬送される基板90の前方端が所定の位置を通過したことを検出し、その検出情報を制御部8に伝達する接触式の振り子センサである。もちろん基板検出センサ44についても、非接触式のセンサであってもよい。なお、制御部8は、これらの基板90の検出情報に基づいて、搬送ローラ41による基板90の搬送速度やローラ傾斜部43のアーム431の伸縮動作等を制御する。
The substrate detection sensor 44 (44a, 44b) detects that the front end of the
[制御部8]
図4は、制御部8と現像装置1の各部との接続を示すブロック図である。制御部8は、電気的配線により、主としてモータ32,42、現像液供給ノズル33(具体的には、図示しない現像液タンクのポンプ)、ローラ傾斜部43および基板検出センサ34,44に接続されている。制御部8は、モータ32,42を駆動制御するモータ制御部81、現像液供給ノズル33からの現像液の供給量を制御するノズル制御部82およびローラ傾斜部43を制御するローラ傾斜制御部83を主として備えている。制御部8は、基板検出センサ34,44から送信される基板90の検出情報に基づいて、現像液供給ノズル33からの現像液の吐出、搬送ローラ31,41による基板90の搬送速度および搬送ローラ41の傾斜動作を制御する。
[Control unit 8]
FIG. 4 is a block diagram showing connections between the control unit 8 and each unit of the developing
なお、モータ制御部81は、モータ32,42の駆動をそれぞれ独立して制御するほか、モータ42の駆動をモータ32の駆動に合わせて制御する同期制御も行うことができる。ここでは詳細を省略するが、例えば特許文献2に開示されている同期制御についての機構を本実施の形態の制御部8に適用することが可能である。
The
以上が、現像装置1の構成および機能についての説明である。次に、現像装置1の動作について説明する。
The above is the description of the configuration and functions of the developing
<1.2. 動作>
図5は、現像装置1の動作を説明するための図である。なお、図5(A)は図1と同様であり、図5(B)は、現像装置1における基板90の前方端の位置とそのときの基板90の搬送速度との関係を示す図である。なお、以下において、搬送ローラ31,41の搬送速度とは、実際に基板90を搬送しているときの当該基板90の進行速度を意味するほか、基板90を搬送していない(すなわち、基板90を載せていない状態で搬送ローラ31,41が回転している)ときについても、基板90を搬送していると仮定した場合の当該基板90の進行速度(実際には、搬送ローラ31,41の回転速度等から算出される値)を含んでいるものとする。
<1.2. Operation>
FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the developing
まず、図示しない外部から液層形成部3に基板90が搬入されてくると、まず、位置L1にて基板検出センサ34aが基板90の進入を検出し、制御部8へ当該検出情報を伝達する。この検出情報を受信した制御部8は、モータ32を駆動することによって、搬送ローラ31の回転駆動を開始する。
First, when the
さらにこれと同時期に(あるいは、若干遅れて)、制御部8の制御によって、現像液供給ノズル33からの現像液の供給が開始され、基板90の上面に現像液の液層が形成される。なお、このときの基板90の搬送速度を速度V1とする。この速度V1は、高速ではあるが、液層の形成が可能な速度とされる。
Further, at the same time (or slightly delayed), supply of the developer from the
次に、基板90の前方端が位置L2に到達すると、位置L2に配置された基板検出センサ34bにより基板90が検出され、検出情報が制御部8に伝達される。これにより、制御部8は、現像液供給ノズル33からの現像液の供給を停止させる。
Next, when the front end of the
[減速制御]
さらに基板90の前方端が位置L3に到達すると、基板検出センサ34cによって基板90が検出され、検出情報が制御部8に伝達される。これにより、制御部8は、搬送ローラ31による基板90の搬送速度が高速(速度V1)から低速(速度V2)に減速させるように、モータ32の減速制御を開始する。より具体的には、図5(B)に示すように、基板90の搬送速度を、減速開始時と減速終了時における速度変化が緩やかとなるように減速させる。この減速制御について、図6を参照しつつさらに説明する。
[Deceleration control]
Further, when the front end of the
図6は、搬送ローラ31,41の搬送速度に関するタイムチャートである。ここで、図6(A)は搬送ローラ31に、図6(B)は搬送ローラ41に対応するタイムチャートである。なお、図6(A)と図6(B)の横軸の時間は、上下のそれぞれの位置で一致する。
FIG. 6 is a time chart relating to the conveyance speed of the
上述の基板90が位置L3(図5参照)に到達する時間は、図6(A)では、時間T11に相当する。すなわち、時間T11において、制御部8により、前述の搬送ローラ31の減速制御が開始される。より具体的には、図6(A)に示すように、期間P11(時間T11〜時間T12)において、制御部8は、搬送ローラ31による基板90の搬送速度を、時間−速度の関係がS字曲線(減速開始時と減速終了時の速度変化が緩やかな曲線)となるように時系列的に変化させる。そして時間T12にて当該減速制御が終了し、搬送ローラ31による基板90の搬送速度が速度V2とされる。
