JP5206709B2 - 可動体を備えている装置 - Google Patents
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Description
本発明の装置は、外力等が作用することによって2自由度可動体が変位する装置に限定されない。内蔵するアクチュエータによって2自由度可動体を積極的に変位させる装置であることもある。
本発明の装置は、半導体加工技術を応用して製造するのに適しており、マイクロメカニカル構造体(MEMS)の一種であることがある。
x-z可動体を備えている装置の場合、x軸方向の変位がz軸方向の変位量を検出することに影響し、z軸方向の変位がx軸方向の変位量を検出することに影響する。x軸方向の変位量とz軸方向の変位量を分離して検出することが難しい。
第2可動範囲の外側に第2固定範囲を設けた場合には、第2可動範囲の外側からの拘束によって、第2可動範囲の回転をより適切に抑制することができる。
上記装置では、第1変位検出部によってz軸方向の加速度を検出することができ、第2変位検出部によってx軸方向の加速度を検出することができる。第1変位検出部はx軸及びy軸方向への加速度の影響を受けないため、z軸方向の加速度を高精度に検出することができる。第2変位検出部は、z軸及びy軸方向の加速度の影響を受けないため、x軸方向の加速度を高精度に検出することができる。すなわち、この構成では、第1可動範囲への回転運動の混入に起因するノイズを抑制し、高精度な2軸加速度センサを実現することができる。
これに代えて、第1可動範囲がx軸方向にのみ変位し、第2可動範囲がx軸とz軸方向にのみ変位するものであってもよい。
この場合は、x軸方向のばね係数がy軸方向のばね係数とz軸方向のばね係数よりも低い第1ばね範囲と、z軸方向のばね係数がx軸方向のばね係数とy軸方向のばね係数よりも低い第2ばね範囲を利用する。
(特徴1) 第2ばね範囲が、結合部(第1可動範囲であり、1自由度可動体の実施例)のx−y平面での中心位置を通るx,y軸に対して対称な少なくとも4箇所の位置で結合部に接続されている。
(特徴2) 第1ばね範囲が、z軸方向に薄く、かつ、x−y平面内においてz軸方向よりも大きなサイズを有する板ばねとして構成されることによって、x−y平面内において高い回転剛性を有している。
(特徴3) 第1ばね範囲は、結合部のx−y平面での中心から見たときに、第2ばね範囲よりも離れた位置に配置されている。
(特徴4) 可動構造体が、SOI基板から構成されている。
A.第1実施例に係る角速度センサの構成:
B.第2実施例に係る角速度センサの構成:
C.第3実施例に係る角速度センサの構成:
D.第4実施例に係る角速度センサの構成:
E.第5実施例に係る2軸加速度センサの構成:
F.第6実施例に係る可動構造を備える装置の構成:
G.変形例:
図1は、第1実施例に係る可動構造100を備える角速度センサ10の構成を示す。角速度センサ10は、可動構造100と、3個の固定電極221、222、230と、一対の励振電極310、320と、これらを埋め込み酸化膜BLを介して支持する支持基板500を備えている。角速度センサ10は、SOI(Silicon on Insulator)基板から構成されている。SOI基板は、導電性の活性層WL(表面層の実施例)と、支持基板SL(基板の実施例)との間に、埋め込み酸化膜BL(中間層の実施例)を積層した構造を有する基板である。活性層WLには、図1および図2に示されるように、可動構造100と、3個の固定電極221、222、230と、一対の励振電極310、320とが形成され、4個の貫通電極PE1〜PE4で活性層WLと支持基板SLとが電気的に接続されている。
x軸ばね121〜124はz軸方向には変位しないことから、枠マス部110がz軸方向に変位すれば、それに追従して結合部151,152もz軸方向に変位する。
図8は、本発明の第2実施例に係る可動構造100aを備える角速度センサ10aの構成を示す。図9は、第2実施例の可動構造100aの構成を示す。第2実施例の可動構造100aは、第1実施例の結合部151、152が第2実施例の結合部151a、152aに変更されている点で第1実施例の可動構造100と相違する。第2実施例の角速度センサ10aは、他の点において第1実施例の角速度センサ10と共通する。
図10は、本発明の第3実施例に係る可動構造100bを備える角速度センサ10bの構成を示す。図11は、第3実施例の可動構造100bの構成を示す。図12は、第3実施例の角速度センサ10bの支持基板500bの構成を示す。第3実施例の角速度センサ10bは、第1実施例の可動構造100と支持基板500とがそれぞれ第3実施例の可動構造100bと支持基板500bとに変更され、2個の貫通電極PE2、PE3が削除されている点で第1実施例の角速度センサ10bと相違する。
(1)一対の結合部151、152を1個の結合部151b(第1可動範囲の実施例)に変更。
(2)内部固定部141〜142を内部固定部141b〜142bに変更。
(3)z軸ばね131〜134をz軸ばね131b〜134bに変更。
このように、第3実施例の可動構造100bv1,2のような構成を有する可動構造体を使用しても差動出力を得ることができる。
図14は、本発明の第4実施例に係る可動構造100cを備える角速度センサ10cの構成を示す説明図である。第4実施例の可動構造100cは、2個の櫛歯電極結合部410、420(第3可動範囲の実施例)と、4個の第2z軸ばね601〜604(可動側ばね範囲の実施例)と、4個の屈曲ばね610〜640とを有している点で第1実施例の可動構造100と相違する。2個の櫛歯電極結合部410、420は、可動構造100cが有する枠マス部110cの左右に第2z軸ばね601〜604を介して一体的に接続されている。各第2z軸ばね601〜604は、z軸方向のばね定数をx軸方向のばね係数とy軸方向のばね係数よりも顕著に小さくすることによって、実質的にz軸のみの変異を許容するように構成されたばねである。2個の櫛歯電極結合部410、420の動きが4個の屈曲ばね610〜640によってx軸方向に拘束されている。
