JP5270934B2 - 電子基板からのタンタルの回収方法 - Google Patents
電子基板からのタンタルの回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5270934B2 JP5270934B2 JP2008065834A JP2008065834A JP5270934B2 JP 5270934 B2 JP5270934 B2 JP 5270934B2 JP 2008065834 A JP2008065834 A JP 2008065834A JP 2008065834 A JP2008065834 A JP 2008065834A JP 5270934 B2 JP5270934 B2 JP 5270934B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tantalum
- heat
- major axis
- axis length
- electronic substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title claims description 80
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 80
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 22
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 5
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 4
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Combined Means For Separation Of Solids (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
しかし、電子基板には従来の銅製錬では回収できない金属も含有されている。その中の一つにタンタルコンデンサとして使用されているタンタル(Ta)がある。前記タンタルコンデンサは他種のコンデンサに比べて小型で、漏れ電流が少ない上、安定度がよいので、パソコン、携帯電話等の小型のエレクトロニクス製品の基板には多量のタンタルコンデンサが実装されている。
ところがこれまでに、タンタルコンデンサが実装された電子基板からタンタルを回収した事例は報告されておらず、その有効利用が十分に図れていないのが現状である。
<1> タンタルコンデンサが実装された基板を、酸化雰囲気下、550℃以上の温度で加熱処理し、得られた加熱処理物を該加熱処理物の長軸長さにより選別してタンタルを回収することを特徴とする電子基板からのタンタルの回収方法である。
<2> 加熱処理物の長軸長さが1mm以下である前記<1>に記載の電子基板からのタンタルの回収方法である。
<3> 基板が貴金属を含み、加熱処理物の長軸長さによりタンタルと貴金属を選別する前記<1>から<2>のいずれかに記載の電子基板からのタンタルの回収方法である。
<4> 貴金属が、金、銀、銅及びパラジウムから選択される少なくとも1種である前記<3>に記載の電子基板からのタンタルの回収方法である。
<5> タンタルコンデンサが実装された基板を破砕した後、加熱処理する前記<1>から<4>のいずれかに記載の電子基板からのタンタルの回収方法である。
ここで、図1は、本発明の電子基板からのタンタルの回収方法の一例を示すフロー図であり、焼却(加熱処理)工程、選別(篩い分け)工程を含み、必要に応じて、破砕工程、分離精製工程、などを含んでなる。
前記電子基板としては、タンタルコンデンサが実装されたものが用いられる。このような電子基板は、使用されなくなった通信機器、音響機器、OA機器、家電製品の廃棄物から回収される。回収される電子基板としては、タンタルコンデンサが実装されていれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、パソコンの制御基板(マザーボード、ドーターボード)、携帯電話の制御基板、などが挙げられる。
前記タンタルコンデンサとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばチップコンデンサであることが好ましい。
前記電子基板は、通常、金、銀、銅、パラジウム等の貴金属を含んでおり、後述するように、加熱処理物の長軸長さによりタンタルと貴金属を選別することができる。
前記タンタルが実装された基板は、必要に応じて前処理としては適当な大きさに破砕を行うことが好ましい。該破砕処理は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば一軸又は二軸の破砕機やシュレッダー、などを用いて行うことができる。なお、基板を粉砕すると貴金属まで微細画分へ混入してしまうので好ましくない。粉砕処理を行わないか、もしくは二軸破砕機等による粗砕程度に留めたほうがよい。
破砕後の破砕物を加熱(焼却)処理する。該焼却処理は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば電気炉、ロータリーキルン、などを用いて行うことができる。
前記焼却処理は酸化雰囲気下で行う。これは、タンタルコンデンサ内部のタンタル焼結体の粉化に酸素が必要だからである。雰囲気は大気でよく、酸素ガスが含まれればよい。
前記加熱(焼却)の温度は、550℃以上であり、600℃以上が好ましく、上限は基板等の銅が溶融しない1100℃以下が好ましい。前記加熱温度が550℃未満であると、タンタルの酸化反応速度が遅く、短時間でタンタルコンデンサ内部のタンタル焼結体が十分に粉化しないことがある。
前記タンタル焼結体は、酸化マンガン(MnO2)及び酸化タンタル(Ta2O5)層に覆われた金属タンタル粒子により形成されており、低温ではこの酸化物層が保護層となり粒子内部まで酸化しないが、500℃〜600℃にかけて酸化速度が急激に上昇し、酸化物層の亀裂を伴う酸化が始まるため、焼結体の破壊が進む。
