JP5255647B2 - イソインドール誘導体の製造方法およびその中間体の製造方法 - Google Patents
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Description
X1は、NまたはCであり;
X2は、Cであるか、またはX1が、Cである場合には、X2は、CもしくはNであり;
R1およびR1’は、互いに独立して、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、シクロアルキル、−CN、−NR7R7’、−S−低級アルキル、−S(O)2−低級アルキル、−O−(CH2)y−低級アルコキシ、−O(CH2)yC(O)N(低級アルキル)2、−C(O)−低級アルキル、−C(O)O−低級アルキル、−C(O)−NH−低級アルキル、または−C(O)−N(低級アルキル)2であり;
yは、1、2、3または4であり;
R2は、ハロゲン、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、シクロアルキル、環状アミン、−NR7R7’、ヘテロシクロアルキル、アリール、または酸素、硫黄もしくは窒素からなる群から選択されるヘテロ原子を1、2もしくは3個含む5もしくは6員ヘテロアリールであり;
R3は、−S(O)2−低級アルキル、−S(O)2NH−低級アルキル、−NO2または−CNであり;
R7、R7’は、互いに独立して、水素または低級アルキルである)
で示される化合物の新規で規模拡張性のある製造方法に関する。
X1は、NまたはC、好ましくはNであり;
R1は、水素、ヒドロキシ、フルオロ、クロロ、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、シクロアルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、−CN、−NR7R7’、−S−低級アルキル、−S(O)2−低級アルキル、−O−(CH2)y−低級アルコキシ、−O(CH2)yC(O)N(低級アルキル)2、−C(O)−低級アルキル、−C(O)O−低級アルキル、−C(O)−NH−低級アルキル、または−C(O)−N(低級アルキル)2であり;
yは、1、2、3または4であり;
R7、R7’は、先に定義されたとおりであり;
*は、キラル中心を表す)
で示される化合物の新規な製造方法に関する。
R4、R4’は、独立して、C1〜C6−アルキルであり;
R5、R5’は、独立して、脱離基、例えばノシラート、トシラート、メシラートであり;
R6およびR6’は、互いに独立して、水素、ジフェニルメチル、ベンジル、ジアリルまたはアリルベンジルであり;
HYは、塩を形成する酸、例えば塩酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸または4−ニトロトルエンスルファニル酸であり;
Y−は、酸:HYのアニオンである)
に示されるように製造することができる。
R1、R1’、X1およびX2は、先に定義されたとおりであり、
R6、R6’は、互いに独立して、水素、アミノ保護基(例えば、ベンジル、ジフェニルメチルなど)であり、
Y−は、アニオン、例えばCl−、F−、Br−、I−、メシラート、トシラートまたはノシラートであり、好ましくはR1’は、水素であり、X2は、Cであり、X1は、Nであり、R1は、先に定義されたとおりである)
で示されるアミンまたはその塩への水素化分解は、適切な溶媒中で触媒量のPd/Cを用い、水素を用いて実施される。適切な溶媒は、例えばアルコール(例えば、メタノール、エタノールなど)、もしくはエーテル(例えば、テトラヒドロフラン)、もしくは炭化水素(例えば、トルエン)、またはそれらの混合物である。好ましくはその反応は、室温で実施される。
X1は、NまたはCであり;
X2は、Cであるか、またはX1が、Cである場合には、X2は、CもしくはNであり;
R1およびR1’は、互いに独立して、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、シクロアルキル、−CN、−NH2、−S−低級アルキル、−S(O)2−低級アルキル、−O−(CH2)y−低級アルコキシ、−O(CH2)yC(O)N(低級アルキル)2、−C(O)−低級アルキル、−C(O)O−低級アルキル、−C(O)−NH−低級アルキル、または−C(O)−N(低級アルキル)2であり;
yは、1、2、3または4であり;
R2は、ハロゲン、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、シクロアルキル、−NR7R7’、環状アミン、ヘテロシクロアルキル、アリール、または酸素、硫黄もしくは窒素からなる群から選択されるヘテロ原子を1、2もしくは3個含む5もしくは6員ヘテロアリールであり;
R3は、−S(O)2−低級アルキル、−S(O)2NH−低級アルキル、−NO2または−CNである)
で示される化合物の製造方法は、
a)式II:
その反応は、活性化剤(例えば、POCl3、(COCl)2など)の存在下で実施される。
X1は、NまたはC、好ましくはNであり;
R1は、水素、ヒドロキシ、フルオロ、クロロ、ハロゲンもしくはヒドロキシにより場合により置換された低級アルキル、シクロアルキル、ハロゲンにより場合により置換された低級アルコキシ、−CN、−NR7R7’、−S−低級アルキル、−S(O)2−低級アルキル、−O−(CH2)y−低級アルコキシ、−O(CH2)yC(O)N(低級アルキル)2、−C(O)−低級アルキル、−C(O)O−低級アルキル、−C(O)−NH−低級アルキル、または−C(O)−N(低級アルキル)2であり;