The time for the
より詳細には、「時間−速度」の関係における微分係数は加速度を示すから、減速過程における「時間−速度の関係がS字曲線である」ということは、負の加速度の絶対値が滑らかに大きくなって(つまり減速率が滑らかに大きくなって)ゆき、その後に負の加速度の絶対値が減少に転じて、減速率が滑らかに小さくなってゆくことに対応する。もっとも、完全な曲線ではなく、折れ線パターンによって近似的にS字曲線を実現してもよい。 More specifically, since the differential coefficient in the “time-speed” relationship indicates acceleration, “the time-speed relationship is an S-curve” in the deceleration process means that the absolute value of the negative acceleration is smooth. This corresponds to the fact that the deceleration rate is increased (that is, the deceleration rate is increased smoothly), and thereafter the absolute value of the negative acceleration is decreased, and the deceleration rate is decreased smoothly. However, an S-shaped curve may be approximately realized by a broken line pattern instead of a complete curve.
なお、速度V2は、搬送時間との関係で現像処理が十分に進行する程度の速度とされる。また、速度V1,V2の値は、現像装置1における基板90の搬送距離に応じて適宜決定される。
Note that the speed V2 is a speed at which the development processing sufficiently proceeds in relation to the conveyance time. The values of the speeds V1 and V2 are appropriately determined according to the transport distance of the
また、本実施の形態における制御部8の減速制御機構については、詳細を省略するが、例えば特開2001−127492号公報に開示される制御機構を適用することが可能である。 Further, details of the deceleration control mechanism of the control unit 8 in the present embodiment are omitted, but for example, a control mechanism disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-127492 can be applied.
以上のように搬送ローラ31の搬送速度を減速制御することによって、搬送速度を変化させた際に、基板90および基板90上の現像液に対して慣性力が急激に作用することを防止できるため、基板90に形成された液層を適切に維持することができる。これにより、現像ムラの発生を抑制できる。また、基板90の破損も防止できる。
By controlling the conveyance speed of the
次に、制御部8は、基板90の前方端が搬送方向最上流側の搬送ローラ41の上端に到達する前に、モータ42を駆動することによって、搬送ローラ41を回転駆動させる。このときの搬送ローラ41の回転速度は、搬送ローラ31の回転速度と同一となるように制御(同期制御)される。次に、この搬送ローラ31,41間の基板90の受け渡し時における、搬送速度の同期制御について、図6を参照しつつ説明する。
Next, the control unit 8 drives and rotates the
[同期制御]
図6(B)に示すように、時間T13(時間T11と時間T12の間の時間)において、制御部8は、搬送ローラ41の搬送速度を、速度V4に向けて加速を開始する。この速度V4は、速度V1(高速度)と速度V2(低速度)との間の中間速度であり、搬送ローラ31,41を同期させるときの目標値(同期開始速度)である。速度V4の値は、あらかじめオペレータによって設定されていてもよいが、例えば状況に合わせて制御部8により自動的に設定されるようにしてもよい。
[Synchronous control]
As shown in FIG. 6B, at time T13 (time between time T11 and time T12), the control unit 8 starts accelerating the transport speed of the
なお、基板90が搬送ローラ41に到達する時間T15までに、搬送ローラ41の搬送速度が速度V4に到達すると、搬送ローラ31の搬送速度が速度V4となるまで、その速度に維持される。そして、時間T14において搬送ローラ31,41の搬送速度が速度V4になると(一致すると)、制御部8は、搬送ローラ31,41の搬送速度が略同一となる(整合する)ようにモータ32,42を同期制御する。
When the transport speed of the
同期制御が開始される時間T14が経過すると、時間T15(時間T14と時間T12の間)では、基板90の前方端が搬送方向最上流にある搬送ローラ41の上端に到達する。その後、時間T16において、基板90の後方端が搬送方向最下流の搬送ローラ31の上端から離間する。したがって、時間T15〜時間T16の期間が、基板90を2組の搬送ローラ31,41の間での基板90の受渡期間となる。