図15は、本発明の第5実施例に係る2軸加速度センサ10dの構成を示す説明図である。第5実施例では、第4実施例の可動構造100cを使用して2軸加速度センサ10dが構成されている。2軸加速度センサ10dは、2個の励振電極310、320のそれぞれが2個の検出電極310d、320dに変更され、2個の櫛歯電極結合部410、420が2個の櫛歯電極結合部410d、420dに変更されている点で第4実施例の角速度センサ10cと相違する。
図16に、第6実施例の可動体を備えている装置10hを示す。図16に示すように、可動構造100hは、結合部151h(第1可動範囲の実施例)と枠マス部110hを備えている。本実施例の結合部151hは、x軸方向に可動であり、y軸方向とz軸方向には移動不能である。本実施例は、この点が、上記各実施例と異なる。
また、この可動構造体110hを備える装置10hに、結合部151hのx軸方向の変位に依存して出力が変化する第1検出部と、枠マス部110hのz軸方向の変位に依存して出力が変化する第2検出部とを付加する。この場合、x軸、z軸方向の加速度を検出することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項に記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数の目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。具体的には、たとえば以下のような変形例も実施可能で-ある。
10d・・・加速度センサ
10h・・・可動構造体を備える装置
100、100a、100b、100c、100e、100f、100g、100bv1、100bv2、100h…可動構造体
110、110c、110h…枠マス部
141、141b、142、143…内部固定部
151、151a、151b、151e、152、152a…結合部
151b1…結合枠部
151b2…可動電極部
161…機能部接続部
221、222、230…固定電極
310、320…励振電極
310d、320d…検出電極
311d…電極素子支持部材
410、410d…櫛歯電極結合部
411d…電極素子支持部材
420、420d…櫛歯電極結合部
500、500b…基板
510、510b、510c…外側基板
521、521b、522、523…固定電極基板
530…内側基板
610、620、623…屈曲ばね
611、621…外部固定部
622…屈曲ばね本体
Claims (11)
- 可動体を備えている装置であり、
サポート範囲を備えている基板と、その基板に部分的に積層されている中間層と、その中間層を介して前記基板に積層されている表面層を備えており、
その表面層は、互いに直交するx軸とy軸に沿って伸びており、
そのx軸とy軸のそれぞれに対してz軸が直交しており、
前記表面層は、前記中間層を介して前記サポート範囲に固定されている固定範囲と、そのサポート範囲から分離されている遊離範囲を備えており、
その遊離範囲は、前記固定範囲に続く複数個の第1ばね範囲と、その複数個の第1ばね範囲に続く第1可動範囲と、その第1可動範囲に続く第2ばね範囲と、その第2ばね範囲に続く第2可動範囲を備えており、
その第2可動範囲は、x軸方向に伸びる2つの辺とy軸方向に伸びる2つの辺を備える矩形枠状であり、
前記第1可動範囲は、前記矩形枠の内部に収容されており、
前記複数個の第1ばね範囲は、前記第1可動範囲と前記第2可動範囲との間の少なくとも4箇所に分散されており、
その4箇所は、前記第1可動範囲の中心を通るx軸とy軸に対して対称な4つの位置に分散されており、
各々の前記第1ばね範囲のz軸方向のばね定数はx軸とy軸方向のばね定数よりも低く、
前記第2ばね範囲のx軸方向のばね定数はy軸とz軸方向のばね定数よりも低く、
前記第1可動範囲は、前記複数個の第1ばね範囲によって、前記サポート範囲に対して、z軸方向に可動であるとともに、x軸方向とy軸方向には不動であり、z軸周りには回転せず、
前記第2可動範囲は、前記複数個の第1ばね範囲と前記第2ばね範囲によって、前記サポート範囲に対して、x軸方向とz軸方向に可動であることを特徴とする装置。 - 前記複数個の第1ばね範囲が、4箇所に設けられており、
前記複数個の第1ばね範囲が、x軸方向に伸びている第1グループと、y軸方向に伸びている第2グループを備えていることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記第2可動範囲をx軸方向に往復振動させる励振部と、
前記第1可動範囲のz軸方向の変位に依存して出力が変化する変位検出部が付加されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。 - 前記基板は、その基板を貫通する溝によって内側部分と外側部分とに区画されており、
その外側部分が前記サポート範囲を構成し、
前記内側部分は、前記外側部分に対して相対的に変位可能であり、
前記固定範囲は、前記中間層を介して前記外側部分に固定されており、
前記第1可動範囲は、前記中間層を介して前記内側部分に固定されていることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の装置。 - 前記表面層が、前記外側部分に固定されている範囲から前記内側部分に間隔を隔てて対向する範囲にまで伸びている検出部分を備えていることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記表面層は、前記第2可動範囲に続く第3ばね範囲と、その第3ばね範囲に接続されているとともに前記中間層を介して前記サポート範囲に固定されている第2固定範囲を備えており、
前記第3ばね範囲のx軸方向とz軸方向のばね定数が、y軸方向のばね定数よりも低いことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の装置。 - 前記第3ばね範囲は、前記第2可動範囲に続く可動側ばね範囲と、前記第2固定範囲に続く固定側ばね範囲を備えており、
その可動側ばね範囲のz軸方向のばね定数が、x軸とy軸方向のばね定数よりも低く、
その固定側ばね範囲のx軸方向のばね定数が、y軸とz軸方向のばね定数よりも低い
ことを特徴とする請求項6に記載の装置。 - 前記可動側ばね範囲と前記固定側ばね範囲の間に配置されている第3可動範囲が付加されていることを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記第3可動範囲をx軸方向に往復振動させる励振部と、
前記第1可動範囲のz軸方向の変位に依存して出力が変化する変位検出部が付加されていることを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 前記第1可動範囲のz軸方向の変位に依存して出力が変化する第1変位検出部と、
前記第3可動範囲のx軸方向の変位に依存して出力が変化する第2変位検出部が付加されていることを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 可動体を備えている装置であり、
サポート範囲を備えている基板と、その基板に部分的に積層されている中間層と、その中間層を介して前記基板に積層されている表面層を備えており、
その表面層は、互いに直交するx軸とy軸に沿って伸びており、
そのx軸とy軸のそれぞれに対してz軸が直交しており、
前記表面層は、前記中間層を介して前記サポート範囲に固定されている固定範囲と、そのサポート範囲から分離されている遊離範囲を備えており、
その遊離範囲は、前記固定範囲に続く複数個の第1ばね範囲と、その複数個の第1ばね範囲に続く第1可動範囲と、その第1可動範囲に続く第2ばね範囲と、その第2ばね範囲に続く第2可動範囲を備えており、
その第2可動範囲は、x軸方向に伸びる2つの辺とy軸方向に伸びる2つの辺を備える矩形枠状であり、
前記第1可動範囲は、前記矩形枠の内部に収容されており、
前記複数個の第1ばね範囲は、前記第1可動範囲と前記第2可動範囲との間の少なくとも4箇所に分散されており、
その4箇所は、前記第1可動範囲の中心を通るx軸とy軸に対して対称な4つの位置に分散されており、
前記第1ばね範囲の各々のx軸方向のばね定数はy軸とz軸方向のばね定数よりも低く、
前記第2ばね範囲のz軸方向のばね定数はx軸とy軸方向のばね定数よりも低く、
前記第1可動範囲は、前記複数個の第1ばね範囲によって、前記サポート範囲に対して、x軸方向に可動であるとともに、y軸方向とz軸方向には不動であり、z軸周りには回転せず、
前記第2可動範囲は、前記複数個の第1ばね範囲と前記第2ばね範囲によって、前記サポート範囲に対して、x軸方向とz軸方向に可動であることを特徴とする装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010043880A JP5206709B2 (ja) | 2009-03-18 | 2010-03-01 | 可動体を備えている装置 |
US12/723,971 US8365597B2 (en) | 2009-03-18 | 2010-03-15 | Apparatus having a movable body |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009066567 | 2009-03-18 | ||
JP2009066567 | 2009-03-18 | ||
JP2010043880A JP5206709B2 (ja) | 2009-03-18 | 2010-03-01 | 可動体を備えている装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010243479A JP2010243479A (ja) | 2010-10-28 |
JP5206709B2 true JP5206709B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=42736330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010043880A Active JP5206709B2 (ja) | 2009-03-18 | 2010-03-01 | 可動体を備えている装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8365597B2 (ja) |
JP (1) | JP5206709B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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IT201900017546A1 (it) | 2019-09-30 | 2021-03-30 | St Microelectronics Srl | Dispositivo a pulsante mems resistente all'acqua, dispositivo di ingresso comprendente il dispositivo a pulsante mems e apparecchio elettronico |
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-
2010
- 2010-03-01 JP JP2010043880A patent/JP5206709B2/ja active Active
- 2010-03-15 US US12/723,971 patent/US8365597B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100236328A1 (en) | 2010-09-23 |
JP2010243479A (ja) | 2010-10-28 |
US8365597B2 (en) | 2013-02-05 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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