yは、1、2、3または4であり;
*は、キラル中心である)
で示される化合物の製造に用いられる。
a)COおよび触媒の存在下での、式(1)で示される化合物の、式(2)で示されるジエステルへのカルボニル化;
b)還元試薬(例えば、酢酸中のNaBH4、DIBAH(水素化ジイソブチルアルミニウム)、Redal(水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム)、LiBH4またはLiAlH4)、そして場合によりアルカリ金属および/もしくはアルカリ土類金属塩または遷移金属塩の存在下での、ジエステル(2)の、ジオール(3):
R1、R1’、X1およびX2は、先に定義されたとおりであり、
R6、R6’は、互いに独立して、水素、アミノ保護基(例えばベンジル、ジフェニルメチルなど)であり、
Y−は、アニオン、例えばCl−、メシラート、トシラートまたはノシラートであり、
好ましくはR1’は、水素であり、X2は、Cであり、X1は、Nであり、R1は、先に定義されたとおりである)。
で示されるアミンまたはその塩への水素化分解。
1. 2,3−ピリジンジカルボン酸−5−トリフルオロメチルジエチルエステルの合成
MS(EI):292(M+H+,17),272(M−F,12),246(32),218(100),191(17),174(47),147(81)
MS(EI):208(M+H+,13),289(54),161(100)
MS(EI):138(100),137(78),109(57)
MS(EI):138(100),137(79),109(57)
MS(EI):138(100),137(96),109(64)
MS(EI):138(100),137(94),109(57)
MS(ターボスプレー):355(M+H+,100),167(37)
MS(EI):355(M+H+,100),167(9)
MS(EI):369(M+,100),277(8)
MS(ターボスプレー)304(M+H+,39),346(11),167(100)
MS(ターボスプレー)138(M+H+,100),139(10)
MS(ターボスプレー)318(M+,100),319(24),226(7)
MS(ターボスプレー)138(M+H+,100),139(6)
MS(EI):189(M+H+,100)
MS(EI):189(M+H+,100)
H2O含量 3.4%;EAとの比較
Ru含量 <1ppm 検出されず
MS(EI):505(M+Na+,44),483(M+H+,100)
融点:147.3℃
MS(EI):505(M+Na+,32),483(M+H+,100)
Claims (1)
- 式II:
(式中、
X1は、NまたはCHであり;
X2は、CHであり;
R 1 は、ハロゲンにより場合により置換されたC 1 −C 6 アルキルであり、
R 1’ は、水素である)
で示される化合物またはその塩の製造方法であって、
a)COおよび、PdCl 2 dppf・CH 2 Cl 2 (dppfは、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンである)、PdCl 2 dppf、PdCl 2 (PPh 3 ) 2 (PPh 3 は、トリフェニルホスフィンである)、Pd(OAc) 2 (PPh 3 ) 2 (Pd(OAc) 2 は、二酢酸パラジウムである)及びPd(OAc) 2 dppfから選択される触媒の存在下で、式(1):
で示される化合物をカルボニル化して、式(2):
(式中、R4およびR4’は、独立して、C1〜C6−アルキルである)で示されるジエステルを得ること;
b)酢酸中のNaBH4、水素化ジイソブチルアルミニウム、LiBH4またはLiAlH4の群から選択される還元試薬の存在下で、そして場合により、少なくとも一種のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩または遷移金属塩の存在下で、ジエステル(2)をジオール(3):
へ還元すること;
c)酢酸エチル中で、ジイソプロピルエチルアミンおよびトリエチルアミンから選択される塩基の存在下、ジオール(3)から、ジオール誘導体(4):
(式中、
R5およびR5’は、独立して、ノシラート、トシラート、メシラートから選択される脱離基である)を形成させること;
d)ジイソプロピルエチルアミン、K 2 CO 3 およびトリエチルアミンから選択される塩基の存在下で、式(4)で示される化合物をアミノ誘導体:HNR6R6’(5)を用いて環化して、(6):
(式中、
R6、R6’は、互いに独立して、水素またはアミノ保護基であり、
Y−は、Cl − 、F − 、Br − 、I − 、メシラート、トシラートまたはノシラートである)を形成すること;またはR6、R6’の一つが、ベンジルおよびジフェニルメチルから選択されるアミノ保護基である場合は、
e)触媒量のPd/Cの存在下で、そして場合により式IIで示されるアミンの塩を生成させる酸の存在下で、保護されたアミン(6)またはその塩を、水素で式II:
で示されるアミンまたはその塩へ水素化させること、
を含む、製造方法。
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