When the time T14 at which the synchronization control is started elapses, at the time T15 (between the time T14 and the time T12), the front end of the
そして時間T17において、制御部8による搬送ローラ31,41を同期させる制御が終了し、搬送ローラ41は速度V2で駆動される一方、搬送ローラ31の回転駆動は停止される。
At time T <b> 17, the control for synchronizing the
すなわち、図6に示す期間P12では、制御部8により搬送ローラ31,41の搬送速度は、斜線領域で示すように整合している。そしてこの期間P12には、基板90の前方端が搬送ローラ41に到達する時間T15および基板90の後方端が搬送ローラ31から離間する時間T17が含まれる。したがって、液層形成部3と姿勢変換部4との間で基板90を移動させるときに、搬送ローラ31,41の搬送速度が整合しているため、円滑に基板90を受け渡すことができる。
That is, in the period P12 shown in FIG. 6, the control unit 8 matches the transport speeds of the
以上が、搬送ローラ31,41間の基板90の受渡し時における、搬送速度の同期制御についての説明である。
The above is the description of the synchronous control of the conveyance speed when the
[姿勢変換動作]
再び図5に戻って、基板90の前方端が速度V2の低速状態で位置L5に到達すると、制御部8は搬送ローラ41の搬送速度を速度V2よりも小さな値へと減速する。そして基板90の前方端が位置L6に到達すると、制御部8は、搬送ローラ41による基板90の搬送を停止させる。さらに制御部8は、ローラ傾斜部43を駆動することによって、搬送ローラ41を傾斜させ、基板90に盛られた現像液の液切りを行う(図2または図3参照)。これらの姿勢変換部4の動作は、図6における時間T18〜時間T19にかけて行われる。
[Attitude change operation]
Returning to FIG. 5 again, when the front end of the
次に、制御部8はモータ42を駆動することによって、位置L6で停止している基板90を、姿勢変換部4から傾斜姿勢のまま速度V3にて払い出す。なお、現像装置1は、図示しない洗浄機構に接続されており、払い出された基板90は、当該洗浄機構において適宜洗浄され、余分な現像液が除去される。
Next, the control unit 8 drives the
以上が、本実施の形態における現像装置1の動作についての説明である。
The above is the description of the operation of the developing
<1.3. 効果>
本実施の形態によれば、現像液を基板90上に供給する液層形成部3の搬送ローラ31と、現像処理を行うための姿勢変換部4の搬送ローラ41とを、それぞれ独立して制御することによって、それぞれの処理に適した搬送速度で基板90を搬送できるため、現像装置1のスループットを向上することができる。
<1.3. Effect>
According to the present embodiment, the
また、搬送ローラ31と搬送ローラ41の速度を整合させつつ、それら2組のローラ間で基板90の受渡期間(時間T15〜時間T16)の少なくとも一部(ここでの例では、その一部である時間T15〜時間T12)を含んだ期間P11(時間T11〜時間T12)において搬送速度の減速制御を行うことにより、基板90の搬送距離を長くすることなく、現像処理のための時間を確保することができる。
In addition, while the speeds of the
<2. 第2の実施の形態>
第1の実施の形態では、液層形成部3から姿勢変換部4への基板90の受け渡しを行う際の基板90の搬送速度を、時系列的に1つのS字曲線を描くように変化させることによって実現した。しかし、搬送ローラ41の搬送速度を、リアルタイムで変化する搬送ローラ31の搬送速度に整合させる制御は、近似的には実施可能であるが、基板の前方端が2組の搬送ローラ31,41の境界を越える際に、双方の搬送ローラ31,41の速度だけでなく、加速度をも有限の値(ゼロでない値)としつつ、それら2組の搬送ローラ31,41間で整合させる必要があるため、その同期制御の精度には限界がある。
<2. Second Embodiment>
In the first embodiment, the transfer speed of the
そこで、第2の実施の形態では、この同期させる制御を精度良く実施する方法について説明する。なお、本実施の形態の現像装置1の具体的構成は、第1の実施の形態のものとほぼ同様であるため、重複する部分については説明を省略し、主に異なる点について説明する。また、以下の各実施の形態においても同様とする。
Therefore, in the second embodiment, a method for accurately performing the synchronization control will be described. Note that the specific configuration of the developing
<2.1.動作>
図7は、第2の実施の形態における搬送ローラ31,41の搬送速度に関するタイムチャートである。ここで、図7(A)は搬送ローラ31に、図7(B)は搬送ローラ41に対応するタイムチャートである。
<2.1. Operation>
FIG. 7 is a time chart relating to the conveyance speed of the
ここで、図7(A)に示す期間P20(時間T21〜時間T24)は、第1の実施の形態における、図6(A)に示した期間P11に対応する。そして、第1の実施の形態では、期間P11において搬送ローラ31による基板90の搬送速度を、時系列的に1つのS字曲線を描くように変化(減速)させていたが、本実施の形態では、期間P20において、所定の時間の間、速度V1と速度V2の間の速度V5(中間速度)で基板90を搬送する定速状態の期間P22(時間T22〜時間T23)が設けられる。
Here, the period P20 (time T21 to time T24) shown in FIG. 7A corresponds to the period P11 shown in FIG. 6A in the first embodiment. In the first embodiment, the transport speed of the
まず、時間T21(時間T21〜時間T22)において、基板90の前方端が位置L3に到達すると(図5参照)、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を、速度V1から速度V5に減速させる減速制御を行う。より具体的には、図7(A)に示すように、期間P21において、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を、時間−速度の関係がS時曲線となるように速度V1から速度V5に変化(減速)させる。そして所定の時間の間(期間P22の間)、基板90を速度V5に維持した状態で搬送する。
First, at time T21 (time T21 to time T22), when the front end of the
そして所定の時間(期間P22)が経過すると、再び制御部8によって、搬送ローラ31の搬送速度がV4から速度V2に向けて減速制御される。より具体的には、図7(A)に示すように、期間P23(時間T23〜時間T24)において、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を、期間P21のときと同様に、次のS字曲線にしたがって、速度V4から速度V2に変化(減速)させる。そして、時間T24〜時間T25(基板90が搬送ローラ31から離間した後の時間)の間、搬送ローラ31の搬送速度を速度V2に維持する。
When a predetermined time (period P22) elapses, the control unit 8 again controls the transport speed of the
[同期制御]
一方、搬送ローラ41については、制御部8によって、搬送ローラ31の搬送速度と整合するよう、以下のように制御される。すなわち、図7(B)に示すように、時間T22(搬送ローラ31の搬送速度が速度V5に到達するとき)よりも早い時間T26において、モータ42を駆動し、搬送ローラ31の搬送速度が速度V5に到達する時間T22が経過する前に、搬送ローラ41の搬送速度を速度V5に到達させる。これにより、現像装置1は、時間T22における搬送ローラ31および搬送ローラ41の搬送速度を一致させることができる。
[Synchronous control]
On the other hand, the
さらにその後について、制御部8は、搬送ローラ31,41の速度を整合させつつ同期制御する。これにより、時間T24において、搬送ローラ41の搬送速度が速度V2となる。そして現像装置1は、基板90の前方端が位置L5(図5参照)に到達するまで速度V2の状態で基板90を搬送する。
Further thereafter, the control unit 8 performs synchronous control while matching the speeds of the
ここで、図7に示す例では、時間T27は、基板90の前方端が姿勢変換部4の搬送方向最上流にある搬送ローラ41の上端に到達する時間である。また、時間T28は、基板90の後方端が液層形成部3の搬送方向最下流にある搬送ローラ31の上端から離間する時間である。制御部8は、期間P24(時間T22〜時間T25)において、搬送ローラ31および搬送ローラ41を同期制御しており、1枚の基板90が搬送ローラ31および搬送ローラ41にまたがっている基板90の受渡期間(時間T27〜時間T28)は、期間P24に含まれている。したがって、液層形成部3と姿勢変換部4との間で基板90を円滑に受け渡しすることができる。
Here, in the example illustrated in FIG. 7, the time T <b> 27 is a time for the front end of the
なお、同期を開始する速度V5の設定方法としては、あらかじめオペレータにより設定してもよいし、状況に応じて制御部8が決定する構成であってもよい。また、S字曲線の形状や、減速時間(期間P21,P23)および速度V5に維持する時間(期間P22)の設定方法についても同様である。 In addition, as a setting method of speed V5 which starts a synchronization, you may set beforehand by an operator and the structure which the control part 8 determines according to a condition may be sufficient. The same applies to the method of setting the shape of the S-shaped curve, the deceleration time (periods P21 and P23), and the time for maintaining the speed V5 (period P22).
ここで、時間T25以降における現像装置1の動作(姿勢変換動作等)については、第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。以上が、本実施の形態における現像装置1の動作説明である。
Here, the operation (posture changing operation and the like) of the developing
<2.2.効果>
本実施の形態によれば、基板90の受渡期間(時間T27〜時間T28)を含んだ時間帯(期間P24)において2組の搬送ローラ31,41の間での速度の同期制御を行うとともに、搬送ローラ31を速度V1(高速)から速度V2(低速)に速度変化させる際に、所定の時間の間、中間の速度(速度V5)で基板90を搬送する期間を設ける。これにより、搬送ローラ41の搬送速度を、一定速度(速度V5)で動作する搬送ローラ31に整合させることが容易にできるので、制御部8による搬送ローラ31,41の同期制御を精度よく実施することができる。
<2.2. Effect>
According to the present embodiment, in the time zone (period P24) including the delivery period (time T27 to time T28) of the
特に、本実施の形態では、2組の搬送ローラ31,41の間での基板90の受渡期間(時間T27〜T28)の前後での同期制御をそれぞれS字曲線に沿って行うため、これらの期間に加速度の急激な変化もなく、安定的に基板90の受渡しが行われる。
In particular, in this embodiment, since the synchronous control before and after the delivery period (time T27 to T28) of the
<3. 第3の実施の形態>
上記実施の形態では、液層形成部3および姿勢変換部4との間の基板90の受け渡し時に、搬送ローラ31の搬送速度を、時系列的にS字曲線を描くように変化させる減速制御を行っていたが、減速制御の方法はこれに限られるものではない。
<3. Third Embodiment>
In the above embodiment, when the
図8は、第3の実施の形態における搬送ローラ31,41の搬送速度に関するタイムチャートである。ここで、図8(A)は搬送ローラ31に、図8(B)は搬送ローラ41に対応するタイムチャートである。
FIG. 8 is a time chart relating to the conveyance speed of the
<3.1.動作>
[減速制御]
図8(A)に示す期間P31(時間T31〜時間T32)は、搬送ローラ31の搬送速度を減速させる制御を行う期間であり、第1の実施の形態における図6(A)に示した期間P11に対応する期間である。第1の実施の形態では、期間P11において搬送ローラ31の搬送速度を、時間−速度の関係がS字曲線となるように変化(減速)させたが、本実施の形態では、期間P31において、搬送速度を一定の割合で(つまり、一定加速度で)減速する減速制御がなされる。
<3.1. Operation>
[Deceleration control]
A period P31 (time T31 to time T32) illustrated in FIG. 8A is a period in which control for reducing the conveyance speed of the
すなわち、時間T31において、基板90の前方端が位置L3に到達すると(図5参照)、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を、速度V1から速度V2に向けて一定の割合で減速する減速制御を行う。より具体的には、図8(A)に示すように、期間P31において、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を、時間−速度の関係が直線となるように速度V1から速度V2に変化(減速)させる。そして時間T32において搬送速度が速度V2となると、制御部8は、搬送ローラ31の搬送速度を速度V2に維持して、基板90上の現像処理を進行させる。
That is, when the front end of the
[同期制御]
一方、搬送ローラ41については、制御部8によって、搬送ローラ31の搬送速度と同期するよう、以下のように制御される。すなわち、図8(B)に示すように、時間T33において、制御部8がモータ42を駆動して、搬送ローラ41の搬送速度を、速度V6(速度V1と速度V2の間の中間速度)となるように加速させる。そして制御部8は、時間T34(搬送ローラ31の搬送速度が速度V6となる時間)よりも前の時間において、搬送ローラ41の搬送速度を速度V6とし、時間T34まで速度V6に維持する。
[Synchronous control]
On the other hand, the
さらに搬送ローラ31の搬送速度が速度V6に到達すると(時間T34)、制御部8は、搬送ローラ31,41の搬送速度を整合させる同期制御を行い、搬送ローラ41の搬送速度についても、減速制御を行う。したがって、時間T32において、搬送ローラ41の搬送速度も速度V2とされ、現像装置1は、基板90の前方端が位置L5(図5参照)に到達するまで速度V2の状態で基板90を搬送することとなる。
Further, when the conveyance speed of the
ここで、図8に示す例では、時間T36は、基板90の前方端が姿勢変換部4の搬送方向最上流にある搬送ローラ41の上端に到達する時間を示している。また、時間T37は、基板90の後方端が液層形成部3の搬送方向最下流にある搬送ローラ31の上端から離間する時間を示している。ここで、図8に示すように、時間T34〜時間T35の期間P32において、搬送ローラ31および搬送ローラ41の搬送速度を整合させた同期制御が実施されていることとなる。すなわち、1枚の基板90が搬送ローラ31および搬送ローラ41にまたがっている受渡期間(時間T36〜時間T37)は、同期制御が行われる期間P32に含まれる。したがって、液層形成部3と姿勢変換部4との間で基板90を円滑に受け渡しすることができる。
Here, in the example illustrated in FIG. 8, the time T <b> 36 indicates the time for the front end of the
なお、時間T35以降における現像装置1の動作(姿勢変換動作等)については、第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。以上が、本実施の形態における現像装置1の動作説明である。
Note that the operation of the developing
<3.2.効果>
図8(A)に示す例のように搬送ローラ31を減速させた場合、時間T31,T32において、基板90上に盛られた現像液に比較的大きな慣性力が作用するが、制御部8による特別な制御(搬送ローラ31,41の搬送速度を、時系列的にS字曲線を描くように変化させる制御)が不要となるため、現像装置1の装置コストを抑えることができる。
<3.2. Effect>
When the
また、搬送ローラ31の搬送速度を一定の割合で減速させるため、搬送ローラ31の搬送速度に対して搬送ローラ41の搬送速度を高精度に整合させることが容易となる。
Moreover, since the conveyance speed of the
なお、上記のような減速制御は、第2の実施の形態に対しても適用でき、より具体的には、図7(A)に示す期間P21,P23において、搬送ローラ31の搬送速度を一定の割合で減速させる制御を行ってもよい。
The deceleration control as described above can also be applied to the second embodiment. More specifically, the conveyance speed of the
<4. 第4の実施の形態>
上記実施の形態では、ローラ傾斜部43によって搬送ローラ41を傾斜させることにより、基板90の姿勢を水平姿勢から傾斜姿勢へと変換することによって、基板90上に盛られた現像液の液切りを行うと説明した(図2および図3参照)。しかし、基板90の姿勢を変換する機構はこれに限られるものではない。
<4. Fourth Embodiment>
In the embodiment described above, the
図9は、第4の実施の形態における姿勢変換部4aの概略斜視図である。姿勢変換部4aは、図示しない昇降機構によって上下に昇降可能な上下ローラ部45が備えられる。上下ローラ部45には、所定の間隔をあけて上方に伸びる複数の支持部材が設けられており、当該支持部材の上端にはそれぞれローラ451が設けられている。上下ローラ部45は、通常は、搬送ローラ41の下方に配置されており、上方に移動されることによって、基板90を水平姿勢から傾斜姿勢へと変換する。これにより、基板90上に盛られた現像液が液切りすることができる。
FIG. 9 is a schematic perspective view of the
<5. 変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<5. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.
例えば上記実施の形態では、複数並列配置された搬送ローラ31,41によって基板90が搬送されると説明したが、もちろん無端ベルトを使用したコンベア搬送等によって基板搬送機構が実現されてもよい。
For example, in the above-described embodiment, it has been described that the
また、第2の実施の形態において、制御部8が搬送ローラ41の搬送速度を速度V4に到達させるタイミングを時間T22よりも前にすると説明した(図7(B)参照)。しかし、搬送ローラ41の搬送速度を速度V4に到達させるタイミングは、これに限られるものではなく、例えば時間T22、あるいは時間T22と時間T23の間の任意の時間としてもよい。
Further, in the second embodiment, it has been described that the timing at which the control unit 8 causes the conveyance speed of the
一般に、この発明において2つのコンベアの搬送速度を整合させるのは基板の受渡期間だけであってもよく、受渡期間以外をも含んだ期間であってもよい。一方、減速期間は基板の受渡期間の全体を含んでいてもよく、一部であってもよい。また、上記各実施形態とは逆に、2つのコンベアの間で基板の速度を増加させる場合の増速制御にも、この発明は適用可能である。 In general, in the present invention, the conveyance speeds of the two conveyors may be matched only during the board delivery period, or during a period including other than the delivery period. On the other hand, the deceleration period may include the entire board delivery period or may be a part thereof. In contrast to the above embodiments, the present invention can also be applied to speed increase control when the speed of the substrate is increased between two conveyors.
また、基板検出センサ34,44の数や配置する位置は上述のものに限られるものではなく、適宜設計変更が可能である。例えば、搬送ローラ31による基板90の搬送速度をより正確に計測するため、液層形成部3下流側の所定の位置に複数のセンサを配置し、減速制御(例えば図6中、期間P11における制御)により減速する基板90の速度を取得する。そして当該取得された値に基づいて、搬送ローラ41の同期制御を実施することも有効である。
Further, the number of
また、上記実施の形態では、同期制御を開始する前に、搬送ローラ41の搬送速度を同期開始速度(速度V4,V5,V6)にあらかじめ到達させているが、これに限られるものではなく、少なくとも搬送ローラ31の搬送速度が当該同期開始速度となる前に到達させればよい。
In the above embodiment, the conveyance speed of the
また、第2の実施の形態では、減速制御中に定速とする期間を1箇所のみ設けるものであったが、もちろんこれに限られるものではなく、定速で搬送される期間を複数設けても良い。この場合には、搬送ローラ41の同期を開始するタイミングが多数設けられることになるため、制御部8による同期制御の選択自由度が高まる。
In the second embodiment, only one period of constant speed during the deceleration control is provided. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of periods for conveying at a constant speed are provided. Also good. In this case, since many timings for starting the synchronization of the
また、上記実施の形態では、姿勢変換部4,4aは、基板90の搬送方向に平行な端面側を上方へ突き上げることにより、基板90の姿勢を傾斜させると説明した。しかし、基板90の傾斜方法はこれに限られるものではなく、例えば基板90の搬送方向下流端(+X側の端部)(あるいは上流端(−X側の端部))を上方へ突き上げることで基板90の姿勢を水平面に対して傾斜させてもよい。
Further, in the above-described embodiment, it has been described that the
また、上記実施の形態では、現像処理する装置について専ら説明したが、これに限られるものではなく、その他の基板処理装置についても、本発明は適用可能である。例えば、基板90に対してノズルから純水やエッチング液、剥離液あるいは所定の気体を供給する装置、あるいは搬送される基板に対して光を照射する装置等にも適用できる。
In the above-described embodiment, the development processing apparatus has been described exclusively. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to other substrate processing apparatuses. For example, the present invention can be applied to a device that supplies pure water, an etching solution, a stripping solution, or a predetermined gas from a nozzle to the
1 現像装置
3 液層形成部
31,41 搬送ローラ
32,42 モータ
33 現像液供給ノズル
34,44 基板検出センサ
4,4a 姿勢変換部
42 モータ
43 ローラ傾斜部
45 上下ローラ部
8 制御部
90 基板
DESCRIPTION OF
Claims (5)
基板を所定の方向にコンベア搬送する第1コンベアと、
前記第1コンベアに対して前記所定の方向に直列配置され、基板をコンベア搬送する第2コンベアと、
前記第1コンベアによる基板の搬送速度と、前記第2コンベアによる基板の搬送速度とをそれぞれ独立して制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、
前記第1コンベアにより搬送される基板の前方端が前記第2コンベアに到達したときから当該基板の後方端が前記第1コンベアを離間するまでの基板の受渡期間中の少なくとも一部の時間帯において、前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、第1速度から第2速度へ時系列的に変化させるとともに、
少なくとも前記受渡期間において、前記第2コンベアによる基板の搬送速度を、前記第1コンベアによる基板の搬送速度と整合させる同期制御を行うことを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer device that changes the transfer speed of a substrate while conveying the substrate,
A first conveyor that conveys the substrate in a predetermined direction;
Arranged in series in the predetermined direction with respect to the first conveyor, a second conveyor for the substrate conveyor transport,
Control means for independently controlling the substrate conveyance speed by the first conveyor and the substrate conveyance speed by the second conveyor;
With
The control means includes
In at least part of the time period during the delivery period of the substrate from when the front end of the substrate conveyed by the first conveyor reaches the second conveyor to when the rear end of the substrate separates the first conveyor , Changing the conveyance speed of the substrate by the first conveyor from the first speed to the second speed in time series,
At least in the delivery period, the substrate transfer apparatus performs synchronous control to match the substrate transfer speed by the second conveyor with the substrate transfer speed by the first conveyor.
前記制御手段は、
前記受渡期間を含む前記時間帯において、前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、時間−速度の関係がS字曲線を有するように前記第1速度から前記第2速度へ変化させることを特徴とする基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 1,
The control means includes
In the time zone including the delivery period, the substrate transport speed by the first conveyor is changed from the first speed to the second speed so that the time-speed relationship has an S-curve. Substrate transport device.
前記制御手段は、
前記第1速度と前記第2速度の間の速度を中間速度としたとき、
前記第1コンベアによる基板の搬送速度を、
前記第1速度から前記中間速度まで時間−速度の関係が第1の略S字曲線となるように変化させ、前記受渡期間を含む所定の時間の間、前記中間速度とした後、前記中間速度から前記第2速度まで時間−速度の関係が第2の略S字曲線となるように変化させるとともに、
前記第2コンベアによる基板の搬送速度を、
少なくとも前記所定の時間の間に前記第1コンベアによる基板の搬送速度と整合させることを特徴とする基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 2,
The control means includes
When the speed between the first speed and the second speed is an intermediate speed,
The conveyance speed of the substrate by the first conveyor is
The time-speed relationship is changed from the first speed to the intermediate speed so as to be a first substantially S-curve, and the intermediate speed is set for the predetermined time including the delivery period. the second speed up to the time from - with the speed relationship varied to a second substantially S-shaped curve,
The conveyance speed of the substrate by the second conveyor is as follows:
A substrate transfer apparatus that matches the substrate transfer speed by the first conveyor during at least the predetermined time.
基板の上面に処理液を液盛りする液盛り手段と、
前記液盛り手段により液盛りされた基板を水平搬送する請求項1ないし3のいずれかに記載の基板搬送装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing while conveying a substrate on which an upper surface is filled with a processing liquid,
Liquid depositing means for depositing the processing liquid on the upper surface of the substrate;
The substrate transfer apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the substrate stacked by the liquid stacking means is transported horizontally.
A substrate processing apparatus comprising:
前記第2コンベア上で停止させた基板の姿勢を傾斜姿勢に変更する姿勢変更手段、
をさらに備え、
前記制御手段は、
前記第2コンベアにより搬送される基板を、前記姿勢変更手段によって前記基板の姿勢を変更する際に、一旦停止させることを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 4,
Posture changing means for changing the posture of the substrate stopped on the second conveyor to an inclined posture;
Further comprising
The control means includes
The substrate processing apparatus, wherein the substrate transported by the second conveyor is temporarily stopped when the posture changing means changes the posture of the substrate.
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