前記加熱の時間は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、5分間〜60分間が好ましい。
前記加熱処理の際の圧力は、コストの面から特に制御が必要ない大気圧下であることが好ましい。
焼却処理後、得られた加熱処理物の長軸長さによりタンタルを貴金属と選別する。該選別方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば篩い、サイクロン、機械分級機等の物理的選別が好ましい。これらの中でも、篩いによる選別が特に好ましい。化学的選別では水分が存在するので乾式精錬には適さない。
前記篩いとしては、開口径0.3mm〜1mmのものが好ましい。
前記選別により、長軸長さが1mm以下の部分の加熱処理物を分離し、これからタンタルの回収を行う。長軸長さが1mmを超える部分の加熱処理物には、実質的にタンタルは含まれておらず、金、銀、銅、パラジウム等の貴金属の含有量も少ないので、タンタルを効率よく回収するのに有利である。
前記加熱処理物の長軸長さは1mm以下が好ましく、0.3mm以下がより好ましい。これによりタンタル品位が高まる。
ここで、前記加熱処理物の長軸長さとは、加熱処理物を上方から平面視した際における最大の長さを意味する。
前記加熱処理物の長軸長さは、例えばフルイ目が異なるフルイを複数用意して、各フルイの通過量、残存量により質量平均長さを求める方法、拡大写真を撮影し、スケール等により実測する方法などにより測定することができる。
得られた加熱処理物の長軸長さが1mm以下の部分からタンタルを分離精製する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えばフッ酸溶解及び溶媒抽出による湿式法や、塩化揮発による乾式法、などが挙げられる。
具体的には、前記タンタルコンデンサを実装したプリント基板を、必要に応じて粉砕し、酸化雰囲気下、600℃の温度で1時間加熱処理する。タンタルコンデンサ内部のタンタル焼結体は550℃付近で急激な酸化反応を起こして膨張するため、焼結体の構造が崩れてタンタル酸化物の微粉末となる。したがって加熱処理物の長軸長さが1mm以下の部分を開口径1mmの篩いを用いて篩い分けすることにより、タンタルを濃集して回収することが可能となる。このとき、経済的価値の高い金や銀は長軸長さが1mm以下の細粒には濃集せず、長軸長さが1mm超の粗粒となるのでタンタルと分離することができる。この粗粒については従来のリサイクル法である銅製錬プロセス等により金や銀等の金属を回収することができる。
使用されなくなった通信機器、音響機器、OA機器、家電製品の廃棄物からタンタルコンデンサを実装した電子基板を選別し、該タンタルコンデンサを実装した電子基板をヤマト科学株式会社製 マッフル炉 FP300を用いて、酸化雰囲気下、500℃の温度で1時間加熱した。
得られた加熱処理物について、以下のようにして、長軸長さ分布と、該長軸長さ分布ごとのTa、Au、Ag、Cuの品位と分配率を測定した。結果を表1に示す。
フルイ目により通過しない残量の質量によりフルイ目径をその残物の粒径として、質量を測定し、全加熱処理物の長軸長さを求めた。なお、フルイ目が大きい順に加熱処理物を通過させた。
各組成の品位は、蛍光X線分析により求めた。分配率は、その品位の値より計算して求めた。
比較例1において、酸化雰囲気下、600℃の温度で1時間加熱した以外は、比較例1と同様にして、加熱処理した。
得られた加熱処理物について、比較例1と同様にして、長軸長さ分布と、該長軸長さ分布ごとのTa、Au、Ag、Cuの品位と分配率を測定した。結果を表2に示す。
Claims (5)
- タンタルコンデンサが実装された基板を、酸化雰囲気下、550℃以上の温度で加熱処理し、得られた加熱処理物を該加熱処理物の長軸長さにより選別してタンタルを回収することを特徴とする電子基板からのタンタルの回収方法。
- 加熱処理物の長軸長さが1mm以下である請求項1に記載の電子基板からのタンタルの回収方法。
- 基板が貴金属を含み、加熱処理物の長軸長さによりタンタルと貴金属を選別する請求項1から2のいずれかに記載の電子基板からのタンタルの回収方法。
- 貴金属が、金、銀、銅及びパラジウムから選択される少なくとも1種である請求項3に記載の電子基板からのタンタルの回収方法。
- タンタルコンデンサが実装された基板を破砕した後、加熱処理する請求項1から4のいずれかに記載の電子基板からのタンタルの回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008065834A JP5270934B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 電子基板からのタンタルの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008065834A JP5270934B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 電子基板からのタンタルの回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009221514A JP2009221514A (ja) | 2009-10-01 |
JP5270934B2 true JP5270934B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=41238593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008065834A Active JP5270934B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 電子基板からのタンタルの回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5270934B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5010706B2 (ja) | 2010-04-01 | 2012-08-29 | 三井金属鉱業株式会社 | タンタルの回収方法 |
JP5570335B2 (ja) * | 2010-07-16 | 2014-08-13 | Dowaエコシステム株式会社 | ニオブの回収方法 |
JP5570334B2 (ja) * | 2010-07-16 | 2014-08-13 | Dowaエコシステム株式会社 | タンタルの回収方法 |
JP5860034B2 (ja) | 2011-03-31 | 2016-02-16 | 三井金属鉱業株式会社 | タンタル回収方法 |
CN106048231B (zh) * | 2016-07-14 | 2018-06-08 | 上海交通大学 | 废旧钽电容器中回收钽、银、镍和铁的方法 |
CN111014239B (zh) * | 2019-12-11 | 2022-06-21 | 广州雅居乐固体废物处理有限公司 | 一种铝壳电容器的回收方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6475632A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-22 | Tosoh Corp | Recovering method for tantalum from scrap tantalum |
JP3382083B2 (ja) * | 1996-03-15 | 2003-03-04 | 株式会社東芝 | 処理装置、処理システムおよび処理方法 |
JP4366513B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2009-11-18 | Dowaエコシステム株式会社 | 金属複合廃材からの有価金属の回収方法および装置 |
CN101808770A (zh) * | 2007-10-15 | 2010-08-18 | 高温特殊金属公司 | 利用回收的废料作为源材料制备钽粉末的方法 |
-
2008
- 2008-03-14 JP JP2008065834A patent/JP5270934B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009221514A (ja) | 2009-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tanısalı et al. | Precious metals recovery from waste printed circuit boards by gravity separation and leaching | |
JP5058859B2 (ja) | 廃プリント基板の処理方法 | |
JP5270934B2 (ja) | 電子基板からのタンタルの回収方法 | |
Hino et al. | Techniques to separate metal from waste printed circuit boards from discarded personal computers | |
JP6050222B2 (ja) | 電気・電子部品屑の処理方法 | |
Lee et al. | A study on the recycling of scrap integrated circuits by leaching | |
Mineta et al. | Development of a recycling process for tantalum from capacitor scraps | |
JP6936344B2 (ja) | 電子・電気機器部品屑の処理方法 | |
WO2017037625A1 (en) | A method and process of recovering metal values from waste monolithic ceramic capacitors | |
JP5010706B2 (ja) | タンタルの回収方法 | |
EP3802890A1 (en) | Hydrometallurgical method for the recovery of base metals and precious metals from a waste material | |
JP6228843B2 (ja) | 銅製錬における電気・電子部品屑の処理方法 | |
JP5570334B2 (ja) | タンタルの回収方法 | |
JP2020138141A (ja) | 廃電子基板の処理方法 | |
JP7076178B2 (ja) | 電子・電気機器部品屑の処理方法 | |
JP5835961B2 (ja) | 金属の浸出方法 | |
JP5570335B2 (ja) | ニオブの回収方法 | |
JP2011038165A (ja) | 高品位ロジウム粉の回収方法 | |
JP2007182612A (ja) | 高融点金属銅複合材のリサイクルシステム | |
Oliveira et al. | Printed circuit boards recycling: Characterization of granulometric fractions from shredding process | |
Barnwal et al. | Comparison of different routes for recovery of metals from electronic scrap | |
Fan et al. | Experimental Study on Smelting of Waste Smartphone PCBs Based on Al 2 O 3-FeO x-SiO 2 Slag System | |
JP2017190529A (ja) | 銅製錬における電気・電子部品屑の処理方法 | |
JP6754137B2 (ja) | 金属回収方法 | |
JP6772036B2 (ja) | 処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5270934 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |