[go: up one dir, main page]

JP5172756B2 - Coating device - Google Patents

Coating device Download PDF

Info

Publication number
JP5172756B2
JP5172756B2 JP2009071945A JP2009071945A JP5172756B2 JP 5172756 B2 JP5172756 B2 JP 5172756B2 JP 2009071945 A JP2009071945 A JP 2009071945A JP 2009071945 A JP2009071945 A JP 2009071945A JP 5172756 B2 JP5172756 B2 JP 5172756B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable
substrate
nozzle
support unit
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009071945A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010225436A (en
Inventor
幸宏 高村
幹雄 増市
毅 松家
理史 川越
秀一 相良
隆介 伊藤
宗明 大宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2009071945A priority Critical patent/JP5172756B2/en
Priority to KR1020100019496A priority patent/KR101290007B1/en
Publication of JP2010225436A publication Critical patent/JP2010225436A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5172756B2 publication Critical patent/JP5172756B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • B65G49/064Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
    • B65G49/065Transporting devices for sheet glass in a horizontal position supported partially or completely on fluid cushions, e.g. a gas cushion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、塗布装置に関し、特に、塗布対象の基板にノズルから液柱状態の流動性材料を吐出して塗布するための塗布装置に関する。   The present invention relates to a coating apparatus, and more particularly, to a coating apparatus for discharging and applying a fluid material in a liquid column state from a nozzle to a substrate to be coated.

高分子有機EL材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置の製造では、ガラス基板に対して、TFT(Thin Film Transistor)回路の形成、陽極となるITO(Indium Tin Oxide)電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機EL材料を含む流動性材料の塗布、加熱処理による有機EL層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止等が順次行われる。   In the manufacture of an organic EL display device of an active matrix driving system using a polymer organic EL material, a TFT (Thin Film Transistor) circuit is formed on a glass substrate, an ITO (Indium Tin Oxide) electrode serving as an anode, Formation of partition walls, application of a fluid material containing a hole transport material, formation of a hole transport layer by heat treatment, application of a fluid material containing an organic EL material, formation of an organic EL layer by heat treatment, formation of a cathode, In addition, sealing by forming an insulating film is sequentially performed.

有機EL表示装置の製造において利用される流動性材料を基板に塗布する装置の1つとしては、いわゆる「ノズルプリンティング」装置が挙げられる。このノズルプリンティング装置は、鉛直下方向に流動性材料を液柱状態で吐出するノズルを水平方向に往復移動させつつ、基板を設置したステージを所定方向に一定のピッチで送ることによりその基板に流動性材料を塗布している。   As one of apparatuses for applying a fluid material used for manufacturing an organic EL display device to a substrate, there is a so-called “nozzle printing” apparatus. This nozzle printing device flows vertically to the substrate by feeding the stage on which the substrate is installed at a constant pitch in a predetermined direction while reciprocating the nozzle that discharges the fluid material in a liquid column state vertically downward. The material is applied.

より具体的には、ノズルプリンティング装置の複数本のノズルから、例えば、有機EL材料を含む流動性材料(同一種類であっても異なるものであってもよい)が吐出され、基板上の塗布領域に予め形成されている隔壁間の複数の溝に塗布される。   More specifically, for example, a flowable material (which may be the same type or different) containing an organic EL material is discharged from a plurality of nozzles of the nozzle printing apparatus, and the application region on the substrate It is applied to a plurality of grooves between partition walls formed in advance.

例えば、特許文献1に記載にされるように、従来、ノズルプリンティング装置においては、その装置のステージに載置された被塗布対象である基板が、それを支持するステージと一体となって移動する機構が利用されてきた。   For example, as described in Patent Document 1, in a conventional nozzle printing apparatus, a substrate to be coated placed on a stage of the apparatus moves integrally with a stage that supports the substrate. Mechanisms have been used.

しかしながら、所望する製品の大型化に伴って、その製造過程で取り扱われる基板のサイズも大型化する。取り扱われる基板のサイズの大型化は、その製造装置においてステージをピッチ送りして基板を搬送するための機構の大型化も必要とし、その機構を駆動するための消費エネルギーならびにコストの増大が問題となる。従来型のノズルプリンティング装置では、例えば1m角基板を取り扱う場合、所定のピッチにより基板を搬送するための当該装置の移動体(ステージ)は700キログラム(Kg)程度となる。これに対して、仮に、その仕様に準拠して2m角基板を取り扱うとすると、その装置ではおよそ2トンもの移動体を移動する必要が生じる。   However, as the desired product increases in size, the size of the substrate handled in the manufacturing process also increases. Increasing the size of the substrate to be handled also requires an increase in the mechanism for pitch-feeding the stage and transporting the substrate in the manufacturing apparatus, and the increase in energy consumption and cost for driving the mechanism is a problem. Become. In a conventional nozzle printing apparatus, for example, when a 1 m square substrate is handled, the moving body (stage) of the apparatus for transporting the substrate at a predetermined pitch is about 700 kilograms (Kg). On the other hand, if a 2 m square substrate is handled according to the specifications, the apparatus needs to move about 2 tons of moving bodies.

このような大型化にかかる問題が伴う状況で、フラットパネルディスプレイまたは太陽電池等の製造過程で用いられる装置では、従来のように加工対象とする基板を搬送するために当該基板をステージに載せて移動するかわりに、加圧流体による浮上力を利用して基板を非接触的に支持する機構を利用することで、製造コストまたは消費エネルギーの低減が試みられている。   In a situation involving such a problem relating to upsizing, in an apparatus used in the manufacturing process of a flat panel display or a solar cell, the substrate is placed on a stage in order to transport the substrate to be processed as in the past. Attempts have been made to reduce manufacturing costs or energy consumption by using a mechanism that supports the substrate in a non-contact manner by using the floating force of the pressurized fluid instead of moving.

特開2007―152164号公報JP 2007-152164 A

しかしながら、ノズルプリンティング装置において、加圧流体を利用して基板を非接触的に支持する上述のような機構を利用しようとする場合、流動性材料を連続的に吐出するノズルプリンティング装置の特徴のために、その利用において多くの課題が存在する。   However, in the nozzle printing apparatus, when the above-described mechanism for supporting the substrate in a non-contact manner using a pressurized fluid is used, because of the feature of the nozzle printing apparatus that continuously discharges a fluid material. However, there are many problems in its use.

ノズルプリンティング装置では、流動性材料を連続的に吐出しつつ鉛直下方向に液柱(例えば、直線棒状の形状を有するもの)を形成するノズルを水平方向に往復移動する。したがって、基板に流動性材料を塗布する際、基板に対して相対的に移動するノズルがその基板の範囲外に移動したときに、その基板の塗布のための使われない流動性材料を回収するの液受部が必要とされる。この液受部は、その役割のために、塗布対象とする基板の範囲外に移動したノズルの直下に位置づけられることが必要である。さらに、所望の塗布処理を維持する目的で当該装置における各種調整処理をおこなう必要があり、その際には、被塗布基板に対する通常の塗布過程とは別に、流動性材料の吐出をおこなう必要がある。すなわち、基板のない状態で流動性材料を吐出しているノズルを所定の位置に移動させる場合、基板に対するノズルの位置合わせまたは複数におけるノズル間のピッチ調整などの各種調整を行う場合、またはノズルの洗浄時などのメンテナンス作業を行う場合などにも、それらの過程におけるノズルの位置に対応した液受部が必要である。   In a nozzle printing apparatus, a nozzle that forms a liquid column (for example, one having a shape of a straight bar) in a vertically downward direction is reciprocated in a horizontal direction while continuously discharging a fluid material. Therefore, when applying the flowable material to the substrate, when the nozzle that moves relative to the substrate moves out of the range of the substrate, the flowable material that is not used for the application of the substrate is recovered. Liquid receiver is required. Because of its role, the liquid receiving portion needs to be positioned directly below the nozzle that has moved out of the range of the substrate to be coated. Furthermore, it is necessary to perform various adjustment processes in the apparatus for the purpose of maintaining a desired coating process, and in that case, it is necessary to discharge a fluid material separately from the normal coating process on the substrate to be coated. . That is, when moving the nozzle that discharges the fluid material without a substrate to a predetermined position, when performing various adjustments such as nozzle alignment with respect to the substrate or pitch adjustment between nozzles, or the nozzle Even when maintenance work such as cleaning is performed, a liquid receiver corresponding to the position of the nozzle in those processes is required.

そのため、これまでのノズルプリンティング装置の構成において、他の製造装置に用いられている様式で上述のような非接触的に支持する装置を導入しようとすると、ノズルから流動性材料の塗布が行われている位置に上記液受部による不連続部分が存在することとなる。塗布精度を確保するためには、ノズルから流動性材料の塗布が行われている位置の基板の高さを安定させることが必要となるため、当該支持装置を配置することが困難であった。   Therefore, in the configuration of the nozzle printing apparatus so far, when a non-contact supporting apparatus as described above is introduced in the manner used in other manufacturing apparatuses, the flowable material is applied from the nozzle. The discontinuous part by the said liquid receiving part will exist in the position which has. In order to ensure the coating accuracy, it is necessary to stabilize the height of the substrate at the position where the flowable material is applied from the nozzle, and thus it is difficult to dispose the support device.

また、搬送される被塗布基板の進行方向の端部が、流動性材料の塗着部位となっている場合、上記不連続部分上に当該端部が位置することによって当該被塗布基板が片持ち状態でノズルから流動性材料を受けることとなるため、さらに被塗布基板の挙動が不安定となることがある。   Further, when the end portion in the traveling direction of the substrate to be transported is an application site of the flowable material, the substrate is cantilevered by positioning the end portion on the discontinuous portion. Since the fluid material is received from the nozzle in a state, the behavior of the substrate to be coated may become unstable.

加えて、ノズルプリンティング装置を用いた塗布処理では、1つの基板内におけるストライプ状の所望する塗布列(例えば、基板上に予め設けられた隔壁間の溝のパターンに沿った塗布列が挙げられるが、これらに限定されない)で塗布を行うために、塗布工程で基板が搬送される方向が少なくとも2通り存在する。すなわち、ノズルプリンティング装置による塗布では、1枚の被塗布基板上に複数の塗布対象領域を設ける場合があり、その塗布対象領域の配置と塗布列との位置関係に応じて、当該被塗布基板を搬送する方向が適宜変更される必要がある。そして、異なる長さの2辺を有する被塗布基板の場合、その変更すべき搬送方向としては、当該被塗布基板自体の長手方向がその基板が搬送される方向に対して平行である方向またはその搬送される方向に垂直である方向の少なくとも2通りが想定される。したがって、その搬送時に保持される基板の姿勢によって、その基板を支持するために必要とされる非接触支持装置の幅、さらには上述のように設けられる液受部において必要とされる幅が変化する。そして、その幅の変化により、必要とされる液受部のサイズまたは配置は変化してしまう。   In addition, in the coating process using the nozzle printing apparatus, a desired coating row in a stripe shape in one substrate (for example, a coating row along a groove pattern between partition walls provided in advance on the substrate can be cited. , But not limited to these), there are at least two directions in which the substrate is transported in the coating process. That is, in the application by the nozzle printing apparatus, a plurality of application target areas may be provided on one application target substrate, and the application target substrate is changed according to the positional relationship between the arrangement of the application target area and the application column. The transport direction needs to be changed as appropriate. In the case of a substrate to be coated having two sides with different lengths, the transport direction to be changed is a direction in which the longitudinal direction of the substrate to be coated itself is parallel to the direction in which the substrate is transported or At least two types of directions that are perpendicular to the direction of conveyance are envisaged. Therefore, the width of the non-contact support device required for supporting the substrate and the width required for the liquid receiving portion provided as described above vary depending on the posture of the substrate held during the transportation. To do. And the size or arrangement | positioning of a required liquid receiving part will change with the change of the width | variety.

したがって、非接触支持装置を利用した場合でも、所望する態様、精度でノズルプリンティング装置による塗布を行える装置が必要とされる。   Therefore, even when a non-contact support device is used, there is a need for a device that can perform coating with a nozzle printing device with a desired mode and accuracy.

それ故に、本発明の目的は、非接触支持装置を利用しつつも、ノズルプリンティング法により安定した塗布が可能な塗布装置を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to provide a coating apparatus capable of stable coating by a nozzle printing method while using a non-contact support device.

上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。   In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.

第1の発明は、基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、ノズルと、1または複数の液受部と、1または複数の可動浮上支持ユニットと、ノズル移動機構と、相対移動機構と、制御部とを備える、塗布装置を提供する。ここで、ノズルは、流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出する。1または複数の液受部は、そのノズルが吐出した流動性材料を受容する。1または複数の可動浮上支持ユニットは、上述の基板を非接触的に支持する。ノズル移動機構は、上述の基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させる。相対移動機構は、上述のノズルおよび基板の少なくとも一方を仮想水平面と平行で、かつ、その往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる。そして、制御部は、可動浮上支持ユニットおよび液受部の配置を制御し、上述の相対移動機構により相対的に移動される基板の有無およびその基板の往復移動の方向に対する長さのいずれかに応じて、可動浮上支持ユニットを移動させて配置する。   A first invention is a coating apparatus for applying a flowable material to a substrate, and includes a nozzle, one or more liquid receivers, one or more movable levitation support units, a nozzle moving mechanism, A coating device including a moving mechanism and a control unit is provided. Here, the nozzle discharges the fluid material in a liquid column state in the form of a straight bar vertically downward. The one or more liquid receivers receive the fluid material discharged from the nozzle. One or a plurality of movable levitating support units support the above-mentioned substrate in a non-contact manner. The nozzle moving mechanism reciprocates the nozzle in a predetermined direction within a virtual horizontal plane above the substrate. The relative movement mechanism relatively moves at least one of the nozzle and the substrate in a direction parallel to the virtual horizontal plane and different from the reciprocating direction. Then, the control unit controls the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit, and is set to either the presence / absence of the substrate relatively moved by the above-described relative movement mechanism or the length of the substrate in the reciprocating direction. Accordingly, the movable levitating support unit is moved and arranged.

第2の発明は、第1の発明において、上述の液受部は、可動液受部を含み、その制御部は、相対移動機構により相対的に移動される基板の有無および当該基板の往復移動の方向に対する長さのいずれかに応じて、可動浮上支持ユニットもしくは可動液受部またはその両方を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   In a second aspect based on the first aspect, the liquid receiving section includes a movable liquid receiving section, and the control section includes presence / absence of a substrate relatively moved by a relative movement mechanism and reciprocal movement of the substrate. A coating apparatus is provided in which the movable levitation support unit and / or the movable liquid receiving portion are moved and arranged in accordance with one of the lengths in the direction.

第3の発明は、第2の発明において、その制御部は、上述のノズルが基板の塗布対象領域に対して流動性材料を吐出する場合に可動浮上支持ユニットの少なくとも一部が当該ノズルの直下位置で前記基板を支持するように、当該基板の長さに応じて可動浮上支持ユニットもしくは可動液受部またはその両方を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   According to a third aspect, in the second aspect, the control unit is configured such that at least a part of the movable levitation support unit is directly below the nozzle when the nozzle discharges a fluid material to the application target region of the substrate. There is provided a coating apparatus in which a movable levitation support unit and / or a movable liquid receiving portion are moved and arranged so as to support the substrate at a position according to the length of the substrate.

第4の発明は、第2の発明または第3の発明において、その制御部は、上述のノズルが基板の範囲外に対して流動性材料を吐出する場合に液受部の少なくとも一部が当該ノズルの直下位置に配置されるように、その基板の長さに応じて可動浮上支持ユニットもしくは可動液受部またはその両方を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect or the third aspect, the control unit is configured such that at least a part of the liquid receiving unit corresponds to the case where the above-described nozzle discharges a fluid material outside the range of the substrate. Provided is a coating apparatus in which a movable levitating support unit and / or a movable liquid receiving portion are moved and arranged according to the length of a substrate so as to be arranged immediately below a nozzle.

第5の発明は、第2の発明、第3の発明、または第4の発明のいずれかにおいて、その制御部は、可動浮上支持ユニットが上述の基板を支持していない状態でそのノズルが流動性材料を吐出する場合に当該ノズルの直下位置となる全ての領域に前記液受部の少なくとも一部が配置されるように、可動浮上支持ユニットもしくは可動液受部またはその両方を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   In a fifth aspect based on any one of the second aspect, the third aspect, or the fourth aspect, the control unit is configured such that the nozzle flows while the movable levitating support unit does not support the substrate. The movable floating support unit and / or the movable liquid receiving unit are moved and arranged so that at least a part of the liquid receiving unit is arranged in all the regions immediately below the nozzle when the functional material is discharged. A coating apparatus is provided.

第6の発明は、第2の発明において、その制御部は、上述のノズルが往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に対して、可動液受部のうちの少なくとも1つが退避した位置に可動浮上支持ユニットのいずれかを配置することによって、可動浮上支持ユニットおよび可動液受部を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   In a sixth aspect based on the second aspect, the control portion is a position where at least one of the movable liquid receiving portions is retracted with respect to a region directly below the nozzle when the nozzle reciprocates. A coating apparatus is provided in which any one of the movable levitation support units is disposed to move the movable levitation support unit and the movable liquid receiver.

第7の発明は、第2の発明において、その制御部は、上述のノズルが往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に対して、可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に可動液受部のいずれかを配置することによって、可動浮上支持ユニットおよび可動液受部を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   In a seventh aspect based on the second aspect, the control unit is a position where at least one of the movable levitation support units is retracted with respect to an area directly below the nozzle when the nozzle reciprocates. An applicator is provided in which any one of the movable liquid receiving portions is disposed to move the movable floating support unit and the movable liquid receiving portion.

第8の発明は、第7の発明において、その制御部は、上述のノズルが往復移動する方向に対して垂直な水平方向に前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を共に移動させることによって、可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に前記可動液受部のいずれかを配置する、塗布装置を提供する。   In an eighth aspect based on the seventh aspect, the control unit moves the movable levitating support unit and the movable liquid receiving unit together in a horizontal direction perpendicular to the direction in which the nozzle reciprocates. A coating apparatus is provided in which one of the movable liquid receiving portions is disposed at a position where at least one of the movable levitating support units is retracted.

第9の発明は、第7の発明において、その制御部は、上述のノズルが往復移動する方向に対して垂直な水平方向に可動浮上支持ユニットを移動させ、可動液受部を鉛直方向に移動させることによって、可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に可動液受部のいずれかを配置する、塗布装置を提供する。   In a ninth aspect based on the seventh aspect, the control unit moves the movable levitating support unit in a horizontal direction perpendicular to the direction in which the nozzle reciprocates, and moves the movable liquid receiving portion in the vertical direction. Thus, a coating apparatus is provided in which one of the movable liquid receiving portions is disposed at a position where at least one of the movable levitating support units is retracted.

第10の発明は、第7の発明において、その制御部は、鉛直方向を回転軸にして可動浮上支持ユニットを回転移動させ、可動液受部を鉛直方向に移動させることによって、可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが回転移動して退避した位置に可動液受部のいずれかを配置する、塗布装置を提供する。   According to a tenth aspect, in the seventh aspect, the control unit rotates the movable levitation support unit about the vertical direction as the rotation axis, and moves the movable liquid receiving unit in the vertical direction, thereby moving the levitation support unit. There is provided a coating apparatus in which at least one of the movable liquid receiving portions is disposed at a position where at least one of them is rotated and moved away.

第11の発明は、第2の発明において、可動浮上支持ユニットの少なくとも1つは、上述のノズルが往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に配置された状態で、その長手方向が当該ノズルの往復移動の方向と平行となるように配置される、塗布装置を提供する。   In an eleventh aspect based on the second aspect, at least one of the movable levitating support units is arranged in a region directly below the nozzle when the nozzle moves back and forth, and the longitudinal direction thereof is Provided is a coating apparatus which is arranged so as to be parallel to the direction of reciprocation of a nozzle.

第12の発明は、第2の発明において、相対的に移動される前記基板が存在する場合に、前記制御部は、前記基板の長手方向が、前記ノズルの往復移動の方向と平行であるかまたは垂直であるかに応じて、前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を移動させて配置する、塗布装置を提供する。   In a twelfth aspect based on the second aspect, in the second aspect, when the relatively moved substrate exists, the control unit determines whether the longitudinal direction of the substrate is parallel to the reciprocating direction of the nozzle. According to another aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus in which the movable levitation support unit and the movable liquid receiving portion are moved and arranged depending on whether they are vertical.

第13の発明は、第12の発明において、上述の可動浮上支持ユニットが、長軸可動浮上支持ユニットと短軸可動浮上支持ユニットとを含み、そして、上述の可動液受部は、長軸可動液受部と短軸可動液受部とを含む、塗布装置を提供する。ここで、その長軸可動浮上支持ユニットは、基板の長手方向の長さに応じた全長を有する。また、短軸可動浮上支持ユニットは、基板の短手方向の長さに応じた全長を有する。さらに、長軸可動液受部は、基板の長手方向の長さに応じた全長を有し、短軸可動液受部は、長軸可動浮上支持ユニットの全長から短軸可動浮上支持ユニットの全長を差し引いた長さにほぼ相当する全長を有する。上述の液受部は、基板の長手方向の長さに応じた間隙を介した両端にそれぞれ固設された固定液受部を含む。その制御部は、基板の長手方向がノズルの往復移動の方向と平行となるように姿勢を保ちつつ前記基板が相対移動機構により相対的に移動される場合、長軸可動浮上支持ユニットを固定液受部の間隙に配置する。そして、その制御部は、基板の短手方向が当該ノズルの往復移動の方向と平行となるように姿勢を保ちつつ基板が相対移動機構により相対的に移動される場合、短軸可動浮上支持ユニットと短軸可動液受部とを隣接させた状態で前記固定液受部の間隙に配置する。さらに、その制御部は、可動浮上支持ユニットが基板を支持していない状態で上述のノズルが流動性材料を吐出する場合に、長軸可動液受部を固定液受部の間隙に配置する。   In a thirteenth aspect based on the twelfth aspect, the movable levitating support unit includes a long-axis movable levitating support unit and a short-axis movable levitating support unit, and the movable liquid receiver is movable along the long axis. Provided is a coating apparatus including a liquid receiver and a short-axis movable liquid receiver. Here, the long-axis movable levitating support unit has a total length corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate. The short-axis movable levitation support unit has a total length corresponding to the length of the substrate in the short direction. Furthermore, the long-axis movable liquid receiving part has an overall length corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate, and the short-axis movable liquid receiving part is changed from the total length of the long-axis movable floating support unit to the entire length of the short-axis movable floating support unit. The total length substantially corresponds to the length obtained by subtracting. The above-described liquid receiver includes fixed liquid receivers fixed to both ends via a gap corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate. When the substrate is relatively moved by the relative movement mechanism while maintaining the posture so that the longitudinal direction of the substrate is parallel to the direction of the reciprocating movement of the nozzle, the control unit moves the long-axis movable levitation support unit to the fixed liquid. It arrange | positions in the clearance gap between receiving parts. When the substrate is relatively moved by the relative movement mechanism while maintaining the posture such that the short side direction of the substrate is parallel to the reciprocating direction of the nozzle, the control unit is configured to move the short-axis movable levitating support unit. And the short-axis movable liquid receiving part are arranged adjacent to each other in the gap between the fixed liquid receiving parts. Further, the control unit arranges the long-axis movable liquid receiving part in the gap of the fixed liquid receiving part when the above-mentioned nozzle discharges the flowable material in a state where the movable levitating support unit does not support the substrate.

第14の発明は、第1乃至第13の発明において、ノズルを複数個有する、塗布装置を提供する。   A fourteenth invention provides a coating apparatus according to any of the first to thirteenth inventions, comprising a plurality of nozzles.

第15の発明は、複数のノズル間のピッチ調整を行うピッチ調整機構を、さらに備え、その制御部が、ピッチ調整を行う場合に前記ノズルの直下位置となる全ての領域に上述の液受部の少なくとも一部が配置されるように、少なくとも可動浮上支持ユニットを移動させて配置する、塗布装置を提供する。   The fifteenth aspect of the present invention further includes a pitch adjustment mechanism that adjusts the pitch between the plurality of nozzles, and the controller receives the above-described liquid receiving unit in all regions that are directly below the nozzles when the pitch adjustment is performed. There is provided a coating apparatus in which at least a movable levitating support unit is moved and disposed so that at least a part of the coating is disposed.

上述した構成をとることにより、本発明は、上述した従来型の塗布装置における課題を解決する。特に、非接触支持装置を利用しつつも、ノズルプリンティング法により安定した塗布が可能な塗布装置が提供され、その塗布装置は、基板の搬送方向にも柔軟に対応し、各種調整にも配置も適切に提供する。本発明の例示的な効果を以下に列挙する。   By adopting the above-described configuration, the present invention solves the problems in the above-described conventional coating apparatus. In particular, a coating apparatus capable of stable coating by using a nozzle printing method while using a non-contact support apparatus is provided. The coating apparatus can flexibly correspond to the direction of substrate transport and can be arranged and adjusted in various ways. Provide appropriately. Exemplary effects of the present invention are listed below.

上記第1乃至5、11または12の発明などによれば、ノズルプリンティング装置において加圧流体により塗布対象基板を非接触的に支持することが可能となり、製造コストまたは消費エネルギーを低減しつつも、安定した基板に対する流動性材料の塗布が可能となる。   According to the first to fifth, eleventh, or twelfth inventions described above, it is possible to support a substrate to be coated in a non-contact manner by a pressurized fluid in a nozzle printing apparatus, while reducing manufacturing cost or energy consumption. The flowable material can be applied to a stable substrate.

上記第6乃至10の発明などによれば、上記液受部または浮上支持ユニットのそれぞれが退避した位置に、塗布過程で必要とされる浮上支持ユニットまたは液受部が位置づけられる構成をとることで、さらに円滑で安定した塗布を提供することが可能となる。   According to the sixth to tenth inventions, the floating support unit or the liquid receiving unit required in the coating process is positioned at the position where each of the liquid receiving unit or the floating support unit is retracted. Further, it becomes possible to provide a smoother and more stable application.

上記第14の発明によれば、複数の塗布列を同時に形成することが可能となる。   According to the fourteenth aspect, a plurality of application rows can be formed simultaneously.

上記第15の発明によれば、ノズルピッチの調整も円滑に行うことが可能となる。   According to the fifteenth aspect, the nozzle pitch can be adjusted smoothly.

本発明は、以下に例示される図面に関連して記載される。しかしながら、それらの要素は必ずしも厳密な縮尺にしたがって表されてない。また、以下の図面は例示のためのものであり、その記載により、本発明に係る技術的範囲は限定して解釈されるべきではない。   The present invention will be described with reference to the drawings illustrated below. However, these elements are not necessarily drawn to scale. Further, the following drawings are for illustration, and the technical scope according to the present invention should not be construed as being limited by the description.

本発明の一実施形態に係る塗布装置の平面図The top view of the coating device concerning one embodiment of the present invention. 本発明における1つの実施形態である塗布装置の正面図The front view of the coating device which is one embodiment in this invention 本発明における1つの実施形態である塗布装置における浮上支持ユニットと液受部との配置の概略図Schematic of arrangement | positioning of the floating support unit and liquid receiving part in the coating device which is one embodiment in this invention. 本発明における他の実施形態である塗布装置における浮上支持ユニットと液受部との配置の概略図Schematic of arrangement of a floating support unit and a liquid receiving part in a coating apparatus according to another embodiment of the present invention 本発明における1つの実施形態である塗布装置(図4に対応)における浮上支持ユニットと液受部との配置を示すX軸方向からみた透視図The perspective view seen from the X-axis direction which shows arrangement | positioning of the floating support unit and liquid receiving part in the coating device (corresponding to FIG. 4) which is one embodiment of the present invention 本発明における別の実施形態である塗布装置における浮上支持ユニットと液受部との配置の概略図Schematic of arrangement | positioning of the floating support unit and liquid receiving part in the coating device which is another embodiment in this invention. 本発明における1つの実施形態である塗布装置(図6に対応)における浮上支持ユニットと液受部との配置を示すX軸方向からみた透視図The perspective view seen from the X-axis direction which shows arrangement | positioning of the floating support unit and the liquid receiving part in the coating device (corresponding to FIG. 6) which is one embodiment of the present invention

以下、本発明をより詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

(本発明の装置の基本構成)
本発明は、基板に流動性材料を塗布するための塗布装置(ノズルプリンティング装置)に関するものである。本発明の塗布装置は、概して、流動性材料を鉛直下方向に液柱状態(「液柱」)で吐出する「ノズル」と、1または複数の「液受部」と、被塗布基板を支持するための複数の移動可能な「浮上支持ユニット」と、仮想水平面内で上記ノズルを往復移動させる「ノズル移動機構」と、上述の仮想水平面と平行な所定水平方向に被塗布基板を移動させる「基板移動機構」と、塗布装置の動作を制御する「制御部」とを備える。
(Basic configuration of the apparatus of the present invention)
The present invention relates to an application device (nozzle printing device) for applying a fluid material to a substrate. The coating apparatus of the present invention generally supports a “nozzle” that discharges a fluid material vertically downward in a liquid column state (“liquid column”), one or more “liquid receivers”, and a substrate to be coated. A plurality of movable “floating support units” for moving the nozzle, a “nozzle moving mechanism” for reciprocating the nozzle in a virtual horizontal plane, and a substrate to be coated in a predetermined horizontal direction parallel to the virtual horizontal plane. The apparatus includes a “substrate moving mechanism” and a “control unit” that controls the operation of the coating apparatus.

上述の装置では、その制御部によって、所望の塗布結果を得るのに十分な配置をとるように構成要素の相対位置、その動作のタイミング等が制御されている。以下、本発明の例示的な実施形態について、添付の図面を参照しながら、本発明の特徴をより詳細に説明する。   In the above-described apparatus, the control unit controls the relative positions of the components, the operation timing, and the like so as to obtain a sufficient arrangement for obtaining a desired application result. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
1つの実施形態において、本発明は、基板に流動性材料を塗布するための塗布装置1である。図1は、当該実施形態に係る塗布装置の平面図であり、図2は塗布装置1の正面図である。この図で示された塗布装置1は、被塗布基板109(例えば、ガラス製基板)に対して、流動性材料(例えば、有機EL材料を含む塗布液)を塗布する装置である。図1および図2では、塗布装置1による塗布過程での被塗布基板109の例示的な位置を、二点鎖線にて示している。
(First embodiment)
In one embodiment, the present invention is a coating apparatus 1 for coating a flowable material on a substrate. FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus 1. The coating apparatus 1 shown in this figure is an apparatus that applies a fluid material (for example, a coating liquid containing an organic EL material) to a substrate to be coated 109 (for example, a glass substrate). In FIG. 1 and FIG. 2, exemplary positions of the substrate to be coated 109 during the coating process by the coating apparatus 1 are indicated by two-dot chain lines.

(ノズルの往復移動および被塗布基板の移動)
本実施形態における塗布装置1は、複数のノズル117を有している。塗布装置1におけるノズル117は、塗布過程において流動性材料を吐出する機能を有する。塗布装置1における複数のノズル117は、それらを保持するための保持部材(図示省略)と一体となって塗布ヘッド114を構成する。これらのノズル117と保持部材とが一体となった塗布ヘッド114が所定水平方向に往復運動することで、複数のノズル117の往復運動が達成される。
(Nozzle reciprocation and substrate movement)
The coating apparatus 1 in the present embodiment has a plurality of nozzles 117. The nozzle 117 in the coating apparatus 1 has a function of discharging a fluid material in the coating process. The plurality of nozzles 117 in the coating apparatus 1 constitutes a coating head 114 together with a holding member (not shown) for holding them. The reciprocating motion of the plurality of nozzles 117 is achieved by reciprocating the coating head 114 in which these nozzles 117 and the holding member are integrated in a predetermined horizontal direction.

塗布装置1における「主走査方向」または「ノズル往復移動方向」とは、塗布装置1において、1つのノズル、または任意の複数のノズル、あるいはそれらのノズルが固定された塗布ヘッド全体を捉えた際に、所定の軸に沿ったそのノズル等の往復運動が行われる方向である。図1および図2における、直交する3軸(X軸、Y軸およびZ軸)の各方向は、それぞれの図の左下に示したとおりである。図1において実線で示される塗布ヘッド114は、X軸方向(「主走査方向」または「ノズル往復移動方向」)にヘッド移動機構115により往復移動することが可能である。すなわち、複数のノズル117が一体となった塗布ヘッド114と、それをX軸方向に水平移動するヘッド移動機構115とは、ノズル117を往復移動させるための「ノズル移動機構」である。換言すると、流動性材料を鉛直下方向に液柱状態で吐出するノズル117は、ノズル移動機構によって、その液柱に垂直な仮想水平面内の所定方向(X軸方向)に沿って往復移動しているのである。ノズル移動機構の動作(例えば、塗布ヘッド114の移動速度など)は、後述の制御部(図示省略)により所望の塗布結果を得るために管理される。   The “main scanning direction” or “nozzle reciprocating direction” in the coating apparatus 1 means that when the coating apparatus 1 captures one nozzle, a plurality of arbitrary nozzles, or the entire coating head to which those nozzles are fixed. In addition, the nozzle is reciprocated along a predetermined axis. Each direction of three orthogonal axes (X axis, Y axis, and Z axis) in FIGS. 1 and 2 is as shown in the lower left of each figure. The coating head 114 indicated by a solid line in FIG. 1 can reciprocate by the head moving mechanism 115 in the X-axis direction (“main scanning direction” or “nozzle reciprocating direction”). That is, the coating head 114 in which a plurality of nozzles 117 are integrated and the head moving mechanism 115 that horizontally moves the application head 114 in the X-axis direction are “nozzle moving mechanisms” for moving the nozzle 117 back and forth. In other words, the nozzle 117 that discharges the fluid material vertically downward in a liquid column state is reciprocated along a predetermined direction (X-axis direction) in a virtual horizontal plane perpendicular to the liquid column by the nozzle moving mechanism. It is. The operation of the nozzle moving mechanism (for example, the moving speed of the coating head 114) is managed in order to obtain a desired coating result by a control unit (not shown).

図1の二点鎖線で例示されるような位置(114a、114b)は、塗布ヘッド114がその塗布過程でX軸方向に往復移動する際にとる位置の一例である。この塗布ヘッド114の往復移動の例示された経路からも理解されるように、この往復移動する塗布ヘッド114(すなわち、それに一体となっているノズル117)の往復経路の直下(鉛直方向を示す図示Z軸において、鉛直下方向をZ軸負方向とした場合、塗布ヘッド114からみて「Z軸負方向」)には、浮上支持ユニット112aSに支持された被塗布基板109または液受部116aSまたは116bが位置づけられている。   The positions (114a, 114b) exemplified by the two-dot chain line in FIG. 1 are examples of positions that are taken when the coating head 114 reciprocates in the X-axis direction during the coating process. As can be understood from the exemplified path of the reciprocating movement of the coating head 114, the reciprocating path of the coating head 114 (that is, the nozzle 117 integrated with the reciprocating path) is directly below (illustrated in the vertical direction). In the Z-axis, when the vertical downward direction is the negative Z-axis direction, the substrate to be coated 109 or the liquid receiving part 116aS or 116b supported by the floating support unit 112aS is viewed in the “Z-axis negative direction” as viewed from the coating head 114). Is positioned.

塗布装置1の塗布過程においては、被塗布基板109は、その主面が水平となるように、その下側主面(下面)が浮上支持ユニットにより非接触的に支持される。そして、塗布装置1における「主走査方向」とほぼ垂直な水平方向(「Y軸方向」)に、被塗布基板109は搬送される。この被塗布基板109が搬送される方向が、塗布装置1における「副走査方向」である。副走査方向の被塗布基板109の移動は、後述する基板移動機構により達成される。   In the coating process of the coating apparatus 1, the lower main surface (lower surface) of the substrate to be coated 109 is supported in a non-contact manner by the levitating support unit so that the main surface is horizontal. Then, the substrate to be coated 109 is transported in a horizontal direction (“Y-axis direction”) substantially perpendicular to the “main scanning direction” in the coating apparatus 1. The direction in which the substrate to be coated 109 is conveyed is the “sub-scanning direction” in the coating apparatus 1. The movement of the substrate to be coated 109 in the sub-scanning direction is achieved by a substrate moving mechanism described later.

上述の「主走査方向」は、図1及び図2における座標系に従えば、X軸に平行な方向である。また、ノズル117は、「鉛直下方向」(同図の座標系におけるZ軸負方向)に流動性材料を吐出する。すなわち、X軸に沿って往復運動している塗布ヘッド114と一体となったノズル117から流動性材料が、鉛直下方向(Z軸負方向)に吐出される。このノズル117から鉛直下方向に延びる流動性材料の液柱(図示省略)によって、そのノズル117の直下(ノズル117からみて、「Z軸負方向」)に位置づけられた、被塗布基板109の塗布が達成される。この塗布が行われる間、浮動支持ユニット112aS、112aL、112a、112bが、この被塗布基板109全体を非接触的に支持している。   The above-mentioned “main scanning direction” is a direction parallel to the X axis according to the coordinate system in FIGS. Further, the nozzle 117 discharges the fluid material in the “vertically downward direction” (Z-axis negative direction in the coordinate system of the figure). That is, the fluid material is ejected vertically downward (Z-axis negative direction) from the nozzle 117 integrated with the coating head 114 reciprocating along the X-axis. By applying a liquid column (not shown) of a fluid material extending vertically downward from the nozzle 117, the coating of the substrate to be coated 109 positioned directly below the nozzle 117 (“Z-axis negative direction” as viewed from the nozzle 117). Is achieved. While this coating is performed, the floating support units 112aS, 112aL, 112a, and 112b support the entire substrate 109 to be coated in a non-contact manner.

図1に示す塗布ヘッド114では、複数のノズル117が、図1中のX軸方向(すなわち、「主走査方向」)に関して略直線状に離れて配列されるとともに図1中のY軸方向(すなわち、「副走査方向」)に僅かにずれて配置される。隣接する2本のノズル117間の副走査方向に関する距離は、被塗布基板109の塗布対象領域上に形成しようとする塗布列の幅に対応するようにピッチ調整機構(図示省略)により調整される。塗布装置1では、複数のノズル117から吐出された流動性材料により描かれた塗布列の軌跡を観察する光学系が備えられている。その観察結果に従って制御部の管理のもと、複数のノズル間の副走査方向に関する距離が、ピッチ調整機構により調整される。   In the coating head 114 shown in FIG. 1, a plurality of nozzles 117 are arranged substantially linearly with respect to the X-axis direction (that is, “main scanning direction”) in FIG. 1 and in the Y-axis direction ( That is, they are arranged slightly shifted in the “sub-scanning direction”). The distance in the sub-scanning direction between the two adjacent nozzles 117 is adjusted by a pitch adjustment mechanism (not shown) so as to correspond to the width of the application row to be formed on the application target region of the application substrate 109. . The coating apparatus 1 is provided with an optical system that observes the trajectory of the coating row drawn by the flowable material discharged from the plurality of nozzles 117. According to the observation result, the distance in the sub-scanning direction between the plurality of nozzles is adjusted by the pitch adjustment mechanism under the control of the control unit.

(ノズル洗浄手段)
上述のように、塗布装置1におけるノズル117は、塗布過程において流動性材料を吐出する機能を有する。したがって、ノズル117は、塗布過程において吐出する流動性材料の付着という形で汚染される場合がある。そこで、塗布装置1は、必要に応じて、ノズルに付着した流動性材料を洗浄するノズル洗浄手段119(後述の他の実施形態においては、419、619が相当する)を備える。第1の実施形態において、ノズル洗浄手段119は、洗浄の必要に応じ、塗布装置1における所定の位置にて、ノズル117の適切な洗浄が実施されるように制御部の管理下におかれている。また、必要に応じて、ノズル洗浄手段は、液受部などの塗布装置内部構造体との相対位置を変更できるような構成も備える(後述の図3(c)を参照)。当業者は、用いる流動性材料の特性に鑑みて、必要とするノズル洗浄手段を選択することができる。
(Nozzle cleaning means)
As described above, the nozzle 117 in the coating apparatus 1 has a function of discharging a fluid material in the coating process. Accordingly, the nozzle 117 may be contaminated in the form of adhesion of a fluid material that is discharged in the coating process. Therefore, the coating apparatus 1 includes nozzle cleaning means 119 (corresponding to 419 and 619 in other embodiments described later) for cleaning the fluid material attached to the nozzles as necessary. In the first embodiment, the nozzle cleaning unit 119 is under the control of the control unit so that the nozzle 117 is appropriately cleaned at a predetermined position in the coating apparatus 1 as required for cleaning. Yes. Moreover, the nozzle cleaning means also includes a configuration that can change the relative position of the coating device internal structure such as a liquid receiving portion as required (see FIG. 3C described later). A person skilled in the art can select the necessary nozzle cleaning means in view of the characteristics of the flowable material used.

(浮上支持ユニット)
上述した浮上支持ユニットは、被塗布基板109を非接触状態で支持する非接触支持装置である。これらの浮上支持ユニットは、塗布装置1を用いた塗布過程で被塗布基板109の姿勢を所定の水平方向に保つように、当該基板を非接触的に支持する機能を有する。この非接触支持装置は、流体噴出部を備えている。この流体噴出部は、例えば多孔質材料により形成されており、加圧流体(例えば、空気、窒素ガス等)を噴出し、被塗布基板109の下面にその加圧流体を吹き付けることで、主面が水平になるような姿勢で当該基板を浮上させる(すなわち、浮上支持ユニットからみて、「Z軸正方向」に浮上力が生じている)。
(Floating support unit)
The above-described levitation support unit is a non-contact support device that supports the substrate to be coated 109 in a non-contact state. These floating support units have a function of supporting the substrate in a non-contact manner so that the posture of the substrate to be coated 109 is maintained in a predetermined horizontal direction during the coating process using the coating apparatus 1. This non-contact support device includes a fluid ejection part. The fluid ejecting portion is formed of, for example, a porous material, and ejects a pressurized fluid (for example, air, nitrogen gas, etc.) and sprays the pressurized fluid onto the lower surface of the substrate to be coated 109, so that the main surface The substrate is levitated in such a posture that is horizontal (ie, a levitating force is generated in the “Z-axis positive direction” as seen from the levitating support unit).

また、この非接触支持装置は、流体噴出部(以下、「噴出部」)とともに、真空引きを行うことで周辺の流体を吸引する流体吸引部(以下、「吸引部」)を備えている。このような、このような噴出部および吸引部を有する非接触支持装置では、上述のように、その噴出部および吸引部をその姿勢を水平にした被塗布基板109の下面に対向させることで、その基板を一定の浮上量で非接触的に支持することができる。   Further, the non-contact support device includes a fluid ejection part (hereinafter referred to as “ejection part”) and a fluid suction part (hereinafter referred to as “suction part”) that sucks the surrounding fluid by evacuation. In such a non-contact support device having such a jet part and a suction part, as described above, the jet part and the suction part are opposed to the lower surface of the substrate to be coated 109 whose posture is horizontal, The substrate can be supported in a non-contact manner with a constant flying height.

図1および図2を参照して、本実施形態における浮上支持ユニットについて説明する。本実施形態において、浮上支持ユニット112a、112aLもしくは112aSまたは112bは、ほぼ直方体状である。これらの浮上支持ユニットは、台座としての機能を有する基板回転機構110上に配置されている。この浮上支持ユニットのうち、浮上支持ユニット112bは、基板回転機構110上に固定されている(「固定浮上支持ユニット」)。固定浮上支持ユニット112bは、その長手軸がY軸方向に複数設けられ、基板回転機構110上にそれぞれ一定間隔をあけて配置されている。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the levitating support unit in this embodiment is demonstrated. In the present embodiment, the levitation support unit 112a, 112aL, 112aS, or 112b has a substantially rectangular parallelepiped shape. These levitation support units are disposed on a substrate rotation mechanism 110 having a function as a pedestal. Of these levitation support units, the levitation support unit 112b is fixed on the substrate rotation mechanism 110 ("fixed levitation support unit"). The fixed levitation support unit 112b has a plurality of longitudinal axes in the Y-axis direction, and is arranged on the substrate rotation mechanism 110 at regular intervals.

なお、この「基板回転機構」は、被塗布基板を支持するための浮上支持ユニットを、所望の姿勢(例えば、基板を水平方向とするための姿勢)に保ちつつ固設するため、またはそれらを移動可能に設置するための台座としての機能を有する構造体である。そして、本発明の塗布装置の部分機構であるこの構造体は、その上に設けられる浮上支持ユニットなどの塗布装置1の部分機構と他の部分機構との位置調整、ならびにそれらと被塗布基板との位置調整を行うために、所定の軸を中心として回転移動する機構、または高さを変更する機構を備えている。しかしながら、そのような回転移動等を所望しない場合はかならずしも当該機能を備える必要はなく、場合によっては、上述の台座としての機能のみを有するものであってもよい。   The “substrate rotation mechanism” is used to fix the floating support unit for supporting the substrate to be coated while maintaining the desired posture (for example, the posture for making the substrate horizontal) or It is a structure having a function as a pedestal for movably installing. And this structure which is a partial mechanism of the coating device of the present invention includes a position adjustment between the partial mechanism of the coating device 1 such as a levitation support unit provided thereon and another partial mechanism, and a substrate to be coated, In order to adjust the position, a mechanism that rotates around a predetermined axis or a mechanism that changes the height is provided. However, when such a rotational movement or the like is not desired, it is not always necessary to provide the function, and in some cases, it may have only the function as the pedestal described above.

塗布装置1に移動可能に基板回転機構に設置されている浮上支持ユニット112a、112aLもしくは112aSが、「可動浮上支持ユニット」である。可動浮上支持ユニット112aは、平行に配置された複数の固定浮上支持ユニット112bの両脇に位置しており、当該可動浮上支持ユニット112aの下部には、複数のガイドレール111がY軸方向に延びるように設けられている。すなわち、可動浮上支持ユニット112aは、その長手軸がガイドレール111と平行に延びるように配置されている。そして、上述のガイドレール111に沿って、可動浮上支持ユニット112aはそれぞれ移動可能である。   The levitation support unit 112a, 112aL or 112aS installed in the substrate rotation mechanism so as to be movable to the coating apparatus 1 is a “movable levitation support unit”. The movable levitation support unit 112a is located on both sides of a plurality of fixed levitation support units 112b arranged in parallel, and a plurality of guide rails 111 extend in the Y-axis direction below the movable levitation support unit 112a. It is provided as follows. That is, the movable levitating support unit 112 a is arranged so that its longitudinal axis extends in parallel with the guide rail 111. The movable levitating support units 112a can move along the guide rails 111 described above.

また、可動浮上支持ユニット112aは、当該ユニットがガイドレール111に沿って移動するための適切な駆動機構(図示省略)を有している。図1から理解されるように、塗布装置1における可動浮上支持ユニット112aL、112aSは、その長手軸がガイドレール111と垂直な水平方向(すなわち、「主走査方向」と平行な方向)に延びるように配置される。これらの塗布装置1における可動浮上支持ユニットの詳細なレイアウト、移動の態様などについては、後述する。   The movable levitating support unit 112a has an appropriate drive mechanism (not shown) for moving the unit along the guide rail 111. As can be understood from FIG. 1, the movable levitation support units 112aL and 112aS in the coating apparatus 1 have their longitudinal axes extending in a horizontal direction perpendicular to the guide rail 111 (that is, a direction parallel to the “main scanning direction”). Placed in. The detailed layout, movement mode, and the like of the movable levitating support unit in these coating apparatuses 1 will be described later.

(液受部)
本発明の塗布装置1は、複数の「液受部」を有する。当該液受部の機能は、上述のノズル117から被塗布基板109外に吐出された流動性材料または被塗布基板109が浮上支持ユニット上に支持されていない状態でノズル117から吐出された流動性材料を受容することである。また、これらの液受部は、ノズル117から吐出された流動性材料を受容するのに適切であれば任意の形状を取り得るが、本実施形態においては、Z軸方向から見た場合、いずれの液受部の形状もほぼ矩形となっている。
(Liquid receiving part)
The coating apparatus 1 of the present invention has a plurality of “liquid receiving portions”. The function of the liquid receiving unit is that the fluid material discharged from the nozzle 117 to the outside of the substrate to be coated 109 or the fluidity discharged from the nozzle 117 in a state where the substrate to be coated 109 is not supported on the floating support unit. It is to accept the material. In addition, these liquid receiving portions can take any shape as long as they are appropriate for receiving the fluid material discharged from the nozzle 117, but in this embodiment, when viewed from the Z-axis direction, The shape of the liquid receiving part is also substantially rectangular.

上述した液受部のうち一部は、塗布過程の必要性に応じて、塗布装置1内でノズル117が往復移動する経路に対する相対位置が変更され得る。以降、当該相対位置を変更し得る液受部を、特に「可動液受部」と称する。第1の実施形態では、可動液受部を、図1、2または3に示されるように、116aLまたは116aSとして示す。なお、この「可動液受部」を表す符号116aLまたは116aSの区別の詳細については、本明細書における後節にて説明する。他方、当該相対位置を変更しない液受部は、「固定液受部」と称し、第1の実施形態では、この固定液受部に符号116bを与える。可動液受部における位置変更は、上述した可動浮上支持ユニットの位置の変更と同様に、塗布装置1の制御部により管理されている。   A part of the liquid receiving unit described above can be changed in relative position with respect to a path along which the nozzle 117 reciprocates in the coating apparatus 1 according to the necessity of the coating process. Hereinafter, the liquid receiver that can change the relative position is particularly referred to as a “movable liquid receiver”. In the first embodiment, the movable liquid receiver is shown as 116aL or 116aS as shown in FIGS. The details of the distinction of the reference numeral 116aL or 116aS representing the “movable liquid receiving portion” will be described later in this specification. On the other hand, the liquid receiving part that does not change the relative position is referred to as a “fixed liquid receiving part”, and in the first embodiment, a reference numeral 116b is given to the fixed liquid receiving part. The change in the position of the movable liquid receiving unit is managed by the control unit of the coating apparatus 1 in the same manner as the change in the position of the movable levitating support unit described above.

塗布装置1を用いて被塗布基板109に流動性材料の塗布が行われる際に、当該装置のノズル117が塗布対象とする範囲の外(すなわち、被塗布基板109外)に移動したときに、液受部116aLもしくは116aSまたは116bはその範囲の外で吐出された流動性材料を回収する。塗布装置1の制御部は、塗布ヘッド114の往復移動(「主走査方向」移動)ならびに被塗布基板109の水平移動(「副走査方向」移動)を一定の条件下で行うことで、その被塗布基板109への所望の塗布を達成する。そして、その塗布過程で往復移動するノズル117が塗布対象とする範囲の外まで移動した場合、あるいは被塗布基板109が浮上支持ユニット上に支持されていない場合に、当該液受部が、当該ノズル117から吐出された流動性材料を回収できるように配置される。そして、その配置位置を達成するためには、可動液受部116aLまたは116aSの上述の制御部による管理のもと必要に応じて移動される。なお、この可動液受部の詳細なレイアウト、移動の態様などについては、後述する。   When the flowable material is applied to the substrate to be coated 109 using the coating apparatus 1, when the nozzle 117 of the apparatus moves outside the range to be coated (that is, outside the substrate to be coated 109), The liquid receiving part 116aL or 116aS or 116b collects the fluid material discharged outside the range. The control unit of the coating apparatus 1 performs the reciprocating movement (“main scanning direction” movement) of the coating head 114 and the horizontal movement (“sub-scanning direction” movement) of the substrate to be coated 109 under certain conditions. A desired application to the application substrate 109 is achieved. When the nozzle 117 that reciprocates in the coating process moves out of the range to be coated, or when the substrate 109 to be coated is not supported on the floating support unit, the liquid receiving unit It arrange | positions so that the fluid material discharged from 117 can be collect | recovered. And in order to achieve the arrangement position, it moves as needed under management by the above-mentioned control part of movable liquid receiving part 116aL or 116aS. In addition, the detailed layout of this movable liquid receiving part, the mode of movement, etc. are mentioned later.

(基板移動機構)
塗布装置1により塗布を受ける被塗布基板109は、上述した浮上支持ユニットのいずれかにより非接触的に支持されることによって、その浮上支持ユニット上で一定浮上量をもって姿勢が維持される。そして、この支持された被塗布基板109を所定方向(「副走査方向」)に水平移動する機構が、塗布装置1における「基板移動機構」(図示省略)である。この基板移動機構は、ノズル117が往復移動する主走査方向とほぼ垂直な水平方向に、塗布装置1における被塗布基板109を水平移動する。その移動速度、移動方向、移動のタイミング等は、塗布装置1の制御部により管理される。この基板移動機構は、被塗布基板109を所望の姿勢で適切に保持するための手段と、被塗布基板109を保持した当該手段を所定方向へ移動する駆動部を有する。その保持するため手段の塗布装置1における鉛直方向での位置(高さ)は、副走査方向に搬送される被塗布基板109が安定して上記浮上量を維持して移動できるように、浮上支持ユニット112a、112aL、112aSまたは112bの加圧流体の流量、ノズル117と被塗布基板109との距離等に鑑みて、適切な高さに調整され得る。
(Substrate moving mechanism)
The substrate to be coated 109 to be coated by the coating apparatus 1 is supported in a non-contact manner by any of the above-described floating support units, so that the posture is maintained with a certain flying height on the floating support unit. A mechanism for horizontally moving the supported substrate 109 to be coated in a predetermined direction (“sub-scanning direction”) is a “substrate movement mechanism” (not shown) in the coating apparatus 1. This substrate moving mechanism horizontally moves the substrate to be coated 109 in the coating apparatus 1 in a horizontal direction substantially perpendicular to the main scanning direction in which the nozzle 117 reciprocates. The moving speed, moving direction, moving timing, and the like are managed by the control unit of the coating apparatus 1. The substrate moving mechanism includes a means for appropriately holding the substrate to be coated 109 in a desired posture and a drive unit that moves the means holding the substrate to be coated 109 in a predetermined direction. The vertical position (height) of the means for holding in the coating apparatus 1 is such that the substrate to be coated 109 transported in the sub-scanning direction can move stably while maintaining the above-mentioned flying height. In consideration of the flow rate of the pressurized fluid of the unit 112a, 112aL, 112aS or 112b, the distance between the nozzle 117 and the substrate to be coated 109, etc., the height can be adjusted to an appropriate height.

(塗布装置の制御部)
塗布装置1の構成要素は、必要に応じて電気的に接続され、当該塗布装置の制御部により所定の動作が行われるように制御される。塗布装置1の制御部は、塗布装置1が所望の塗布結果を得るために、その各構成要素の動作を制御する機能を有する。本発明の塗布装置1における制御部は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うCPU、実行されるプログラムの記憶領域ならびに演算処理の作業領域となるRAM、基本プログラムを記憶するROM、各種情報を記憶する固定ディスク、本装置の使用者に各種情報を表示するディスプレイ、および、キーボードまたはマウス等の入力部等を接続した構成となっている。本発明の塗布、ならびにそれと連動した可動浮上支持ユニット112aおよび可動液受部116aの移動、それに伴う付属装置の駆動等の機能については、当該制御部のCPU等がプログラムに従って演算処理を行うことにより実現される。なお、本実施形態において、これらの機能は1台のコンピュータにより実現されるが、複数台のコンピュータにより実現されることも可能である。また、その機能は、部分的に使用者の手動による制御をもって実現されることも可能である。
(Control unit of coating device)
The components of the coating apparatus 1 are electrically connected as necessary, and are controlled so that a predetermined operation is performed by the control unit of the coating apparatus. The control unit of the coating apparatus 1 has a function of controlling the operation of each component in order for the coating apparatus 1 to obtain a desired coating result. The control unit in the coating apparatus 1 of the present invention includes a CPU that performs various arithmetic processes, a storage area for programs to be executed, a RAM that is a work area for arithmetic processes, a ROM that stores basic programs, A fixed disk for storing information, a display for displaying various types of information to the user of the apparatus, and an input unit such as a keyboard or a mouse are connected. The functions of the application of the present invention, the movement of the movable levitating support unit 112a and the movable liquid receiving portion 116a in conjunction with the application, and the driving of the accessory device associated therewith are performed by the CPU of the control unit performing arithmetic processing according to a program. Realized. In the present embodiment, these functions are realized by one computer, but may be realized by a plurality of computers. The function can also be partially realized with manual control by the user.

(塗布装置の塗布処理における基本動作)
図1および図2に示す塗布装置1では、複数のノズルが保持部材に固定された状態にて、ヘッド移動機構115により、塗布ヘッド114が複数のノズル117から流動性材料を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド114の主走査方向への移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板109が副走査方向(例えば、Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。そして、複数のノズル117の被塗布基板109に対する主走査方向および副走査方向への相対的な移動が繰り返されることにより、被塗布基板109の上面に流動性材料がストライプ状に塗布される。塗布装置1では、ヘッド移動機構115および基板移動機構がそれぞれ、複数本のノズル117を保持部材と共に被塗布基板109に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構となる。
(Basic operation in the coating process of the coating device)
In the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2, the coating head 114 continuously discharges the fluid material from the plurality of nozzles 117 by the head moving mechanism 115 in a state where the plurality of nozzles are fixed to the holding member. Each time the coating head 114 is moved in the main scanning direction and the coating head 114 is moved once in the main scanning direction, the substrate moving mechanism 109 causes the substrate to be coated 109 to have a predetermined pitch in the sub scanning direction (for example, the Y axis positive direction). Move with. The flowable material is applied to the upper surface of the substrate to be coated 109 in a stripe pattern by repeatedly moving the nozzles 117 in the main scanning direction and the sub-scanning direction with respect to the substrate to be coated 109. In the coating apparatus 1, each of the head moving mechanism 115 and the substrate moving mechanism is a nozzle scanning mechanism that moves the plurality of nozzles 117 together with the holding member relative to the substrate to be coated 109 in the main scanning direction and the sub-scanning direction. .

(浮上支持ユニットおよび液受部の位置制御)
可動浮上支持ユニット112a、112aLまたは112aSおよび可動液受部116aLまたは116aSの配置の変更は、塗布装置1の制御部により管理される。その配置の決定は、次のような要請を満たすように行われる。まず、往復移動するノズル117が被塗布基板109の塗布対象領域に対して流動性材料を吐出するときに、そのノズル117の直下で、かつ、被塗布基板109の下面近傍となる位置(具体的には、被塗布基板109の下面から上記浮上量だけ低い位置)に、可動浮上支持ユニット112aLまたは112aSの少なくとも一部が配置されているように、当該可動浮上支持ユニットおよび可動液受部の配置が行われる。加えて、当該ノズル117がその被塗布基板109の範囲外で流動性材料を吐出する場合に、可動液受部116aおよび固定液受部116bのいずれかが当該ノズル117の直下に配置されているように、上述の可動浮上支持ユニットおよび可動液受部の配置が行われる。
(Position control of floating support unit and liquid receiver)
The change in the arrangement of the movable levitating support units 112a, 112aL or 112aS and the movable liquid receiver 116aL or 116aS is managed by the control unit of the coating apparatus 1. The arrangement is determined so as to satisfy the following requirements. First, when the reciprocating nozzle 117 discharges the flowable material to the application target region of the substrate to be coated 109, a position (specifically, directly below the nozzle 117 and near the lower surface of the substrate to be coated 109). The movable floating support unit and the movable liquid receiving portion are arranged such that at least a part of the movable floating support unit 112aL or 112aS is arranged at a position lower than the lower surface of the substrate 109 to be coated by the above-mentioned floating amount). Is done. In addition, when the nozzle 117 discharges a fluid material outside the range of the substrate to be coated 109, either the movable liquid receiving portion 116 a or the fixed liquid receiving portion 116 b is disposed immediately below the nozzle 117. Thus, arrangement | positioning of the above-mentioned movable floating support unit and a movable liquid receiving part is performed.

このような配置が行われることで、ノズル117から吐出された流動性材料がそのノズル117の直下に位置する被塗布基板109に対して実際に塗着する際には、その被塗布基板109の塗着部位の直下となる近傍には可動浮上支持ユニット112aSまたは112aLが位置づけられていることになる。ノズル117から流動性材料が吐出されて塗着している被塗布基板109の直下近傍に、可動浮上支持ユニット112aLまたは112aSの少なくとも一部が位置づけられていることにより、ノズル117から流動性材料が塗着する際に、その塗着される部分の真下で当該可動浮上支持ユニットが被塗布基板109を支えることとなる。そのため、塗布精度を確保するために重要なノズル直下部位において、被塗布基板109の挙動が安定し、安定した塗布が達成される。また、連続的に流動性材料を吐出するノズル117が、当該被塗布基板109が存在する範囲の外に移動しても、そこには可動液受部116aSおよび固定液受部116bのいずれかが配置されているので、当該吐出された流動性材料は適切にその液受部により受容される。   With such an arrangement, when the fluid material discharged from the nozzle 117 is actually applied to the substrate to be coated 109 located immediately below the nozzle 117, The movable levitation support unit 112aS or 112aL is positioned in the vicinity immediately below the application site. Since at least a part of the movable levitation support unit 112aL or 112aS is positioned in the vicinity of the substrate 109 to which the fluid material is discharged and applied from the nozzle 117, the fluid material is ejected from the nozzle 117. At the time of coating, the movable levitating support unit supports the substrate to be coated 109 just below the portion to be coated. For this reason, the behavior of the substrate 109 to be coated is stabilized at a portion immediately below the nozzle, which is important for ensuring coating accuracy, and stable coating is achieved. Further, even if the nozzle 117 that continuously discharges the fluid material moves outside the range where the substrate to be coated 109 exists, either the movable liquid receiving part 116aS or the fixed liquid receiving part 116b is present there. Since it is arranged, the discharged flowable material is appropriately received by the liquid receiving portion.

したがって、非接触的支持装置を利用する従来のノズルプリンティング装置で問題となっていた、液受部周辺での基板の不安定な挙動が回避される。   Therefore, the unstable behavior of the substrate around the liquid receiving portion, which has been a problem in the conventional nozzle printing device using the non-contact support device, is avoided.

実際には、本実施形態における塗布装置1は、上述の条件を満たすために、図3(a)、図3(b)および図3(c)に示されるような、可動浮上支持ユニット112aL、112aS、112aおよび可動液受部116aS、116aLに関する3つの基本配置を切り替えることができる構成を有する。各基本配置は、塗布の仕方、塗布に伴う各調整の種類、被塗布基板109が搬送される方向などに応じて、塗布装置1の制御部により切り替えがなされる。   Actually, in order to satisfy the above-described conditions, the coating apparatus 1 in the present embodiment has a movable levitating support unit 112aL, as shown in FIGS. 3 (a), 3 (b), and 3 (c). 112aS and 112a and movable liquid receiving part 116aS and 116aL have the structure which can switch three basic arrangements. Each basic arrangement is switched by the control unit of the coating apparatus 1 according to the method of application, the type of each adjustment accompanying application, the direction in which the substrate to be coated 109 is conveyed, and the like.

図3(a)、図3(b)および図3(c)は、図1および図2で示される塗布装置1における構成の一部の表示を省略して、Z軸正方向から観察したときの、可動浮上支持ユニット112aL、112aS、112a、固定浮上支持ユニット112b、可動液受部116aL、116aS、および固定液受部116bの配置を示した図である。なお、ノズル117を備えそれと一体となった塗布ヘッド114は、図3(a)、図3(b)および図3(c)のそれぞれに示したX軸方向に延びる往復移動経路AA(点線で図示する)で示した軸上(主走査方向)に沿って、可動浮上支持ユニット112aLもしくは112aS、可動液受部116aLもしくは116aS、または固定液受部116bの上方空間を往復移動する。   3 (a), 3 (b), and 3 (c), when a part of the configuration of the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2 is omitted and observed from the positive direction of the Z axis. It is the figure which showed arrangement | positioning of movable floating support unit 112aL, 112aS, 112a, fixed floating support unit 112b, movable liquid receiving part 116aL, 116aS, and fixed liquid receiving part 116b. The coating head 114 including the nozzle 117 and integrated therewith is a reciprocating path AA (indicated by a dotted line) extending in the X-axis direction shown in each of FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c). A reciprocating movement is made in the space above the movable levitating support unit 112aL or 112aS, the movable liquid receiving part 116aL or 116aS, or the fixed liquid receiving part 116b along the axis (in the main scanning direction) shown in the figure.

図1および図3から理解されるように、固定浮上支持ユニット112bは、その長手軸がY軸方向を向くように複数設けられ、基板回転機構110上にそれぞれ一定間隔をあけて互い平行になるように配置されている。図1または図3で示される塗布装置1では、塗布ヘッド114の往復移動経路AAよりY軸正方向側に、3つの固定浮上支持ユニット112bが一定間隔もって並設されており、他方、塗布ヘッド114の往復移動経路AAからみてY軸負方向側にも、3つの固定浮上支持ユニット112bが上記と同じ間隔をもって並設されている。さらに、Y軸正方向側に並設された3つの固定浮上支持ユニット112bのそれぞれ両脇には、ガイドレール111とともに、4つの可動浮上支持ユニット112aが配置されている。また、Y軸負方向側に並設された3つの固定浮上支持ユニット112bのそれぞれ両脇にも、ガイドレール111とともに、4つの可動浮上支持ユニット112aが配置されている。   As can be understood from FIGS. 1 and 3, a plurality of fixed levitation support units 112b are provided so that their longitudinal axes are directed in the Y-axis direction, and are parallel to each other at a predetermined interval on the substrate rotation mechanism 110. Are arranged as follows. In the coating apparatus 1 shown in FIG. 1 or FIG. 3, three fixed levitation support units 112b are arranged in parallel at a constant interval on the Y axis positive direction side from the reciprocation path AA of the coating head 114. On the other hand, The three fixed levitation support units 112b are also arranged in parallel at the same interval as described above on the Y axis negative direction side as seen from the reciprocation path AA of 114. Further, four movable levitating support units 112a are arranged along with guide rails 111 on both sides of three fixed levitating support units 112b arranged in parallel on the Y axis positive direction side. Also, four movable levitating support units 112a are arranged along with the guide rails 111 on both sides of the three fixed levitating support units 112b arranged side by side in the negative Y-axis direction.

以上ように、往復移動経路AAを挟むようにしてそのY軸正方向側およびY軸負方向側のそれぞれに、3つの固定浮上支持ユニット112bが配置されている。図1および図3から理解されるように、Y軸方向に沿って配置された浮上支持ユニットの間には、(A)「主走査方向」に延設されている長さの異なる2つの可動浮上支持ユニット(以下、長軸可動浮上支持ユニット112aLおよび短軸可動浮上支持ユニット112aSと区別して記載することがある)、および(B)「主走査方向」に延設されている長さの異なる2つの可動液受部(以下、長軸可動液受部116aLおよび短軸可動液受部116aSと区別して記載することがある)が、配置されている。(A)の可動浮上支持ユニット112aLおよび112aS、(B)の可動液受部116aLおよび112aS、ならびに上述した8つの可動浮上ユニット112aの一群(以下、本明細書において、この塗布装置1における部分構造の一群を、「可動セット」とし、符号100を割り当てる)が連動して制御部の管理のもと移動することで、図3(a)、図3(b)、図3(c)に示されるような配置間での配置の変更が達成される。   As described above, the three fixed levitation support units 112b are arranged on each of the Y axis positive direction side and the Y axis negative direction side so as to sandwich the reciprocation path AA. As can be understood from FIGS. 1 and 3, (A) two movable members having different lengths extending in the “main scanning direction” are provided between the levitation support units arranged along the Y-axis direction. A floating support unit (hereinafter, sometimes described separately from the long-axis movable floating support unit 112aL and the short-axis movable floating support unit 112aS), and (B) different lengths extending in the “main scanning direction” Two movable liquid receivers (hereinafter, sometimes described separately from the long-axis movable liquid receiver 116aL and the short-axis movable liquid receiver 116aS) are arranged. (A) movable levitating support units 112aL and 112aS, (B) movable liquid receiving portions 116aL and 112aS, and a group of the eight movable levitating units 112a described above (hereinafter referred to as a partial structure in the coating apparatus 1 in this specification). 3 (a), 3 (b), and 3 (c) are shown in FIG. 3 (a), FIG. 3 (b), and FIG. 3 (c). Such a change in arrangement between arrangements is achieved.

さらに、本実施形態において、上述(A)の長軸可動浮上支持ユニット112aLは、上述(B)の長軸可動液受部116aLとほぼ同じ主走査方向の長さを有し、X軸方向に対して同じ位置であり、かつ長軸可動液受部116aLがY軸正方向側にくるように平行に並設される。そして、並設された長軸可動浮上支持ユニット112aLと長軸可動液受部116aLとの間に、(A)の短軸可動浮上支持ユニット112aSおよび(B)の短軸可動液受部116aSが、ほぼ一直線上に隣接して配置され、隣接した短軸可動浮上支持ユニット112aSおよび短軸可動液受部116aSを合わせた主走査方向の長さは、長軸可動浮上支持ユニット112aLおよび長軸可動液受部116aLとほぼ同じである。以下、図3(a)、図3(b)、および図3(c)に示される配置の詳細について記載する。   Furthermore, in the present embodiment, the long-axis movable levitation support unit 112aL of (A) described above has substantially the same length in the main scanning direction as the long-axis movable liquid receiver 116aL of (B) described above, and extends in the X-axis direction. On the other hand, the long-axis movable liquid receiving portion 116aL is arranged in parallel so as to be on the Y-axis positive direction side at the same position. Between the long-axis movable levitation support unit 112aL and the long-axis movable liquid receiver 116aL arranged in parallel, the short-axis movable levitation support unit 112aS of (A) and the short-axis movable liquid receiver 116aS of (B) are provided. The lengths in the main scanning direction of the adjacent short axis movable levitating support unit 112aS and the short axis movable liquid receiving portion 116aS, which are arranged adjacent to each other on a substantially straight line, are the long axis movable levitating support unit 112aL and the long axis movable It is almost the same as the liquid receiving part 116aL. The details of the arrangement shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C will be described below.

(横塗り配置)
図3(a)は、被塗布基板109の長手方向が塗布装置1の主走査方向と平行になるような方向で塗布を行うときの、可動浮上支持ユニット112a、112aL、112S、固定浮上支持ユニット112b、可動液受部116aS、116aL、および固定液受部116bの配置(「横塗り配置」)を示す。図3(a)の紙面に向かって右側には、可動セット100のみを抜き出して表した。図3(a)から理解されるように、ノズル117が往復移動する往復移動経路AAの直下となる被塗布基板109の下部には、主走査方向に延びる長軸可動浮上支持ユニット112aLが配置されている。また、往復移動経路AA直下であっても、その被塗布基板109の範囲外となる両端には、それぞれ固定液受部116bが固設されている。
(Horizontal placement)
FIG. 3A shows the movable levitation support units 112a, 112aL, 112S and the fixed levitation support unit when coating is performed in a direction in which the longitudinal direction of the substrate 109 to be coated is parallel to the main scanning direction of the coating apparatus 1. An arrangement ("horizontal coating arrangement") of 112b, movable liquid receiving portions 116aS and 116aL, and fixed liquid receiving portion 116b is shown. Only the movable set 100 is extracted and shown on the right side of the paper surface of FIG. As can be understood from FIG. 3A, a long-axis movable levitation support unit 112aL extending in the main scanning direction is disposed below the substrate 109 to be coated, which is directly below the reciprocation path AA along which the nozzle 117 reciprocates. ing. Further, even immediately below the reciprocation path AA, fixed liquid receiving portions 116b are respectively fixed at both ends outside the range of the substrate to be coated 109.

図3(a)の配置のもと、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズル117が固定された塗布ヘッド114の主走査方向に沿った移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板109が副走査方向(例えば、Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。ここで、「1回」の「主走査方向に沿った移動」は、被塗布基板109の一方範囲外に位置している塗布ヘッド114が、その往復移動経路AAに沿いながら、被塗布基板109の上方を通過した後に、被塗布基板109の他方範囲外に出るまでの移動である。このような移動が図3(a)に示されるような配置のもと行われると、被塗布基板109における、ノズル117から吐出された流動性材料が塗着する部位は、長軸可動浮上支持ユニット112aLにより安定に支持される。そして、被塗布基板109の範囲外となる両端位置では、当該往復移動経路AA上に固定液受部116bがそれぞれ配置されていることが担保され、吐出される流動性材料により浮上支持ユニットおよび被塗布基板109が汚染されることが回避されている。   With the arrangement shown in FIG. 3A, the substrate moving mechanism is moved each time the coating head 114, to which the plurality of nozzles 117 for continuously discharging the flowable material are fixed, is moved once along the main scanning direction. As a result, the substrate to be coated 109 moves at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (for example, the Y-axis positive direction). Here, “moving along the main scanning direction” of “once” means that the coating head 114 positioned outside the one range of the substrate to be coated 109 is along the reciprocating movement path AA while being coated. Is moved until it goes out of the other range of the substrate 109 to be coated. When such a movement is performed under the arrangement as shown in FIG. 3A, the portion of the substrate to be coated 109 to which the fluid material discharged from the nozzle 117 is applied is a long-axis movable levitating support. It is stably supported by the unit 112aL. Further, at both end positions outside the range of the substrate to be coated 109, it is ensured that the fixed liquid receiving portions 116b are respectively arranged on the reciprocating movement path AA, and the floating support unit and the substrate to be covered are discharged by the fluid material to be discharged. Contamination of the coated substrate 109 is avoided.

(縦塗り配置)
図3(b)は、被塗布基板109の長手方向が塗布装置1の副走査方向を向いている姿勢で当該基板に対する塗布過程を行うときの、可動浮上支持ユニット112a、112aLまたは112S、固定浮上支持ユニット112b、可動液受部116aS、および固定液受部116bの配置(「縦塗り配置」)を示す。図3(b)の紙面に向かって右側には、可動セット100のみを抜き出して表した。
(Vertical painting arrangement)
FIG. 3B shows the movable levitation support unit 112a, 112aL or 112S, fixed levitation when the coating process is performed on the substrate 109 in a posture in which the longitudinal direction of the substrate to be coated 109 faces the sub-scanning direction of the coating apparatus 1. The arrangement of the support unit 112b, the movable liquid receiving part 116aS, and the fixed liquid receiving part 116b ("vertical coating arrangement") is shown. Only the movable set 100 is extracted and shown on the right side of the paper surface of FIG.

図3(a)の配置と図3(b)の配置とを比較した場合、図3(b)では、塗布ヘッド114の往復移動経路AAの直下には、隣接した短軸可動浮上支持ユニット112aSおよび短軸可動液受部116aSが配置されている点で相違していることが理解される。そして、図3(a)の配置と同様に、往復移動経路AA直下であっても、その被塗布基板109の範囲外となる両端には、それぞれ固定液受部116bが固設されている。塗布装置1において、図3(a)の配置から、図3(b)の配置へと切り替わるとき、可動セット100が、全体として、Y軸負方向(図3(a)中の矢印ToBで表示した方向)に移動した結果として、図3(b)のような配置となる。   When the arrangement of FIG. 3A is compared with the arrangement of FIG. 3B, in FIG. 3B, the short axis movable levitation support unit 112aS adjacent to the reciprocation path AA of the coating head 114 is directly below. It is understood that the difference is that the short-axis movable liquid receiving portion 116aS is disposed. Similarly to the arrangement of FIG. 3A, the fixing liquid receiving portions 116b are fixedly provided at both ends outside the range of the substrate to be coated 109 even immediately under the reciprocation path AA. When the application apparatus 1 switches from the arrangement shown in FIG. 3A to the arrangement shown in FIG. 3B, the movable set 100 is displayed as a whole in the Y-axis negative direction (arrow ToB in FIG. 3A). As a result of the movement in the direction indicated in FIG.

上述のような移動により達成される図3(b)の配置において、ノズル117が往復移動する往復移動経路AAの直下となる被塗布基板109の下部には、短軸可動浮上支持ユニット112aSが配置されている。また、往復移動経路AA直下であっても、その被塗布基板109の範囲外となる一方端(図3(b)においてはX軸正方向側)には、上記移動により割り込んだ可動液受部116aSを挟んで固定液受部116bが固設されている。また、被塗布基板109の範囲外となる他方端(図3(b)においてはX軸負方向側)には、固定液受部116bが固設されている。   In the arrangement of FIG. 3B achieved by the movement as described above, the short-axis movable levitating support unit 112aS is arranged below the substrate 109 to be coated, which is directly below the reciprocating movement path AA in which the nozzle 117 reciprocates. Has been. Further, even immediately under the reciprocation path AA, the movable liquid receiving portion that is interrupted by the above movement is located at one end (in the positive X-axis direction in FIG. 3B) outside the range of the substrate 109 to be coated. A fixing liquid receiving portion 116b is fixedly provided with 116aS interposed therebetween. Further, a fixing liquid receiving portion 116b is fixedly provided at the other end (outside of the X-axis in FIG. 3B) outside the range of the substrate 109 to be coated.

塗布装置1のこの配置のもと、図3(a)の「横塗り配置」と同様に、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズル117が固定された塗布ヘッド114の主走査方向に沿った移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板109が副走査方向(例えば、Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。この「縦塗り配置」であっても、被塗布基板109における、ノズル117から吐出された流動性材料が塗着する部分は、長軸可動浮上支持ユニット112aSにより安定に支持される。そして、被塗布基板109の範囲外となる両端の位置では、当該往復移動経路AA上に固定液受部116bならび可動液受部116aSが配置されていることで、吐出される流動性材料により塗布装置1または被塗布基板109が汚染されることが回避される。   Under this arrangement of the coating apparatus 1, as in the “horizontal coating arrangement” of FIG. 3A, a plurality of nozzles 117 for continuously discharging a fluid material are fixed in the main scanning direction of the application head 114. Each time the movement along the line is performed once, the substrate to be coated 109 is moved at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (for example, the positive direction of the Y axis) by the substrate moving mechanism. Even in this “vertical coating arrangement”, a portion of the substrate to be coated 109 to which the fluid material discharged from the nozzle 117 is applied is stably supported by the long-axis movable levitation support unit 112aS. And in the position of the both ends which become out of the range of the to-be-coated substrate 109, since the fixed liquid receiving part 116b and the movable liquid receiving part 116aS are arranged on the reciprocating movement path AA, the liquid material to be applied is applied. Contamination of the apparatus 1 or the substrate to be coated 109 is avoided.

(各種調整などのために用いられる配置)
ノズルプリンティング法を利用した塗布装置1では、被塗布基板109に実際に塗布を行う作業に加えて、ノズル117から流動性材料を吐出する必要がある。その吐出の際には、ノズル117の直下となる全ての領域に液受部を必要とする。
(Arrangement used for various adjustments)
In the coating apparatus 1 using the nozzle printing method, it is necessary to discharge a fluid material from the nozzle 117 in addition to the operation of actually coating the substrate 109 to be coated. At the time of the discharge, a liquid receiving portion is required in all the regions immediately below the nozzle 117.

図3(c)の配置と図3(b)の配置とを比較した場合、図3(c)の配置における塗布ヘッド114の往復移動経路AAの直下には、その全域にわたって長軸可動液受部116aLおよび固定液受部116bが配置されている点で、図3(c)と図3(b)との配置では相違していることが理解される。塗布装置1において、図3(b)の配置から図3(c)の配置へと切り替わる場合、可動セット100が、その全体として、Y軸方向(図3(b)中の矢印ToCで表示した方向)に移動した結果として、図3(c)のような配置となる。   When the arrangement of FIG. 3C and the arrangement of FIG. 3B are compared, the long-axis movable liquid receiver is received over the entire area immediately below the reciprocation path AA of the coating head 114 in the arrangement of FIG. It is understood that the arrangement of FIG. 3C is different from that of FIG. 3B in that the portion 116aL and the fixative receiving portion 116b are arranged. In the coating apparatus 1, when switching from the arrangement of FIG. 3B to the arrangement of FIG. 3C, the movable set 100 is displayed as a whole by the arrow ToC in the Y-axis direction (FIG. 3B). As a result of the movement in the direction), the arrangement as shown in FIG.

塗布装置1は、所望の精度の塗布処理を行うために、その構成要素の位置の検出、調整、動作確認等をおこなうための機構をさらに備え、それらの機構のいくつかは、当該図3(c)で示される配置を必要とする。さらに、それらの機構による処理の過程で異常が検出された場合などには、その構成要素(例えば、ノズル)がさらに検査され、洗浄または交換、調整などの処理も必要に応じておこなわれ、その目的のための機構が当該装置にさらに備えられている。なお、図3(c)において理解されるように、固定液受部116bの一部は、ノズル洗浄手段119を用いために一時的かつ部分的にその位置を変更する場合も許容される。   The coating apparatus 1 further includes a mechanism for performing detection, adjustment, operation check, and the like of the position of its constituent elements in order to perform a coating process with a desired accuracy. Some of these mechanisms are shown in FIG. The arrangement shown in c) is required. Furthermore, when an abnormality is detected in the course of processing by these mechanisms, the component (for example, nozzle) is further inspected, and processing such as cleaning, replacement, or adjustment is performed as necessary. A mechanism for the purpose is further provided in the device. As can be understood from FIG. 3C, a part of the fixed liquid receiving part 116 b is allowed to be temporarily and partially changed in order to use the nozzle cleaning means 119.

塗布装置1における構成要素の調整のための機構としては、例えば、ピッチ調整機構が挙げられる。例えば、ノズル117のピッチは、被塗布基板109の塗布対象領域上に予め形成されている主走査方向に延びる隔壁間のピッチの数倍(例えば、3倍など)に等しくされる。また、このような溝がない場合も、所望するストライプ状の塗布列の間隔に対応するように、ノズル117のピッチが同様に調整される。このような調整をピッチ調整機構が担う。そして、調整の際にノズル117から流動性材料の吐出も行うので、そのピッチ調整を行う際にノズル117の直下となる全ての領域に液受部が必要とされる。   Examples of the mechanism for adjusting the components in the coating apparatus 1 include a pitch adjusting mechanism. For example, the pitch of the nozzles 117 is made equal to several times (for example, three times) the pitch between the partition walls formed in advance in the main scanning direction on the application target region of the substrate to be coated 109. Further, even when there is no such groove, the pitch of the nozzles 117 is similarly adjusted so as to correspond to the desired interval between the stripe-shaped coating rows. Such adjustment is performed by the pitch adjustment mechanism. Since the fluid material is also discharged from the nozzle 117 at the time of adjustment, a liquid receiving portion is required in all the regions immediately below the nozzle 117 at the time of adjusting the pitch.

塗布装置1は、複数のノズル117から吐出された流動性材料により描かれた塗布列の軌跡を観察するための光学系(図示省略)、複数のノズル117の副走査方向に関する位置を調整するノズルピッチ調整機構(図示省略)をさらに備え、これらの構成も制御部により制御される。図3(c)のような配置となった塗布装置1において、塗布ヘッド114を必要に応じて駆動し、そのノズル117から流動性材料を吐出した際に、ノズル117から吐出された結果として得られる塗布列が上述の光学系により観察される。その観察結果に従って制御部の管理のもと、複数のノズル117間の副走査方向に関する距離が調整される。塗布装置1のノズルピッチ調整機構は、例えば、図1の二点鎖線で示した塗布ヘッド114の位置114bの近傍に設置される。   The coating apparatus 1 includes an optical system (not shown) for observing the trajectory of the coating row drawn by the flowable material discharged from the plurality of nozzles 117, and a nozzle for adjusting the positions of the plurality of nozzles 117 in the sub-scanning direction. A pitch adjusting mechanism (not shown) is further provided, and these configurations are also controlled by the control unit. In the coating apparatus 1 having the arrangement as shown in FIG. 3C, when the coating head 114 is driven as necessary and the fluid material is ejected from the nozzle 117, the result is ejected from the nozzle 117. The applied row is observed by the optical system described above. According to the observation result, the distance in the sub-scanning direction between the plurality of nozzles 117 is adjusted under the control of the control unit. The nozzle pitch adjusting mechanism of the coating apparatus 1 is installed, for example, in the vicinity of the position 114b of the coating head 114 indicated by a two-dot chain line in FIG.

(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態は、液受部および浮上支持ユニットの配置につき、第1の実施形態の塗布装置における変形例である。この第2の実施形態における装置は、その塗布装置1の塗布処理における塗布ヘッド等の基本的な構成およびその基本動作を、第1の実施形態の塗布装置と共通に有しつつも、「浮上支持ユニット」および「液受部」の構成および配置、移動の態様が異なる。
(Second Embodiment)
2nd Embodiment of this invention is a modification in the coating device of 1st Embodiment regarding arrangement | positioning of a liquid receiving part and a floating support unit. The apparatus according to the second embodiment has a basic configuration such as a coating head in the coating process of the coating apparatus 1 and its basic operation in common with the coating apparatus according to the first embodiment. The configurations and arrangement of the “support unit” and “liquid receiving part” and the manner of movement are different.

実際には、本実施形態における塗布装置1は、図4(a)、図4(b)および図4(c)に示されるような、浮上支持ユニット412aL、412aS、412bおよび液受部416aL、416aS、416bに関する3つの基本配置を切り替えることができる構成を有する。これ以降の説明において、第2の実施形態の塗布装置において、第1の実施形態の塗布装置と共通して備える構成要素については、第1の実施形態と同様の符号(例えば、ノズルについて、117)を利用する。   Actually, the coating apparatus 1 according to the present embodiment includes floating support units 412aL, 412aS, 412b and a liquid receiving unit 416aL as shown in FIGS. 4 (a), 4 (b), and 4 (c). It has a configuration in which three basic arrangements relating to 416aS and 416b can be switched. In the following description, in the coating apparatus according to the second embodiment, the components provided in common with the coating apparatus according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment (for example, the nozzle 117. ).

図4(a)、図4(b)および図4(c)に示される各基本配置は、塗布の仕方、塗布に伴う各調整の種類、被塗布基板409が搬送される方向などに応じて、塗布装置1の制御部により切り替えがなされる。第1の実施形態と同様に、ノズル117を備えそれと一体となった塗布ヘッド114は、図4(a)、図4(b)および図4(c)のそれぞれに示したX軸方向に延びる往復移動経路AA(点線で図示する)で示した軸上(主走査方向)に沿って往復移動する。図5(a)、図5(b)、図5(c)はそれぞれ、X軸正方向から観察した場合の図4(a)、図4(b)、図4(c)に示された本発明の実施形態に対応する透視図である。なお、図5において、ノズル洗浄手段419の図示は省略している。   Each of the basic arrangements shown in FIG. 4A, FIG. 4B, and FIG. 4C depends on the method of application, the type of each adjustment associated with application, the direction in which the substrate to be coated 409 is conveyed, and the like. Switching is performed by the control unit of the coating apparatus 1. Similar to the first embodiment, the application head 114 including the nozzle 117 and integrated with the nozzle 117 extends in the X-axis direction shown in each of FIGS. 4A, 4B, and 4C. It reciprocates along an axis (main scanning direction) indicated by a reciprocating movement path AA (illustrated by a dotted line). 5 (a), FIG. 5 (b), and FIG. 5 (c) are shown in FIG. 4 (a), FIG. 4 (b), and FIG. 4 (c), respectively, when observed from the positive direction of the X axis. It is a perspective view corresponding to the embodiment of the present invention. In FIG. 5, the nozzle cleaning means 419 is not shown.

第2の実施形態における、浮上支持ユニットおよび液受部に係る3つの基本配置で用いられる構成要素は、3つの浮上支持ユニット412aL、412aSまたは412bおよび液受部416aS、416aLおよび416bである。全部で3個の浮上支持ユニットのうち、1個は、ノズル117の往復移動経路AAに対する相対位置を変化させない固定浮上支持ユニット412bであり、残りの2個は、上述の3つの基本配置において往復移動経路AAに対する相対位置を変更する可動浮上支持ユニット412aL、412aSである。他方、上述した全部で4個の液受部のうち、2個は、ノズル117の往復移動経路AAに対する相対位置を変化させない固定液受部416bであり、残りの2個は、上述の3つの基本配置において往復移動経路AAに対する相対位置を変更する可動液受部416aS、416aLである。   In the second embodiment, the components used in the three basic arrangements related to the floating support unit and the liquid receiver are the three floating support units 412aL, 412aS or 412b and the liquid receivers 416aS, 416aL and 416b. Of the three levitation support units in total, one is a fixed levitation support unit 412b that does not change the relative position of the nozzle 117 with respect to the reciprocating movement path AA, and the other two are reciprocating in the three basic arrangements described above. These are movable levitating support units 412aL and 412aS that change the relative position with respect to the movement path AA. On the other hand, two of the four liquid receivers described above are fixed liquid receivers 416b that do not change the relative position of the nozzle 117 with respect to the reciprocating path AA, and the remaining two are the three liquid receivers described above. The movable liquid receiving portions 416aS and 416aL change the relative position with respect to the reciprocating path AA in the basic arrangement.

上述の固定浮上支持ユニット412bは、往復移動経路AAに沿ってその経路からみてY軸負方向側に並設されている。また、2つの可動浮上支持ユニット412aL、412aSは、固定浮上支持ユニット412bのY軸正方向側に並設されている。その配置の詳細については、後述する。   The above-described fixed levitation support unit 412b is arranged in parallel on the Y axis negative direction side along the reciprocating movement path AA when viewed from the path. The two movable levitation support units 412aL and 412aS are arranged in parallel on the Y axis positive direction side of the fixed levitation support unit 412b. Details of the arrangement will be described later.

(横塗り配置)
図4(a)および図5(a)は、被塗布基板409の長手方向が塗布装置1の主走査方向と平行になるような方向で当該基板に対する塗布を行うときの、浮上支持ユニット412aL、412aS、412bおよび液受部416aL、416aS、416bの配置(「横塗り配置」)を示す。
(Horizontal placement)
4 (a) and 5 (a) illustrate the floating support unit 412aL when coating is performed on the substrate in such a direction that the longitudinal direction of the substrate to be coated 409 is parallel to the main scanning direction of the coating apparatus 1. The arrangement of 412aS and 412b and the liquid receiving portions 416aL, 416aS and 416b ("horizontal coating arrangement") is shown.

図4(a)および図5(a)から理解されるように、往復移動経路AAからみてY軸負方向側にその経路に沿って固設されている固定浮上支持ユニット412bが有するX軸方向に延びた辺の長さは、被塗布基板409における長手方向の辺の長さに相当する。   As understood from FIGS. 4A and 5A, the X-axis direction of the fixed levitation support unit 412b fixed along the path on the Y-axis negative direction side when viewed from the reciprocating path AA. The length of the side extending in the direction corresponds to the length of the side of the substrate to be coated 409 in the longitudinal direction.

往復移動経路AAからみてY軸正方向にその経路にそって並設されている2つの可動浮上支持ユニット412aL、412aSは、その配置された状態におけるY軸方向の辺の長さは同じである。他方、X軸方向の辺の長さについては、X軸負方向側の可動浮上支持ユニット412aLが、X軸正方向側の可動浮上支持ユニット412aSよりもX軸方向の辺が長い。このX軸方向に並んで配置されている2つの可動浮上支持ユニット412aL、412aSが有するX軸方向に延びた辺の長さの合計は、被塗布基板409における長手方向の辺の長さに相当する。   The two movable levitating support units 412aL and 412aS arranged in parallel along the Y-axis positive direction as viewed from the reciprocating path AA have the same length in the Y-axis direction in the arranged state. . On the other hand, regarding the length of the side in the X-axis direction, the movable levitation support unit 412aL on the X-axis negative direction side has a longer side in the X-axis direction than the movable levitation support unit 412aS on the X-axis positive direction side. The total length of the sides extending in the X-axis direction of the two movable levitating support units 412aL and 412aS arranged side by side in the X-axis direction corresponds to the length of the side in the longitudinal direction of the substrate 409 to be coated. To do.

その並設されている可動浮上支持ユニット412aL、412aSの一部は、往復移動経路AA下に位置する。その結果として、往復移動経路AAの直下に位置する被塗布基板409の下部は、全て、可動浮上支持ユニット412aL、412aSにより支持される。さらに、往復移動経路AA直下であって、当該被塗布基板409の範囲外の位置では、固定液受部416bが固設されている。   A part of the movable levitating support units 412aL and 412aS arranged in parallel is located below the reciprocating movement path AA. As a result, the lower part of the substrate to be coated 409 located immediately below the reciprocating path AA is all supported by the movable levitation support units 412aL and 412aS. Further, a fixed liquid receiving portion 416b is fixedly provided at a position directly below the reciprocating movement path AA and outside the range of the substrate to be coated 409.

このような配置のもと、第1の実施形態と同様に、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズル117が固定された塗布ヘッド114の主走査方向に沿った移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板409が副走査方向(例えば、Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。このような移動が図4(a)に示されるような配置のもと行われると、被塗布基板409における、ノズル117から吐出された流動性材料が塗着する部位は、可動浮上支持ユニット412aLおよび412aSにより安定に支持される。そして、当該被塗布基板409の範囲外の位置では、当該往復移動経路上に液受部416bが配置されていることで、吐出される流動性材料により浮動支持ユニットが汚染されることが回避されている。   Under such an arrangement, similarly to the first embodiment, the movement along the main scanning direction of the coating head 114 to which the plurality of nozzles 117 for continuously discharging the fluid material is fixed is performed once. Every time, the substrate to be coated 409 is moved at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (for example, the positive direction of the Y axis) by the substrate moving mechanism. When such movement is performed under the arrangement as shown in FIG. 4A, the portion of the substrate 409 to which the fluid material discharged from the nozzle 117 is applied is the movable levitating support unit 412aL. And 412aS. In addition, at a position outside the range of the substrate to be coated 409, the liquid receiving portion 416b is disposed on the reciprocating movement path, thereby preventing the floating support unit from being contaminated by the discharged fluid material. ing.

(縦塗り配置)
図4(b)および図5(b)は、被塗布基板409の長手方向が塗布装置1の主走査方向と垂直になるような方向で当該基板に対する塗布過程を行うときの、浮上支持ユニットおよび液受部の配置(「縦塗り配置」)を示す。
(Vertical painting arrangement)
4 (b) and 5 (b) show the floating support unit when the coating process is performed on the substrate in a direction in which the longitudinal direction of the substrate to be coated 409 is perpendicular to the main scanning direction of the coating apparatus 1. The arrangement of the liquid receiver (“vertical coating arrangement”) is shown.

ここで、「縦塗り配置」と、図4(a)で示された「横塗り配置」との相違点について説明する。「横塗り配置」から「縦塗り配置」への移行は、次のように行われる。まず、上述した図4(a)の配置において被塗布基板409の下面に対向するように配置されていた2つの可動浮上支持ユニット412aL、412aSのうち、X軸正方向側の可動浮上支持ユニット412aSが、副走査方向に往復移動経路AAから離れるように退避しつつ、それとともに当該退避した可動浮上支持ユニット412aSの下部に設けられていた可動液受部416aSが、固定浮上支持ユニット412bとほぼ同じ(Z軸方向の)高さまで上昇する(図4(b)参照)。図4に示されていないが、これらの浮上支持ユニットの退避および液受部の高さ方向の移動については、制御部の管理下で適切な駆動機構により行われる。図4(b)に記載されているように、退避していない残りの可動浮上支持ユニット412aLにおけるX軸方向の辺の長さは、この配置において搬送される被塗布基板409のX軸方向の長さとほぼ等しい。上述ような可動浮上支持ユニット412aSの退避の様子は、(図4(b)に対応する)図5(b)を参照することにより明確に理解される。   Here, the difference between the “vertical painting arrangement” and the “horizontal painting arrangement” shown in FIG. 4A will be described. The transition from “horizontal painting arrangement” to “vertical painting arrangement” is performed as follows. First, of the two movable levitating support units 412aL and 412aS arranged so as to face the lower surface of the substrate 409 to be coated in the arrangement shown in FIG. 4A, the movable levitating support unit 412aS on the X axis positive direction side. However, while retracting away from the reciprocation path AA in the sub-scanning direction, the movable liquid receiving portion 416aS provided at the bottom of the retracted movable floating support unit 412aS is substantially the same as the fixed floating support unit 412b. It rises to a height (in the Z-axis direction) (see FIG. 4B). Although not shown in FIG. 4, the retraction of the floating support unit and the movement of the liquid receiving unit in the height direction are performed by an appropriate drive mechanism under the control of the control unit. As shown in FIG. 4B, the length of the side in the X-axis direction of the remaining movable levitating support unit 412aL that has not been retracted is the length in the X-axis direction of the substrate to be coated 409 conveyed in this arrangement. It is almost equal to the length. The state of retraction of the movable levitation support unit 412aS as described above can be clearly understood by referring to FIG. 5B (corresponding to FIG. 4B).

塗布装置1のこの配置のもと、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズル117が固定された塗布ヘッド114の主走査方向に沿った移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板409が副走査方向(Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。「縦塗り配置」の場合、被塗布基板409における、ノズル117から吐出された流動性材料が塗着する部位は、可動浮上支持ユニット412aLにより安定に支持される。そして、当該基板の範囲外の位置では、当該往復移動経路AA下に液受部416aSまたは416bが配置されていることで、吐出される流動性材料により浮上支持ユニットが汚染されることが回避される。   With this arrangement of the coating apparatus 1, every time the coating head 114, to which the plurality of nozzles 117 for continuously discharging the flowable material are fixed, is moved once along the main scanning direction, the substrate moving mechanism The substrate to be coated 409 moves at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (Y-axis positive direction). In the case of “vertical coating arrangement”, a portion of the substrate 409 to which the fluid material discharged from the nozzle 117 is applied is stably supported by the movable levitating support unit 412aL. Further, at the position outside the range of the substrate, the liquid receiving portion 416aS or 416b is disposed under the reciprocating path AA, so that the floating support unit is prevented from being contaminated by the fluid material to be discharged. The

(各種調整などのために用いられる配置)
図4(c)の配置は、複数のノズル117と被塗布基板409との位置関係、複数ノズル117間のピッチ距離の調整などを行う際に用いられる、浮上支持ユニット412aL、412aS、412bおよび液受部416aL、416aS、416bの配置を示す。この配置は、図4(b)において退避した浮上支持ユニット412aSと同様に、それとは別の可動浮上支持ユニット412aLもY軸正方向に退避するとともに、その退避したユニットの下に位置していた液受部416aLも浮上支持ユニットとほぼ同じ高さまで上昇することにより達成される。この点は、図5(c)と図5(b)との比較することでより明確に理解され得る。
(Arrangement used for various adjustments)
The arrangement shown in FIG. 4C is used for adjusting the positional relationship between the plurality of nozzles 117 and the substrate to be coated 409, the pitch distance between the plurality of nozzles 117, and the like, and the floating support units 412aL, 412aS, and 412b. The arrangement | positioning of receiving part 416aL, 416aS, 416b is shown. In this arrangement, similarly to the levitating support unit 412aS retracted in FIG. 4B, another movable levitating support unit 412aL is also retracted in the positive direction of the Y axis and is positioned below the retracted unit. The liquid receiving part 416aL is also achieved by ascending to substantially the same height as the levitating support unit. This point can be understood more clearly by comparing FIG. 5 (c) and FIG. 5 (b).

図5(c)は、図4(c)に示された塗布装置1をX軸正方向側から観察した場合に相当する、浮上支持ユニットと液受部との位置関係を示す透視図である。図5(b)では、図5(a)の配置と比較したときに、塗布装置1において2つある可動浮上支持ユニットのうち可動浮上支持ユニット412aSが、副走査方向に往復移動経路AAから離れるように退避した点で相違した。それと同様に、図5(c)では、図5(b)の配置と比較した場合、当該退避したものとは別の可動浮上支持ユニット412aが、副走査方向に往復移動経路AAから離れるようにして移動している点で相違している。そして、その退避とともに、当該退避した可動浮上支持ユニット412aLの下に設けられていた可動液受部416aLが、固定浮上支持ユニット412bとほぼ同じ高さまで上昇している。この結果、往復移動経路AA直下の領域全てが、可動液受部416aL、416aSおよび固定液受部416bによって占められる配置が得られる。このような配置をとることができることで、塗布装置1は、第1の実施形態における図3(c)の配置により得られるのと同様の機能を備えることができる。   FIG. 5C is a perspective view showing the positional relationship between the levitation support unit and the liquid receiver, corresponding to the case where the coating apparatus 1 shown in FIG. 4C is observed from the X axis positive direction side. . 5B, when compared with the arrangement of FIG. 5A, the movable levitation support unit 412aS out of the two movable levitation support units in the coating apparatus 1 is separated from the reciprocation path AA in the sub-scanning direction. It was different in the point of evacuation. Similarly, in FIG. 5C, when compared with the arrangement of FIG. 5B, the movable levitating support unit 412a different from the retracted unit is separated from the reciprocation path AA in the sub-scanning direction. Is different in that it is moving. Then, along with the retraction, the movable liquid receiving portion 416aL provided under the retreated movable levitating support unit 412aL rises to almost the same height as the fixed levitating support unit 412b. As a result, an arrangement is obtained in which the entire region immediately below the reciprocating movement path AA is occupied by the movable liquid receiving portions 416aL and 416aS and the fixed liquid receiving portion 416b. By being able to take such an arrangement, the coating apparatus 1 can have the same function as that obtained by the arrangement of FIG. 3C in the first embodiment.

(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態は、液受部および浮上支持ユニットの配置につき、第1の実施形態の塗布装置における変形例である。この第3の実施形態における装置は、その塗布装置1の塗布処理における塗布ヘッド等の基本的な構成およびその基本動作を、第1の実施形態と共通に有しつつも、「浮上支持ユニット」および「液受部」の構成および配置、移動の態様が異なる。
(Third embodiment)
3rd Embodiment of this invention is a modification in the coating device of 1st Embodiment regarding arrangement | positioning of a liquid receiving part and a floating support unit. The apparatus in the third embodiment has a basic configuration such as a coating head in the coating process of the coating apparatus 1 and a basic operation in common with the first embodiment, but the “floating support unit”. The configuration and arrangement of the “liquid receiving part” and the manner of movement are different.

実際には、本実施形態における塗布装置1は、図6(a)、図6(b)および図6(c)に示されるような、可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3および液受部616aL、616aS、616bに関する3つの基本配置を切り替えることができる構成を有する。これ以降の説明において、第3の実施形態の塗布装置において、第1の実施形態の塗布装置と共通して備える構成要素については、第1の実施形態と同様の符号(例えば、ノズルについて、117)を利用する。   Actually, the coating apparatus 1 according to the present embodiment has movable floating support units 612a1, 612a2, 612a3 and a liquid receiving unit 616aL as shown in FIGS. 6 (a), 6 (b) and 6 (c). , 616aS, 616b can be switched between three basic arrangements. In the following description, in the coating apparatus according to the third embodiment, the components provided in common with the coating apparatus according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment (for example, 117 for the nozzle). ).

図6(a)、図6(b)および図6(c)に示される各基本配置は、塗布の仕方、塗布に伴う各調整の種類、被塗布基板609が搬送される方向などに応じて、塗布装置1の制御部により切り替えがなされる。第1の実施形態と同様に、ノズル117を備えそれと一体となった塗布ヘッド114は、図6(a)、図6(b)および図6(c)のそれぞれに示したX軸方向に延びる往復移動経路AA(点線で図示する)で示した軸上(主走査方向)に沿って往復移動する。図7(a)、図7(b)、図7(c)はそれぞれ、X軸正方向から観察した場合の図6(a)、図6(b)、図6(c)に示された本発明の実施形態に対応する透視図である。なお、図7において、ノズル洗浄手段619の図示は省略している。   Each basic arrangement shown in FIG. 6A, FIG. 6B, and FIG. 6C depends on the method of application, the type of each adjustment accompanying application, the direction in which the substrate to be coated 609 is conveyed, and the like. Switching is performed by the control unit of the coating apparatus 1. Similar to the first embodiment, the application head 114 including the nozzle 117 and integrated therewith extends in the X-axis direction shown in each of FIGS. 6A, 6B, and 6C. It reciprocates along an axis (main scanning direction) indicated by a reciprocating movement path AA (illustrated by a dotted line). 7 (a), 7 (b), and 7 (c) are shown in FIGS. 6 (a), 6 (b), and 6 (c), respectively, when observed from the positive direction of the X axis. It is a perspective view corresponding to the embodiment of the present invention. In FIG. 7, the nozzle cleaning means 619 is not shown.

第3の実施形態における、浮上支持ユニットおよび液受部に係る3つの基本配置で用いられる構成要素は、浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3、612bおよび液受部616aS、616aL、616bである。当該浮上支持ユニットのうち1個は、ノズル117の往復移動経路AAに対する相対位置を変化させない固定浮上支持ユニット612bであり、残りの3個は、上述の3つの基本配置において往復移動経路AAに対する相対位置を変更する可動浮上支持ユニット612a1、612a2または612a3である。他方、上述の液受部のうち、2個は、ノズル117の往復移動経路AAに対する相対位置を変化させない固定液受部616bであり、残りの2個は、上述の3つの基本配置において往復移動経路AAに対する相対位置を変更する可動液受部616aS、616aLである。   In the third embodiment, the components used in the three basic arrangements related to the floating support unit and the liquid receiver are the floating support units 612a1, 612a2, 612a3, 612b and the liquid receivers 616aS, 616aL, 616b. One of the levitation support units is a fixed levitation support unit 612b that does not change the relative position of the nozzle 117 with respect to the reciprocation path AA, and the remaining three are relative to the reciprocation path AA in the three basic arrangements described above. A movable levitation support unit 612a1, 612a2 or 612a3 whose position is changed. On the other hand, two of the liquid receivers described above are fixed liquid receivers 616b that do not change the relative position of the nozzle 117 with respect to the reciprocating path AA, and the remaining two are reciprocatingly moved in the three basic arrangements described above. The movable liquid receiving portions 616aS and 616aL change the relative position with respect to the path AA.

上述の固定浮上支持ユニット612bは、往復移動経路AAに沿ってその経路からみてY軸正方向側に設けられている。また、3つの可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3は、固定浮上支持ユニット612bのY軸負方向側に並設されている。また、当該可動浮上支持ユニットはいずれも、その長手軸をY軸と平行にするように配置されている。そのその配置の詳細については、後述する。   The above-described fixed levitation support unit 612b is provided on the Y axis positive direction side as viewed from the reciprocating movement path AA. The three movable levitation support units 612a1, 612a2, and 612a3 are arranged side by side on the Y axis negative direction side of the fixed levitation support unit 612b. Further, all the movable levitation support units are arranged so that the longitudinal axis thereof is parallel to the Y axis. Details of the arrangement will be described later.

第1の実施形態と同様に、上述の浮上支持ユニットおよび液受部の配置の決定は、次のような要請を満たすように行われる。すなわち、往復移動するノズル117が被塗布基板609の塗布対象領域に対して液柱を形成しているときに、浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3がそのノズル117の直下となるように、浮上支持ユニット612aおよび液受部616bの配置が行われる。加えて、その配置は、当該ノズル117がその基板の範囲外で液柱を形成している場合に、液受部616aS、616aL、616bのいずれかが当該ノズルの直下となるように行われる。   Similar to the first embodiment, the determination of the arrangement of the above-described floating support unit and the liquid receiving unit is performed so as to satisfy the following requirements. That is, when the reciprocating nozzle 117 forms a liquid column with respect to the application target region of the substrate 609 to be applied, the levitation support is performed so that the levitation support units 612a1, 612a2, and 612a3 are directly below the nozzle 117. The unit 612a and the liquid receiving part 616b are arranged. In addition, when the nozzle 117 forms a liquid column outside the range of the substrate, the arrangement is performed such that one of the liquid receiving portions 616aS, 616aL, and 616b is directly below the nozzle.

(横塗り配置)
図6(a)は、被塗布基板609の長手方向が塗布装置1の主走査方向と平行になるような方向で当該基板に対する塗布を行うときの、浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3および液受部616aS、616aL、616bの配置(「横塗り配置」)を示す。
(Horizontal placement)
FIG. 6A shows the floating support units 612a1, 612a2, 612a3 and the liquid receiver when coating is performed on the substrate 609 in such a direction that the longitudinal direction of the substrate 609 is parallel to the main scanning direction of the coating apparatus 1. The arrangement of the units 616aS, 616aL, and 616b (“horizontal coating arrangement”) is shown.

図6(a)および図7(a)から理解されるように、その長手方向が往復移動経路AAと平行になるように往復移動経路AAのY軸正方向側に配置される固定浮上支持ユニット612bの長手方向の長さは、搬送する被塗布基板609の長手方向の長さにほぼ対応する長さである。   As understood from FIGS. 6 (a) and 7 (a), the fixed levitation support unit arranged on the Y axis positive direction side of the reciprocating movement path AA so that the longitudinal direction thereof is parallel to the reciprocating movement path AA. The length in the longitudinal direction of 612b is a length substantially corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate to be coated 609 to be conveyed.

往復移動経路AAの直下には、3つの可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3が、それぞれの長手方向が往復移動経路AAの方向(主走査方向)と垂直になるように、固定浮上ユニット612bに沿ってそのY軸負方向側に並設されている。そして、ノズル117の往復移動経路AAの直下となる被塗布基板609の下部の少なくとも一部には、可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3が配置されている。また、往復移動経路AA直下であって、その被塗布基板409の範囲の外では、固定液受部616bが位置づけられている。   Directly below the reciprocation path AA, the three movable levitation support units 612a1, 612a2, 612a3 are connected to the fixed levitation unit 612b so that their longitudinal directions are perpendicular to the direction of the reciprocation path AA (main scanning direction). Along the Y-axis negative direction side. In addition, movable levitating support units 612a1, 612a2, and 612a3 are disposed at least at a part of the lower portion of the substrate to be coated 609 that is directly below the reciprocation path AA of the nozzle 117. Further, the fixed liquid receiving portion 616b is positioned directly under the reciprocating movement path AA and outside the range of the substrate to be coated 409.

このような配置のもと、第1の実施形態と同様に、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズル117が固定された塗布ヘッド114の主走査方向に沿った移動が1回行われる毎に、基板移動機構により被塗布基板609が副走査方向(例えば、Y軸正方向)に所定のピッチで移動する。このような移動が図6(a)に示されるような配置のもと行われると、被塗布基板609における、ノズル117から吐出された流動性材料が塗着する部位は、可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3により安定に支持される。そして、当該被塗布基板609の範囲外の位置では、当該往復移動経路上に液受部616bが配置されていることで、吐出される流動性材料により浮動支持ユニットが汚染されることが回避されている。   Under such an arrangement, similarly to the first embodiment, the movement along the main scanning direction of the coating head 114 to which the plurality of nozzles 117 for continuously discharging the fluid material is fixed is performed once. Every time, the substrate movement mechanism 609 moves the substrate to be coated 609 at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (for example, the Y-axis positive direction). When such movement is performed under the arrangement as shown in FIG. 6A, the portion of the substrate to be coated 609 to which the fluid material discharged from the nozzle 117 is applied is the movable levitation support unit 612a1. , 612a2 and 612a3 are stably supported. And in the position outside the range of the said to-be-coated substrate 609, the liquid support part 616b is arrange | positioned on the said reciprocating movement path | route, and it is avoided that a floating support unit is contaminated by the fluid material discharged. ing.

図6(a)に示された実施形態おいては、ノズルの往復移動経路AA直下の全範囲ではなく当該往復移動経路の主要部分のみにおいて浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3が配置されている。このように、浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3と、ノズルの往復移動経路AA、被塗布基板609との相対位置を調整することで、往復移動経路AA直下の全範囲のうち、一部分のみを浮上支持ユニットにより支持することでも、安定した塗布を達成することが可能である。すなわち、ノズル117から流動性材料が吐出されて塗着している被塗布基板609の直下近傍に、可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3の少なくとも一部が位置づけられていることにより、ノズル117から流動性材料が塗着される際に、その塗着される部分の真下で可動浮上支持ユニット612a1、612a2、612a3および近傍に位置づけられる固定浮上支持ユニット612bが被塗布基板609を支えることとなる。そのため、塗布精度を確保するために重要なノズル直下部位において、被塗布基板609の挙動が安定し、安定した塗布が達成される。また、連続的に流動性材料を吐出するノズル117が、当該被塗布基板609が存在する範囲の外に移動しても、そこには液受部616aS、616aL、616bのいずれかが配置されているので、当該吐出された流動性材料は適切にその液受部により受容される。   In the embodiment shown in FIG. 6A, the levitation support units 612a1, 612a2, and 612a3 are arranged only in the main part of the reciprocating path, not in the entire range immediately below the reciprocating path AA of the nozzle. In this way, by adjusting the relative positions of the levitation support units 612a1, 612a2, 612a3, the reciprocating movement path AA of the nozzle, and the substrate to be coated 609, only a part of the entire range directly below the reciprocating movement path AA is levitated. It is possible to achieve stable application by supporting the support unit. That is, since at least a part of the movable levitation support units 612a1, 612a2, and 612a3 is positioned in the vicinity immediately below the substrate 609 to which the fluid material is discharged and applied from the nozzle 117, the nozzle 117 When the fluid material is applied, the movable levitation support units 612a1, 612a2, 612a3 and the fixed levitation support unit 612b positioned in the vicinity of the part to be applied support the substrate 609 to be coated. For this reason, the behavior of the substrate to be coated 609 is stabilized at a portion immediately below the nozzle, which is important for ensuring coating accuracy, and stable coating is achieved. Further, even if the nozzle 117 that continuously discharges the fluid material moves out of the range where the substrate to be coated 609 exists, any of the liquid receiving portions 616aS, 616aL, and 616b is arranged there. Therefore, the discharged fluid material is appropriately received by the liquid receiving portion.

(縦塗り配置)
図6(b)および図7(b)は、被塗布基板609の長手方向が塗布装置1の主走査方向と垂直になるような方向で当該基板に対する塗布過程を行うときの、浮上支持ユニットおよび液受部の配置(「縦塗り配置」)を示す。
(Vertical painting arrangement)
FIG. 6B and FIG. 7B show the floating support unit when performing the coating process on the substrate in a direction in which the longitudinal direction of the substrate to be coated 609 is perpendicular to the main scanning direction of the coating apparatus 1. The arrangement of the liquid receiver (“vertical coating arrangement”) is shown.

ここで、「縦塗り配置」と、図6(a)で示された「横塗り配置」との相違点について説明する。「横塗り配置」から「縦塗り配置」への移行は、次のように行われる。まず、横塗り配置において基板の下面に対向するように配置された浮上支持ユニットの1つ(実施形態の場合、612a1)が、Z軸に平行な回転軸の周りを、固定浮上支持ユニット612bの高さと同じ高さを保ちつつ回転する(このとき、必要に応じて回転する空間の確保のために、一時的に水平方向に移動する場合もある)。図6において示されていないが、この回転移動を達成するための適切な駆動装置が上述の浮上支持ユニットに取り付けられており、その駆動装置によって当該移動は達成される。その浮上支持ユニット612a1の移動後、可動浮上支持ユニットが回転して退避した位置の下部に位置づけられていた可動液受部616aSが、固定浮上支持ユニット612bとほぼ同じ(Z軸方向の)高さまで上昇することにより、図6(b)の配置が達成される。このような塗布装置1の動作により、「横塗り配置」と同様に、塗布過程において往復移動する塗布ヘッド114の往復移動経路AAの直下に、浮上支持ユニット612a2、612a3が配置され、その被塗布基板の領域外かつノズルの移動経路直下の位置においては、液受部616aSまたは616bが配置となる。そして、「横塗り配置」のときと同様に、安定した塗布が達成される。   Here, the difference between the “vertical painting arrangement” and the “horizontal painting arrangement” shown in FIG. 6A will be described. The transition from “horizontal painting arrangement” to “vertical painting arrangement” is performed as follows. First, one of the levitating support units (612a1 in the case of the embodiment) arranged so as to face the lower surface of the substrate in the horizontal coating arrangement is arranged around the rotation axis parallel to the Z axis of the fixed levitating support unit 612b. It rotates while maintaining the same height as the height (At this time, it may move temporarily in the horizontal direction in order to secure a space to rotate as necessary). Although not shown in FIG. 6, a suitable drive for achieving this rotational movement is attached to the above-described levitation support unit, which movement is achieved. After the levitation support unit 612a1 moves, the movable liquid receiving portion 616aS positioned below the position where the movable levitation support unit is rotated and retracted is almost the same height (in the Z-axis direction) as the fixed levitation support unit 612b. By raising, the arrangement of FIG. 6B is achieved. As a result of the operation of the coating apparatus 1, the floating support units 612a2 and 612a3 are disposed immediately below the reciprocation path AA of the coating head 114 that reciprocates in the coating process, as in the “horizontal coating arrangement”. The liquid receiving portion 616aS or 616b is arranged at a position outside the substrate region and immediately below the nozzle movement path. As in the case of “horizontal coating arrangement”, stable application is achieved.

(各種調整などのために用いられる配置)
図6(c)の配置は、ノズルと被塗布基板との位置関係の調整を行う際の浮上支持ユニットおよび液受部の配置を示す。図6(b)において回転しながら退避した可動浮上支持ユニット612a1と同様の移動が可動浮上支持ユニット612a2、612a3、においても行われ、その後、図6(b)の場合と同様に、それぞれの下部に位置していた液受部616aLがZ軸にそって固定浮上支持ユニット612bと同じ(Z軸方向の)高さまで上昇する。この結果、全て液受部616a、616bが往復移動経路AAの直下の領域を占める配置が得られる。このような配置をとることができることで、塗布装置1は、第1の実施形態における図3(c)の配置により得られるのと同様の機能を備えることができる。
(Arrangement used for various adjustments)
The arrangement of FIG. 6C shows the arrangement of the floating support unit and the liquid receiving portion when adjusting the positional relationship between the nozzle and the substrate to be coated. The same movement as that of the movable levitation support unit 612a1 retracted while rotating in FIG. 6B is performed in the movable levitation support units 612a2 and 612a3, and thereafter, as in the case of FIG. The liquid receiving portion 616aL located in the position ascends to the same height (in the Z-axis direction) as the fixed levitation support unit 612b along the Z-axis. As a result, an arrangement can be obtained in which the liquid receiving portions 616a and 616b all occupy the area immediately below the reciprocating movement path AA. By being able to take such an arrangement, the coating apparatus 1 can have the same function as that obtained by the arrangement of FIG. 3C in the first embodiment.

(用語の定義等)
上述の説明に加え、本明細書において使用される用語の定義またはそれに付随する事項につき、以下に列挙する。
(Definition of terms, etc.)
In addition to the above description, definitions of terms used in the present specification or matters accompanying the definitions are listed below.

(浮上支持ユニット)
本明細書で使用される場合、「浮上支持ユニット」は、本発明の塗布装置において被塗布基板の姿勢を所定の方向に保つように当該基板を非接触的に支持する非接触支持装置である。本発明で使用される非接触支持装置は、加圧流体を被塗布基板の主面に噴出することで塗布対象基板を浮上させる流体噴出部とともに、真空引きを行うことで周辺の流体を吸引する流体吸引部を備えていてもよい。流体噴出部は、流体を上面から噴出するために、多孔質材料により形成されるか、または、所定の密度で上面に開口部を設けられた板状材料などにより形成され得る。非接触支持装置全体としての外形は、本発明の塗布装置における所定の場所に組み込める形状(例えば、直方体状)であればよい。なお、本発明の塗布装置で用いられる非接触支持装置は、必要に応じて、流体吸引部を備えない非接触支持装置であってもよい。
(Floating support unit)
As used herein, the “floating support unit” is a non-contact support device that supports the substrate in a non-contact manner so that the posture of the substrate to be coated is maintained in a predetermined direction in the coating apparatus of the present invention. . The non-contact support device used in the present invention sucks the surrounding fluid by evacuating together with the fluid ejecting portion that floats the substrate to be coated by ejecting pressurized fluid onto the main surface of the substrate to be coated. A fluid suction part may be provided. The fluid ejecting portion may be formed of a porous material in order to eject the fluid from the upper surface, or may be formed of a plate-like material provided with openings on the upper surface with a predetermined density. The outer shape of the entire non-contact support device may be a shape (for example, a rectangular parallelepiped shape) that can be incorporated in a predetermined place in the coating apparatus of the present invention. In addition, the non-contact support apparatus used with the coating device of this invention may be a non-contact support apparatus which is not equipped with a fluid suction part as needed.

また、本発明の塗布装置において使用される1つの浮上支持ユニットの長さ、幅、奥行き等は、支持される基板の大きさ、あるいはその浮上支持ユニットを組み込もうとするノズルプリンティング装置全体の大きさなどまたはその装置に付属する周辺機器などを考慮して、本明細書の記載に基づき適宜決定することが可能である。したがって、本発明の塗布装置に用いるべき、浮上支持ユニットの総数についても、上述した具体的な実施形態において示された数に限定されることはない。浮上支持ユニット1つの大きさが変更されれば、所望の塗布結果を得るために必要とされる当該浮上支持ユニットの総数または構成(例えば、どのユニットを固定し、または移動可能なものとするかといった設定も含む)は変更される。しかしながら、本明細書の記載に基づくことにより、本発明の上述した具体的な実施形態により例示された本発明の特徴を有する塗布装置のための浮上支持ユニットを当業者は構成し得る。さらに、本発明の浮上支持ユニットは、通常1つのユニットとして機能を発揮するものであっても、その用途に応じて、その構造体における部分構造を着脱、分離等することが可能であり、塗布装置内のほかの構成要素との関係で適宜、その構成を変更し得る。   Further, the length, width, depth, etc. of one floating support unit used in the coating apparatus of the present invention is the size of the substrate to be supported or the entire nozzle printing apparatus to which the floating support unit is to be incorporated. The size can be determined as appropriate based on the description of the present specification in consideration of the size or the peripheral equipment attached to the apparatus. Therefore, the total number of floating support units to be used in the coating apparatus of the present invention is not limited to the number shown in the specific embodiment described above. If the size of one levitation support unit is changed, the total number or configuration of the levitation support units required to obtain a desired application result (for example, which unit should be fixed or movable) Are also changed). However, based on the description herein, those skilled in the art can configure a floating support unit for a coating apparatus having the features of the present invention exemplified by the above-described specific embodiments of the present invention. Furthermore, even if the levitation support unit of the present invention normally exhibits a function as a single unit, it is possible to attach, detach, separate, etc. a partial structure in the structure according to its use. The configuration can be changed as appropriate in relation to other components in the apparatus.

なお、本発明の塗布装置を実施する場合、市販される非接触支持装置が使用され得る。そのような非接触支持装置を本発明の塗布装置に利用する場合、当業者は、本明細書の記載に基づいて、浮上量、消費流量、形状などを含めた、適切な仕様、構成、配置を選択して当該支持装置を利用することができる。本発明の塗布装置に、上述のような支持装置を用いる場合に、当業者は市販される非接触支持装置を利用することもできる。   In addition, when implementing the coating device of this invention, the non-contact support apparatus marketed may be used. When such a non-contact support device is used in the coating device of the present invention, a person skilled in the art, based on the description of the present specification, has an appropriate specification, configuration, and arrangement including a flying height, a consumption flow rate, a shape, and the like. The support device can be used by selecting. In the case of using the above-described support device for the coating apparatus of the present invention, those skilled in the art can also use a commercially available non-contact support device.

(液受部)
本発明の塗布装置で使用される「液受部」は、ノズルから被塗布基板外に吐出された流動性材料または被塗布基板が浮上支持ユニットに支持されていない状態でノズルから吐出された流動性材料を受容する。この機能を有しかつ所望する塗布結果が達成されるのであれば、その液受部の具体的な形状、個数、配置、可動または固定の設定の方法などは、上述した実施形態に示されるものに限定されない。この点、上述の浮上支持ユニットと同様に、本明細書の記載に基づくことによって、本発明の上述した具体的な実施形態により例示された本発明の特徴を有する塗布装置のための液受部を、当業者は適切に構成し得る。
(Liquid receiving part)
The “liquid receiver” used in the coating apparatus of the present invention is a fluid material discharged from the nozzle to the outside of the substrate to be coated or a flow discharged from the nozzle in a state where the substrate to be coated is not supported by the floating support unit. Accept sex material. If it has this function and the desired application result is achieved, the specific shape, number, arrangement, movable or fixed setting method, etc. of the liquid receiving part are those shown in the above-described embodiment. It is not limited to. In this regard, as with the above-described floating support unit, the liquid receiving portion for the coating apparatus having the characteristics of the present invention exemplified by the above-described specific embodiment of the present invention based on the description of this specification. Can be appropriately configured by those skilled in the art.

例えば、液受部における可動または固定の設定の方法については、以下のような変形例が考えられる。第2の実施形態または第3の実施形態では、その液受部の一部は可動液受部である。ここで、その可動液受部は、必要に応じて高さ方向(Z軸方向)に上昇して、被塗布基板を支持する周囲の浮上支持ユニットと同程度の位置まで移動する構成を有する。変形例では、当該可動液受部は、高さ方向の位置を変えることなく固定されていてもよい。すなわち、周囲の浮上支持ユニットよりも低い位置に存在する当該液受部とノズルとの距離が、ノズルから吐出される流動性材料の巻き上げなどが起こることなく適切に塗布液を受容することが可能であれば、当該液受部自体が可動ある必要はなく、周囲の浮上支持ユニットよりも低い位置で固定され、浮上支持ユニットの移動のみにより所望の塗布を達成される。   For example, the following modifications can be considered for the method of setting the movable or fixed in the liquid receiver. In the second or third embodiment, a part of the liquid receiving part is a movable liquid receiving part. Here, the movable liquid receiver is configured to move up to the same level as the surrounding floating support unit that supports the substrate to be coated, ascending in the height direction (Z-axis direction) as necessary. In a modification, the movable liquid receiving part may be fixed without changing the position in the height direction. In other words, the distance between the liquid receiving portion and the nozzle existing at a position lower than the surrounding floating support unit can appropriately receive the coating liquid without causing the rolling of the fluid material discharged from the nozzle. If so, the liquid receiver itself does not need to be movable, is fixed at a position lower than the surrounding levitation support unit, and a desired application can be achieved only by movement of the levitation support unit.

(相対移動機構)
上述した実施形態では、塗布ヘッド114(ノズル117)がX軸方向(主走査方向)に直線移動する毎に、浮上支持ユニットに支持された被塗布基板を基板移動機構によりY軸方向(副走査方向)へ所定ピッチだけ移動させて、塗布ヘッド114と被塗布基板との当該Y軸方向に対する相対的な位置関係を変化させているが、本発明の構成はこれに限らない。
(Relative movement mechanism)
In the embodiment described above, every time the coating head 114 (nozzle 117) linearly moves in the X-axis direction (main scanning direction), the substrate to be coated supported by the floating support unit is moved in the Y-axis direction (sub-scanning) by the substrate moving mechanism. The relative positional relationship between the coating head 114 and the substrate to be coated with respect to the Y-axis direction is changed by moving a predetermined pitch in the direction), but the configuration of the present invention is not limited to this.

本発明は、上述のように、ノズル117が被塗布基板の上方となる仮想水平面内の所定方向にノズル移動機構により往復移動されている。この場合、上述の相対的な位置関係を変化において、ノズル117および被塗布基板の少なくとも一方を当該仮想水平面と平行で、かつ、その往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させることができる構成(「相対移動機構」)を本発明が有すれば十分である。例えば、第1の実施形態など用いられていた構成のほかに、塗布ヘッド114がX軸方向に直線移動する毎に、当該塗布ヘッド114をY軸方向へ所定ピッチだけ移動させて、塗布ヘッド114と被塗布基板との当該Y軸方向に対する相対的な位置関係を変化させてもかまわない。この場合、液受部等の他の構成についても、必要応じて相対的に移動することで本発明は達成される。   In the present invention, as described above, the nozzle 117 is reciprocated by a nozzle moving mechanism in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate to be coated. In this case, when the relative positional relationship is changed, at least one of the nozzle 117 and the substrate to be coated can be moved relatively in a direction parallel to the virtual horizontal plane and different from the reciprocating direction. It is sufficient if the present invention has a configuration that can be performed ("relative movement mechanism"). For example, in addition to the configuration used in the first embodiment or the like, every time the coating head 114 moves linearly in the X-axis direction, the coating head 114 is moved by a predetermined pitch in the Y-axis direction. The relative positional relationship between the substrate and the substrate to be coated in the Y-axis direction may be changed. In this case, the present invention is achieved by relatively moving other configurations such as the liquid receiving portion as necessary.

(駆動機構等)
本発明の塗布装置1において、その構成要素間の相対位置の変更は、それぞれの構成要素の動作を駆動するための駆動機構、ならびにその移動または駆動のための補助部材(ガイドレール、摺動用補助部材など)は、その駆動が所望の精度をもって達成することができれば、任意の手段を用いることができる。その具体的な手段の選択は、本明細書の記載に基づき、当業者は適宜決定し得る。
(Drive mechanism, etc.)
In the coating apparatus 1 of the present invention, the relative position between the components is changed by a drive mechanism for driving the operation of each component, and an auxiliary member (guide rail, sliding aid) for moving or driving the component. Any member can be used as long as the driving of the member can be achieved with a desired accuracy. Selection of the specific means can be appropriately determined by those skilled in the art based on the description of the present specification.

(流動性材料)
本明細書で使用される場合、「流動性材料」とは、本発明のノズルプリンティング装置において被塗布対象に対して塗布される材料であり、当該装置のノズルから吐出されることにより鉛直下方向に液柱状態となることで当該被塗布対象に塗布される。本発明において使用される流動性材料としては、例えば、各種の平面表示装置用の画素形成材料(例えば、有機EL材料)および溶媒(例えば、メシチレン)を含む塗布液が挙げられるが、これらに限定されない。
(Flowable material)
As used herein, the “flowable material” is a material that is applied to an object to be coated in the nozzle printing apparatus of the present invention, and is discharged vertically from the nozzle of the apparatus. The liquid column is applied to the object to be coated. Examples of the fluid material used in the present invention include, but are not limited to, a coating liquid containing a pixel forming material (for example, an organic EL material) and a solvent (for example, mesitylene) for various flat display devices. Not.

なお、上述した実施形態においては、有機EL材料を含む流動性材料を塗布装置1が被塗布基板に塗布する例を用いた。有機EL材料が発光層を形成する場合、赤色発光の高分子有機EL材料、緑色発光の高分子有機EL材料、および青色発光の高分子有機EL材料を含む流動性材料をそれぞれ塗布できることは言うまでもない。また、本発明の塗布装置は、有機発光層材料の他に、正孔輸送層材料、正孔注入層材料、電子輸送層材料、および電子注入層材料等の他の有機EL材料を含む流動性材料を塗布する場合にも用いることができる。   In the above-described embodiment, an example in which the coating apparatus 1 applies a fluid material containing an organic EL material to a substrate to be applied is used. Needless to say, when the organic EL material forms a light emitting layer, a flowable material including a red light emitting polymer organic EL material, a green light emitting polymer organic EL material, and a blue light emitting polymer organic EL material can be applied. . Further, the coating apparatus of the present invention has fluidity including other organic EL materials such as a hole transport layer material, a hole injection layer material, an electron transport layer material, and an electron injection layer material in addition to the organic light emitting layer material. It can also be used when applying materials.

具体的には、上述した実施形態における塗布装置1が、赤、緑、および青色発光のうち、赤色発光の高分子有機EL材料を含む流動性材料を塗布する場合、この塗布工程は、有機ELデバイスを製造する途中工程である。有機ELデバイスを製造する場合、正孔注入層材料塗布、正孔輸送材料(例えば、PEDOT等)塗布、赤色発光の有機EL材料塗布、緑色発光の有機EL材料塗布、青色発光の有機EL材料塗布、電子輸送材料塗布、電子注入層材料塗布等の塗布工程があるが、本発明の塗布装置は、何れの塗布工程でも用いることができる。   Specifically, in the case where the coating apparatus 1 in the above-described embodiment applies a fluid material including a red-light-emitting polymer organic EL material among red, green, and blue light emission, this coating process is performed by organic EL. This is an intermediate process for manufacturing a device. When manufacturing an organic EL device, a hole injection layer material coating, a hole transport material (for example, PEDOT) coating, a red light emitting organic EL material coating, a green light emitting organic EL material coating, a blue light emitting organic EL material coating There are coating processes such as application of an electron transport material and coating of an electron injection layer material, and the coating apparatus of the present invention can be used in any coating process.

また、上述した実施形態では、有機EL材料を含む流動性材料等を塗布する塗布装置を一例にして説明したが、本発明は他の塗布装置にも適用できる。例えば、レジスト液、SOG(Spin On Glass)液またはPDP(プラズマディスプレイパネル)を製造するのに使用される蛍光材料を塗布する装置にも適用することができる。また、液晶カラーディスプレイをカラー表示するために液晶セル内に構成されるカラーフィルタを製造するために使用される色材を塗布する装置にも適用することができる。   In the above-described embodiment, the application apparatus that applies a fluid material including an organic EL material is described as an example. However, the present invention can be applied to other application apparatuses. For example, the present invention can be applied to an apparatus for applying a fluorescent material used to manufacture a resist solution, an SOG (Spin On Glass) solution, or a PDP (plasma display panel). Further, the present invention can also be applied to an apparatus for applying a color material used for manufacturing a color filter configured in a liquid crystal cell in order to perform color display on a liquid crystal color display.

(その他)
本明細書の全体にわたり、単数形の表現は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。従って、単数形の冠詞または形容詞(例えば、英語の場合は「a」、「an」、「the」など)は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての専門用語および科学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書(定義を含めて)が優先する。
(Other)
Throughout this specification, it should be understood that the singular forms also include the plural concept unless specifically stated otherwise. Thus, it should be understood that singular articles or adjectives (eg, “a”, “an”, “the”, etc., in the English language) also include the plural concept unless otherwise stated. is there. In addition, it is to be understood that the terms used in the present specification are used in the meaning normally used in the art unless otherwise specified. Thus, unless defined otherwise, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. In case of conflict, the present specification, including definitions, will control.

以上のように、本発明の実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。また、当業者は、本発明の具体的な実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。   As mentioned above, although this invention has been illustrated using embodiment of this invention, this invention should not be limited and limited to this embodiment. It is understood that the scope of the present invention should be construed only by the claims. Moreover, it is understood that those skilled in the art can implement an equivalent range from the description of the specific embodiments of the present invention based on the description of the present invention and the common general technical knowledge. Patents, patent applications, and documents cited herein should be incorporated by reference in their entirety, as if the contents themselves were specifically described herein. Understood.

1 塗布装置
109、409、609 被塗布基板
100 可動セット
110 基板回転機構
111 ガイドレール
112a 可動浮上支持ユニット
112aL 長軸可動浮上支持ユニット
112aS 短軸可動浮上支持ユニット
112b 固定浮上支持ユニット
114 塗布ヘッド
115 ヘッド移動機構
116aL 長軸可動液受部
116aS 短軸可動液受部
116b 固定液受部
117 ノズル
119、419、619 ノズル洗浄手段
412aL、412aS 可動浮上支持ユニット(第2の実施形態)
412b 固定浮上支持ユニット(第2の実施形態)
416aL、416aS 可動液受部(第2の実施形態)
416b 固定液受部(第2の実施形態)
612a1、612a2、612a3 可動浮上支持ユニット(第3の実施形態)
612b 固定浮上支持ユニット(第3の実施形態)
616aL、616aS 可動液受部(第3の実施形態)
616b 固定液受部(第3の実施形態)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating apparatus 109,409,609 Substrate to be coated 100 Movable set 110 Substrate rotation mechanism 111 Guide rail 112a Movable levitating support unit 112aL Long axis movable levitating support unit 112aS Short axis movable levitating support unit 112b Fixed levitating support unit 114 Coating head 115 Head Moving mechanism 116aL Long axis movable liquid receiving part 116aS Short axis movable liquid receiving part 116b Fixed liquid receiving part 117 Nozzle 119, 419, 619 Nozzle cleaning means 412aL, 412aS Movable floating support unit (second embodiment)
412b Fixed levitating support unit (second embodiment)
416aL, 416aS Movable liquid receiver (second embodiment)
416b Fixing liquid receiver (second embodiment)
612a1, 612a2, 612a3 movable levitating support unit (third embodiment)
612b Fixed levitation support unit (third embodiment)
616aL, 616aS Movable liquid receiver (third embodiment)
616b Fixing liquid receiver (third embodiment)

Claims (13)

基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記液受部は、可動液受部を含み、
前記制御部は、前記相対移動機構により相対的に移動される前記基板の有無または当該基板の前記往復移動の方向に対する長さに応じて、前記可動浮上支持ユニットが前記基板を支持していない状態で前記ノズルが流動性材料を吐出する場合に当該ノズルの直下位置となる全ての領域に前記液受部の少なくとも一部が配置されるように、
前記可動浮上支持ユニットもしくは前記可動液受部またはその両方を移動させて配置する、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable floating support unit and the liquid receiving unit,
The liquid receiver includes a movable liquid receiver,
Wherein, depending on the length relative to the direction of the reciprocating movement of the presence or the substrate of the substrate to be relatively moved by the relative movement mechanism, the movable floating support unit does not support the substrate state When the nozzle discharges a fluid material, at least a part of the liquid receiving portion is arranged in all the regions that are directly below the nozzle.
The coating apparatus which moves and arrange | positions the said movable floating support unit or the said movable liquid receiving part, or both .
前記制御部は、前記ノズルが前記基板の塗布対象領域に対して流動性材料を吐出する場合に前記可動浮上支持ユニットの少なくとも一部が当該ノズルの直下位置で前記基板を支持するように、前記基板の長さに応じて前記可動浮上支持ユニットもしくは前記可動液受部またはその両方を移動させて配置する、請求項に記載の塗布装置。 The control unit is configured so that, when the nozzle discharges a flowable material to the application target region of the substrate, at least a part of the movable levitation support unit supports the substrate at a position directly below the nozzle. The coating apparatus according to claim 1 , wherein the movable levitation support unit and / or the movable liquid receiving portion are moved and arranged according to the length of the substrate. 前記制御部は、前記ノズルが前記基板の範囲外に対して流動性材料を吐出する場合に前記液受部の少なくとも一部が当該ノズルの直下位置に配置されるように、前記基板の長さに応じて前記可動浮上支持ユニットもしくは前記可動液受部またはその両方を移動させて配置する、請求項またはに記載の塗布装置。 The control unit is configured to adjust the length of the substrate so that at least a part of the liquid receiving unit is disposed at a position immediately below the nozzle when the nozzle discharges a fluid material outside the range of the substrate. the placing movable floating support unit or by moving the movable liquid receiving portion, or both, depending on the coating apparatus according to claim 1 or 2. 基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記液受部は、可動液受部を含み、
前記制御部は、前記相対移動機構により相対的に移動される前記基板の有無または当該基板の前記往復移動の方向に対する長さに応じて、前記ノズルが前記往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に対して、前記可動液受部のうちの少なくとも1つが退避した位置に前記可動浮上支持ユニットのいずれかを配置することによって、前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を移動させて配置する、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit;
With
The liquid receiver includes a movable liquid receiver,
The control unit determines whether the nozzle is moved directly under the nozzle when the nozzle is reciprocated according to the presence / absence of the substrate relatively moved by the relative movement mechanism or the length of the substrate with respect to the reciprocation direction. The movable levitation support unit and the movable liquid receiver are moved by disposing one of the movable levitation support units at a position where at least one of the movable liquid receivers is retracted with respect to the region. arranged to, coated fabric device.
基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記液受部は、可動液受部を含み、
前記制御部は、前記相対移動機構により相対的に移動される前記基板の有無または当該基板の前記往復移動の方向に対する長さに応じて、前記ノズルが前記往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に対して、前記可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に前記可動液受部のいずれかを配置することによって、前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を移動させて配置する、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit;
With
The liquid receiver includes a movable liquid receiver,
The control unit determines whether the nozzle is moved directly under the nozzle when the nozzle is reciprocated according to the presence / absence of the substrate relatively moved by the relative movement mechanism or the length of the substrate with respect to the reciprocation direction. The movable levitation support unit and the movable liquid receiver are moved by disposing one of the movable liquid receivers at a position where at least one of the movable levitation support units is retracted with respect to the region. arranged to, coated fabric device.
前記制御部は、前記ノズルが往復移動する方向に対して垂直な水平方向に前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を共に移動させることによって、前記可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に前記可動液受部のいずれかを配置する、請求項に記載の塗布装置。 The control unit moves at least one of the movable levitating support units by moving the movable levitating support unit and the movable liquid receiving portion together in a horizontal direction perpendicular to a direction in which the nozzle reciprocates. The coating apparatus according to claim 5 , wherein any one of the movable liquid receiving portions is disposed at the position where the movement is performed. 前記制御部は、前記ノズルが往復移動する方向に対して垂直な水平方向に前記可動浮上支持ユニットを移動させ、前記可動液受部を鉛直方向に移動させることによって、前記可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが退避した位置に前記可動液受部のいずれかを配置する、請求項に記載の塗布装置。 The control unit moves the movable levitating support unit in a horizontal direction perpendicular to a direction in which the nozzle reciprocates, and moves the movable liquid receiving unit in a vertical direction, thereby moving the movable levitating support unit out of the movable levitating support units. The coating apparatus according to claim 5 , wherein any one of the movable liquid receiving portions is disposed at a position where at least one of the movable liquid receiving portions is retracted. 前記制御部は、鉛直方向を回転軸にして前記可動浮上支持ユニットを回転移動させ、前記可動液受部を鉛直方向に移動させることによって、前記可動浮上支持ユニットのうちの少なくとも1つが回転移動して退避した位置に前記可動液受部のいずれかを配置する、請求項に記載の塗布装置。 The control unit rotates and moves the movable levitating support unit with the vertical direction as a rotation axis, and moves the movable liquid receiving unit in the vertical direction, whereby at least one of the movable levitating support units rotates and moves. The coating apparatus according to claim 5 , wherein any one of the movable liquid receiving portions is disposed at a retracted position. 基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記液受部は、可動液受部を含み、
前記制御部は、前記相対移動機構により相対的に移動される前記基板の有無または当該基板の前記往復移動の方向に対する長さに応じて、
前記可動浮上支持ユニットもしくは前記可動液受部またはその両方を移動させて配置し、
前記可動浮上支持ユニットの少なくとも1つは、前記ノズルが前記往復移動する際に当該ノズルの直下となる領域に配置された状態で、その長手方向が当該ノズルの往復移動の方向と平行となるように配置される、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit;
With
The liquid receiver includes a movable liquid receiver,
The control unit, according to the presence or absence of the substrate relatively moved by the relative movement mechanism or the length of the substrate in the reciprocating direction,
The movable levitating support unit or the movable liquid receiving part or both are moved and arranged,
At least one of the movable levitating support units is arranged in a region directly below the nozzle when the nozzle reciprocates, so that its longitudinal direction is parallel to the reciprocating direction of the nozzle. disposed is Ru, the coating fabric device.
基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記液受部は、可動液受部を含み、
相対的に移動される前記基板が存在する場合に、前記制御部は、前記基板の長手方向が、前記ノズルの往復移動の方向と平行であるかまたは垂直であるかに応じて、前記可動浮上支持ユニットおよび前記可動液受部を移動させて配置する、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit;
With
The liquid receiver includes a movable liquid receiver,
When there is the relatively moved substrate, the control unit determines whether the longitudinal direction of the substrate is parallel or perpendicular to the reciprocating direction of the nozzle. place the supporting unit and the movable liquid receiving moved, coated fabric device.
前記可動浮上支持ユニットは、長軸可動浮上支持ユニットと短軸可動浮上支持ユニットとを含み、
前記可動液受部は、長軸可動液受部と短軸可動液受部とを含み
ここで、
前記長軸可動浮上支持ユニットは、前記基板の長手方向の長さに応じた全長を有し、
前記短軸可動浮上支持ユニットは、前記基板の短手方向の長さに応じた全長を有し、
前記長軸可動液受部は、前記基板の長手方向の長さに応じた全長を有し、
前記短軸可動液受部は、前記長軸可動浮上支持ユニットの全長から前記短軸可動浮上支持ユニットの全長を差し引いた長さにほぼ相当する全長を有し、
前記液受部は、前記基板の長手方向の長さに応じた間隙を介した両端にそれぞれ固設された固定液受部を含み、
前記制御部は、前記基板の長手方向が前記ノズルの往復移動の方向と平行となるように姿勢を保ちつつ前記基板が相対移動機構により相対的に移動される場合、前記長軸可動浮上支持ユニットを前記固定液受部の間隙に配置し、
前記制御部は、前記基板の短手方向が前記ノズルの往復移動の方向と平行となるように姿勢を保ちつつ前記基板が相対移動機構により相対的に移動される場合、前記短軸可動浮上支持ユニットと前記短軸可動液受部とを隣接させた状態で前記固定液受部の間隙に配置し、
前記制御部は、前記可動浮上支持ユニットが前記基板を支持していない状態で前記ノズルが流動性材料を吐出する場合、前記長軸可動液受部を前記固定液受部の間隙に配置する、請求項10に記載の塗布装置。
The movable levitation support unit includes a long-axis movable levitation support unit and a short-axis movable levitation support unit;
The movable liquid receiver includes a long-axis movable liquid receiver and a short-axis movable liquid receiver.
The long-axis movable levitation support unit has a total length corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate,
The short-axis movable levitating support unit has a total length corresponding to the length in the short direction of the substrate,
The long-axis movable liquid receiver has a total length corresponding to the length in the longitudinal direction of the substrate,
The short-axis movable liquid receiver has a total length substantially corresponding to a length obtained by subtracting the total length of the short-axis movable levitation support unit from the total length of the long-axis movable levitation support unit;
The liquid receiver includes a fixed liquid receiver fixed to both ends via a gap corresponding to a length in the longitudinal direction of the substrate,
When the substrate is relatively moved by a relative movement mechanism while maintaining a posture such that the longitudinal direction of the substrate is parallel to the reciprocating direction of the nozzle, the long-axis movable levitating support unit In the gap of the fixative receiving part,
When the substrate is relatively moved by a relative movement mechanism while maintaining a posture such that the short direction of the substrate is parallel to the reciprocating direction of the nozzle, the control unit supports the short-axis movable levitating support. A unit and the short-axis movable liquid receiving part are arranged adjacent to each other in the gap of the fixed liquid receiving part,
When the nozzle discharges a flowable material in a state where the movable levitation support unit does not support the substrate, the control unit arranges the long-axis movable liquid receiver in the gap of the fixed liquid receiver. The coating device according to claim 10 .
前記ノズルを複数個有する、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の塗布装置。 To plurality chromatic said nozzle, the coating apparatus according to any one of claims 1 to 11. 基板に流動性材料を塗布するための塗布装置であって、
流動性材料を鉛直下方向への直線棒状となった液柱状態で吐出するノズルと、
前記ノズルが吐出した流動性材料を受容するための1または複数の液受部と、
前記基板を非接触的に支持するための1または複数の可動浮上支持ユニットと、
前記基板の上方となる仮想水平面内の所定方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ノズルおよび前記基板の少なくとも一方を前記仮想水平面と平行で、かつ、前記往復移動の方向とは異なる方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記可動浮上支持ユニットおよび前記液受部の配置を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、前記相対移動機構により相対的に移動される基板の有無および
当該基板の前記往復移動の方向に対する長さのいずれかに応じて、
前記可動浮上支持ユニットを移動させて配置し、
ここで、前記ノズルは、複数個設けられており、
前記塗布装置は、
前記複数のノズル間のピッチ調整を行うピッチ調整機構を、さらに備え、
前記制御部は、前記ピッチ調整を行う場合に前記ノズルの直下位置となる全ての領域に前記液受部の少なくとも一部が配置されるように、少なくとも前記可動浮上支持ユニットを移動させて配置する、塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A nozzle that discharges the flowable material in the form of a liquid column in the form of a straight bar vertically downward;
One or more liquid receivers for receiving the flowable material discharged by the nozzle;
One or more movable levitating support units for supporting the substrate in a non-contact manner;
A nozzle moving mechanism for reciprocating the nozzle in a predetermined direction in a virtual horizontal plane above the substrate;
A relative movement mechanism that moves at least one of the nozzle and the substrate in parallel with the virtual horizontal plane and in a direction different from the direction of the reciprocating movement;
A control unit for controlling the arrangement of the movable levitating support unit and the liquid receiving unit;
With
The control unit includes presence / absence of a substrate relatively moved by the relative movement mechanism and
Depending on one of the lengths of the substrate relative to the reciprocating direction,
Moving and placing the movable levitating support unit;
Here, a plurality of the nozzles are provided,
The coating device includes:
A pitch adjusting mechanism for adjusting the pitch between the plurality of nozzles;
The control unit moves and arranges at least the movable levitation support unit so that at least a part of the liquid receiving unit is arranged in all regions that are directly below the nozzles when the pitch adjustment is performed. , coating fabric equipment.
JP2009071945A 2009-03-24 2009-03-24 Coating device Expired - Fee Related JP5172756B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009071945A JP5172756B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Coating device
KR1020100019496A KR101290007B1 (en) 2009-03-24 2010-03-04 Coating apparatus and coating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009071945A JP5172756B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Coating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010225436A JP2010225436A (en) 2010-10-07
JP5172756B2 true JP5172756B2 (en) 2013-03-27

Family

ID=43042412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009071945A Expired - Fee Related JP5172756B2 (en) 2009-03-24 2009-03-24 Coating device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5172756B2 (en)
KR (1) KR101290007B1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6000782B2 (en) * 2012-09-26 2016-10-05 株式会社Screenホールディングス Coating device and liquid receiver cleaning device
CN106940515B (en) * 2017-05-08 2020-06-12 武汉华星光电技术有限公司 Developing apparatus
KR102119683B1 (en) * 2018-05-03 2020-06-17 세메스 주식회사 Home port, Apparatus and Method for treating substrate with the home port
CN110252608B (en) * 2019-06-21 2020-08-04 徐州强越机械制造有限公司 Adhesive sticker product coating machine

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005277316A (en) * 2004-03-26 2005-10-06 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Supporting method and conveying robot for substrate, and substrate processing apparatus
JP2008229562A (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Device for positioning substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR101290007B1 (en) 2013-07-30
KR20100106910A (en) 2010-10-04
JP2010225436A (en) 2010-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101023866B1 (en) Application method and application device
JP6338507B2 (en) Droplet ejection apparatus, droplet ejection method, program, and computer storage medium
JP5172756B2 (en) Coating device
KR101845090B1 (en) Apparatus for coating film and method of coating film
JP2004284772A (en) Board transporting system
KR100973190B1 (en) Substrate transfer cassette, substrate transfer robot, and substrate transfer cassette system having them
CN111545381B (en) Coating device and coating method
CN108417712A (en) Applying device and coating method
KR20180033093A (en) Coating apparatus, coating method, and organic el display
JP5502788B2 (en) Floating coating device
US11858264B2 (en) Apparatus for dispensing droplet and method for dispensing droplet
KR20130017443A (en) Substrate coating apparatus, substrate conveyance apparatus having the function for floating the surface and the method of conveying floating the substrate
CN103056067A (en) Coating processing device
KR101512554B1 (en) Coating apparatus and liquid receiving cleaning apparatus
CN103918350A (en) Inkjet application device and inkjet application method
KR101115916B1 (en) Paste dispenser and method for controlling the same
KR100766115B1 (en) Coating Equipment for Flat Panel Display Substrates
JP5401163B2 (en) Inkjet printing device
JP2004172321A (en) Work transfer table, work transfer device, droplet discharge device, electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus
KR102390540B1 (en) Non-Contact Transfer device for Display panel
WO2014069277A1 (en) Stripe-painting method and stripe-painting device
JP4729852B2 (en) Droplet discharge apparatus and method for manufacturing the same
CN114506156B (en) Mobile device and liquid medicine supply device including the same
KR101416978B1 (en) Apparatus for align and system for in-line deposition
JP5663297B2 (en) Coating device

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110830

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111219

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120829

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120830

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121026

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121226

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees